JPS63502041A - Formation of conductors using improved mass displacement method - Google Patents

Formation of conductors using improved mass displacement method

Info

Publication number
JPS63502041A
JPS63502041A JP62500089A JP50008986A JPS63502041A JP S63502041 A JPS63502041 A JP S63502041A JP 62500089 A JP62500089 A JP 62500089A JP 50008986 A JP50008986 A JP 50008986A JP S63502041 A JPS63502041 A JP S63502041A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
metal
substrate
metal powder
copper
centipoise
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP62500089A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
ケアン,ジョン・ジョセフ
Original Assignee
ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ filed Critical ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ
Publication of JPS63502041A publication Critical patent/JPS63502041A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/22Secondary treatment of printed circuits
    • H05K3/24Reinforcing the conductive pattern
    • H05K3/245Reinforcing conductive patterns made by printing techniques or by other techniques for applying conductive pastes, inks or powders; Reinforcing other conductive patterns by such techniques
    • H05K3/246Reinforcing conductive paste, ink or powder patterns by other methods, e.g. by plating
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/18Pretreatment of the material to be coated
    • C23C18/20Pretreatment of the material to be coated of organic surfaces, e.g. resins
    • C23C18/2006Pretreatment of the material to be coated of organic surfaces, e.g. resins by other methods than those of C23C18/22 - C23C18/30
    • C23C18/2026Pretreatment of the material to be coated of organic surfaces, e.g. resins by other methods than those of C23C18/22 - C23C18/30 by radiant energy
    • C23C18/2033Heat
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/18Pretreatment of the material to be coated
    • C23C18/20Pretreatment of the material to be coated of organic surfaces, e.g. resins
    • C23C18/2006Pretreatment of the material to be coated of organic surfaces, e.g. resins by other methods than those of C23C18/22 - C23C18/30
    • C23C18/2046Pretreatment of the material to be coated of organic surfaces, e.g. resins by other methods than those of C23C18/22 - C23C18/30 by chemical pretreatment
    • C23C18/2053Pretreatment of the material to be coated of organic surfaces, e.g. resins by other methods than those of C23C18/22 - C23C18/30 by chemical pretreatment only one step pretreatment
    • C23C18/206Use of metal other than noble metals and tin, e.g. activation, sensitisation with metals

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
  • Chemically Coating (AREA)
  • Insulated Conductors (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。 (57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 改良された増量置換法による導電体の形成法発 明 の 背 景 本発明は、より責なあるいはより電気陽性な金属によるポリマー中の金属質粉末 の置換による導電体の形成法に関混合物を基体上に塗布し、ポリマーを硬化し、 次いで金属質粉末の幾分かを、表面上の堆積金属の総体積が表面における元の金 属粉の総体積を超える様に、より責な金属により置換し、そしてしかる後に、こ の薄く被覆された回路を無電解めっき浴に浸漬させて、より責な金属の厚みを増 加させることによりプリント回路を形成する方法に関する。[Detailed description of the invention] Background of the development of a method for forming conductors using an improved bulk replacement method The present invention provides metallic powders in polymers with more aggressive or electropositive metals. Regarding the method of forming a conductor by substitution of Some of the metallic powder is then added so that the total volume of deposited metal on the surface is equal to the original gold at the surface. The total volume of metal powder is replaced by a more aggressive metal, and then this Thinly coated circuits are immersed in an electroless plating bath to increase the thickness of the more sensitive metal. The present invention relates to a method of forming printed circuits by adding

多種の電気部品を導体により相互接続した数多くのタイプの電子機器が知られて いる。相互接続導体は、例えば厚膜焼成導電体系、ポリマー導電体及びプリント 回路基板等の多種多様な方法により形成される。Many types of electronic devices are known in which various electrical components are interconnected by conductors. There is. Interconnect conductors include, for example, thick film fired conductor systems, polymer conductors and printed conductors. It can be formed by a variety of methods such as circuit boards.

厚膜焼成導電体においては、導電性金属粉、セラミックもしくはガラス結合剤、 及び適宜のビヒクルの混合物が基体上にスクリーン印刷される。この基体上の導 体パターンは、次いで比較的高温、代表的には650℃から900℃までの間で 焼成される。温度がこの焼成温度に上がるまでに、ビヒクルが揮発し、金属と結 合剤があとに残る。焼成温度において、多かれ少なかれ金属の焼結が起ると共に 、結合剤が形成された金属膜と基体との間に接着力を与える。For thick film fired conductors, conductive metal powder, ceramic or glass binders, and a suitable vehicle are screen printed onto the substrate. The conductor on this substrate The body pattern is then exposed to relatively high temperatures, typically between 650°C and 900°C. Fired. By the time the temperature rises to this firing temperature, the vehicle has volatilized and bonded to the metal. A mixture remains behind. At the firing temperature, more or less sintering of the metal occurs and , the bonding agent provides adhesion between the formed metal film and the substrate.

厚膜焼成導電体には、伝統的に金、銀、プラチナ及びパラジウム等の貴金属が使 用されている。これら貴金属の高いコストのせいで、銅、ニッケル及びアルミニ ウムを用いた新しい導電体系が市場で入手可能となっている。このより新しい系 の多くは、焼成過程における酸化防止に要求される特殊化学に原因して、厚膜焼 成系よりかなり低廉であるというわけにはいかない。その上、これらの系は従来 のすず一部はんだを用いたはんだ付を大変困難にし、及び形成中に必要とされる 高い焼成温度が低コスト基体材料の使用を不可能にする。Precious metals such as gold, silver, platinum and palladium have traditionally been used for thick film fired conductors. It is used. Due to the high cost of these precious metals, copper, nickel and aluminum New conductive systems using aluminum are available on the market. This newer system Many of the problems with thick film firing are due to the special chemistry required to prevent oxidation during the firing process. It cannot be said that it is much cheaper than the grown line. Moreover, these systems are traditionally Tin makes soldering with some solders very difficult, and is required during formation. High firing temperatures preclude the use of low cost substrate materials.

