JPS6372314A - Filter - Google Patents

Filter

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Publication number
JPS6372314A
JPS6372314A JP21577886A JP21577886A JPS6372314A JP S6372314 A JPS6372314 A JP S6372314A JP 21577886 A JP21577886 A JP 21577886A JP 21577886 A JP21577886 A JP 21577886A JP S6372314 A JPS6372314 A JP S6372314A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
filter
filter box
space
filter membrane
pure water
Prior art date
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Pending
Application number
JP21577886A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yasuhiro Koizumi
古泉 裕弘
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
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Publication of JPS6372314A publication Critical patent/JPS6372314A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To provide a device which maintains a fixed effect of removing bacteria for a long period of time, by providing a cooling mechanism around a filter box. CONSTITUTION:A filter 1 has a filter box 3 which is connected with a piping 2 connecting a pure water supply source and a scrubber washing device, and installed inside a cooling tank 4. The inside of the filter box 3 is divided into a primary space 7 communicated with a piping 2 for the pure water supply source side and a secondary space 8 communicated with the scrubber washing device side. Further, a filter membrane 9, clamped with support plates 10a and 10b having a number of through-holes provided therein, is disposed in tension in the central section dividing the space 7 from 8. As a result, the primary space 7 and the secondary space 8 in the filter box 3, wherein residence of water is generated, can be maintained under fixed low temperature condition to control the growth of various bacteria, and can maintain the effect of removing bacteria of the filter membrane 9 for a long period of time.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、液体中の異物を除去するフィルター等の濾過
装置に適用して有効な技術に関するもので、たとえば、
半導体装置製造に用いられる純水を供給するための濾過
装置に利用して有効な技術に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a technique that is effective when applied to a filtration device such as a filter that removes foreign substances from a liquid.
The present invention relates to a technique that is effective for use in a filtration device for supplying pure water used in the manufacture of semiconductor devices.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

純水製造技術については、たとえば、株式会社工業調査
会、昭和60年11月20日発行「電子材料1985年
別冊、jiHLsI製造・試験装置ガイドブックJ P
162〜P166に記載されている。その概要は、超純
水の製造システム等が順を追って説明されている。
Regarding pure water production technology, for example, see "Electronic Materials 1985 Separate Volume, jiHLsI Manufacturing and Testing Equipment Guidebook J P" published by Kogyo Chosukaikai Co., Ltd., November 20, 1985.
162 to P166. The outline includes a step-by-step explanation of the ultrapure water production system.

本発明者は、上記のようにして製造されて供給された純
水の濾過技術について検討した。以下は、公知とされた
技術ではないが、本発明者によって検討された技術であ
り、その概要は次の通りである。
The present inventor studied a filtration technique for pure water produced and supplied as described above. Although the following is not a publicly known technique, it is a technique studied by the present inventor, and its outline is as follows.

すなわち、上記の純水製造装置によって製造された純水
は、所定の配管内を経由して、たとえばマスクあるいは
レチクル等の洗浄装置等に供給される。このとき、配管
内で純水に異物が混入される恐れがあるため、配管途中
に濾過装置を介装して当該異物の除去を行うことが知ら
れている。
That is, the pure water produced by the above-mentioned pure water production apparatus is supplied to, for example, a cleaning apparatus for a mask or a reticle, etc., via a predetermined pipe. At this time, since there is a possibility that foreign matter may be mixed into the pure water within the pipe, it is known to remove the foreign matter by interposing a filtration device in the middle of the pipe.

このような濾過装置構造としては、ステンレス合金等か
らなるフィルターボックスの内部に長繊維あるいは合成
樹脂からなるフィルター膜が張設されており、このフィ
ルター膜により隔成された一次空間から二次空間側に純
水が流通する際に雑菌等の異物が除去される構造のもの
が知られている。
In this type of filtration device structure, a filter membrane made of long fibers or synthetic resin is stretched inside a filter box made of stainless steel alloy, etc., and the filter membrane separates the primary space from the secondary space. There is a known structure in which foreign substances such as bacteria are removed when pure water flows through the system.

