JPH0624002B2 - Fingerprint matching device - Google Patents

Fingerprint matching device

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JPH0624002B2
JPH0624002B2 JP61194162A JP19416286A JPH0624002B2 JP H0624002 B2 JPH0624002 B2 JP H0624002B2 JP 61194162 A JP61194162 A JP 61194162A JP 19416286 A JP19416286 A JP 19416286A JP H0624002 B2 JPH0624002 B2 JP H0624002B2
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JP
Japan
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line
pattern
line width
patterns
distribution
Prior art date
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JP61194162A
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Japanese (ja)
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JPS6349989A (en
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節正 広垣
孔司 桜田
知夫 荒木
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Oki Electric Industry Co Ltd
Original Assignee
Oki Electric Industry Co Ltd
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    • G06V40/10Human or animal bodies, e.g. vehicle occupants or pedestrians; Body parts, e.g. hands
    • G06V40/12Fingerprints or palmprints
    • G06V40/1365Matching; Classification

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  • Human Computer Interaction (AREA)
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Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) この発明は指紋照合装置に関するものである。TECHNICAL FIELD The present invention relates to a fingerprint collation device.

(従来の技術) 従来から例えば印鑑や指紋等の自動照合において、照合
を正確にかつ迅速に行う目的のため被照合物の中心座標
等の基準点を検出することが行われている。
(Prior Art) Conventionally, for example, in automatic collation of a seal or a fingerprint, a reference point such as a center coordinate of an object to be collated is detected for the purpose of performing the collation accurately and quickly.

このような目的のため、印鑑等の図形の中心を検出する
種々の装置が提案されており、例えばこの出願の出願人
に係る特開昭58-191084 号公報には印影の中心点座標の
検出に用いて好適な図形認識装置が開示されている。
For this purpose, various devices for detecting the center of a figure such as a seal stamp have been proposed. For example, Japanese Patent Laid-Open No. 58-191084 filed by the applicant of this application detects the coordinates of the center point of the imprint. A pattern recognition device suitable for use in the above is disclosed.

上述の公報に記載された装置は、例えば印影等の図形を
ラスタ走査方式で読み取り各座標の黒点及び白点に対応
して二値電気信号を与える読み取り部と、読み取り部に
よって読み取られた図形の内部を塗りつぶす塗りつぶし
パターン作成部と、塗りつぶされたパターンの重みづけ
された各点の重心座標を当該図形の中心座標とする中心
座標検出部とを具えている。この装置によれば、図形パ
ターンを塗りつぶした後に重心を求めることにより図形
パターンの中心点を検出するから、印影パターンや図形
パターンのカスレ、ヨゴレ及び内部パターンのムラ等に
起因する検出誤差が極めて低減するため、精度の高い中
心点座標の検出が可能であつた。
The apparatus described in the above-mentioned publication reads a figure such as a seal imprint by a raster scanning method and gives a binary electric signal corresponding to a black point and a white point of each coordinate, and a reading section of the figure read by the reading section. It is provided with a fill pattern creation unit for filling the inside, and a center coordinate detection unit for using the barycentric coordinates of each weighted point of the filled pattern as the center coordinates of the figure. According to this device, since the center point of the figure pattern is detected by calculating the center of gravity after painting the figure pattern, the detection error caused by the imprint pattern, the figure pattern blurring, the stain, and the internal pattern unevenness is extremely reduced. Therefore, it is possible to detect the center point coordinates with high accuracy.

(発明が解決しようとする問題点) しかしながら、上述した構成の従来の装置では、指紋等
のように最外郭に外に凸な閉曲線が存在しない図形につ
いて中心点を求めようとした場合には中心点検出精度が
低下するという問題点があった。
(Problems to be Solved by the Invention) However, in the conventional device having the above-described configuration, when the center point is obtained for a figure such as a fingerprint that does not have an outwardly convex closed curve, There is a problem that the point detection accuracy decreases.

具体的に説明すると、例えば指紋のような縞(線模様)
状図形において、最外郭の線の一部にとぎれがあるよう
な場合や、線の一部が図形内部側に凹形状となっていて
図形の一部が欠けた状態と同様な影響を与えるような場
合にはこれらの影響で重心位置がずれることが生ずる場
合があり、これがため、中心点等の基準点検出精度が低
下し、従って、照合しようとする指紋同士を精度良く位
置合せすることが出来ないことになる。
More specifically, for example, stripes (line patterns) such as fingerprints
In the case of a part-shaped figure, if there is a break in a part of the outermost line, or if a part of the line is concave inside the figure and a part of the figure is missing In these cases, the position of the center of gravity may be displaced due to these effects, which lowers the accuracy of detecting the reference point such as the center point, and therefore the fingerprints to be collated can be accurately aligned. It will not be possible.

この発明の目的は、上述した問題点を解決し、高い位置
合せ精度で指紋の照合を行える指紋照合装置を提供する
ことにある。
An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems and to provide a fingerprint collation device capable of collating fingerprints with high alignment accuracy.