ポリマー導電体系においては、ポリマーは多量に導電性金属を混ぜられ、基体上 に覆われる。この様な系の利点は、ポリマーが触媒によっても、室温から約12 5℃までの範囲の温度の加熱によっても硬化できることにある。この所謂「冷間 処理」の結果、登録商標マイラー(ポリエチレンテレフタレート)のフィルムの 様なかなり低廉な基体の使用が可能となる。導電性が獲得されるメカニズムは、 全て個々の金属質粒子間の接触によって付与される。金及び銀等の貴金属のみが 、満足し得る導電性を与えるためにポリマー中に混ぜることのできる金属である ことが見い出された。他の規格どおりの導電性金属の全てが時期を経て酸化し、 粒子間の電気伝導度が減少する。銀がポリ、マー導電体系において主として選択 されてきたが、しかし、銀系は銀がすず一部はんだにより浸出されることが原因 で、一般的にはんだ付不能である。銀の価格が1オンス当り約10ドルであると きは、これらの導電体系は、もし大変低いコストの基体上で使用されれば、他の 系と競争し得る。しかし、銀の価格がより高くなった場合、これらの系はプリン ト回路基板と余り競争し得るものではない。In polymer conductive systems, the polymer is heavily mixed with a conductive metal and placed on the substrate. covered in The advantage of such a system is that the polymer can be catalyzed from room temperature to about 12 It can also be cured by heating at temperatures up to 5°C. This so-called cold As a result of "processing", a film of registered trademark Mylar (polyethylene terephthalate) This makes it possible to use fairly inexpensive substrates such as: The mechanism by which conductivity is acquired is All are imparted by contact between individual metallic particles. Only precious metals such as gold and silver , a metal that can be mixed into a polymer to give it satisfactory electrical conductivity. It was discovered that All other standard conductive metals oxidize over time, Electrical conductivity between particles decreases. Silver is the primary choice in polymer conductive systems However, silver-based products are caused by silver being partially leached by tin solder. and generally cannot be soldered. If the price of silver is about $10 per ounce However, these conductive systems, if used on very low cost substrates, It can compete with the system. However, if the price of silver were higher, these systems would It is not very competitive with standard circuit boards.

プリント回路基板を製造するために用いる技法は、アディティブ技術とサブトラ クティブ技術とに分けられる。アディティブとサブトラクティブの両方の技法に おいて、出発点は、表面上に゛銅箔が結合された、フェノール樹脂からガラス充 填エポキシ樹脂に至るまで幅広く多様化した基体である。伝統的なアディティブ 調製方式において、銅箔は大変薄く、通常200マイクロインチ程度である。レ ジストが、導体の所望される部位のみで銅が露出される様に、パターン化され、 基体は次いで厚み約1ミルの銅導体を形成するためにめっきされる。めっきレジ ストが剥離され、銅がエツチングされる。導体が所望されない区域においては、 銅が僅か約200マイクロインチの厚みであるため、エツチングによりこの銅が 速やかに除去されると同時に1ミルの厚みの導体が残される。サブトラクティブ 法においては、銅箔の当初の厚みは通常1ミルから2ミルの間である。エツチン グレジストが導体の所望される至る所に堆積され、基板がエツチングされ、次い でレジストが除去される。レジストは導体の所望される場所でのエツチングを防 アディティブ及びサブトラクティブの両方のプリント回路基板手順共、基体上全 体への銅箔の被着、レジストの堆積及び除去、プリント回路基板のエツチング、 部品挿入のための穿孔、及び場合によっては、電気めっきの追加的工程を必要と する。この技術の有利さは、得られる回路基板が比較的容易にはんだ付される点 にある。The techniques used to manufacture printed circuit boards are additive and subtraditional. It can be divided into active technology. For both additive and subtractive techniques The starting point is a glass-filled phenolic resin with copper foil bonded on the surface. It is a widely diversified base material ranging from filled epoxy resin. traditional additive In its preparation, the copper foil is very thin, typically on the order of 200 microinches. Re the resist is patterned so that the copper is exposed only in the desired areas of the conductor; The substrate is then plated to form a copper conductor approximately 1 mil thick. Plating cash register The copper is etched. In areas where conductors are not desired, Because the copper is only about 200 microinches thick, etching removes the copper. It is quickly removed leaving behind a 1 mil thick conductor. subtractive In this process, the initial thickness of the copper foil is typically between 1 and 2 mils. Etsutin Gresist is deposited everywhere desired on the conductor, the substrate is etched, and then The resist is removed. The resist prevents etching of the conductor at desired locations. Both additive and subtractive printed circuit board procedures Deposition of copper foil on the body, deposition and removal of resist, etching of printed circuit boards, Requires additional steps of drilling for component insertion and, in some cases, electroplating. do. The advantage of this technique is that the resulting circuit board is relatively easy to solder. It is in.

この種のプリント回路基板技術の他の利点は、スルーホールめっきが形成され得 る点にある。この方法は、アディティブ形成法に数工程の追加を含んだものであ る。基体に穴をあけ、しかる後に導体の所望される場所以外の全ての区域上にレ ジストが塗布される。基板は次いで、基体の露出した部位上、即ち穴の内側に被 膜を形成する塩化すず増感処理剤中に浸される。次いで基板は、塩化パラジウム 浴、塩化すずを溶解するための酸、及び無電解銅浴に順次浸漬される。最終工程 、即ち無電解銅洛中への浸漬により活性化処理された穴の内側に銅の非常に薄い 膜が堆積する。この「無電解銅」は、銅が触媒となり連続的なめっき反応が起る 様な触媒反応によって析出する。典型的には、24〜50マイクロインチ程度の 厚みが半時間で得られる。この時点で、銅薄膜が穴の内側端部に付着する。その 後の電気めっきは穴内部並びに全ての導体路に沿って銅の厚みを次第に増加させ ることになる。この時点で、種々の使用される方法が異なってくる。最も単純な 方法は、単にレジストを剥離し、次いでエツチングし、導体路が所望されない場 所のはるかに薄い銅を除去することである。より複雑な方法においては、穴内及 び導体路に沿ってのすず一部はんだの電気めっき、引続くめっきレジストの剥離 、及びはんだがエツチングレジストとして作用する様すず一部はんだを攻撃しな いクロム酸によるエツチングを行なう。Another advantage of this type of printed circuit board technology is that through-hole plating can be formed. The point is that This method involves adding several steps to the additive formation method. Ru. Drill a hole in the substrate and then place a layer on all areas except where the conductor is desired. Gist is applied. The substrate is then coated onto the exposed portion of the substrate, i.e. inside the hole. It is immersed in a tin chloride sensitizer to form a film. The substrate is then coated with palladium chloride It is sequentially immersed in a bath, an acid to dissolve the tin chloride, and an electroless copper bath. Final process , i.e. a very thin layer of copper is placed inside the hole which is activated by immersion in an electroless copper solution. A film is deposited. This "electroless copper" uses copper as a catalyst to cause a continuous plating reaction. It is precipitated by various catalytic reactions. Typically on the order of 24 to 50 microinches. Thickness can be obtained in half an hour. At this point, a thin copper film is deposited on the inner edge of the hole. the Subsequent electroplating gradually increases the thickness of the copper inside the hole as well as along all conductor tracks. That will happen. At this point, the various methods used become different. the simplest The method consists of simply stripping the resist and then etching, if no conductor traces are desired. By removing much thinner copper. In more complex methods, Electroplating of some tin solder along the conductor tracks and subsequent stripping of the plating resist , and so that the solder acts as an etching resist. Perform etching with high chromic acid.

