JPS6349989A - Fingerprint collating device - Google Patents

Fingerprint collating device

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JPS6349989A
JPS6349989A JP61194162A JP19416286A JPS6349989A JP S6349989 A JPS6349989 A JP S6349989A JP 61194162 A JP61194162 A JP 61194162A JP 19416286 A JP19416286 A JP 19416286A JP S6349989 A JPS6349989 A JP S6349989A
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line width
line
pattern
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JP61194162A
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Sadamasa Hirogaki
広垣 節正
Koshi Sakurada
桜田 孔司
Tomoo Araki
荒木 知夫
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Oki Electric Industry Co Ltd
Original Assignee
Oki Electric Industry Co Ltd
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Abstract

PURPOSE:To collate fingerprints with high positioning accuracy by determining a superposed position between a collating fingerprint and a registered fingerprint based on line number distribution and line width distribution obtained from a binary graphic pattern. CONSTITUTION:A collating pattern obtained from a reading part 11 is stored in a collating pattern memory 12. Registered patterns are previously stored in a registered pattern memory 13. The memories 12, 13 are scanned by a raster method in 1st and 2nd directions and the line number distribution and line width distribution of both the patterns are respectively extracted by a line number distribution extracting part 14 and a line width distribution extracting part 15. The line number distribution is compared with the line width distribution by a reference point extracting part 16 and a superposed position of both the patterns is extracted. A coincidence deciding part 17 superposes the collating pattern to the registered pattern based on the superposed position, finds out the degree of coincidence of both the patterns and decides the coincidence or discrepancy of both the patterns based on the degree of coincidence.

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) この発明は指紋照合装置に関するものである。[Detailed description of the invention] (Industrial application field) This invention relates to a fingerprint verification device.

(従来の技術) 従来から例えば印鑑や指紋等の自動照合において、照合
を正確にかつ迅速に行う目的のため被照合物の中心座標
等の基準点を検出することが行われている。
(Prior Art) Conventionally, in automatic verification of seal stamps, fingerprints, etc., for example, a reference point such as the center coordinates of the object to be verified has been detected for the purpose of performing verification accurately and quickly.

このような目的のため、印影等の図形の中心を検出する
種々の装置が提案されており、例えばこの出願の出願人
に係る特開昭58−191084号公報には印影の中心
点座標の検出に用いて好適な図形認識装置が開示されて
いる。
For this purpose, various devices have been proposed for detecting the center of a figure such as a seal imprint. A figure recognition device suitable for use is disclosed.

上述の公報に記載された装置は、例えば印影等の図形を
ラスタ走査方式で読み取り各座標の黒点及び白点に対応
して二値電気信号を与える読み取り部と、読み取り部に
よって読み取られた図形の内部を塗りつぶす塗りつぶし
パターン作成部と、塗りつぶされたパターンの重みづけ
された各点の重心座標を当該図形の中心座標とする中心
座標検出部とを具えている。この装置によれば、図形パ
ターンを塗りつぶした後に重心を求めることにより図形
パターンの中心点を検出するから、印影パターンや図形
パターンのカスレ、ヨゴレ及び内部パターンのムラ等に
起因する検出誤差が極めて低減するため、精度の高い中
心点座標の検出が可能であった。
The device described in the above-mentioned publication includes a reading section that reads a figure such as a seal imprint using a raster scanning method and provides a binary electric signal corresponding to a black point and a white point at each coordinate, and a reading section that reads a figure such as a seal imprint and provides a binary electric signal corresponding to a black point and a white point at each coordinate. It includes a fill pattern creation section that fills in the interior, and a center coordinate detection section that determines the barycenter coordinates of each weighted point of the filled pattern as the center coordinates of the figure. According to this device, the center point of the graphic pattern is detected by determining the center of gravity after filling the graphic pattern, so detection errors caused by fading or staining of the seal imprint pattern or the graphic pattern, unevenness of the internal pattern, etc. are extremely reduced. Therefore, it was possible to detect the center point coordinates with high accuracy.

(発明が解決しようとする問題点) しかしながら、上述した構成の従来の装置では、指紋等
のように最外郭に外に凸な閉曲線が存在しない図形につ
いて中心点を求めようとした場合には中心点検出精度が
低下するという問題点があった。
(Problem to be Solved by the Invention) However, in the conventional device having the above-mentioned configuration, when trying to find the center point of a figure such as a fingerprint that does not have an outwardly convex closed curve, There was a problem that point detection accuracy decreased.

具体的に説明すると、例えば指紋のような縞(線模様)
状図形において、最外郭の線の一本にとぎれがあるよう
な場合や、線の一本が図形内部側に凹形状となっていて
図形の一本が欠けた状態と同様な影響を与えるような場
合にはこれらの影響で重心位置がずれることが生ずる場
合があり、これがため、中心点等の基準点検出精度が低
下し、従って、照合しようとする指紋同士を精度良く位
置合せすることが出来ないことになる。
To be more specific, for example, stripes (line patterns) like a fingerprint.
When there is a break in one of the outermost lines of a geometric figure, or when one of the lines is concave inside the figure, it may have the same effect as when one of the lines is missing. In these cases, the center of gravity may shift due to these effects, which reduces the accuracy of detecting reference points such as the center point, making it difficult to accurately align the fingerprints to be compared. It turns out you can't do it.

この発明の目的は、上述した問題点を解決し、高い位置
合せ精度で指紋の照合を行える指紋照合装置を提供する
ことにある。
An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems and provide a fingerprint verification device that can perform fingerprint verification with high alignment accuracy.

(問題点を解決するための手段) この目的の達成を図るため、この発明の指紋照合装置は
照合する指紋を二値の照合パターンとして読み取る読み
取り部と、 この照合パターンを格納する照合パターンメモリと、 予め登録されている指紋を前述の二値の登録パターンと
して格納する登録パターンメモリと、前述の照合パター
ンメモリ及び登録パターンメモリを第一の方向及び第二
の方向毎でそれぞれラスタ方式で走査しこれら両パター
ンの線数を各走査毎で求めて、この両パターンの前述の
第一及び第二方向毎の線数分布を抽出する線数分布抽出
部と、 前述の照合パターンメモリ及び登録パターンメモリを第
一の方向及び第二の方向毎でそれぞれラスタ方式で走査
しこれら両パターンの最大線幅を各走査毎で求めて、こ
の両パターンの前述の第一及び第二方向毎の線幅分布を
抽出する線幅分布抽出部と、 前述の第一及び第二方向毎の、前述の照合パターンと前
述の登録パターンとの線幅分布同士及び線数分/ji同
」−をそれぞわ比較し両パターンの重ね合せ位置を抽出
する基準点抽出部と、前述の重ね合せ位置に基づいて前
述の照合及び登録パターンを重ね合せ両パターンの一致
度を求め、この一致度に基づいてこの両パターンの一致
・不一致を判定する一致判定部と を具えることを特徴とする。
(Means for Solving the Problems) In order to achieve this object, the fingerprint matching device of the present invention includes a reading section that reads a fingerprint to be matched as a binary matching pattern, and a matching pattern memory that stores this matching pattern. , The registered pattern memory that stores the fingerprints registered in advance as the aforementioned binary registered pattern, and the aforementioned verification pattern memory and registered pattern memory are scanned in a raster method in each of the first direction and the second direction. a line number distribution extraction unit that obtains the number of lines of both of these patterns for each scan and extracts the line number distribution of each of the above-mentioned first and second directions of both patterns; and the above-mentioned matching pattern memory and registered pattern memory. is scanned in a raster method in each of the first direction and the second direction, and the maximum line width of these two patterns is determined for each scan, and the line width distribution of these two patterns in each of the first and second directions is calculated. and the line width distributions of the matching pattern and the registered pattern in each of the first and second directions and comparing the line width distributions and the number of lines/ji same'' respectively. and a reference point extraction unit that extracts the overlapping position of both patterns, and a reference point extracting unit that overlays the above-mentioned matching and registration patterns based on the above-mentioned overlapping position to find the degree of coincidence between both patterns, and extracts the degree of coincidence between the two patterns based on this degree of coincidence. and a match determination unit that determines whether or not they match.