(問題点を解決するための手段) この目的の達成を図るため、この発明の指紋照合装置は
照合する指紋を二値の照合パターンとして読み取る読み
取り部と、 この照合パターンを格納する照合パターンメモリと、 予め登録されている指紋を前述の二値の登録パターンと
して格納する登録パターンメモリと、 前述の照合パターンメモリ及び登録パターンメモリを第
一の方向及び第二の方向毎でそれぞれラスタ方式で走査
しこれら両パターンの線数を各走査毎で求めて、この両
パターンの前述の第一及び第二方向毎の線数分布を抽出
する線数分布抽出部と、 前述の照合パターンメモリ及び登録パターンメモリを第
一の方向及び第二の方向毎でそれぞれラスタ方式で走査
しこれら両パターンの最大線幅を各走査毎で求めて、こ
の両パターンの前述の第一及び第二方向毎の線幅分布を
抽出する線幅分布抽出部と、 前述の第一及び第二方向毎の、前述の照合パターンと前
述の登録パターンとの線幅分布同士及び線数分布同士を
それぞれ比較し両パターンの重ね合せ位置を抽出する基
準点抽出部と、 前述の重ね合せ位置に基づいて前述の照合及び登録パタ
ーンを重ね合せ両パターンの一致度を求め、この一致度
に基づいてこの両パターンの一致・不一致を判定する一
致判定部と を具えることを特徴とする。
(Means for Solving Problems) In order to achieve this object, the fingerprint collation device of the present invention includes a reading unit for reading a fingerprint to be collated as a binary collation pattern, and a collation pattern memory for storing this collation pattern. , A registered pattern memory that stores a pre-registered fingerprint as the above-mentioned binary registered pattern, and the above-described matching pattern memory and registered pattern memory are scanned in a raster method in each of the first direction and the second direction. The line number distribution extraction unit that obtains the line numbers of these patterns for each scan and extracts the line number distributions of the both patterns in the first and second directions, the collation pattern memory, and the registered pattern memory described above. In the first direction and in the second direction respectively in a raster system, and the maximum line widths of these patterns are obtained for each scan. A line width distribution extraction unit that extracts the line width distribution for each of the first and second directions, and the line width distributions between the above-described matching pattern and the above-described registered pattern and the number of lines for each of the above-mentioned first and second directions. A reference point extraction unit that compares the distributions with each other and extracts the overlapping position of both patterns, and the above-mentioned matching and registered pattern based on the above-mentioned overlapping position, finds the degree of coincidence of both patterns, and obtains this degree of coincidence. It is characterized by comprising a coincidence determination unit for determining whether or not the two patterns match based on each other.

この発明の実施に当り、前述の基準点抽出部は、前述の
両パターンの前述の第一方向の線数分布同士及び線幅分
布同士をそれぞれ比較して得られる最小相違度と、前述
の両パターンの前記第二方向の線数分布同士及び線幅分
布同士をそれぞれ比較して得られる最小相違度との少な
くとも一方の値が所定値より大きいとき前記両パターン
は不一致と判定するのが好適である。
In carrying out the present invention, the above-mentioned reference point extracting unit compares the above-mentioned first-direction line number distributions and line-width distributions of both patterns with each other with the minimum degree of difference and It is preferable to determine that the two patterns do not match when at least one value of the minimum difference obtained by comparing the line number distributions in the second direction and the line width distributions in the second direction is larger than a predetermined value. is there.

この発明の実施に当り、前述の線幅は前述の二値の一方
の値と一方の値との間に存在する他方の値の部分を一つ
の線幅として求めるのが好適である。
In practicing the present invention, it is preferable that the above-mentioned line width is obtained as one line width at the portion of the other value existing between one of the above-mentioned two values and the other value.

この発明の実施に当り、前述の線数は前述の二値の一方
の値と一方の値との間に存在する他方の値の部分を一本
の線数として求めるのが好適である。
In practicing the present invention, it is preferable that the above-mentioned number of lines is obtained as a single number of lines of the other value existing between one of the above-mentioned two values and the other of the two values.

さらに、この発明の実施に当り、前述の線数は前述の二
値の一方の値と一方の値との間に存在する他方の値の個
数が予め定めた範囲内の個数であるとき一本の線数とし
て求めても良い。
Further, in carrying out the present invention, the above-mentioned number of lines is one when the number of the other value existing between the one value of the above-mentioned two values and the one value is within the predetermined range. It may be obtained as the number of lines.

(作用) このような構成によれば、照合指紋及び登録指紋の重ね
合せ位置は照合及び登録パターンメモリにそれぞれ格納
されたそれぞれの二値の図形パターンから抽出された線
数分布及び最大線幅分布に基づいて決定される。このよ
うにすれば、例えば縞(線模様)状図形を構成する線の
一部が図形の内側にへこんで存在するような場合であっ
てもこの線の線数及び線幅は確認されるし、又、線の一
部にとぎれが存在する場合であってもその部分が重ね合
せ位置を決定する際に及ぼす影響は小さなものとなるの
で、両パターンは迅速にかつ高い精度で重ね合され、そ
の後、これらの照合が行われることになる。
(Operation) According to such a configuration, the superposition positions of the collation fingerprint and the registered fingerprint are the line number distribution and the maximum line width distribution extracted from the respective binary graphic patterns stored in the collation and registered pattern memory. It is decided based on. By doing this, for example, even if some of the lines that make up the striped (line pattern) figure are dented inside the figure, the number of lines and the line width can be confirmed. Also, even if there is a break in a part of the line, that part has a small effect on determining the overlapping position, so that both patterns are overlapped quickly and with high accuracy, After that, these collations are performed.

(実施例) 以下、図面を参照してこの発明の指紋照合装置の一実施
例について説明する。
(Embodiment) An embodiment of the fingerprint collation device of the present invention will be described below with reference to the drawings.

第1図はこの発明の指紋照合装置の実施例を示すブロッ
ク図である。
FIG. 1 is a block diagram showing an embodiment of a fingerprint collation device of the present invention.

第1図において、11は読み取り部を示し、この読み取り
部11は照合する指紋を例えば光学的に読み取り二値の図
形パターン(これを、照合パターンと称することとす
る。)として読み取るものであり、例えば、図形を二値
の電気信号(説明の都合上、白黒のパターンとも云
う。)に変換して照合パターンメモリ12に出力するもの
である。
In FIG. 1, reference numeral 11 denotes a reading unit. The reading unit 11 optically reads a fingerprint to be collated and reads it as a binary graphic pattern (this is referred to as a collation pattern). For example, the figure is converted into a binary electric signal (also referred to as a black and white pattern for convenience of description) and output to the matching pattern memory 12.

又、この照合パターンメモリ12はこの白黒パターンを格
納するもので、図示を省略してあるがこの場合メモリの
第一方向(X方向)及び第二方向(Y方向)のアドレス
をそれぞれ指定するための第一及び第二アドレスカウン
タを具えているものである。
Further, this collation pattern memory 12 stores this black-and-white pattern, and although not shown in the drawing, in this case, the addresses in the first direction (X direction) and the second direction (Y direction) of the memory are respectively designated. Of the first and second address counters.