プリント回路基板技術の最も重大な欠点は、可成りの数の製造工程が必要なこと 、及びこれにより多量の関連設備が必要なことである。その上、基体の選択が回 路基板材料として入手可能なもののうちの1つに限られる。製造工程及び設備の 数が、比較的高い製造コスト及び基体材料の限定を生み、基体材料として機器内 に既に要求されている装飾品もしくは構造部材の使用機会を消し去る結果となる 。The most significant drawback of printed circuit board technology is that it requires a significant number of manufacturing steps. , and this requires a large amount of related equipment. Moreover, the selection of the substrate is Limited to one of the available road board materials. manufacturing process and equipment This results in relatively high manufacturing costs and limited substrate materials, which can be used in equipment as substrate materials. result in the elimination of opportunities for the use of decorative or structural elements already required by .

本発明と同一の論受入に譲渡され、本明細書中にそっくりそのまま取り入れられ た、アイケルバーガーらの米国特許第4,404.237号明細書には、増量置 換反応技法による導電体の形成法が記載されている。簡潔に述べれば、アイケル バーガーらは、所望の導体デザインが微細粉砕導体粉、硬化可能な樹脂及び溶媒 を含むインキ組成物により基体上に塗設される方法を開示している。硬化可能な ポリマーは少なくとも部分的に硬化され、次いでこの結果としてのインキ組成物 が金属塩溶液と接触される。この金属塩溶液中の金属カチオンは前記微細粉砕粉 の金属よりも貴(電気陽性)であり、アニオンは塩の金属並びに前記粉と溶液中 に溶解可能な塩を形成する。この方法は、ソーダ石灰ガラス、プラスチック及び 更に紙などの多様な低コスト基体材料に適用され得る。Assigned to the same treaty as the present invention and incorporated herein in its entirety. In addition, U.S. Pat. No. 4,404.237 to Eichelberger et al. A method for forming electrical conductors by conversion reaction techniques is described. Simply put, Eichel Berger et al. reported that the desired conductor design was achieved using finely ground conductor powder, a curable resin, and a solvent. Discloses a method of coating a substrate with an ink composition comprising: hardenable The polymer is at least partially cured and then the resulting ink composition is contacted with a metal salt solution. The metal cation in this metal salt solution is the finely pulverized powder. is more noble (electropositive) than the metal in the salt and the anion in the powder and solution. Forms salts that are soluble in This method works on soda lime glass, plastic and Additionally, it can be applied to a variety of low cost substrate materials such as paper.

アイケルバーガーらの増量置換方法は、基体表面上に導体パターンを供給する大 変低いコストの手段を提供する。The bulk replacement method of Eichelberger et al. provides a low cost alternative.

とは言え、増量置換反応単独で獲得し得る厚みより厚くした導体路を設けること が望ましい場合がしばしばである。However, it is possible to provide a conductor track thicker than that which could be obtained by bulk displacement reactions alone. is often desirable.

発 明 の 概 要 本発明の目的は、増量置換法のみにより得られるよりも大きな厚みの導体路を基 体表面上に与え得る手段を提供することにある。Outline of the invention It is an object of the invention to base conductor tracks of greater thickness than would be obtained by bulk replacement methods alone. The object of the present invention is to provide a means that can be applied on the body surface.

本発明の他の目的は、導体路が増加された厚みを有する導体系を提供することに ある。Another object of the invention is to provide a conductor system in which the conductor tracks have an increased thickness. be.

本発明の1つの観点に従って、(a)基体上に、少なくとも18の微細粉砕金属 粉組成物、少なくとも1t’Jiの硬化可能なポリマー、及び、必須ではないが 、溶媒を含むインキ組成物により所望の図案(デザイン)を塗設すること、(b )前記硬・化可能なポリマーを少なくとも部分的に硬化せしめること、及び(C )かくして得られる図案化された基体を、アニオンが前記金属粉組成物の一部と 塩を形成し、カチオン金属が前記少なくとも部分的に硬化されたポリマーの表面 上に沈着するように金属カチオンが前記微細粉砕粉の金属よりも貴である金属塩 溶液と接触させること、を含み、(C)工程による被覆基体を無電解めっき浴中 に浸漬させることにより、前記少なくとも部分的に硬化されたポリマーの表面上 にめっきされた前記より責な金属の厚みを更に増加せしめることを改良点とする 、ブリ、ント回路及び他の導電性の模様(パターン)もしくは図案を与えるため の改良された方法が提供される。In accordance with one aspect of the invention, (a) at least 18 finely divided metals on a substrate; a powder composition, at least 1 t'Ji of curable polymer, and, although not required, , applying a desired pattern (design) with an ink composition containing a solvent; (b) ) at least partially curing the curable polymer; and (C ) The patterned substrate thus obtained is treated with the anion as part of the metal powder composition. the surface of the at least partially cured polymer wherein the cationic metal forms a salt; a metal salt in which the metal cation is more noble than the metal of said finely ground powder, such that it is deposited on contacting the coated substrate according to step (C) with a solution in an electroless plating bath. on the surface of the at least partially cured polymer by immersing it in The improvement is to further increase the thickness of the metal plated on the metal. , to provide printed circuits and other conductive patterns or designs. An improved method is provided.

発 明 の 説 明 本発明は、その最も広い態様において、増量置換反応に付される、金属を含有し 少なくとも一部分が硬化されたポリマーによる基体上での所望の導電性パターン の配設、並びにしかる後に無電解めっき浴により前記導電性パターンの厚みを更 に増加させることを内包する。増量置換反応の好ましい方法は、本発明と同一の 譲受人に譲渡され、並びに本明細書中に引用により取り入れられる米国特許第4 ゜404.237号明細書に記載されている。Explanation of invention In its broadest aspects, the present invention provides metal-containing materials that are subjected to a bulking substitution reaction. Desired conductive pattern on a substrate with at least partially cured polymer and then increase the thickness of the conductive pattern using an electroless plating bath. Connotes increasing to. A preferred method for bulk displacement reaction is the same as in the present invention. No. 4, assigned to Assignee and incorporated herein by reference. No. 404.237.