この発明の実施に当り、前述の基準点抽出部は、前述の
両パターンの前述の第一方向の線数分布同士及び線幅分
布同士をそれぞれ比較して得られる最小相違度と、前述
の両パターンの前記第二方向の線数分布同士及び線幅分
布同士をそれぞれ比較して得られる最小相違度との少な
くとも一方の値が所定値より大きいとき前記両パターン
は不一致と判定するのが好適である。
In carrying out the present invention, the reference point extraction section described above calculates the minimum dissimilarity obtained by comparing the line number distributions and the line width distributions in the first direction of the two patterns, respectively. Preferably, the two patterns are determined to be mismatched when at least one of the minimum dissimilarity values obtained by comparing the line number distributions and the line width distributions of the patterns in the second direction is larger than a predetermined value. be.

この発明の実施に当り、前述の線幅は前述の二値の一方
の値と一方の値との間に存在する他方の値の部分を一つ
の線幅として求めるのが好適である。
In carrying out the present invention, it is preferable that the above-mentioned line width is obtained by determining one of the above-mentioned binary values and the portion of the other value existing between the one value as one line width.

この発明の実施に当り、前述の線数は前述の二値の 方
の値と 方の値との間に存在する他方の値の部分を一本
の線数として求めるのが好適である。
In carrying out the present invention, it is preferable that the number of lines described above is obtained by determining the portion of the other value between the two values 1 and 2 as one number of lines.

さらに、この発明の実施に当り、前述の線数Qま前述の
二値の一方の値と一方の値との間に存在する他方の値の
個数が予め定めた範囲内の個数であるとき〜木の線数と
して求めても良い。
Furthermore, in carrying out the present invention, when the number of lines Q or the number of the other value existing between one of the two values is within a predetermined range. It can also be found as the number of lines in the tree.

(作用) このような構成によれば、照合指紋及び登録指紋の重ね
合せ位置は照合及び登録パターンメモリにそれぞわ格納
されたそれぞれの二値の図形パターンから抽出された線
数分布及び最大線幅分布に基づいて決定される。このよ
うにすれば、例えば縞(線模様)状図形を構成する線の
一本が図形の内側にへこんで存在するような場合であっ
てもこの線の線数及び線幅は確認されるし、又、線の一
本にとぎれが存在する場合てあってもその部分が重ね合
せ位置を決定する際に及ぼす影晋は小さなものとなるの
で、両パターンは迅速にかつ高いM度で重ね合され、そ
の後、こわらの照合が行われることになる。
(Function) According to such a configuration, the overlapping position of the verification fingerprint and the registered fingerprint is determined based on the line number distribution and the maximum line extracted from the respective binary graphic patterns stored in the verification and registration pattern memories, respectively. Determined based on width distribution. In this way, for example, even if one of the lines constituting a striped (line pattern) figure is recessed inside the figure, the number and width of this line can be confirmed. In addition, even if there is a break in one of the lines, the influence of that part on determining the overlapping position will be small, so both patterns can be overlapped quickly and with a high degree of M. After that, verification of stiffness will be carried out.

(実施例) 以下、図面を参照してこの発明の指紋照合装置の一実施
例について説明する。
(Embodiment) Hereinafter, an embodiment of the fingerprint matching device of the present invention will be described with reference to the drawings.

第1図はこの発明の指紋照合装置の実施例を示すブロッ
ク図である。
FIG. 1 is a block diagram showing an embodiment of the fingerprint matching device of the present invention.

第1図において、11は読み取り部を示し、この読み取
り部11は照合する指紋を例えば光学的に読み取り二値
の図形パターン(これを、照合パターンと称することと
する。)として読み取るものであり、例えば、図形を二
値の電気信号(説明の都合上、白黒のパターンとも云う
。)に変換して照合パターンメモリ12に出力するもの
である。
In FIG. 1, reference numeral 11 indicates a reading unit, and this reading unit 11 optically reads the fingerprint to be compared, for example, as a binary graphic pattern (this will be referred to as a matching pattern). For example, a figure is converted into a binary electrical signal (also referred to as a black and white pattern for convenience of explanation) and output to the matching pattern memory 12.

又、この照合パターンメモリ12はこの白黒パターンを
格納するもので、図示を省略しであるがこの場合メモリ
の第一方向(X方向)及び第二方向(Y方向)のアドレ
スをそれぞれ指定するための第一及び第ニアドレスカウ
ンタを具えているものである。
Further, this matching pattern memory 12 is for storing this black and white pattern, and although not shown in the figure, in this case, it is used to specify addresses in the first direction (X direction) and second direction (Y direction) of the memory, respectively. The first and second nearest address counters are provided.

13は予め登録された指紋を格納するための登録パター
ンメモリを示し、これは照合パターンメモリ12と同様
な構成のものとしである。
Reference numeral 13 indicates a registered pattern memory for storing previously registered fingerprints, and this has the same configuration as the verification pattern memory 12.

14は線数分布抽出部を示しこの実施例の場合第一線数
分布抽出手段+4a及び第二線数分布抽出手段!4bを
以って構成してあり、又、第一及び第二線数分布抽出手
段+4a、14bは、図示を省略しであるが、黒点線幅
カウンタ、X方向線数分布カウンタXtlist及びY
方向線数分布カウンタYHisjをそれぞれ具えている
(詳細は後述する。)。そして、この実施例の場合、第
一線数分布抽出手段14aは照合パターンメモリ12を
X方向及びY方向毎でそれぞれラスタ走査方式で走査し
、つまり、照合バタンメモリ12内に格納されている照
合パターンをX及びY方向毎に線順次に読み出し、後述
する方法によって線分を計数して各走査毎の線数を求め
、よって、X及びY方向毎の線数分布を作成する。一方
、第二線数分布抽出手段14bは登録パターンメモリ1
2をX方向及びY方向毎でそれぞれラスタ走査方式で走
査し、第−抽出部14aによって照合パターンの線数分
布を作成したと同様に、登録パターンのX及びY方向毎
の線数分布を作成する。
Reference numeral 14 indicates a line number distribution extraction unit, and in this embodiment, the first line number distribution extraction means +4a and the second line number distribution extraction means! 4b, and the first and second line number distribution extraction means +4a, 14b, although not shown, include a black dot line width counter, an X direction line number distribution counter Xtlist, and a Y
Each of them is provided with a direction line number distribution counter YHisj (details will be described later). In the case of this embodiment, the first line number distribution extraction means 14a scans the matching pattern memory 12 in each of the X direction and the Y direction using a raster scanning method. The pattern is read out line-by-line in each of the X and Y directions, and the number of lines for each scan is determined by counting the line segments by a method described later, thereby creating a line number distribution for each of the X and Y directions. On the other hand, the second line number distribution extraction means 14b uses the registered pattern memory 1
2 in each of the X and Y directions using a raster scanning method, and create the line number distribution of the registered pattern in each of the X and Y directions in the same way as the line number distribution of the matching pattern is created by the first extraction unit 14a. do.