ところで、このような濾過装置は、その除去効率の点か
ら、供給先の装置の直前に配設するのが最も効率的であ
ると考えられる。
Incidentally, in terms of removal efficiency, it is considered most efficient to arrange such a filtration device immediately before the device to which it is supplied.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

ところが、上記の濾過装置はその配設位置によっては、
供給先の装置の電源あるいはモーターの近傍等、高温状
態の環境となる場合が多い。
However, depending on the location of the above filtration device,
In many cases, the environment is high temperature, such as near the power supply or motor of the destination device.

このような高温環境下で濾過装置を用いた場合には濾過
装置のフィルターボックス内で発生した雑菌が成長しや
すく、この雑菌の一部がフィルター膜を通過してしまい
、二次空間側に供給される純水を汚染したり、あるいは
フィルター膜の目詰まりを起こす等、濾過効率を著しく
低下させる場合がある。
When a filtration device is used in such a high-temperature environment, bacteria generated inside the filter box of the filtration device tend to grow, and some of these bacteria pass through the filter membrane and are supplied to the secondary space. The filtration efficiency may be significantly reduced by contaminating the purified water or clogging the filter membrane.

すなわち、濾過装置のフィルター内が雑菌の成長しやす
い温度環境となっている場合には、フィルター自体が本
来有している除菌効果を所定時間維持することができな
くなり、フィルターの交換を頻繁に行う必要が生じてし
まうことが本発明者によって見い出されたのである。
In other words, if the temperature inside the filter of the filtration device is such that bacteria can easily grow, the filter itself will not be able to maintain its inherent sterilizing effect for a specified period of time, making it necessary to replace the filter frequently. The inventor has discovered that it becomes necessary to do so.

本発明は、上記問題点に着目してなされたものであり、
その目的は長期間にわたって所定の除菌効果を維持でき
る濾過技術を提供することにある。
The present invention has been made focusing on the above problems,
The purpose is to provide a filtration technique that can maintain a predetermined sterilization effect over a long period of time.

本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本
明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう
The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に説明すれば、次の通りである。
A brief overview of typical inventions disclosed in this application is as follows.

すなわち、濾過装置の濾過作用を行うフィルターボック
スの周囲に冷却機構を設けたものである。
That is, a cooling mechanism is provided around a filter box that performs the filtration action of the filtration device.

〔作用〕[Effect]

上記した手段によれば、水の滞留を生じるフィルターボ
ックス内の一次空間および二次空間の各空間を所定の低
温条件で維持できるため、雑菌の成長を抑制でき、長期
間にわたってフィルター膜の除菌効果を維持できる。
According to the above-mentioned means, each of the primary and secondary spaces in the filter box where water accumulates can be maintained at a predetermined low temperature condition, so the growth of bacteria can be suppressed and the filter membrane can be sterilized over a long period of time. The effect can be maintained.

〔実施例〕〔Example〕

第1図は本発明の一実施例である濾過装置を示す説明図
である。
FIG. 1 is an explanatory diagram showing a filtration device that is an embodiment of the present invention.

本実施例の濾過装置1は半導体装置製造用マスクの洗浄
を行う、いわゆるスクラバー洗浄装置!(図示せず)に
純水などの水を供給するための濾過装置であり、純水供
給源とスクラバー洗浄装置との配管2の途中部分に介装
されて使用されるものである。
The filtration device 1 of this embodiment is a so-called scrubber cleaning device that cleans masks for manufacturing semiconductor devices! This is a filtration device for supplying water such as pure water to a vessel (not shown), and is used by being interposed in the middle of the piping 2 between the pure water supply source and the scrubber cleaning device.