前記導電性パターンが形成される基体は限定されず、前記金属インキが付着可能 ないかなる絶縁体を使用してもよい。従って、通常のプリント回路用基体が、ガ ラス充填ポリエステル、フェノール樹脂板、ポリスチレンなどの他に使用可能で ある。本発明で使用する基体として、特に重要なのは、シリコーン含浸ガラスで ある。この様な基体の使用は、技術実施者にして、高温、例えば約150℃から 約300℃程度に耐え得るフレキシブル回路基板を形成するのを可能とする。The substrate on which the conductive pattern is formed is not limited, and the metal ink can adhere to it. Any insulator may be used. Therefore, ordinary printed circuit boards are Can be used in addition to lath-filled polyester, phenolic resin board, polystyrene, etc. be. Particularly important as a substrate for use in the present invention is silicone-impregnated glass. be. The use of such substrates may require technical practitioners to use high temperatures, e.g. It is possible to form a flexible circuit board that can withstand temperatures of about 300°C.

本発明で使用する前記インキは、°微細粉砕金属粉と、溶媒を混合することによ り粘度及び流動特性を調節し得るポリマーとの配合物である。金属はインク・中 及び硬化されたポリマー中で安定であり、微細粉砕された形態で得られ、且つ増 量置換反応に使用される金属よりも、金属群の活動度列で上位の金属であればど れであってもよい。最も好適な金属は、入手のし易さ並びに低コストの故に、鉄 、ニッケル、亜鉛、又はこれらの混合物である。金属粉は、通例′ 約50ミク ロン以下、好ましくは約25ミクロン以下、最も好ましくは約10ミクロン以下 の粒径を有する。インキがスクリーン印刷法により堆積される場合、金属粒子は スクリーンを通過する大きさでなければならない。スクリーン印刷法が好適であ るが、非限定的な意味でパッド式フレキソ印刷法、ステンシル、輪転グラビア、 及びオフセット印刷法を含む、他のタイプの塗布技法も使用し得ることをインク 中に使用されるポリマーは、使用される基体並びにポリマー中に分散される微細 粉砕金属粉に対しである程度の付着力を発現するものであれば、いかなる材料乃 至は材料混合物であっても良い。代表的なポリマーは、前述の米国特許第4,4 04.237号明細書に記載されている。The ink used in the present invention is produced by mixing finely ground metal powder and a solvent. blends with polymers that can control viscosity and flow properties. Metal is ink medium and stable in the cured polymer, obtained in finely divided form, and Which metal is higher in the activity series of the metal group than the metal used in the quantity displacement reaction? This may be the case. The most preferred metal is iron due to its availability and low cost. , nickel, zinc, or a mixture thereof. Metal powder is usually about 50 microns. 25 microns or less, preferably about 25 microns or less, most preferably about 10 microns or less It has a particle size of If the ink is deposited by screen printing method, the metal particles are It must be large enough to pass through the screen. Screen printing method is preferred However, in a non-limiting sense, pad flexo printing, stencils, rotogravure, It is noted that other types of application techniques may also be used, including offset printing and offset printing methods. The polymer used in the Any material can be used as long as it has a certain degree of adhesion to crushed metal powder. It may also be a mixture of materials. Representative polymers are those described in the aforementioned U.S. Pat. 04.237.

本発明で使用されるポリマー及びインキには、充填材、染料、顔料、ワックス、 安定剤、滑剤、硬化触媒、重合防止剤、湿潤剤、接着促進剤等柾々の他の材料を 含有せしめることができる。The polymers and inks used in this invention include fillers, dyes, pigments, waxes, Various other materials such as stabilizers, lubricants, curing catalysts, polymerization inhibitors, wetting agents, adhesion promoters, etc. It can be made to contain.

微細粉砕金属粉及びポリマーの量は、後の増量置換反応を助長するように、存意 な量の金属粒子が前記少なくとも部分的に硬化されたインクの表面上1ご存在す ることになる様な量とされる。一般的に、最良の効果を獲得するため、金属は硬 化後における混合物の体積の約60%乃至約80%を組成すべきである。The amounts of finely ground metal powder and polymer are adjusted to facilitate the subsequent bulking displacement reaction. an amount of metal particles present on the surface of the at least partially cured ink; It is said that the amount will be such that Generally, to obtain the best effect, metals should be hardened. It should constitute about 60% to about 80% of the volume of the mixture after curing.

インキ形成に際して、所望の印刷様式に合せて粘度及び流動特性を調節するため 、溶媒が使用される。一般的に言って、溶媒は、インキの粘度を25℃で約15 .000センチポアズから約200,000センチポアズまでの範囲に調節する のに十分な量で使用される。スクリーン印刷用として、好ましくは、粘度は約s o、oooセンチポアズから約150.000センチポアズまでの範囲である。To adjust the viscosity and flow characteristics to match the desired printing style during ink formation , a solvent is used. Generally speaking, the solvent will maintain the viscosity of the ink at about 15°C at 25°C. .. Adjust from 000 centipoise to approximately 200,000 centipoise used in sufficient quantities. For screen printing purposes, preferably the viscosity is about s o, ooo centipoise to about 150,000 centipoise.

適格な溶剤もしくは希釈剤は、脂肪族系もしくは芳香族系であり、約30個まで の炭素原子を含むものであり得る。代表的な溶剤は米国特許第4,404.23 7号明細書に記載されている。基体に塗布される間のインクの粘度及び流動が適 切である様に、室温において比較的非揮発性であり、且つ高分子の硬化温度もし くは塗布温度以上の他の温度において高揮発性である溶剤を使用するのが好まし い。Eligible solvents or diluents are aliphatic or aromatic and contain up to about 30 carbon atoms. A typical solvent is U.S. Patent No. 4,404.23. It is described in the specification of No. 7. The viscosity and flow of the ink during application to the substrate is appropriate. It is relatively non-volatile at room temperature, and the curing temperature of polymers is also low. It is preferable to use solvents that are highly volatile at temperatures other than the application temperature. stomach.

インクは、基体の上に所望の導体パターンを得るために基体に塗布される。例え ば、標準的なプリント回路塗布技術が利用される。インクの早まった硬化を起さ ない、且つ塗布技法に対してインクの粘度及び流動特性が適切となる温度であれ ば、いかなる温度を採用してもよい。必ずしも必要ではないが、インクの基体へ の塗布後、ただし硬化前に溶剤の少なくとも一部分を蒸発させるのが好ましい。The ink is applied to the substrate to obtain the desired conductor pattern on the substrate. example For example, standard printed circuit coating techniques are utilized. cause premature curing of the ink at a temperature where the viscosity and flow properties of the ink are appropriate for the application technique. For example, any temperature may be used. Although not necessary, to the ink substrate Preferably, at least a portion of the solvent is evaporated after application of, but before curing.