15は線幅分布抽出部を示しこの実施例の場合第−線幅
分布抽出手段15a及び第二線幅分布抽出手段15bを
以って構成してあり、又、第一及び第二線幅分布抽出手
段15a、15bは、図示を省略しであるが、黒点線幅
カウンタ、X方向線幅分布レジスタX’1VDT、Y方
向線幅分布レジスタY WDT及び線幅最大値レジスタ
BMAXをそれぞれ具えている(詳細は後述する。)。
Reference numeral 15 denotes a line width distribution extraction section, which in this embodiment is composed of a first line width distribution extraction means 15a and a second line width distribution extraction means 15b. Although not shown, the extraction means 15a and 15b each include a black dot line width counter, an X-direction line width distribution register X'1VDT, a Y-direction line width distribution register YWDT, and a line width maximum value register BMAX. (Details will be described later.)

そして、この実施例の場合、第一線幅分布抽出手段15
aは照合パターンメモリ12をX及びY方向毎でそれぞ
れラスタ走査方式で走査し、つまり、照合バタンメモリ
12内に格納されている照合パターンをX及びY方向毎
に線順次に読み出し、後述する方法によって走査線上の
線分の線幅を計数して各走査毎の最大線幅を求め、よっ
て、X及びY方向毎の線幅分布を作成するものである。
In the case of this embodiment, the first line width distribution extraction means 15
a scans the verification pattern memory 12 in each of the X and Y directions using a raster scanning method, that is, reads out the verification patterns stored in the verification pattern memory 12 line-sequentially in each of the X and Y directions, as described below. The line widths of the line segments on the scanning line are counted to find the maximum line width for each scan, thereby creating line width distributions in each of the X and Y directions.

一方、第二線幅分布抽出手段15bは登13パターンメ
モリ13をX及びY方向毎でそれぞれラスタ走査方式で
走査し、第一線幅分布抽出手段15aによって照合パタ
ーンの線幅分布を作成したと同様に、登録パターンのX
及びY方向毎の線幅分布を作成する。
On the other hand, the second line width distribution extraction means 15b scans the 13 pattern memory 13 in each of the X and Y directions using a raster scanning method, and the first line width distribution extraction means 15a creates the line width distribution of the matching pattern. Similarly, the registered pattern
and create a line width distribution for each Y direction.

16は基準点検出部を示し、この基準点検出部16は線
数分布抽出部14、この場合第一及び第二線数分布抽出
部14a、14bでそれぞれ作成された照合パターン及
び登録パターンのそれぞれの線数分布をX及びY方向毎
に比較すること、及び、線幅分布抽出部15、この場合
第一及び第二線幅分布抽出部15a、+5bでそれぞれ
作成された照合パターン及び登録パターンのそれぞれの
線幅分布をX及びY方向毎に比較することとを行って両
パターンの相違度を求め、この相違度に基づいて照合及
び登録パターンを重ね合せる基準点を抽出する。
Reference numeral 16 indicates a reference point detection unit, and this reference point detection unit 16 detects each of the matching patterns and registered patterns created by the line number distribution extraction unit 14, in this case the first and second line number distribution extraction units 14a and 14b, respectively. Comparing the line number distribution in each of the X and Y directions, and comparing the matching pattern and registered pattern created by the line width distribution extraction unit 15, in this case, the first and second line width distribution extraction units 15a and +5b, respectively. The respective line width distributions are compared in each of the X and Y directions to determine the degree of difference between the two patterns, and based on this degree of difference, a reference point for matching and overlapping the registered patterns is extracted.

17は一致判定部を示し、基準点抽出部16で得られた
基準点に基づいて照合パターンメモリ12及び登録パタ
ーンメモリ13にそれぞれ格納されている照合パターン
及び登録パターンを重ね合せ、両パターンの一致度を例
えば後述する方法によって抽出し、その一致度の値に基
づいて両パターンが同一の指から得られた指紋であるか
どうかの判定をする。
Reference numeral 17 denotes a match determination unit, which superimposes the matching pattern and registered pattern stored in the matching pattern memory 12 and the registered pattern memory 13, respectively, based on the reference point obtained by the reference point extraction unit 16, and determines whether the two patterns match. The degree of coincidence is extracted, for example, by a method described later, and it is determined whether both patterns are fingerprints obtained from the same finger based on the value of the degree of coincidence.

声  布  1tJの舌 日 次に、線数分布抽出部の動作につき説明する。Voice Cloth 1tJ Tongue Day Next, the operation of the line number distribution extraction section will be explained.

この実施例の場合、この線数分布抽出部を第一及び第二
線数分布抽出手段14a、14bを以って構成した例で
説明しているか、これら抽出手段は対象とするメモリが
一方は照合パターンメモリ他方は登録パターンメモリで
あることを除いて同様な構成であるから、第2図に示す
フローチャートを参照して第一線数分布抽出手段14a
の動作につき説明し、第二線数分布抽出手段14bの説
明を省略する。
In the case of this embodiment, the line number distribution extraction unit is explained as an example configured with first and second line number distribution extraction means 14a and 14b. Since the matching pattern memory has the same configuration except that the other one is a registered pattern memory, the first line number distribution extraction means 14a will be described with reference to the flowchart shown in FIG.
The operation will be explained, and the explanation of the second line number distribution extraction means 14b will be omitted.

又、照合パターンメモリ12を走査する際に、先ず、第
3図(A)に示すように、Y方向を主走査方向としX方
向を副走査方向として、照合パターンメモリ12のX座
標毎の線数を計数する例で説明する。
When scanning the verification pattern memory 12, first, as shown in FIG. 3(A), the Y direction is the main scanning direction and the X direction is the sub-scanning direction. This will be explained using an example of counting numbers.

第一線数分布抽出手段14aに備わるX方向線数分布カ
ウンタX+1istに初期値Oをセットする(ステップ
21)。
An initial value O is set in the X-direction line number distribution counter X+1ist provided in the first line number distribution extraction means 14a (step 21).

照合パターンメモリ12の第一アドレスカウンタXに照
合パターンメモリ12のX方向始点座標値x3をセット
する(ステップ22)。
The X-direction starting point coordinate value x3 of the verification pattern memory 12 is set in the first address counter X of the verification pattern memory 12 (step 22).

第一線数分布抽出手段14aに備わる黒点線幅カウンタ
(CNTと略称することもある。)にOをセットする(
ステップ23)。
A black dot line width counter (sometimes abbreviated as CNT) provided in the first line number distribution extraction means 14a is set to O (
Step 23).

