JPS6358750A - イオン注入装置用イオンビ−ム検出器 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はイオン注入装置に関し、特にイオンビーム検出
器に関する。

〔従来の技術〕

半導体製品製造の一工程に用いられているイオン注入装
置では通常、半導体製品に注入する時のイオンビーム電
流検出器とは別にイオン源及びビームライン部の各条件
設定用のイオンビーム検出器を備えている。

第４図は一般的な静電走査式イオン注入装置の略図であ
る０図に示すように、イオン源２０から取り出されたイ
オンビームは質量分析器２１を経て所望のイオンに分離
され、収束系２２．走査系２３をそれぞれ通過し、注入
用イオンビーム検出器２４に装着された製品２６に注入
されるが、この製品注入時に使用する注入用イオンビー
ム検出器２４の直前にイオンビーム飛程に対し出入りす
るように動作する条件設定用イオンビーム検出器２５が
設けられている１条件設定用イオンビーム検出塁２５は
通常第５図のように主検出器１の中心部にイオンビーム
入射孔１ａを開け、その後方に電気的に絶縁された中心
部検出器２を設けたものが使用されており、主検出器１
及び中心部検出器２を切り換えたり、或いは組合せてイ
オンビームの走査中の決定や、イオンビーム量の調整、
イオンビームの形状調整が行われている。

〔発明が解決しようとする問題点〕

ここで問題となるのはイオンビーム形状の調整時である
。

イオンビーム形状調整はビームの収束度合を調整するこ
とにより行われるが、収束度合は中心部検出器２で検出
されたイオンビーム電流量と主検出器１におけるイオン
ビーム電流量の割合を見ながらイオン注入装置の収束系
を操作し調整する。

つまり、中心部検出器２により多くのイオンビーム電流
が流れるように調整して行われることになる。

ところが、第５図に示す従来の条件設定用イオンビーム
検出器２５では中心部検出器２へのイオンビーム入射孔
１ａの口径が一定であるため、イオンビームの形状が入
射孔１ａより小さい場合、つまりイオンビームのほとん
どが中心部検出器２にのみ入射した場合にはそれ以上の
調整が不可能になったり、あるいは逆にどんなに調整し
てみても、イオンビーム形状が細くならず、中心部検出
器２と主検出器１のイオンビーム電流差がほとんどない
場合に調整のピークがわかりづらくて調整に手間どった
りするという欠点があった。

本発明の目的は装置調整が容易に行い得るイオン注入装
置用イオンビーム検出器を提供することにある。

〔発明の従来技術に対する相違点〕

上述した従来の条件設定用イオンビーム検出器に対し、
本発明は中心部検出器のイオンビーム入射孔の口径を変
更可能にするという独創的内容を有する。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明はイオンビーム電流をモニターする機構のうち、
イオンビームの収束度合を［測する部分にイオンビーム
入射孔を有する静電走査方式イオン注入装置において、
イオンビーム入射孔の口径を変化させる機構を備えたこ
とを特徴とするイオン注入装置用イオンビーム検出器で
ある。

〔実施例〕

以下、本発明の実施例を図により説明する。

（実施例１） 第２図に示すように、条件設定用イオンビーム検出器２
５は主検出器１の中心部にイオンビーム入射孔１ａを開
口し、その後方に電気的に絶縁された中心部検出器２を
設けである。

本実施例は第１図、第２図に示すように主検出器１に、
イオンビーム入射孔１ａを含む案内溝１ｂを上下方向に
設け、異径の複数の入射孔３ａ、・・・を備えた開口板
３を案内溝ｌｂ内に摺動可能に嵌合し、該開口板３を主
検出器１のイオンビーム入射孔１ａと中心部検出器２と
の間に配設しである。開口板３の背部にはラック１０を
付設し、回転軸６のピニオン９をラック１０に噛合しで
ある。

本実施例に係る条件設定用イオンビーム検出器２５は、
製品にイオン注入する前にイオンビームを調整する際に
、イオンビームに相対する位置に回転軸４を中心にして
移動し、各種調整が行われる。

ここで、中心部検出器２のイオンビーム入射孔を可変し
たい場合には、回転軸５を外部より回転させてギア７及
びギア８により回転軸６に回転を伝える０回転軸６の回
転はピニオン９、ラック１０により開口板３を案内溝１
ａに沿い上下方向に移動させることになり、結果として
開口板３の異径の入射孔３ａの−を選択しこれを中心部
検出器２とイオンビーム入射孔１ａとの間に設置する。

これにより、中心部検出器２の入射孔を変更できること
となる。

（実施例２） 第３図は本発明の実施例２の概略図である。中心部検出
器２の入射孔を変更する場合は回転軸１２を回転させる
ことによりギア１５．ギア１６を通じて回転軸１３が回
転し、さらにギア１７．ギア１８を通じ回転軸１４が回
転する。回転軸１４が回転するとギア１９を通じて円盤
状の開口板３が回転するので、開口板３の同一円周上に
明けられた異径の入射孔３ａ。

３ａ・・・の−が選択されその入射孔３ａにより中心部
検出器２の入射孔の口径が変更させられる。

この実施例では入射孔の口径の種類を比較的多くできる
という利点がある。

〔発明の効果〕

以上説明したように本発明の注入条件設定用イオンビー
ム検出器によれば、中心部検出器のイオンビーム入射孔
の口径を簡単に変更できるので、イオンビームのほとん
どが中心部検出器にのみ入射し、さらにイオンビームを
収束させようとしても検出不能に陥る場合は、入射孔を
小さくし、検出可能とすることができ、イオンビームの
収束度が極端に悪く、主検出器と中心部検出器とのイオ
ンビーム電流差がほとんどなくてピークを見つけられづ
らい場合には、入射孔を大きくしてピークを見つけ易く
できる効果がある。

つまり、イオンビーム入射孔の口径を変更できるので、
装置調整がより容易に行い得る効果があるわけである。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の実施例１を示す概略図、第２図は同左
側断面図、第３図は本発明の実施例２を示す概略図、第
４図は一般的なイオン注入装置を示す説明略図、第５図
は従来の条件設定用イオンビーム検出器を示す断面図で
ある。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）イオンビーム電流をモニターする機構のうち、イ
   オンビームの収束度合を観測する部分にイオンビーム入
   射孔を有する静電走査方式イオン注入装置において、イ
   オンビーム入射孔の口径を変化させる機構を備えたこと
   を特徴とするイオン注入装置用イオンビーム検出器。