蒸発は、付加的な金属粉を露出させ、そして、上に形成される導電性膜に素地を 与えるのに十分な金属と、金属粒子同志を結着する結合剤として作用するには少 なすぎるポリマーとの均衡を得るために、ポリマーに対する金属粉の比率を高め るのに役立つ。乾燥処理を、約70℃乃至約150℃、好ましくは約110℃乃 至約130℃の温度で、約0゜1乃至1時間、より好ましくは約0.25乃至0 .5時間行なうのが好ましい。Evaporation exposes additional metal powder and transfers the substrate to the conductive film formed on top. Enough metal to give and less to act as a binder to bind the metal particles together. Increasing the ratio of metal powder to polymer to achieve a balance with too little polymer It will help you. The drying process is carried out at a temperature of about 70°C to about 150°C, preferably about 110°C to about 150°C. at a temperature of from about 130°C for about 0°1 to 1 hour, more preferably from about 0.25 to 0. .. It is preferable to carry out the treatment for 5 hours.

塗布に次いで、インクポリマーは最も至便な方法で硬化される。もし自触媒が添 加されているならば、ポリマーは開始剤を加えることなしに、独力で硬化する。Following application, the ink polymer is cured by the most convenient method. If autocatalyst is added If added, the polymer will cure on its own without the addition of an initiator.

紫外線開始剤を用いている場合、導体パターンを載せた基体を、開始剤に硬化反 応を開始させる高強度紫外線源下に通過させ得る。現時点で好ましいのは、10 0℃以上、好ましくは約140℃乃至約200℃の温度に、約0.1乃至約1時 間、好ましくは約0.15乃至約0.5時間曝すことによって促進される熱硬化 方式を採用することである。この工程の結果として、硬化ポリマーによって基体 に結合された、密に充填した金属が得られる。金属の高い百分率、並びに選択さ れたポリマーの収縮のせいで、かくして得られる導電性パターンは金属粒子間の 物理的接触によりいくらか導電性を有し得る。When using an ultraviolet initiator, the substrate with the conductive pattern placed on it is exposed to the curing reaction of the initiator. It can be passed under a source of high intensity ultraviolet light to initiate the reaction. Currently preferred is 10 at a temperature of 0°C or higher, preferably about 140°C to about 200°C, for about 0.1 to about 1 hour. Heat curing accelerated by exposure for a period of time, preferably from about 0.15 to about 0.5 hours. It is to adopt a method. As a result of this process, the cured polymer cures the substrate. The result is a closely packed metal bonded to the High percentage of metal, as well as selected Due to the shrinkage of the polymer, the conductive pattern thus obtained is May have some electrical conductivity due to physical contact.

いくつかの場合において、ポリマーを単に部分的にのみ硬化させるのが望ましい 。例えば、ポリマーインキ中にリード線を挿入することにより部品を搭載するの が望ましい場合も起る。この様な場合において、リード線に対して接着剤を提供 するために、ポリマーを部分的に硬化させるか、あるいはゲル化可能なポリマー を使用している。状況では、ポリマーを単にゲル化するのが望ましい。In some cases it is desirable to only partially cure the polymer. . For example, components can be mounted by inserting lead wires into polymer ink. There are cases where this is desirable. In such cases, provide adhesive for the lead wires. The polymer can be partially cured or gelatinable polymers can be used to are using. In some situations, it is desirable to simply gel the polymer.

インキデザイン化された基体は、次いで、金属粉の幾分かが活動度列でもっと下 の、即ちより責な金属によって置換される増量置換反応に付される。この工程は 、金属の公知の化学的挙動、即ち、いかなる金属も、そのあとの、より活動度の 低い、その1つの塩の水溶液からの金属によって置換されることを利用している 。米国特許第4,404゜237号明細書において、アイケルバーガーらは、粉 状金属がポリマーの表面及びいくらか表面の下から溶液中に入り込むと同時に、 前記表面上でより責な金属の沈着が相当起ることを見い出している。この様に、 表面での粉状金属との1対1交換を生じさせるであろう量より追加された量の責 な金属が表面上に堆積する。溶液からの追加の金属は、ポリマーによって基体に 付着している元からあった金6粒子並びに置換金属粒子の両方に対してめっきし 、表面上の全ての金属粒子を連結せしめ、結果として印刷導体パターン上に導電 性金属による接触膜を形成する。アイケルバーガーらは約5分間で数百マイクロ インチの導体材料が溶液から蓄積され得ることを見い出した。好ましくは、前記 のより責な金属は銅である。The ink-designed substrate then has some of the metal powder further down the activity column. , that is, subjected to a bulking substitution reaction in which the metal is replaced by a more aggressive metal. This process is , the known chemical behavior of metals, i.e. any metal is It takes advantage of the fact that one salt is displaced by a metal from an aqueous solution. . In U.S. Pat. No. 4,404°237, Eichelberger et al. At the same time, the metal enters the solution from the surface of the polymer and somewhat below the surface. It has been found that on said surfaces considerably more severe metal deposition occurs. Like this, Responsible for amounts added to those that would result in a one-to-one exchange with powdered metal at the surface. metal is deposited on the surface. Additional metal from the solution is transferred to the substrate by the polymer Plating both the original 6 adhering gold particles and the substituted metal particles. , which connects all the metal particles on the surface, resulting in a conductive pattern on the printed conductor pattern. Forms a contact film with a neutral metal. Eichelberger et al. It has been found that inches of conductive material can be accumulated from solution. Preferably, the above The more responsible metal is copper.

技術熟達者であれば、蓄積され得る導体材料の厚みは、ポリマー中の元の金属粒 子を増量置換溶液に含まれるより責な金属の粒子に換える交換速度や交換能によ って制限されることは理解するであろう。かくして、約300マイクロインチの 厚みををする導体路がこの様な増量置換法によって得ることが可能としても、増 量置換法によって得られる厚みよりも約3倍乃至約10倍の範囲の厚みの導体路 を利用するのが望ましい場合もしばしばである。A skilled person will know that the thickness of conductive material that can be accumulated is approximately equal to the original metal grains in the polymer. It depends on the exchange rate and exchange ability of replacing the particles with the more harmful metal particles contained in the bulk replacement solution. You will understand that there are restrictions. Thus, approximately 300 microinches Even if it is possible to obtain thicker conductor paths by such a bulk replacement method, A conductor path with a thickness ranging from about 3 times to about 10 times the thickness obtained by the quantity replacement method. It is often desirable to use

そこで今、基体を従来の無電解めっき浴に浸漬させることによって、増量置換法 により設けられた導体路上に、追加のより責な金属を堆積させ得ることが見出さ れた。無電解めっき浴によって堆積されるより責な金属は、増量置換法によって 被覆されるより責な金属と同一であっても、異なっていてもよい。Therefore, we have now developed a method for bulk replacement by immersing the substrate in a conventional electroless plating bath. It has been found that additional more aggressive metals can be deposited on conductor tracks provided by It was. The more aggressive metals deposited by electroless plating baths can be removed by bulk displacement methods. It may be the same as or different from the heavier metal being coated.