照合パターンメモリ12の第二アドレスカウンタYに照
合パターンメモリ12のY方向始点座標値Y3をセット
する(ステップ24)。
The Y-direction starting point coordinate value Y3 of the verification pattern memory 12 is set in the second address counter Y of the verification pattern memory 12 (step 24).

このような初期設定を行った後、照合パターンメモリ1
2の点(XS、YS)に格納された二値信号を読み出し
、その信号が黒点であった場合にはCNTに1を加算す
る(ステップ25.26 )。又、点(xs、ys)が
黒点でなく現在までのCNTの値が0でない場合はX 
Hist (X )この場合はX)list(Xs)に
1を加算しくステップ25.27 )、最終的にCNT
を0とする(ステップ25,27,28゜29)。次に
、座標Ysに1を加算(ステップ30)し、順次Y方向
におけるアドレスカウンタの値が終点座標YEを越える
までステップ25〜31の処理を繰り返して行う(ステ
ップ30.31 )。つまり、この例の場合、座標X、
sに着目しY方向に照合バタンメモリ12を走査した時
、白点の後に黒点が出現した場合にCNTに1を加算し
、引き続いて黒点が連続するならば1を加算することを
繰り返して行い黒点の個数を数える。この黒点の連続す
る部分を照合パターンを構成する線の一本分と判断する
こととし、そして、主走査上に再び白点が出現したなら
ば線分の終了と判断してCNTを0に初期化すると共に
、線を一本計数したことを意味する、XHist(Xs
 )に1を加算することを行う。この処理を座標xSの
走査線上で行うことによって座標X3のY方向の走査線
上の線数を抽出することが出来る。
After performing these initial settings, check pattern memory 1
The binary signal stored at point 2 (XS, YS) is read out, and if the signal is a black point, 1 is added to CNT (step 25.26). Also, if the point (xs, ys) is not a black point and the current CNT value is not 0, then
Hist (X) In this case, add 1 to list(Xs) (step 25.27), and finally CNT
is set to 0 (steps 25, 27, 28°29). Next, 1 is added to the coordinate Ys (step 30), and steps 25 to 31 are sequentially repeated until the value of the address counter in the Y direction exceeds the end point coordinate YE (step 30.31). In other words, in this example, the coordinates
When scanning the verification button memory 12 in the Y direction focusing on s, if a black point appears after a white point, 1 is added to CNT, and if black points continue, 1 is added to CNT, and this is repeated. Count the number of sunspots. This continuous portion of black dots is determined to be one line forming the matching pattern, and if a white dot appears again on the main scan, it is determined that the line segment has ended and CNT is initialized to 0. , and XHist(Xs
) is added by 1. By performing this process on the scanning line at the coordinate xS, the number of lines on the scanning line in the Y direction at the coordinate X3 can be extracted.

次に、Y座標の値がYEを越えた時、現在までのCNT
の値が0でなければXHist (Xs ) ニ1を加
算し、又座標値xsに1を加算しX方向の終点座標xE
を越えるまでステップ23〜35の処理を繰り返し行う
(ステップ34.35 )。
Next, when the Y coordinate value exceeds YE, the current CNT
If the value of is 0, add 1 to XHist (Xs), add 1 to the coordinate value
The processes of steps 23 to 35 are repeated until the value exceeds the value (steps 34 and 35).

このような処理を行うことによって、各X座標毎のY方
向走査後の線数を求めることが出来、従ってX方向にお
けるX;A数分ノロを抽出することか出来る。
By performing such processing, it is possible to obtain the number of lines after scanning in the Y direction for each X coordinate, and therefore it is possible to extract the number of lines corresponding to the number of X;A in the X direction.

続いて、第3図(B)に示すように、X方向を主走査方
向としY方向を副走査方向として、照合パターンメモリ
12のY座標毎の線数を計数して、Y方向における線数
分布を抽出する(ステップ41〜55)。この処理は上
述したX方向線数分布を求めることと基本的に同様な手
順で行うことが出来るので、その説明を省略する。
Next, as shown in FIG. 3(B), the number of lines in the Y direction is determined by counting the number of lines for each Y coordinate of the matching pattern memory 12, with the X direction as the main scanning direction and the Y direction as the sub scanning direction. Extract the distribution (steps 41-55). Since this process can be performed basically in the same procedure as for obtaining the X-direction line number distribution described above, the explanation thereof will be omitted.

第二線数分布抽出手段14bを用いて上述したと同様に
登録パターンの線数分布を求めることか出来る。
The second line number distribution extraction means 14b can be used to obtain the line number distribution of the registered pattern in the same manner as described above.

唱 君 1゜の:0 次に、線幅分布抽出部の動作につき説明する。Shou-kun 1゜:0 Next, the operation of the line width distribution extraction section will be explained.

この実施例の場合、この線幅分布抽出部を第一及び第二
線幅分布抽出手段15a 、 15bを以って構成した
例で説明しているが、これら抽出手段は対象とするメモ
リが一方は照合パターンメモリ他方は登録パターンメモ
リであることを除いて同様な構成であるから、第4図に
示すフローチャートを参照して第一線幅分布抽出手段1
5aの動作につき説明し、第二線幅分布・抽出手段15
bの説明を省略する。
In the case of this embodiment, the line width distribution extracting section is explained as an example constituted by first and second line width distribution extracting means 15a and 15b, but these extracting means have only one target memory. has the same configuration except that the verification pattern memory and the other are registered pattern memories, so please refer to the flowchart shown in FIG.
5a will be explained, and the second line width distribution/extraction means 15 will be explained.
The explanation of b is omitted.

又、照合パターンメモリ12を走査する際に、先ず、第
3図(A)に示すように、Y方向を主走査方向としX方
向を副走査方向として、照合パターンメモリ12のX座
標毎の最大線幅を計数する例で説明する。
In addition, when scanning the verification pattern memory 12, first, as shown in FIG. 3(A), with the Y direction as the main scanning direction and the This will be explained using an example of counting line width.

照合パターンメモリ12の第一アドレスカウンタXに照
合パターンメモリ12のX方向始点座標値xsをセット
する(ステップ61)。
The X-direction starting point coordinate value xs of the verification pattern memory 12 is set in the first address counter X of the verification pattern memory 12 (step 61).

第−線幅分布抽出部15aに備わる黒点線幅カウンタ(
CNTと略称することもある。)に0をセットする(ス
テップ62)。
The black dotted line width counter (
It is sometimes abbreviated as CNT. ) is set to 0 (step 62).

Y方向に一走査した際にその走査線上で会する線幅の最
大値を格納する線幅最大値レジスタBMAXに初期値0
をセットする(ステップ63)。
An initial value of 0 is set in the line width maximum value register BMAX, which stores the maximum value of line width that occurs on a scanning line when one scan is performed in the Y direction.
is set (step 63).

照合パターンメモリ12のY方向始点座標値YSをセッ
トする(ステップ64)。
The Y-direction starting point coordinate value YS of the verification pattern memory 12 is set (step 64).