13は予め登録された指紋を格納するための登録パターン
メモリを示し、これは照合パターンメモリ12と同様な構
成のものとしてある。
Reference numeral 13 denotes a registered pattern memory for storing a fingerprint registered in advance, which has the same structure as the matching pattern memory 12.

14は線数分布抽出部を示しこの実施例の場合第一線数分
布抽出手段14a及び第二線数分布抽出手段14bを以って構
成してあり、又、第一及び第二線数分布抽出手段14a,1
4bは、図示を省略してあるが、黒点線幅カウンタ、X方
向線数分布カウンタXHist及びY方向線数分布カウンタ
YHistをそれぞれ具えている(詳細は後述する。)。そ
して、この実施例の場合、第一線数分布抽出手段14aは
照合パターンメモリ12をX方向及びY方向毎でそれぞれ
ラスタ走査方式で走査し、つまり、照合パタンメモリ12
内に格納されている照合パターンをX及びY方向毎に線
順次に読み出し、後述する方法によって線分を計数して
各走査毎の線数を求め、よって、X及びY方向毎の線数
分布を作成する。一方、第二線数分布抽出手段14bは登
録パターンメモリ12をX方向及びY方向毎でそれぞれラ
スタ走査方式で走査し、第一抽出部14aによって照合パ
ターンの線数分布を作成したと同様に、登録パターンの
X及びY方向毎の線数分布を作成する。
Reference numeral 14 denotes a line number distribution extracting unit, and in the case of this embodiment, it is constituted by a first line number distribution extracting means 14a and a second line number distribution extracting means 14b, and also a first and second line number distribution. Extraction means 14a, 1
Although not shown, 4b includes a black dot line width counter, an X-direction line number distribution counter XHist, and a Y-direction line number distribution counter YHist (details will be described later). In the case of this embodiment, the first line number distribution extracting means 14a scans the collation pattern memory 12 in the raster scanning system in each of the X and Y directions, that is, the collation pattern memory 12
The matching patterns stored in the X- and Y-directions are read line-sequentially, line segments are counted by a method described later to obtain the number of lines for each scan, and thus the number-of-lines distribution in the X and Y directions is obtained. To create. On the other hand, the second line number distribution extracting means 14b scans the registered pattern memory 12 in each of the X direction and the Y direction by a raster scanning method, and similarly to the case where the line number distribution of the matching pattern is created by the first extracting unit 14a. A line number distribution for each X and Y direction of the registered pattern is created.

15は線幅分布抽出部を示しこの実施例の場合第一線幅分
布抽出手段15a及び第二線幅分布抽出手段15bを以って構
成してあり、又、第一及び第二線幅分布抽出手段15a,1
5bは、図示を省略してあるが、黒点線幅カウンタ、X方
向線幅分布レジスタXWDT、Y方向線幅分布レジスタYW
DT及び線幅最大値レジスタBMAXをそれぞれ具えてい
る(詳細は後述する。)。そして、この実施例の場合、
第一線幅分布抽出手段15aは照合パターンメモリ12をX
及びY方向毎でそれぞれラスタ走査方式で走査し、つま
り、照合パタンメモリ12内に格納されている照合パター
ンをX及びY方向毎に線順次に読み出し、後述する方法
によって走査線上の線分の線幅を計数して各走査毎の最
大線幅を求め、よって、X及びY方向毎の線幅分布を作
成するものである。一方、第二線幅分布抽出手段15bは
登録パターンメモリ13をX及びY方向毎でそれぞれラス
タ走査方式で走査し、第一線幅分布抽出手段15aによっ
て照合パターンの線幅分布を作成したと同様に、登録パ
ターンのX及びY方向毎の線幅分布を作成する。
Reference numeral 15 denotes a line width distribution extraction unit, and in the case of this embodiment, it is constituted by a first line width distribution extraction means 15a and a second line width distribution extraction means 15b, and also a first and second line width distribution Extraction means 15a, 1
Although not shown in the figure, 5b is a black dot line width counter, an X-direction line width distribution register XWDT, and a Y-direction line width distribution register YW.
DT and line width maximum value register BMAX are provided respectively (details will be described later). And in the case of this embodiment,
The first line width distribution extraction means 15a stores X in the matching pattern memory 12.
And the Y-direction is scanned by the raster scanning method, that is, the matching pattern stored in the matching pattern memory 12 is line-sequentially read in the X-direction and the Y-direction, and the line segments on the scanning line are scanned by the method described later. The width is counted to find the maximum line width for each scan, thus creating a line width distribution for each of the X and Y directions. On the other hand, the second line width distribution extracting means 15b scans the registered pattern memory 13 in each of the X and Y directions by the raster scanning method, and the first line width distribution extracting means 15a creates the line width distribution of the matching pattern. Then, a line width distribution for each of the X and Y directions of the registered pattern is created.

16は基準点抽出部を示し、この基準点抽出部16は線数分
布抽出部14、この場合第一及び第二線数分布抽出部14
a,14bでそれぞれ作成された照合パターン及び登録パタ
ーンのそれぞれの線数分布をX及びY方向毎に比較する
こと、及び、線幅分布抽出部15、この場合第一及び第二
線幅分布抽出部15a,15bでそれぞれ作成された照合パタ
ーン及び登録パターンのそれぞれの線幅分布をX及びY
方向毎に比較することとを行って両パターンの相違度を
求め、この相違度に基づいて照合及び登録パターンを重
ね合せる基準点を抽出する。
Reference numeral 16 denotes a reference point extraction unit, which is a line number distribution extraction unit 14, in this case the first and second line number distribution extraction unit 14
comparing line number distributions of the matching pattern and the registered pattern respectively created in a and 14b for each of the X and Y directions, and a line width distribution extraction unit 15, in this case, first and second line width distribution extraction The line width distributions of the matching pattern and the registered pattern created by the sections 15a and 15b are X and Y, respectively.
A comparison is made for each direction to obtain the degree of difference between the two patterns, and a reference point for matching and matching the registered patterns is extracted based on the degree of difference.