無電解めっきについては当業界でよく知られており、「エンサイクロペディア・ オブ・ケミカル・テクノロジー」、第3版、第8巻、73g−750頁、ジョン ・ワイリー・アンド・サンズ社(1979) [”Encyclopedia  or CheIlical Technology ” 、Th1rd Edi tlon、Vol、8.pages 738−750、John Vlley  and 5ons、1979 ]に概括的に記載されている。手順に言うと、無 電解めっき溶液は、めっきする金属の金属塩、還元剤、pH調整剤もしくは緩衝 液、錯化剤、並びに安定性、膜特性、堆積速度等を調節するための1種又はそれ 以上の添加剤を含有する。勿論、金属塩並びに還元剤はめっき過程において費消 されるから、周期的な間隔をおいて補給される必要がある。好適なめっき浴は、 銅塩を用いるものであり、また、全て本明細書中に引用によって取り入れられる 米国特許第2.874.072号、同2゜938.805号、同2,996.4 08号、同3,075.855号、同3,075,856号及び同3’、649 ゜350号各明細書に記載されている。特に好適なのは、本発明と同一の譲受人 に論理されたエージンスの米国特許第3.649.350号の安定化銅めっき浴 である。浴安定化剤、及び物性改良剤、堆積助剤を記載している付随的な特許は 、「ブレーティング・オブ・プラスチックス伊ウィズ・メタルズ」、ジョン・マ クジーモット、62−93頁、ノイエス・データ・コーポレーション(1974 ) [“Plating of Plastlcs vtth Metals  ” 、John McoerIIlott、pages 82−93.Noye s Data Corporation、1974 ]に編集されている。無電 解めっきによるプリント回路製作に関する特許は、のため、且つ限定するためで なく、以下の実施例が与えられている。全ての部及びパーセントは、特にことわ りのない場合は、重量基準である。Electroless plating is well known in the industry and is described in the Encyclopedia of Chemical Technology'', 3rd edition, Volume 8, pp. 73g-750, John ・Wiley & Sons, Inc. (1979) [“Encyclopedia” or CheIlical Technology”, Th1rd Edi tlon, Vol. 8. pages 738-750, John Vlley and 5ons, 1979]. In terms of steps, there is no The electrolytic plating solution contains a metal salt of the metal to be plated, a reducing agent, a pH adjuster or a buffer. liquid, complexing agent, and one or more for adjusting stability, film properties, deposition rate, etc. Contains the above additives. Of course, metal salts and reducing agents are consumed during the plating process. Because of this, it needs to be replenished at periodic intervals. A suitable plating bath is using copper salts, and all of which are incorporated herein by reference. U.S. Patent No. 2.874.072, U.S. Patent No. 2.938.805, U.S. Patent No. 2,996.4 No. 08, No. 3,075.855, No. 3,075,856 and No. 3', 649 It is described in each specification of No. 350. Particularly preferred are the same assignees as the present invention. Stabilized Copper Plating Bath of Agins U.S. Pat. No. 3,649,350 It is. Ancillary patents describing bath stabilizers and property modifiers and deposition aids are , “Breaking of Plastics with Metals”, John Ma Kuzimot, pp. 62-93, Noyes Data Corporation (1974) ) [“Plating of Plastlcs vtth Metals ”, John McoerIIlott, pages 82-93.Noye s Data Corporation, 1974]. No electricity Patents relating to the production of printed circuits by deplating are for the purpose of and for the purpose of limitation. Instead, the following examples are given. All parts and percentages are If there is no weight, it is based on weight.

実 施 例 アール・ティー・ブイ615ニー 12グラム及びアール・ティー・ブイ615 ビー 1.2グラム(ゼネラル・エレクトリック・カムパニーより入手可能)、 微細粉砕された銅及びニッケルの配合物90グラム及びツルペッツ10010. 5グラムを混合して印刷インクを調製した。Example R.T. Buoy 615 knee 12g and R.T. Buoy 615 Bee 1.2 grams (available from General Electric Company), 90 grams of finely ground copper and nickel blend and Tsurpetz 10010. A printing ink was prepared by mixing 5 grams.

かくして得られたインクを、シリコーン含浸ガラスクロス(ラウアー・カムバニ ーより入手可能)上にスクリーン印刷し、150℃で15分間加熱して硬化させ た。次いでアイケルバーガーの米国特許第4.404,237号明細書に従って 、印刷された基体を銅塩を含む水浴に浸漬せしめて増量置換反応を行なった。か くして得られた厚み約200マイクロインチの銅導体路を有するプリント回路を 、次いで、脱イオン水1710m1、マクブレックス7921銅錯化剤溶液20 0m1.マクブレックス7920銅/ホルムアルデヒド溶液60m1.マクブレ ックス7922苛性溶液28m1.マクブレックス7924シアン化物溶液2m l、マクブレックス7923ホルムアルデヒド溶液9グラムから成る無電解銅コ ーティング浴に浸漬させた。The ink thus obtained was applied to a silicone-impregnated glass cloth (Lauer Cambani). (available from ) and cured by heating at 150°C for 15 minutes. Ta. Then in accordance with Eichelberger U.S. Pat. No. 4,404,237 , the printed substrate was immersed in a water bath containing a copper salt to carry out a bulk displacement reaction. mosquito The resulting printed circuit with copper conductor tracks approximately 200 microinches thick was , then 1710 ml of deionized water, 20 ml of MacBrex 7921 copper complexing agent solution 0m1. Macbrex 7920 copper/formaldehyde solution 60ml 1. Macbre x7922 caustic solution 28ml 1. Macbrex 7924 cyanide solution 2m l, an electroless copper coat consisting of 9 grams of MacBrex 7923 formaldehyde solution. immersed in a bath.

無電解めっき浴の銅は、増量置換反応による銅の上に堆積し、厚み1.5ミルの 銅導体路を与えた。The copper in the electroless plating bath is deposited on top of the copper by bulking displacement reaction, forming a 1.5 mil thick layer. Provided with copper conductor tracks.