濾過装置2は、上記配管2と接続されたフィルターボッ
クス3が冷却槽4の内部に設けられた構造を有しており
、この冷却槽4内には冷却水5が満たされている。当該
冷却水5は上記冷却槽4の近傍に配設された循環式の低
温恒温装置6によって順次冷却槽4内との間を循環され
る構造となっており、これによりフィルターボックス3
内が常に所定の低温条件に維持されるようになっている
The filtration device 2 has a structure in which a filter box 3 connected to the piping 2 is provided inside a cooling tank 4, and the cooling tank 4 is filled with cooling water 5. The cooling water 5 has a structure in which it is sequentially circulated to and from the cooling tank 4 by a circulation type low-temperature constant temperature device 6 disposed near the cooling tank 4.
The inside is always maintained at a predetermined low temperature condition.

本実施例では、たとえば冷却槽4内は1〜7℃の温度条
件となるように低温恒温装置6によって温度制御がなさ
れている。
In this embodiment, the temperature inside the cooling tank 4 is controlled by a low-temperature constant temperature device 6 to maintain a temperature condition of 1 to 7° C., for example.

フィルターボックス3の内部は、純水供給源側の配管2
と連通される一次空間7と、スクラバー洗浄装置側と連
通される二次空間8とに隔成されている。これらの各空
間7および8を隔成する中央部分にはフィルター膜9が
、多数の貫通孔の開設されたステンレス合金からなる支
持板10a。
Inside the filter box 3 is a pipe 2 on the pure water supply source side.
It is separated into a primary space 7 that communicates with the scrubber cleaning device, and a secondary space 8 that communicates with the scrubber cleaning device side. A support plate 10a made of a stainless steel alloy with a filter membrane 9 and a large number of through holes is provided in the central portion separating these spaces 7 and 8.

10bに挟持された状態で張設されている。10b and is stretched in a state of being sandwiched between them.

ここで、本実施例で使用されるフィルター膜9は、たと
えばセルロースエステル系のいわゆるメンブランフィル
タ−であり、セルロースエステルをアルコール、水、ア
セトン等の混合溶媒に溶かし込み、これをキャスティン
グにより例えば厚さ150μm程度のフィルム状に加工
して得られるものである。
Here, the filter membrane 9 used in this embodiment is, for example, a cellulose ester-based so-called membrane filter, in which cellulose ester is dissolved in a mixed solvent such as alcohol, water, acetone, etc., and then it is cast to a thickness of, for example, It is obtained by processing it into a film shape of about 150 μm.

なお、このフィルター膜9としては、他にセルロース繊
維等の長繊維材を所定の厚さに圧縮して得られる、いわ
ゆるデプスフィルターを用いてもよい。
Note that, as the filter membrane 9, a so-called depth filter obtained by compressing a long fiber material such as cellulose fiber to a predetermined thickness may also be used.

これらのフィルター膜9はその膜の表裏面を貫通する細
孔、たとえば1μm程度の細孔が多数設けられている構
造を有しており、−次空間7側から二次空間8側へ水た
とえば純水11が流通する際に、このフィルター膜9の
一次空間7側の表面あるいはフィルター膜9の内部で異
物粒子が捕捉されるようになっている。したがって、水
たとえば純水11はフィルター膜9を通過する際にその
中の異物粒子が捕捉されて所定の純度となって二次空間
8側に流出される。
These filter membranes 9 have a structure in which a large number of pores, for example, pores of about 1 μm, penetrate through the front and back surfaces of the membrane, and water, for example, flows from the secondary space 7 side to the secondary space 8 side. When the pure water 11 flows, foreign particles are captured on the surface of the filter membrane 9 on the primary space 7 side or inside the filter membrane 9. Therefore, when the water, for example, the pure water 11, passes through the filter membrane 9, foreign particles therein are captured, and the water becomes a predetermined purity and flows out to the secondary space 8 side.