このような初期設定を行った後、照合パターンメモリ1
2の点(XS 、 Ys )に格納された二値信号を読
み出し、その信号が黒点でない場合であればCNTをO
としくステップ65.66 ) 、又、その信号が黒点
であった場合にはCNTに1を加算した後、ここでCN
Tの値がBMAXに格納されている値よりも大きい場合
にはCNTの値をBMAXに格納する(ステップ65.
67〜69)。次に、座標YSに1を加算(ステップ7
0)シ、順次Y方向におけるアドレスカウンタの値が終
点座標Yl:を超えるまでステップ65〜71の処理を
繰り返して行う(ステップ70.71 )。つまり、こ
の例の場合、座標xsに着目しY方向に照合バタンメモ
リ12を走査した時、白点の後に黒点が出現した場合に
CNTに1を加算、し、引き続いて黒点か連続するなら
ば1を加算することを繰り返して行い黒点の個数を数え
る。この黒点の連続する部分を照合パターンを構成する
線の線幅と判断することとし、そして、主走査上に再び
白点が出現したならば線分の終了と判断する。そして、
座標xsのY方向の走査において出現した黒点の群の中
から黒点の個数が最ム多いものをこの走査における最大
線幅として抽出する。
After performing these initial settings, check pattern memory 1
Read the binary signal stored at point 2 (XS, Ys), and if the signal is not a black point, turn the CNT
Then, if the signal is a black point, add 1 to CNT, and then add 1 to CN.
If the value of T is greater than the value stored in BMAX, the value of CNT is stored in BMAX (step 65.
67-69). Next, add 1 to the coordinate YS (step 7
0) Steps 65 to 71 are sequentially repeated until the value of the address counter in the Y direction exceeds the end point coordinate Yl: (Steps 70 and 71). In other words, in this example, when scanning the verification button memory 12 in the Y direction focusing on the coordinate xs, if a black point appears after a white point, 1 is added to CNT, and if there are consecutive black points, then Repeat the process of adding 1 to count the number of black dots. The continuous portion of the black dots is determined to be the line width of the line constituting the matching pattern, and if the white dot appears again on the main scan, it is determined that the line segment has ended. and,
Among the group of black dots that appear in the Y-direction scan of the coordinate xs, the one with the largest number of black dots is extracted as the maximum line width in this scan.

次に、Y座標かYP、を越えたときX方向線幅分布レジ
スタX WDTのX座標に対応するアドレスXWDT(
X ) 、 :(7)場合テアればX WDT (X 
s) kl:上述のように求めた一走査線における線幅
の最大値であるBMAXの内容を格納する(ステップ7
1゜72)。
Next, when the Y coordinate exceeds YP, the address XWDT (
X ), :(7) If it is torn, then X WDT (X
s) kl: Stores the contents of BMAX, which is the maximum value of the line width in one scanning line obtained as described above (step 7).
1°72).

次に、座標値Xsに1を加算(ステップ73)シ照合パ
ターンメモリのX方向の終点座標XEを越えるまでステ
ップ62〜74の処理を繰り返し行う(ステップ73.
74 )。
Next, 1 is added to the coordinate value Xs (step 73), and the processes of steps 62 to 74 are repeated until the end point coordinate XE in the X direction of the matching pattern memory is exceeded (step 73.
74).

このような処理を行うことによって、各X座標毎のY方
向において出現した線分の中の最大線幅を求めることが
出来、従ってX方向における線幅分布を抽出することが
出来る。
By performing such processing, the maximum line width of line segments appearing in the Y direction for each X coordinate can be determined, and therefore the line width distribution in the X direction can be extracted.

続いて、第3図(B)に示すように、X方向を主走査方
向とじY方向を副走査方向として、照合パターンメモリ
12のY座標毎の線幅を計数して、Y方向における線幅
分布を抽出する(ステップ81〜94〉。この処理は上
述したX方向線幅分布を求めることと基本的に同様な手
順で行うことが出来るので、その説明を省略する。
Next, as shown in FIG. 3(B), the line width in the Y direction is calculated by counting the line width for each Y coordinate in the matching pattern memory 12, with the X direction as the main scanning direction and the Y direction as the sub scanning direction. Extract the distribution (steps 81 to 94). This process can be performed using basically the same procedure as for determining the X-direction line width distribution described above, so the explanation thereof will be omitted.

又、第二線幅分布抽出手段+5bを用いて上述したと同
様に登録パターンの線幅分布を求めることが出来る。
Further, the line width distribution of the registered pattern can be obtained in the same manner as described above using the second line width distribution extraction means +5b.

基準占り山部のテロ 基準点抽出部16では、先ず、登録パターンのX方向!
数分布XHisttと、照合パターンのX方向線数分@
XHist、とを比較すること、及び、登録パターンの
X方向線幅分布X■DTtと、照合パターンのX方向線
幅分布X WDT、とを比較することを行って、両パタ
ーンを重ね合せた場合に最も良く重なり合う位置を求め
る。
The terrorist reference point extraction unit 16 in the standard fortune-telling mountain section first detects the X direction of the registered pattern!
Number distribution XHistt and the number of lines in the X direction of the matching pattern @
XHist, and the registered pattern's X-direction line width distribution X■DTt and the matching pattern's X-direction line width distribution Find the position that best overlaps the two.

すなわち、照合パターンをX方向にΔXだけ移動した場
合の線数分布をXHisttとし線幅分布をX WDT
tとし、登録パターンと照合パターンとの線数及び線幅
分布の相違度をβ乙、とした時、この相違度βAxを例
えば下記の式 %式%) から求め、−LT≦ΔX≦LTの範囲内でβAXの値が
最小となるΔXを照合パターンの、登録パターンとの重
ね合せに必要なX方向の移動iDxとする。尚、このL
Tは、登録パターンと照合パターンとのズレ量の最大値
よりも大きな値に定めておけば良い。
In other words, the line number distribution when the matching pattern is moved by ΔX in the X direction is XHistt, and the line width distribution is XWDT.
When t is the degree of difference in the number of lines and line width distribution between the registered pattern and the matching pattern, βAx is calculated from the following formula, for example, and -LT≦ΔX≦LT. The value ΔX for which the value of βAX is the minimum within the range is set as the movement iDx in the X direction of the verification pattern necessary for superimposing it on the registered pattern. Furthermore, this L
T may be set to a value larger than the maximum value of the amount of deviation between the registered pattern and the matching pattern.

次に、登録パターンのY方向線数分布をYll+sLt
とし線幅分布をYWDTtとし、照合パターンのY方向
線数分布をYllist、とし線幅分布をYVDT、と
し、登録パターンと照合パターンとの線数及び線幅分布
の相違度をβllYとした時、この相違度β4Yを な βAY”Σ(l Y I(istt(Y IY His
t、(Y+ΔY)IhYs + IY WDTt(Y )−Y WDT−(Y+ΔY
)l)/((YE −YS +1)−1ΔYl)から求
め、−LT≦ΔY≦LTの範囲内でβAYの値が最小と
なるΔYを照合パターンの、登録パターンとの重ね合せ
に必要なY方向の移動量DYとする。
Next, the Y-direction line number distribution of the registered pattern is Yll+sLt
When the line width distribution is YWDTt, the Y-direction line number distribution of the matching pattern is Yllist, the line width distribution is YVDT, and the degree of difference in the number of lines and line width distribution between the registered pattern and the matching pattern is βllY, Let this dissimilarity β4Y be βAY”Σ(l Y I(istt(Y IY His
t, (Y+ΔY)IhYs+IY WDTt(Y)−Y WDT−(Y+ΔY
)l)/((YE -YS +1)-1ΔYl), and calculate ΔY that minimizes the value of βAY within the range of -LT≦ΔY≦LT as the Y required for superimposing the matching pattern with the registered pattern. Let the amount of movement in the direction be DY.