国際調査報告international search report

Claims (29)

【特許請求の範囲】[Claims] 1.(a)増量置換反応を行って、 しかる後に、 (b)無電解めっき注により金属の厚みを増加させること、 を含み、前記無電解めっき法によって施される金属が、前記増量置換反応によっ て施される金属と同一か又は異なる、基体に金属を施す方法。1. (a) Performing a bulk displacement reaction, After that, (b) increasing the thickness of the metal by electroless plating; and the metal applied by the electroless plating method is caused by the bulk substitution reaction. A method of applying metal to a substrate, which may be the same or different from the metal applied to the substrate. 2.増量置換反応によって施される金属と、無電解めっき法によって施される金 属とが同一である請求の範囲1項記載の方法。2. Metal applied by bulk substitution reaction and gold applied by electroless plating The method according to claim 1, wherein the genus is the same. 3.金属が銅である請求の範囲2項記載の方法。3. 3. The method according to claim 2, wherein the metal is copper. 4.請求の範囲1項の方法によって製造される物品。4. An article manufactured by the method of claim 1. 5.物品がプリント回路である請求の範囲4項記載の物品。5. 5. The article of claim 4, wherein the article is a printed circuit. 6.(a)基体上に、少なくとも1種の微細粉砕金属粉組成物及び少なくとも1 種の硬化可能なポリマーを含むインキ組成物により所望の図案を塗設すること; (b)前記硬化可能なポリマーを少なくとも部分的に硬化せしめること;及び( c)かくして得られる図案化された基体を、前記少なくとも部分的に硬化された ポリマーの表面上により貴な金属を沈着させるように金属カチオンが前記微細粉 砕金属粉の金属よりも貴である金属塩溶液と接触せしめることを含み、前記少な くとも部分的に硬化されたポリマーの表面上にめっきされたより貴な金属の厚み を、(c)で得られる図案化された基体を無電解めっき浴中に浸漬させることに より増加せしめることを改良点とする、基体上に図案を作製する方法。6. (a) on a substrate at least one finely ground metal powder composition and at least one applying a desired design with an ink composition comprising a curable polymer; (b) at least partially curing said curable polymer; and ( c) The patterned substrate thus obtained is subjected to said at least partially cured Metal cations are added to the fine powder to deposit more noble metals on the surface of the polymer. contacting the crushed metal powder with a metal salt solution that is nobler than the metal; Thickness of nobler metal plated onto the surface of at least partially cured polymer By immersing the patterned substrate obtained in (c) in an electroless plating bath. A method for producing designs on a substrate, the improvement being to increase the number of designs. 7.基体が、ガラス充填ポリエステル、フェノール樹脂板、ポリスチレン及びシ リコーン含浸ガラスから成る群より選ばれる請求の範囲6項記載の方法。7. The substrate is glass-filled polyester, phenolic resin plate, polystyrene, and silicone. 7. The method of claim 6, wherein the glass is selected from the group consisting of silicone impregnated glasses. 8.インキ組成物に、更に有効量の溶剤が含まれる請求の範囲6項記載の方法。8. 7. The method of claim 6, wherein the ink composition further includes an effective amount of a solvent. 9.微細粉砕金層扮が、鉄、ニッケル、亜鉛及びこれらの混合物から成る群より 選ばれる請求の範囲6項記載の方法。9. Finely ground gold layer from the group consisting of iron, nickel, zinc and mixtures thereof The method of claim 6 which is selected. 10.金属粉組成物が約50ミクロン未満の粒径を有する請求の範囲6項記載の 方法。10. 7. The metal powder composition of claim 6, wherein the metal powder composition has a particle size of less than about 50 microns. Method. 11.金属粉組成物が約25ミクロン未満の粒径を有する請求の範囲6項記載の 方法。11. 7. The metal powder composition of claim 6, wherein the metal powder composition has a particle size of less than about 25 microns. Method. 12.金属粉組成物が約10ミクロン未満の粒径を有する請求の範囲6項記載の 方法。12. 7. The metal powder composition of claim 6, wherein the metal powder composition has a particle size of less than about 10 microns. Method. 13.インキ組成物がスクリーン印刷法により塗布される請求の範囲6項記載の 方法。13. Claim 6, wherein the ink composition is applied by a screen printing method. Method. 14.微細粉砕金属粉組成物が、硬化後のインキ組成物の体積の約60%から約 80%までの範囲を構成する請求の範囲6項記載の方法。14. The finely ground metal powder composition contains about 60% to about 60% of the volume of the ink composition after curing. 7. The method of claim 6, comprising up to 80% coverage. 15.インキ組成物の粘度が、25℃において約15,000センチポアズから 約200,000センチポアズの範囲である請求の範囲6項記載の方法。15. The viscosity of the ink composition is from about 15,000 centipoise at 25°C. 7. The method of claim 6, wherein the range is about 200,000 centipoise. 16.インキ組成物の粘度が、25℃において約15,000センチポアズから 約200,000センチポアズの範囲である請求の範囲8項記載の方法。16. The viscosity of the ink composition is from about 15,000 centipoise at 25°C. 9. The method of claim 8, wherein the range is about 200,000 centipoise. 17.インキ組成物の粘度が、25℃において約50,000センチポアズから 約150,000センチポアズの範囲である請求の範囲6項記載の方法。17. The viscosity of the ink composition is from about 50,000 centipoise at 25°C. 7. The method of claim 6, wherein the range is about 150,000 centipoise. 18.インキ組成物の粘度が、25℃において約50,000センチポアズから 約150,000センチポアズまでの範囲である請求の範囲8項記載の方法。18. The viscosity of the ink composition is from about 50,000 centipoise at 25°C. 9. The method of claim 8, wherein the range is up to about 150,000 centipoise. 19.溶剤の一部が、インキ塗布後、ただし硬化前に蒸発せしめられる請求の範 囲8項記載の方法。19. Claims where part of the solvent is evaporated after the ink is applied but before curing The method described in Box 8. 20.溶剤の蒸発が、約70℃乃至約150℃の温度で約0.1乃至約1時間加 熱することにより行なわれる請求の範囲19項記載の方法。20. Evaporation of the solvent is performed at a temperature of about 70°C to about 150°C for about 0.1 to about 1 hour. 20. A method according to claim 19, which is carried out by heating. 21.微細粉砕金属粉の金属より貴な金属が銅である請求の範囲6項記載の方法 。21. The method according to claim 6, wherein the metal more noble than the metal in the finely pulverized metal powder is copper. . 22.微細粉砕金属粉の金属より貴な金属が銅である請求の範囲9項記載の方法 。22. The method according to claim 9, wherein the metal more noble than the metal in the finely pulverized metal powder is copper. . 23.(c)工程で施される金属及び無電解めっき法で施される金属が同一であ る請求の範囲6項記載の方法。23. (c) The metal applied in the process and the metal applied by electroless plating are the same. The method according to claim 6. 24.金属が銅である請求の範囲23項記載の方法。24. 24. The method of claim 23, wherein the metal is copper. 25.(a)基体上に、少なくとも1種の微細粉砕金属粉組成物及び少なくとも 1種の硬化可能なポリマーを含むインキ組成物により所望の図案を塗設すること 、 (b)前記硬化可能なポリマーを少なくとも部分的に硬化せしめること、 (c)かくして得られる図案化された基体を、金属カチオンが前記微細粉砕金属 粉の金属よりも貴である金属塩溶液と接触せしめること、及び、 (d)(c)で得られる図案化された基体を無電解めっき浴中に浸漬させること 、 を含む方法によって製造される製造物品。25. (a) on a substrate at least one finely ground metal powder composition and at least Applying a desired design with an ink composition containing one type of curable polymer. , (b) at least partially curing the curable polymer; (c) The patterned substrate thus obtained is treated with metal cations such as those of the finely ground metal. contacting with a metal salt solution that is nobler than the powdered metal; and (d) immersing the patterned substrate obtained in (c) in an electroless plating bath; , Articles of manufacture manufactured by a method comprising: 26.物品が導電体である請求の範囲25項記載の物品。26. 26. The article according to claim 25, wherein the article is an electrical conductor. 27.微細粉砕金属粉が、鉄、ニッケル、亜鉛及びこれらの混合物から成る群よ り選ばれる請求の範囲26項記載の導電体。27. The finely ground metal powder is made of a group consisting of iron, nickel, zinc and mixtures thereof. 27. The conductor according to claim 26, which is selected from the following. 28.微細粉砕金属粉の金属よりも貴な金属が銅である請求の範囲27項記載の 導電体。28. Claim 27, wherein the metal more noble than the metal of the finely pulverized metal powder is copper. conductor. 29.基体を無電解めっき浴に浸漬せしめることにより施される金属が銅である 請求の範囲28項記載の導電体。29. Copper is a metal that is applied by dipping the substrate in an electroless plating bath. The conductor according to claim 28.
JP62500089A 1985-12-30 1986-12-16 Formation of conductors using improved mass displacement method Pending JPS63502041A (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US81469485A 1985-12-30 1985-12-30
US814694 1985-12-30