17は一致判定部を示し、基準点抽出部16で得られた基準
点に基づいて照合パターンメモリ12及び登録パターンメ
モリ13にそれぞれ格納されている照合パターン及び登録
パターンを重ね合せ、両パターンの一致度を例えば後述
する方法によって抽出し、その一致度の値に基づいて両
パターンが同一の指から得られた指紋であるかどうかの
判定をする。
Reference numeral 17 denotes a coincidence determination unit, which superimposes the matching pattern and the registered pattern respectively stored in the matching pattern memory 12 and the registered pattern memory 13 based on the reference points obtained by the reference point extracting unit 16, and matches both patterns. The degree is extracted by, for example, a method to be described later, and it is determined whether or not both patterns are fingerprints obtained from the same finger based on the value of the degree of coincidence.

線数分布抽出部の説明 次に、線数分布抽出部の動作につき説明する。この実施
例の場合、この線数分布抽出部を第一及び第二線数分布
抽出手段14a,14bを以って構成した例で説明している
が、これら抽出手段は対象とするメモリが一方は照合パ
ターンメモリ他方は登録パターンメモリであることを除
いて同様な構成であるから、第2図に示すフローチャー
トを参照して第一線数分布抽出手段14aの動作につき説
明し、第二線数分布抽出手段14bの説明を省略する。
Description of Line Number Distribution Extraction Unit Next, the operation of the line number distribution extraction unit will be described. In the case of this embodiment, the line number distribution extracting section is described as an example in which the first and second line number distribution extracting means 14a and 14b are configured. Has the same configuration except that the other is a registered pattern memory, the operation of the first line number distribution extracting means 14a will be described with reference to the flowchart shown in FIG. The description of the distribution extracting means 14b is omitted.

又、照合パターンメモリ12を走査する際に、先ず、第3
図(A)に示すように、Y方向を主走査方向としX方向
を副走査方向として、照合パターンメモリ12のX座標毎
の線数を計数する例で説明する。
When scanning the matching pattern memory 12, first, the third
As shown in FIG. 3A, an example will be described in which the number of lines for each X coordinate of the matching pattern memory 12 is counted with the Y direction as the main scanning direction and the X direction as the sub scanning direction.

第一線数分布抽出手段14aに備わるX方向線数分布カウ
ンタXHistに初期値0をセットする(ステップ21)。
An initial value 0 is set in the X-direction line number distribution counter XHist provided in the first line number distribution extracting means 14a (step 21).

照合パターンメモリ12の第一アドレスカウンタXに照合
パターンメモリ12のX方向始点座標値Xをセットする
(ステップ22)。
Sets the X-direction starting point coordinate values X S of the collation pattern memory 12 to the first address counter X collation pattern memory 12 (step 22).

第一線数分布抽出手段14aに備わる黒点線幅カウンタ
(CNTと略称することもある。)に0をセットする
(ステップ23)。
The black dot line width counter (sometimes abbreviated as CNT) provided in the first line number distribution extracting means 14a is set to 0 (step 23).

照合パターンメモリ12の第二アドレスカウンタYに照合
パターンメモリ12のY方向始点座標値Yをセットする
(ステップ24)。
Setting the Y-direction starting point coordinate values Y S matching pattern memory 12 to the second address counter Y collation pattern memory 12 (step 24).

このような初期設定を行った後、照合パターンメモリ12
の点(X,Y)に格納された二値信号を読み出し、
その信号が黒点であった場合にはCNTに1を加算する
(ステップ25,26)。又、点(X,Y)が黒点でな
く現在までのCNTの値が0でない場合はXHist(X)
この場合XHist(X)に1を加算し(ステップ25,2
7)、最終的にCNTを0とする(ステップ25,27,2
8,29)。次に、座標Yに1を加算(ステップ30)
し、順次Y方向におけるアドレスカウンタの値が終点座
標Yを越えるまでステップ25〜31の処理を繰り返して
行う(ステップ30,31)。つまり、この例の場合、座標
に着目しY方向に照合パターンメモリ12を走査した
時、白点の後に黒点が出現した場合にCNTに1を加算
し、引き続いて黒点が連続するならば1を加算すること
を繰り返して行い黒点の個数を数える。この黒点の連続
する部分を照合パターンを構成する線の一部分と判断す
ることとし、そして、主走査上に再び白点が出現したな
らば線分の終了と判断してCNTを0に初期化すると共
に、線を一本計数したことを意味する、XHist(X
に1を加算することを行う。この処理を座標Xの走査
線上で行うことによって座標XのY方向の走査線上の
線数を抽出することが出来る。
After making such initial settings, the verification pattern memory 12
Reading the binary signal stored at the point (X S , Y S ),
If the signal is a black dot, 1 is added to CNT (steps 25 and 26). If the point (X S , Y S ) is not a black point and the value of CNT up to the present is not 0, XHist (X)
In this case, 1 is added to XHist (X S ) (steps 25, 2
7) Finally, CNT is set to 0 (steps 25, 27, 2).
8, 29). Next, add 1 to the coordinate Y S (step 30)
Then, the processes of steps 25 to 31 are repeated until the value of the address counter in the Y direction exceeds the end point coordinate Y E (steps 30 and 31). That is, in this example, when scanning a matching pattern memory 12 in the Y-direction focusing on the coordinate X S, CNT is incremented by 1 if the black spot appeared after the white point, if subsequently black spot is continuous Repeat the addition of 1 to count the number of black dots. The continuous portion of the black dots is determined to be a part of the line forming the collation pattern, and if a white dot appears again on the main scan, it is determined that the line segment ends and CNT is initialized to 0. And XHist (X S ), which means that one line was counted
Is incremented by 1. The handle can be extracted the number of lines in the scan line in the Y direction of the coordinate X S by performing a scanning line of the coordinate X S.