このようにして、照合パターンと、登録パターンとを重
ね合せる基準点を抽出することが出来る。
In this way, it is possible to extract a reference point at which the matching pattern and the registered pattern are superimposed.

二進」題J駐以反射 一致判定部1フでは、基準点抽出部1Bで得たX及びY
方向それぞれの重ね合せ移動iDX、DYだけ照合パタ
ーンを移動させたときの照合パターンと、登録パターン
との一致の程度をパターンメモリの全点(アドレス)に
つき調査し一成度αを求める。この一致度αは例えば下
記の式によフて求めることが出来る。
In the "binary" title J parking reflection matching determination section 1F, the X and Y obtained in the reference point extraction section 1B are
The degree of coincidence between the matching pattern and the registered pattern when the matching pattern is moved by the overlapping movements iDX and DY in each direction is investigated for all points (addresses) in the pattern memory, and the degree of uniformity α is determined. This degree of coincidence α can be determined, for example, using the following formula.

ここで、TP(X、Y)は登録パターンメモリ13の点
(X、Y)(7)値を、 St’(X、Y)ハ照合パタ
ーンメモリ12の点(X、Y)の値をそれぞれ表わし、
例えばその点が黒点のときは1の値を持ち、白点のとき
は0の値を持つこととしである。又、記号Δは諭埋禎を
記号Vは論理和をそれぞれ表わす。
Here, TP (X, Y) is the value of the point (X, Y) (7) of the registered pattern memory 13, and St' (X, Y) is the value of the point (X, Y) of the matching pattern memory 12, respectively. Representation,
For example, if the point is a black point, it has a value of 1, and if it is a white point, it has a value of 0. Further, the symbol Δ represents a summation and the symbol V represents a logical sum.

この一致判定部17はさらに、一致度αが所定の閾値1
2以上であるとき登録パターンと、照合パターンとは一
致していると判定し、又、αがT。
The coincidence determination unit 17 further determines that the degree of coincidence α is a predetermined threshold value 1.
When it is 2 or more, it is determined that the registered pattern and the matching pattern match, and α is T.

未満であるとき両パターンは不一致であると判定する。When the value is less than 1, it is determined that the two patterns do not match.

尚、上述した一致判定部17の動作では、を録パターン
と照合パターンとの間には傾き差が無く、又、基準点抽
出部15で得た移動iDX及びDYだけ照合パターンを
移動させれば照合パターンが登録バタンに完全に重なる
ものとした例で説明した。しかしながら、現実に照合を
行う場合はこのような単純な移動だけで重ね合せを行え
るものではなく、傾き及び移動量につき考慮し微調整を
行う必要がある。このような場合の一致度をγとした場
合は、このγは例えば下記の式によりて求めることが出
来る。
In addition, in the operation of the matching determination unit 17 described above, there is no difference in slope between the recorded pattern and the matching pattern, and if the matching pattern is moved by the movement iDX and DY obtained by the reference point extraction unit 15, The explanation has been given using an example in which the matching pattern completely overlaps the registered button. However, when actual verification is performed, it is not possible to superimpose the images simply by such a simple movement, but it is necessary to take into consideration the inclination and amount of movement and make fine adjustments. If the degree of coincidence in such a case is γ, this γ can be determined, for example, by the following formula.

Y0中DY+y)) 尚、RX = [(X−Xo) cosθ十(Y−Yo
) sinθコRY= [(Y−Y、)cosθ−(X
−X。) sin  θ]であり。ここで、x、yはX
方向及びY方向の微調移動量をそれぞれ表わし、Xo、
Yoは登録パターンの回転中心のX、Y座標を、θは回
転角度をそれぞれ表わす。又、[コは整数化を表わす。
DY + y in Y0)) In addition, RX = [(X-Xo) cos θ ten (Y-Yo
) sin θ coRY = [(Y-Y,) cos θ-(X
-X. ) sin θ]. Here, x and y are
Representing the amount of fine adjustment movement in the direction and Y direction, Xo,
Yo represents the X and Y coordinates of the rotation center of the registered pattern, and θ represents the rotation angle. Also, [ ko represents integerization.

そして、−03≦θ≦θに、−LG≦X≦+LG、−L
G≦y≦+LGの範囲内でγの最大値γ8を求め、この
γ。の値が上述のTa以」−であれば登録パターンと照
合パターンとは一致すると判定し、又、γ8かTa未満
であれば両パターンは不一致と判定する。
Then, -03≦θ≦θ, -LG≦X≦+LG, -L
Find the maximum value γ8 of γ within the range of G≦y≦+LG, and find this γ. If the value is greater than or equal to the above-mentioned Ta, it is determined that the registered pattern and the matching pattern match, and if it is less than γ8 or Ta, it is determined that the two patterns do not match.

ところで、θ、の値はW 31パターンと照合パターン
との傾き角度差の許容値とすれば良く、全角度が許容さ
れる場合であればθ5二180(度)となる。
By the way, the value of θ may be set as an allowable value for the difference in inclination angle between the W31 pattern and the matching pattern, and if all angles are allowed, it will be θ52180 (degrees).

又、LGの値は、例えば基準点抽出部15で得られる移
動量DX、DYの抽出最大誤差とすれば良い。
Further, the value of LG may be, for example, the maximum error in extraction of the movement amounts DX and DY obtained by the reference point extraction section 15.

又、登録パターン回転中心(Xo、Yo )の値は登録
パターンの重心点、或いは、登録パターンを囲む外接四
辺形の中点等とすれば良い。
Further, the value of the registered pattern rotation center (Xo, Yo) may be the center of gravity of the registered pattern, or the midpoint of a circumscribed quadrilateral surrounding the registered pattern.

上述したように、この発明の指紋照合装置によれば、照
合する指紋パターン同士の重ね合せを、両パターンがほ
ぼ重なる位置で速やかに行い得るから、指紋照合時間の
短縮を図ることが出来る。
As described above, according to the fingerprint matching device of the present invention, the fingerprint patterns to be matched can be quickly superimposed on each other at a position where both patterns substantially overlap, so that the fingerprint matching time can be shortened.

ところで、上述の実施例を登録パターンの線数分布及び
線幅分布と、照合パターンの線数分布及び線幅分布とを
比較したときの相違度βAX、β4Yの最小値の大小に
かかわらず両者のパターンを重ね合せて一成度αを求め
る例で説明しているが、これら最小値が一定値Tbを越
えるときは直ちに両パターンは不 致であると判定′1
−るようにしても良い。このようにすることで、照合に
要する時間をさらに短縮することが出来る。
By the way, in the above embodiment, when comparing the line number distribution and line width distribution of the registered pattern with the line number distribution and line width distribution of the matching pattern, regardless of the magnitude of the minimum value of the degree of difference βAX, β4Y, the difference between the two is This is explained using an example of superimposing patterns to find the degree of uniformity α, but when these minimum values exceed a certain value Tb, it is immediately determined that the two patterns do not match.'1
- You may also do so. By doing so, the time required for verification can be further reduced.