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS63502041A true JPS63502041A (en) 1988-08-11

Family

ID=25215752

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP62500089A Pending JPS63502041A (en) 1985-12-30 1986-12-16 Formation of conductors using improved mass displacement method

Country Status (5)

Country Link
EP (1) EP0252941A4 (en)
JP (1) JPS63502041A (en)
KR (1) KR880701065A (en)
AU (1) AU6772187A (en)
WO (1) WO1987004190A1 (en)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5227223A (en) * 1989-12-21 1993-07-13 Monsanto Company Fabricating metal articles from printed images
DE4405156C1 (en) * 1994-02-18 1995-10-26 Univ Karlsruhe Process for the production of coated polymeric microparticles
KR100921874B1 (en) * 2001-10-29 2009-10-13 히타치 긴조쿠 가부시키가이샤 Method for forming electroplated coating on surface of article
JP2006128228A (en) 2004-10-26 2006-05-18 Seiko Epson Corp Forming method of conductive film, wiring board, electronic device, and electronic equipment

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1301186B (en) * 1963-09-19 1969-08-14 Basf Ag Process for the metallization of surfaces of plastic objects
DE1521152A1 (en) * 1965-07-16 1969-04-24 Basf Ag Metallization of plastic surfaces
US3764280A (en) * 1970-11-02 1973-10-09 Gen Electric Electroconductive coatings on non conductive substrates
FI783935A (en) * 1978-12-20 1980-06-21 Outokumpu Oy REFERENCE FITTING WITH METAL AV ETT MATERIAL SOM ICKE LEDER ELEKTRICITET
US4404237A (en) * 1980-12-29 1983-09-13 General Electric Company Fabrication of electrical conductor by replacement of metallic powder in polymer with more noble metal
US4454168A (en) * 1982-09-29 1984-06-12 E. I. Du Pont De Nemours And Company Printed circuits prepared from metallized photoadhesive layers
US4470883A (en) * 1983-05-02 1984-09-11 General Electric Company Additive printed circuit process

Also Published As

Publication number Publication date
EP0252941A1 (en) 1988-01-20
EP0252941A4 (en) 1988-06-08
AU6772187A (en) 1987-07-28
WO1987004190A1 (en) 1987-07-16
KR880701065A (en) 1988-04-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4362903A (en) Electrical conductor interconnect providing solderable connections to hard-to-contact substrates, such as liquid crystal cells
US4404237A (en) Fabrication of electrical conductor by replacement of metallic powder in polymer with more noble metal
US4391742A (en) Paste composition for the production of electrically conductive and solderable structures
US4487811A (en) Electrical conductor
JP2643099B2 (en) Method of attaching conductive metal to substrate
US4470883A (en) Additive printed circuit process
US4735676A (en) Method for forming electric circuits on a base board
EP0140585A1 (en) A method of forming a solderable, electrically conductive film on a substrate and the conductive composition itself
JPH0748584B2 (en) Printed circuit and its manufacturing method
GB2037488A (en) Thermoplastics printed circuit board material
US4535012A (en) Fast curing solderable conductor
US4416914A (en) Electrical conductors arranged in multiple layers and preparation thereof
US3399268A (en) Chemical metallization and products produced thereby
JPS63127598A (en) Self-shielding multilayer circuit board
CA2350506A1 (en) Process for depositing conducting layer on substrate
US3674485A (en) Method of manufacturing electrically conducting metal layers
JPS63502041A (en) Formation of conductors using improved mass displacement method
EP0097656A4 (en) Electroplated augmentative replacement processed conductors and manufacture thereof.
JP2605423B2 (en) Adhesive for printed wiring boards
JPS647592A (en) Manufacture of printed wiring board
JPS5856386A (en) Method of producing printed circuit board
JPH07235754A (en) Fine pattern forming method and paste
JPS5831075A (en) Local electroless plating method
JPS63133598A (en) Dielectric layer formed by photoimaging
JPS5892293A (en) Circuit board and method of producing same