次に、Y座標の値がYを越えた時、現在までのCNT
の値が0でなければXHist(X)に1を加算し、又座
標値Xに1を加算しX方向の終点座標Xを越えるま
でステップ23〜35の処理を繰り返し行う(ステップ34,
35)。
Next, when the value of Y coordinate exceeds Y E , CNT up to the present
If the value is not 0, 1 is added to XHist (X S ) and 1 is added to the coordinate value X S , and the processing of steps 23 to 35 is repeated until the end point coordinate X E in the X direction is exceeded (step 34). ,
35).

このような処理を行うことによって、各X座標毎のY方
向走査後の線数を求めることが出来、従ってX方向にお
ける線数分布を抽出することが出来る。
By performing such processing, the number of lines after scanning in the Y direction for each X coordinate can be obtained, and therefore, the distribution of the number of lines in the X direction can be extracted.

続いて、第3図(B)に示すように、X方向を主走査方
向としY方向を副走査方向として、照合パターンメモリ
12のY座標毎の線数を計数して、Y方向における線数分
布を抽出する(ステップ41〜55)。この処理は上述した
X方向線数分布を求めることと基本的に同様な手順で行
うことが出来るので、その説明を省略する。
Subsequently, as shown in FIG. 3 (B), the X-direction is the main scanning direction and the Y-direction is the sub-scanning direction.
The number of lines for each of the 12 Y coordinates is counted to extract the line number distribution in the Y direction (steps 41 to 55). This processing can be performed basically in the same procedure as that for obtaining the X-direction line number distribution described above, and therefore the description thereof will be omitted.

第二線数分布抽出手段14bを用いて上述したと同様に登
録パターンの線数分布を求めることが出来る。
Using the second line number distribution extracting means 14b, the line number distribution of the registered pattern can be obtained in the same manner as described above.

線幅分布抽出部の説明 次に、線幅分布抽出部の動作につき説明する。この実施
例の場合、この線幅分布抽出部を第一及び第二線幅分布
抽出手段15a,15bを以って構成した例で説明している
が、これら抽出手段は対象とするメモリが一方は照合パ
ターンメモリ他方は登録パターンメモリであることを除
いて同様な構成であるから、第4図に示すフローチャー
トを参照して第一線幅分布抽出手段15aの動作につき説
明し、第二線幅分布抽出手段15bの説明を省略する。
Description of Line Width Distribution Extraction Unit Next, the operation of the line width distribution extraction unit will be described. In the case of this embodiment, the line width distribution extraction unit is described as an example in which the first and second line width distribution extraction means 15a and 15b are configured. Has the same configuration except that the other is a registered pattern memory, the operation of the first line width distribution extraction means 15a will be described with reference to the flowchart shown in FIG. The description of the distribution extraction means 15b is omitted.

又、照合パターンメモリ12を走査する際に、先ず、第3
図(A)に示すように、Y方向を主走査方向としX方向
を副走査方向として、照合パターンメモリ12のX座標毎
の最大線幅を計数する例で説明する。
When scanning the matching pattern memory 12, first, the third
As shown in FIG. 7A, an example will be described in which the maximum line width for each X coordinate of the matching pattern memory 12 is counted with the Y direction as the main scanning direction and the X direction as the sub scanning direction.

照合パターンメモリ12の第一アドレスカウンタXに照合
パターンメモリ12のX方向始点座標値Xをセットする
(ステップ61)。
Sets the X-direction starting point coordinate values X S of the collation pattern memory 12 to the first address counter X collation pattern memory 12 (step 61).

第一線幅分布抽出部15aに備わる黒点線幅カウンタ(C
NTと略称することもある。)に0をセットする(ステ
ップ62)。
The black dot line width counter (C
Sometimes abbreviated as NT. ) Is set to 0 (step 62).

Y方向に一走査した際にその走査線上で会する線幅の最
大値を格納する線幅最大値レジスタBMAXに初期値0
をセットする(ステップ63)。
Initial value 0 in the line width maximum value register BMAX that stores the maximum value of the line width that meets on the scanning line when one scan is performed in the Y direction.
Is set (step 63).

照合パターンメモリ12のY方向始点座標値Yをセット
する(ステップ64)。
Setting the Y-direction starting point coordinate values Y S of the collation pattern memory 12 (step 64).

このような初期設定を行った後、照合パターンメモリ12
の点(X,Y)に格納された二値信号を読み出し、
その信号が黒点でない場合であればCNTを0とし(ス
テップ65,66)、又、その信号が黒点であった場合には
CNTに1を加算した後、ここでCNTの値がBMAX
に格納されている値よりも大きい場合にはCNTの値を
BMAXに格納する(ステップ65,67〜69)。次に、座
標Yに1を加算(ステップ70)し、順次Y方向におけ
るアドレスカウンタの値が終点座標Yを越えるまでス
テップ65〜71の処理を繰り返して行う(ステップ70,7
1)。つまり、この例の場合、座標Xに着目しY方向
に照合パタンメモリ12を走査した時、白点の後に黒点が
出現した場合にCNTに1を加算し、引き続いて黒点が
連続するならば1を加算することを繰り返して行い黒点
の個数を数える。この黒点の連続する部分を照合パター
ンを構成する線の線幅と判断することとし、そして、主
走査上に再び白点が出現したならば線分の終了と判断す
る。そして、座標XのY方向の走査において出現した
黒点の群の中から黒点の個数が最も多いものをこの走査
における最大線幅として抽出する。
After making such initial settings, the verification pattern memory 12
Reading the binary signal stored at the point (X S , Y S ),
If the signal is not a black point, CNT is set to 0 (steps 65 and 66), and if the signal is a black point, 1 is added to CNT, and then the value of CNT is BMAX.
If it is larger than the value stored in, the value of CNT is stored in BMAX (steps 65, 67 to 69). Then, 1 is added to the coordinate Y S (step 70), repeats the processing of step 65 to 71 until the value of the address counter in order Y-direction exceeds the end point coordinate Y E (step 70,7
1). That is, in this example, when scanning a collation pattern memory 12 in the Y-direction focusing on the coordinate X S, CNT is incremented by 1 if the black spot appeared after the white point, if subsequently black spot is continuous Repeat the addition of 1 to count the number of black dots. The continuous portion of the black dots is determined to be the line width of the line forming the matching pattern, and if a white dot appears again on the main scan, it is determined to be the end of the line segment. Then, the one having the largest number of black dots is extracted as the maximum line width in this scan from the group of black dots appearing in the Y-direction scan of the coordinate X S.