又、上述した実施例では線数分布及び線幅分布を’W 
6!パターン及び照合パターンの両パターンからそれぞ
れ抽出する例で説明しているが、登録パターンの線数分
布及び線幅分布については登録パターンを登録するとき
にこのパターンの線数分布及び線幅分布をそれぞわ抽出
しておき、登録パターンデータと共にこれら線数及び線
幅分布を登録しておくようにしても実施例と同様な効果
を得ることが出来る。
In addition, in the embodiment described above, the line number distribution and line width distribution are
6! This is explained using an example of extracting from both the pattern and the matching pattern, but regarding the line number distribution and line width distribution of the registered pattern, when registering the registered pattern, the line number distribution and line width distribution of this pattern are extracted accordingly. The same effect as in the embodiment can be obtained by extracting the lines and registering the number of lines and the line width distribution together with the registered pattern data.

又、上述した実施例の線数分布抽出部14の動作では、
X方向又はY方向で行った走査中においては線幅の大き
さに関わりなく、つまり、白点と白点との間に存在する
黒点の数に関わりなく線分が存在したと判断して線故に
1を加算している。しかし、読み取り部11によって例
えばゴミを読み取りこのゴミが例えば黒点−個としてパ
ターンメモリに格納された場合や、反対に図形の線上を
線の長手方向に走査してしまい黒点が非常に多数連続し
てしまうような場合も考えられる。このような事態を考
慮し、線幅の大きさが予め定めたある値の範囲内のもの
の場合にのみ一本の線として計数することとしても良い
。すなわち、実施例の場合は第2図に示したフローチャ
ートのステップ2B。
Furthermore, in the operation of the line number distribution extraction unit 14 of the embodiment described above,
During scanning performed in the X or Y direction, it is determined that a line segment exists regardless of the line width, that is, regardless of the number of black dots between white points, and the line is Therefore, 1 is added. However, if the reading unit 11 reads dust and stores it in the pattern memory as, for example, black dots, or conversely, if the line of the figure is scanned in the longitudinal direction of the line, a very large number of black dots may appear in a row. There may also be cases where it is stored away. Taking this situation into consideration, it may be possible to count the line as one line only if the line width is within a predetermined range. That is, in the case of the embodiment, step 2B of the flowchart shown in FIG.

33.48.53においては白点と白点との間に存在す
る黒点の数(黒点線幅カウンタCN Tの値)の大小に
関らず、黒点がなくなり白点か出現するとXtlist
或いはYHistに1を加算していたが、CNT値がW
I≦CNT≦W2を満足する場合にのみXHist或い
はYHisjに1を加算するようにすれば、ゴミや線上
を走査した場合に生ずる事態に対処することが出来る。
In 33.48.53, regardless of the size of the number of black dots (value of the black dot line width counter CNT) existing between white points, when a black dot disappears and a white dot appears, Xtlist
Or, 1 was added to YHist, but the CNT value was W.
By adding 1 to XHist or YHisj only when I≦CNT≦W2 is satisfied, it is possible to deal with situations that occur when scanning dust or a line.

尚、Wl及びW2は予め定めた個数であって、指紋の凸
部(隆線)の幅は一般に0.2〜0.5mmであるので
、読み取り部11の読み取り分解能を20画素/ m 
mとした場合であれば、隆線の幅が0.5mmであれば
10画素分、0.2mmであれば4画素分に相当するか
ら、W1=4及びw2=ioとすれば隆線を判定するの
に好適となる。
Note that Wl and W2 are predetermined numbers, and since the width of the protrusions (ridges) of a fingerprint is generally 0.2 to 0.5 mm, the reading resolution of the reading unit 11 is set to 20 pixels/m.
If the width of the ridge is 0.5 mm, it corresponds to 10 pixels, and if it is 0.2 mm, it corresponds to 4 pixels, so if W1 = 4 and w2 = io, the ridge width is This makes it suitable for making judgments.

又、上述した実施例の線数分布抽出部14及び線幅分布
抽出部15の動作においては、パターンメモリ12.1
3をX、Yの直交座標系に沿フて走査し線数及び線幅分
布を求める例で説明しているが、バタンメモリをX軸と
は01度傾いたxo@と、Y軸とは02度傾いたYD軸
とに沿ってそれぞれ走査させ、それ以外の処理を実施例
と同様に行ってX、及びYo毎の線数及び線幅分布を求
めても、実施例と同様な効果を得ることが出来る。尚、
この場合はXD、YD軸が平行でないほうが好ましい。
In addition, in the operations of the line number distribution extracting section 14 and the line width distribution extracting section 15 of the embodiment described above, the pattern memory 12.1
3 along the X, Y orthogonal coordinate system to obtain the line number and line width distribution. Even if the scanning is performed along the YD axis tilted by 0.2 degrees and the other processing is performed in the same manner as in the example to obtain the line number and line width distribution for each X and Yo, the same effect as in the example can be obtained. You can get it. still,
In this case, it is preferable that the XD and YD axes are not parallel.

さらに、上述した実施例の線数分布抽出部14及び線幅
分布抽出部15の動作においては、白点と白点との間に
存在する黒点に注目し線数及び線幅分布を抽出する例で
説明しているが、この発明はこの実施例に限定されるも
のではなく、例えば、黒点と黒点との間に存在する白点
に注目しこの白点部分を一つの線分として、その他の処
理については実施例と同様に行うことで、線数及び線幅
分布を求めることも出来る。
Furthermore, in the operations of the line number distribution extraction unit 14 and the line width distribution extraction unit 15 of the above-described embodiment, the number of lines and the line width distribution are extracted by focusing on the black points existing between white points. However, the present invention is not limited to this embodiment. For example, by focusing on a white point that exists between two black points, and using this white point as one line segment, the invention is not limited to this embodiment. By performing the same processing as in the embodiment, the number of lines and line width distribution can also be determined.

又、上述した実施例では線数分布抽出部を第一及び第二
線数分布抽出手段を以って構成し、線幅分布抽出部を第
一及び第二線幅分布抽出手段を以って構成した例でそれ
ぞれ説明しているが、線数及び線幅分布抽出部の構成は
この実施例に限定されるものではなく設計に応じ変更す
ることが出来る。例えば時分割を行うようにしそれぞれ
一つの線数及び線幅抽出手段で照合及び登録パターンの
線数及び線幅分布を作成しても良い。
Further, in the above-described embodiment, the line number distribution extraction section is configured by the first and second line number distribution extraction means, and the line width distribution extraction section is configured by the first and second line width distribution extraction means. Although the configuration examples are described, the configuration of the line number and line width distribution extraction section is not limited to this embodiment and can be changed according to the design. For example, the line number and line width distributions of the verification and registration patterns may be created by time-division and one line number and line width extraction means, respectively.