ところで、このようなフィルター膜9による濾過技術で
は、フィルター膜9で捕捉された異物粒子から雑菌が成
長し、この雑菌がフィルターボックス3内の高温な温度
環境によってさらに成長が加速される場合がある。この
ように−次空間7内での雑菌量が増大した場合には、相
対的にフィルター膜9による濾過効率が低下するととも
に、フィルター膜9の目詰まり、さらには雑菌の二次空
間8側への流出を生じることになる。このように、高温
温度条件ではフィルター膜9の本来の濾過効率を所定期
間維持できず、二次空間8側へ流出される純水11が汚
染された状態となる場合もある。
By the way, in such a filtration technique using the filter membrane 9, bacteria grow from the foreign particles captured by the filter membrane 9, and the growth of these bacteria may be further accelerated by the high temperature environment inside the filter box 3. . If the amount of bacteria in the secondary space 7 increases in this way, the filtration efficiency of the filter membrane 9 will decrease relatively, the filter membrane 9 will become clogged, and the bacteria will be transferred to the secondary space 8 side. This will result in an outflow of water. As described above, under high temperature conditions, the original filtration efficiency of the filter membrane 9 cannot be maintained for a predetermined period of time, and the pure water 11 flowing out to the secondary space 8 side may become contaminated.

しかし、本実施例によればフィルターボックス3が冷却
水5の循環される冷却槽4内に浸漬されており、このフ
ィルターボックス3内の一次空間7および二次空間8内
の温度条件が1℃〜7℃程度の範囲で保たれている。こ
のような低温の温度条件の下では雑菌の成長は抑制され
るため、本来のフィルター膜9の濾過効率を長期間にわ
たって維持することができる。
However, according to this embodiment, the filter box 3 is immersed in a cooling tank 4 in which cooling water 5 is circulated, and the temperature conditions in the primary space 7 and secondary space 8 in the filter box 3 are 1°C. The temperature is maintained at around 7°C. Since the growth of germs is suppressed under such low temperature conditions, the original filtration efficiency of the filter membrane 9 can be maintained for a long period of time.

このように、本実施例によれば以下の効果を得ることが
できる。
As described above, according to this embodiment, the following effects can be obtained.

(1)、フィルター膜9の張設されたフィルターボック
ス3が冷却槽4内の冷却水5中に浸漬され所定の低温状
態を維持されているため、フィルターボックス3内での
雑菌の成長を抑制でき、フィルター膜9による除菌効果
を長期間にわたって維持できる。
(1) Since the filter box 3 covered with the filter membrane 9 is immersed in the cooling water 5 in the cooling tank 4 and maintained at a predetermined low temperature, the growth of various bacteria inside the filter box 3 is suppressed. Therefore, the sterilizing effect of the filter membrane 9 can be maintained for a long period of time.

(2)、上記(1)により、フィルター膜9の交換細度
を低減できるため、低コストで基準純度の純水11を供
給することが可能となる。
(2) According to (1) above, the degree of exchange of the filter membrane 9 can be reduced, so that it is possible to supply pure water 11 of standard purity at low cost.

(3)、冷却機構を、冷却槽4内に冷却水5を循環させ
る構造とすることにより、従来の濾過機構に僅かな付加
機構を設けるのみでフィルターボックス3内での雑菌の
成長を抑制できる。。
(3) By using the cooling mechanism as a structure in which the cooling water 5 is circulated within the cooling tank 4, the growth of various bacteria within the filter box 3 can be suppressed by providing a slight additional mechanism to the conventional filtration mechanism. . .

(4)、上記(1)〜(3)により、信頼性の高い純水
処理が可能となる。
(4) The above (1) to (3) enable highly reliable pure water treatment.

以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、本発明は前記実施例に限定されるも
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能
であることはいうまでもない。たとえば、冷却機構とし
てはフィルターボックス3を冷却水5の循環される冷却
槽4内に浸漬した場合について説明したが、これに限ら
ずフィルターボックス3の周囲に冷却ガス等の流通され
る冷却管を配管した構造等、いかなる冷却機構によって
もよい。
Although the invention made by the present inventor has been specifically explained above based on Examples, it goes without saying that the present invention is not limited to the Examples and can be modified in various ways without departing from the gist thereof. Nor. For example, as a cooling mechanism, a case has been described in which the filter box 3 is immersed in a cooling tank 4 in which cooling water 5 is circulated, but the invention is not limited to this. Any cooling mechanism may be used, such as a piped structure.