次に、Y座標がYを越えたときX方向線幅分布レジス
タXWDTのX座標に対応するアドレスXWDT(X)、この
場合であればXWDT(X)に上述のように求めた一走
査線における線幅の最大値であるBMAXの内容を格納
する(ステップ71,72)。
Next, when the Y coordinate exceeds Y E , the address XWDT (X) corresponding to the X coordinate of the X-direction line width distribution register XWDT, in this case, XWDT (X S ) is determined by one scan as described above. The content of BMAX, which is the maximum value of the line width of the line, is stored (steps 71 and 72).

次に、座標値Xに1を加算(ステップ73)し照合パタ
ーンメモリのX方向の終点座標Xを越えるまでステッ
プ62〜74の処理を繰り返し行う(ステップ73,74)。
Then, 1 is added to the coordinate values X S (step 73) to repeatedly perform the processing of steps 62-74 to over X-direction of the end point coordinates X E of the collation pattern memory (step 73, 74).

このような処理を行うことによって、各X座標毎のY方
向において出現した線分の中の最大線幅を求めることが
出来、従ってX方向における線幅分布を抽出することが
出来る。
By performing such processing, the maximum line width of the line segments that appear in the Y direction for each X coordinate can be obtained, and thus the line width distribution in the X direction can be extracted.

続いて、第3図(B)に示すように、X方向を主走査方
向としY方向を副走査方向として、照合パターンメモリ
12のY座標毎の線幅を計数して、Y方向における線幅分
布を抽出する(ステップ81〜94)。この処理は上述した
X方向線幅分布を求めることと基本的に同様な手順で行
うことが出来るので、その説明を省略する。
Subsequently, as shown in FIG. 3 (B), the X-direction is the main scanning direction and the Y-direction is the sub-scanning direction.
The line width for each of the 12 Y coordinates is counted to extract the line width distribution in the Y direction (steps 81 to 94). This processing can be performed by basically the same procedure as the above-described calculation of the X-direction line width distribution, and therefore the description thereof will be omitted.

又、第二線幅分布抽出手段15bを用いて上述したと同様
に登録パターンの線幅分布を求めることが出来る。
Further, the line width distribution of the registered pattern can be obtained by using the second line width distribution extracting means 15b in the same manner as described above.

基準点抽出部の説明 基準点抽出部16では、先ず、登録パターンのX方向線数
分布XHisttと、照合パターンのX方向線数分布XHistt
とを比較すること、及び、登録パターンのX方向線幅分
布XWDTtと、照合パターンのX方向線幅分布XWDTsとを
比較することを行って、両パターンを重ね合せた場合に
最も良く重なり合う位置を求める。
In description reference point extraction unit 16 of the reference point extraction unit, first, the X direction line number distribution XHist t registration pattern, the X-direction line number distribution of the collation pattern XHist t
Comparing the bets, and the X-direction line width distribution XWDT t registration pattern, performed by comparing the X-direction line width distribution XWDT s matching pattern overlaps best when superposed both patterns Find the position.

すなわち、照合パターンをX方向にΔXだけ移動した場
合の線数分布をXHisttとし線幅分布をXWDTtとし、登
録パターンと照合パターンとの線数及び線幅分布の相違
度をβΔXとした時、この相違度βΔXを例えば下記の
から求め、−LT≦ΔX≦LTの範囲内でβΔXの値が
最小となるΔXを照合パターンの、登録パターンとの重
ね合せに必要なX方向の移動量Dとする。尚、このL
Tは、登録パターンと照合パターンとのズレ量の最大値
よりも大きな値に定めておけば良い。
That is, when the matching pattern is moved by ΔX in the X direction, the line number distribution is XHist t , the line width distribution is XWDT t, and the difference between the line number and the line width distribution between the registered pattern and the matching pattern is β ΔX . At this time, the difference β ΔX can be calculated, for example, by the following formula. From determined, the matching pattern [Delta] X values of beta [Delta] X in the range of -LT ≦ ΔX ≦ LT is minimized, and the movement amount D X in the X direction necessary for superposition with the registered pattern. In addition, this L
T may be set to a value larger than the maximum value of the deviation amount between the registered pattern and the matching pattern.

次に、登録パターンのY方向線数分布をYHisttとし線
幅分布をYWDTtとし、照合パターンのY方向線数分布を
YHistSとし線幅分布をYWDTSとし、登録パターンと照
合パターンとの線数及び線幅分布の相違度をβΔYとし
た時、この相違度βΔYから求め、−LT≦ΔY≦LTの範囲内でβΔYの値が
最小となるΔYを照合パターンの、登録パターンとの重
ね合せに必要なY方向の移動量DYとする。
Next, the Y-direction line number distribution of the registered pattern is YHist t , the line width distribution is YWDT t , the Y-direction line number distribution of the matching pattern is YHist S, and the line width distribution is YWDT S. When the difference in the number of lines and the line width distribution is β ΔY , this difference β ΔY Then, ΔY that minimizes the value of β ΔY within the range of −LT ≦ ΔY ≦ LT is set as the movement amount DY in the Y direction required for superposing the matching pattern with the registered pattern.

このようにして、照合パターンと、登録パターンとを重
ね合せる基準点を抽出することが出来る。
In this way, it is possible to extract a reference point at which the matching pattern and the registered pattern are superposed.