又、この発明の指紋照合装置を指紋以外の図形の照合装
置に応用出来ること明らかである。
Furthermore, it is clear that the fingerprint verification device of the present invention can be applied to verification devices for figures other than fingerprints.

(発明の効果) 上述した説明からも明らかなように、この発明の指紋照
合装置によれば、照合する二つの指紋のパターンから第
一及び第二方向毎で線数分布及び線幅分布をそれぞれ抽
出し、これらの線数分布同士及び線幅分布同士を第一及
び第二方向毎でそれぞれ比較し、二つの指紋のパターン
の重ね合せ最適位置を検出する手段を具えている。従っ
て、二つの指紋の重ね合せ位置を正確にかつ迅速に決定
することが出来るので、照合に要する時間の短縮も図る
ことが出来る。
(Effects of the Invention) As is clear from the above description, the fingerprint verification device of the present invention calculates the line number distribution and line width distribution in each of the first and second directions from the patterns of two fingerprints to be verified. and compares these line number distributions and line width distributions in each of the first and second directions, respectively, and detects the optimal position for superimposing the two fingerprint patterns. Therefore, since the overlapping position of two fingerprints can be determined accurately and quickly, the time required for verification can be shortened.

これがため、高い位置合せ精度で指紋の照合を行える指
紋照合装置を提供することが出来る。
Therefore, it is possible to provide a fingerprint verification device that can perform fingerprint verification with high alignment accuracy.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図はこの発明の指紋照合装置の実施例を示すブロッ
ク図、 第2図はこの発明に係る線数分布抽出部の動作を示す流
れ図、 第3図(A)及び(B)はこの発明に係る線数分布抽出
部及び線幅分布抽出部の説明に供する、パターンメモリ
に対する走査処理を示す説明図、第4図はこの発明に係
る線幅分布抽出部の動作を示す流れ図である。 11・・・読み取り部、    12・・・照合パター
ンメモリ13・・・登録パターンメモリ 14・・・線数分布抽出部 14a・・・第一線数分布抽出手段 +4b−・・第二線数分布抽出手段 15・・・線幅分布抽出部 15a・・・第一線幅分布抽出手段 15b−・・第二線幅分布抽出手段 16・・・基準点抽出部、  17・・・一致判定部。
FIG. 1 is a block diagram showing an embodiment of the fingerprint matching device of the present invention, FIG. 2 is a flowchart showing the operation of the line number distribution extraction unit according to the invention, and FIGS. 3 (A) and (B) are the invention. FIG. 4 is an explanatory diagram showing a scanning process for a pattern memory to explain the line number distribution extraction section and the line width distribution extraction section according to the present invention. FIG. 4 is a flowchart showing the operation of the line width distribution extraction section according to the present invention. 11...Reading unit, 12...Verification pattern memory 13...Registered pattern memory 14...Line number distribution extraction unit 14a...First line number distribution extraction means +4b-...Second line number distribution Extracting means 15...Line width distribution extraction section 15a...First line width distribution extraction means 15b...Second line width distribution extraction means 16...Reference point extraction section, 17.. Matching determination section.

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)照合する指紋を二値の照合パターンとして読み取
る読み取り部と、 前記照合パターンを格納する照合パターンメモリと、 予め登録されている指紋を前記二値の登録パターンとし
て格納する登録パターンメモリと、前記照合パターンメ
モリ及び登録パターンメモリを第一の方向及び第二の方
向毎でそれぞれラスタ方式で走査しこれら両パターンの
線数を各走査毎で求めて、該両パターンの前記第一及び
第二方向毎の線数分布を抽出する線数分布抽出部と、前
記照合パターンメモリ及び登録パターンメモリを第一の
方向及び第二の方向毎でそれぞれラスタ方式で走査しこ
れら両パターンの最大線幅を各走査毎で求めて、該両パ
ターンの前記第一及び第二方向毎の線幅分布を抽出する
線幅分布抽出部と、 前記第一及び第二方向毎の、前記照合パターンと前記登
録パターンとの線幅分布同士及び線数分布同士をそれぞ
れ比較し両パターンの重ね合せ位置を抽出する基準点抽
出部と、 前記重ね合せ位置に基づいて前記照合及び登録パターン
を重ね合せ両パターンの一致度を求め、該一致度に基づ
いて前記両パターンの一致・不一致を判定する一致判定
部と を具えることを特徴とする指紋照合装置。
(1) a reading unit that reads a fingerprint to be matched as a binary matching pattern; a matching pattern memory that stores the matching pattern; and a registered pattern memory that stores a pre-registered fingerprint as the binary registered pattern; The verification pattern memory and the registered pattern memory are scanned in a raster method in each of the first direction and the second direction, the number of lines of both patterns is determined for each scan, and the number of lines of the first and second patterns of the two patterns is A line number distribution extraction unit that extracts the line number distribution for each direction, and scans the matching pattern memory and registered pattern memory in a raster method in each of the first direction and the second direction, and calculates the maximum line width of both patterns. a line width distribution extraction unit that obtains each scan and extracts a line width distribution in each of the first and second directions of both patterns; and the matching pattern and the registered pattern in each of the first and second directions. a reference point extraction unit that compares the line width distributions and line number distributions of the two patterns and extracts the overlapping position of both patterns; and a match determination unit that determines whether the two patterns match or do not match based on the degree of match.
(2)前記基準点抽出部は、前記両パターンの前記第一
方向の線数分布同士及び線幅分布同士をそれぞれ比較し
て得られる最小相違度と、前記両パターンの前記第二方
向の線数分布同士及び線幅分布同士をそれぞれ比較して
得られる最小相違度との少なくとも一方の値が所定値よ
り大きいとき前記両パターンは不一致と判定することを
特徴とする特許請求の範囲第1項記載の指紋照合装置。
(2) The reference point extraction unit calculates the minimum difference obtained by comparing the line number distributions in the first direction and the line width distributions of both the patterns, and the line number distributions in the second direction of both the patterns. Claim 1, wherein the two patterns are determined to be inconsistent when at least one of the minimum dissimilarity values obtained by comparing the number distributions and the line width distributions is larger than a predetermined value. The fingerprint verification device described.
(3)前記線幅は前記二値の一方の値と一方の値との間
に存在する他方の値の部分を一つの線幅として求めるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第1項又は第2項記載の
指紋照合装置。
(3) The line width is obtained by determining one value of the binary values and a portion of the other value existing between the one value as one line width. Fingerprint verification device according to item 2.
(4)前記線数は前記二値の一方の値と一方の値との間
に存在する他方の値の部分を一本の線数として求めるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第1項又は第2項記載の
指紋照合装置。
(4) The number of lines is determined by calculating the part of the other value existing between one of the two values as one line number, or 2. Fingerprint verification device according to item 2.
(5)前記線数は前記二値の一方の値と一方の値との間
に存在する他方の値の個数が予め定めた範囲内の個数で
あるとき一本の線数として求めることを特徴とする特許
請求の範囲第1項又は第2項記載の指紋照合装置。
(5) The number of lines is determined as one line number when the number of values between one of the binary values is within a predetermined range. A fingerprint verification device according to claim 1 or 2.
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