以上の説明では主として本発明者によってなされた発明
をその利用分野である、いわゆる半導体装置製造の純水
供給用の濾過装置に適用した場合について説明したが、
これに限定されるものではなく、たとえば製薬、医療等
の分野で水の供給に使用される濾過装置に適用できる。
The above explanation has mainly been about the case where the invention made by the present inventor is applied to the field of application, which is a filtration device for supplying pure water in the manufacture of semiconductor devices.
The present invention is not limited thereto, and can be applied to, for example, filtration devices used for water supply in the pharmaceutical, medical, and other fields.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本願において開示される発明のうち代表的なものによっ
て得られる効果を簡単に説明すれば、下記の通りである
A brief explanation of the effects obtained by typical inventions disclosed in this application is as follows.

すなわち、液体の流通配管の途中部分に介装され各々の
流通配管と連通されるとともにフィルター膜により一次
空間と二次空間とに隔成され外部とは隔絶されたフィル
ターボックスを有し、このフィルターボックスの周囲に
上記各空間を冷却する冷却機構が設けられた濾過装置構
造とすることにより、水の滞留を生じるフィルターボッ
クス内の一次空間および二次空間の各空間を所定の低温
条件で維持できるため、雑菌の成長を抑制でき、長期間
にわたってフィルター膜の除菌効果を維持できる。
That is, it has a filter box that is interposed in the middle of the liquid distribution piping, communicates with each distribution piping, and is separated from the outside by a filter membrane into a primary space and a secondary space. By adopting a filtration device structure in which a cooling mechanism is provided around the box to cool each of the above spaces, it is possible to maintain each of the primary and secondary spaces within the filter box, where water accumulates, at a predetermined low temperature condition. Therefore, the growth of various bacteria can be suppressed, and the sterilization effect of the filter membrane can be maintained for a long period of time.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の一実施例である濾過装置を示す説明図
である。 1・・・濾過装置、2・・・配管、3・・・フィルター
ボックス、4・・・冷却槽、5・・・冷却水、6・・・
低温恒温装置、7・・・−法主間、8・・・二次空間、
9・・・フィルター膜、10a、lQb・・・支持板、
11・・・水たとえば純水。 第  Im 、  7 ノσb デー プ/Iし9
FIG. 1 is an explanatory diagram showing a filtration device that is an embodiment of the present invention. 1... Filter device, 2... Piping, 3... Filter box, 4... Cooling tank, 5... Cooling water, 6...
Low-temperature constant temperature device, 7...-main space, 8... secondary space,
9... Filter membrane, 10a, lQb... Support plate,
11...Water, for example pure water. Im, 7th σb depth/I and 9

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、液体の流通配管の途中部分に介装され各々の流通配
管と連通されるとともにフィルター膜により一次空間と
二次空間とに隔成されたフィルターボックスを有してお
り、このフィルターボックスの周囲に上記各空間を冷却
する冷却機構が設けられていることを特徴とする濾過装
置。 2、流通配管内を流通される液体が水であることを特徴
とする特許請求の範囲第1項記載の濾過装置。
[Claims] 1. It has a filter box that is interposed in the middle of the liquid distribution piping, communicates with each distribution piping, and is separated into a primary space and a secondary space by a filter membrane. A filtration device characterized in that a cooling mechanism for cooling each of the spaces is provided around the filter box. 2. The filtration device according to claim 1, wherein the liquid flowing through the circulation pipe is water.
JP21577886A 1986-09-16 1986-09-16 Filter Pending JPS6372314A (en)

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Application Number Priority Date Filing Date Title
JP21577886A JPS6372314A (en) 1986-09-16 1986-09-16 Filter

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JP (1) JPS6372314A (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005088684A1 (en) * 2004-03-16 2005-09-22 Hirata Corporation Filter device
US7040737B2 (en) 1997-03-28 2006-05-09 Brother Kogyo Kabushiki Kaisha Ink jet recording device
JP2014050779A (en) * 2012-09-05 2014-03-20 Kureha Corp Strainer

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