一致判定部の説明 一致判定部17では、基準点抽出部16で得たX及びY方向
それぞれの重ね合せ移動量DX、DYだけ照合パターン
を移動させたときの照合パターンと、登録パターンとの
一致の程度をパターンメモリの全点(アドレス)につき
調査し一致度αを求める。この一致度αは例えば下記の
式によって求めることが出来る。
Description of Matching Judgment Unit The matching judgment unit 17 matches the matching pattern and the registered pattern when the matching pattern is moved by the overlapping movement amounts DX and DY obtained in the reference point extracting unit 16 in the X and Y directions, respectively. Is examined for all points (addresses) of the pattern memory to obtain the degree of coincidence α. The degree of coincidence α can be obtained by the following formula, for example.

ここで、TP(X,Y)は登録パターンメモリ13の点(X,
Y)の値を、SP(X,Y)は照合パターンメモリ12の点
(X,Y)の値をそれぞれ表わし、例えばその点が黒点
のときは1の値を持ち、白点のときは0の値を持つこと
としてある。又、記号Λは論理積を記号Vは論理和をそ
れぞれ表わす。
Here, TP (X, Y) is the point (X,
Y) and SP (X, Y) represent the value of the point (X, Y) of the matching pattern memory 12, respectively. For example, when the point is a black point, it has a value of 1, and when it is a white point, it has a value of 0. It has a value of. The symbol Λ represents a logical product and the symbol V represents a logical sum.

この一致判定部17はさらに、一致度αが所定の閾値T
以上であるとき登録パターンと、照合パターンとは一致
していると判定し、又、αがT未満であるとき両パタ
ーンは不一致であると判定する。
The coincidence determination unit 17 further determines that the degree of coincidence α is a predetermined threshold T a
A registration pattern when it is above, it is determined that they coincide with the collation pattern, also, both patterns when α is less than T a is determined to be mismatched.

尚、上述した一致判定部17の動作では、登録パターンと
照合パターンとの間には傾き差が無く、又、基準点抽出
部15で得た移動量DX及びDYだけ照合パターンを移動
させれば照合パターンが発録パタンに完全に重なるもの
とした例で説明した。しかしながら、現実に照合を行う
場合はこのような単純な移動だけで重ね合せを行えるも
のではなく、傾き及び移動量につき考慮し微調整を行う
必要がある。このような場合の一致度をγとした場合
は、このγは例えば下記の式によって求めることが出来
る。
In the operation of the coincidence determination unit 17 described above, there is no inclination difference between the registered pattern and the matching pattern, and if the matching patterns are moved by the movement amounts DX and DY obtained by the reference point extracting unit 15. The example has been described in which the matching pattern completely overlaps the recording pattern. However, when actually performing matching, it is not possible to perform superimposition only by such simple movement, and it is necessary to perform fine adjustment in consideration of the inclination and the movement amount. When the degree of coincidence in such a case is γ, this γ can be obtained by the following formula, for example.

尚、RX=[(X-Xo)cosθ+(Y-Yo)sinθ] RY=[(Y-Yo)cosθ+(X-Xo)sinθ] であり。ここで、x,yはX方向及びY方向の微調移動
量をそれぞれ表わし、X,Yは登録パターンの回転
中心のX,Y座標を、θは回転角度をそれぞれ表わす。
又、[ ]は整数化を表わす。
Note that RX = [(XX o ) cos θ + (YY o ) sin θ] RY = [(YY o ) cos θ + (XX o ) sin θ]. Here, x and y represent fine adjustment movement amounts in the X and Y directions, X o and Y o represent X and Y coordinates of the rotation center of the registered pattern, and θ represents a rotation angle.
Also, [] represents integerization.

そして、−θ≦θ≦θk、−LG≦x≦+LG、−L
G≦y≦+LGの範囲内でγの最大値γを求め、この
γの値が上述のT以上であれば登録パターンと照合
パターンとは一致すると判定し、又、γがT未満で
あれば両パターンは不一致と判定する。
Then,-? K ??? k , -LG? X? + LG, -L.
Seeking G ≦ y ≦ + LG maximum gamma x in gamma in the range of, determines the value of the gamma x matches the registration pattern and the collation pattern equal to or more than the above-mentioned T a, also, gamma x is T if it is less than a two patterns is determined to match.

ところで、θの値は登録パターンと照合パターンとの
傾き角度差の許容値とすれば良く、全角度が許容される
場合であればθ=180(度)となる。
By the way, the value of θ k may be an allowable value of the inclination angle difference between the registered pattern and the matching pattern, and when all angles are allowed, θ k = 180 (degrees).

又、LGの値は、例えば基準点抽出部15で得られる移動
量DX,DYの抽出最大誤差とすれば良い。
The value of LG may be the maximum extraction error of the movement amounts DX and DY obtained by the reference point extraction unit 15, for example.

又、登録パターン回転中心(X,Y)の値は登録パ
ターンの重心点、或いは、登録パターンを囲む外接四辺
形の中点等とすれば良い。
The value of the registered pattern rotation center (X o , Y o ) may be the center of gravity of the registered pattern or the midpoint of a circumscribed quadrangle surrounding the registered pattern.

上述したように、この発明の指紋照合装置によれば、照
合する指紋パターン同士の重ね合せを、両パターンがほ
ぼ重なる位置で速やかに行い得るから、指紋照合時間の
短縮を図ることが出来る。
As described above, according to the fingerprint collating apparatus of the present invention, the fingerprint patterns to be collated can be quickly superposed at a position where both patterns substantially overlap each other, so that the fingerprint collating time can be shortened.

ところで、上述の実施例を登録パターンの線数分布及び
線幅分布と、照合パターンの線数分布及び線幅分布とを
比較したときの相違度βΔX,βΔYの最小値の大小に
かかわらず両者のパターンを重ね合せて一致度αを求め
る例で説明しているが、これら最小値が一定値Tを越
えるときは直ちに両パターンは不一致であると判定する
ようにしても良い。このようにすることで、照合に要す
る時間をさらに短縮することが出来る。
By the way, regardless of the magnitude of the minimum values of the differences β ΔX and β ΔY when comparing the line number distribution and line width distribution of the registered pattern with the line number distribution and line width distribution of the matching pattern in the above-described embodiment. Although an example of obtaining the degree of coincidence α by superimposing the two patterns has been described, it is also possible to immediately determine that the two patterns do not coincide when the minimum value exceeds the constant value T b . By doing so, the time required for collation can be further shortened.

又、上述した実施例では線数分布及び線幅分布を登録パ
ターン及び照合パターンの両パターンからそれぞれ抽出
する例で説明しているが、登録パターンの線数分布及び
線幅分布については登録パターンを登録するときにこの
パターンの線数分布及び線幅分布をそれぞれ抽出してお
き、登録パターンデータと共にこれら線数及び線幅分布
を登録しておくようにしても実施例と同様な効果を得る
ことが出来る。
In the above-described embodiment, the line number distribution and the line width distribution are described as an example of extracting the patterns from the registered pattern and the matching pattern, respectively. However, regarding the line number distribution and the line width distribution of the registered pattern, the registered pattern is Even when the line number distribution and the line width distribution of this pattern are extracted at the time of registration and the line number and line width distribution are registered together with the registered pattern data, the same effect as the embodiment can be obtained. Can be done.

又、上述した実施例の線数分布抽出部14の動作では、X
方向又はY方向で行った走査中においては線幅の大きさ
に関わりなく、つまり、白点と白点との間に存在する黒
点の数に関わりなく線分が存在したと判断して線数に1
を加算している。しかし、読み取り部11によって例えば
ゴミを読み取りこのゴミが例えば黒点一個としてパター
ンメモリに格納された場合や、反対に図形の線上を線の
長手方向に走査してしまい黒点が非常に多数連続してし
まうような場合も考えられる。このような事態を考慮
し、線幅の大きさが予め定めたある値の範囲内のものの
場合にのみ一本の線として計数することとしても良い。
すなわち、実施例の場合は第2図に示したフローチャー
トのステップ28,33,48,53においては白点と白点との
間に存在する黒点の数(黒点線幅カウンタCNTの値)
の大小に関らず、黒点がなくなり白点が出現するとXHi
st或いはYHistに1を加算していたが、CNT値がW
≦CNT≦Wを満足する場合にのみXHist或いはYHi
stに1を加算するようにすれば、ゴミや線上を走査した
場合に生ずる事態に対処することが出来る。
In the operation of the line number distribution extraction unit 14 of the above-described embodiment, X
The number of lines is judged to be present regardless of the size of the line width during scanning in the Y direction or the Y direction, that is, regardless of the number of black dots existing between white dots To 1
Is being added. However, if, for example, dust is read by the reading unit 11 and this dust is stored in the pattern memory as, for example, one black dot, on the contrary, the line of the figure is scanned in the longitudinal direction of the line, and a large number of black dots continue. Such cases are also possible. In consideration of such a situation, the line width may be counted as one line only when the line width is within a predetermined value range.
That is, in the case of the embodiment, in steps 28, 33, 48 and 53 of the flowchart shown in FIG. 2, the number of black dots existing between the white dots (the value of the black dot line width counter CNT).
Regardless of the size, the black spots disappear and white spots appear, and XHi
I added 1 to st or YHist, but the CNT value is W 1
XHist or YHi only when ≦ CNT ≦ W 2 is satisfied
By adding 1 to st, it is possible to deal with the situation that occurs when dust or a line is scanned.

尚、W及びWは予め定めた個数であって、指紋の凸
部(隆線)の幅は一般に0.2〜0.5mmであるので、
読み取り部11の読み取り分解能を20画素/mmとした場
合であれば、隆線の幅が0.5mmであれば10画素分、
0.2mmであれば4画素分に相当するから、W=4及
びW=10とすれば隆線を判定するのに好適となる。
Note that W 1 and W 2 are predetermined numbers, and the width of the convex portion (ridge) of the fingerprint is generally 0.2 to 0.5 mm.
If the reading resolution of the reading unit 11 is 20 pixels / mm, then if the width of the ridge is 0.5 mm, then 10 pixels,
Since 0.2 mm corresponds to 4 pixels, W 1 = 4 and W 2 = 10 are suitable for ridge determination.

又、上述した実施例の線数分布抽出部14及び線幅分布抽
出部15の動作においては、パターンメモリ12,13をX、
Yの直交座標系に沿って走査し線数及び線幅分布を求め
る例で説明しているが、パタンメモリをX軸とはθ
傾いたX軸と、Y軸とはθ度傾いたY軸とに沿っ
てそれぞれ走査させ、それ以外の処理を実施例と同様に
行ってX及びY毎の線数及び線幅分布を求めても、
実施例と同様な効果を得ることが出来る。尚、この場合
はX、Y軸が平行でないほうが好ましい。
In the operation of the line number distribution extracting unit 14 and the line width distribution extracting unit 15 of the above-described embodiment, the pattern memories 12 and 13 are set to X,
An example of obtaining the number of lines and the line width distribution by scanning along the Cartesian coordinate system of Y has been described, but the pattern memory has an X D axis inclined by θ 1 degrees with respect to the X axis and a θ 2 degree with the Y axis. Even when scanning is performed along the tilted Y D axis and the other processes are performed in the same manner as in the example to obtain the line number and line width distribution for each X D and Y D ,
The same effect as the embodiment can be obtained. In this case, it is preferable that the X D and Y D axes are not parallel.

さらに、上述した実施例の線数分布抽出部14及び線幅分
布抽出部15の動作においては、白点と白点との間に存在
する黒点に注目し線数及び線幅分布を抽出する例で説明
しているが、この発明はこの実施例に限定されるもので
はなく、例えば、黒点と黒点との間に存在する白点に注
目しこの白点部分を一つの線分として、その他の処理に
ついては実施例と同様に行うことで、線数及び線幅分布
を求めることも出来る。
Furthermore, in the operation of the line number distribution extracting unit 14 and the line width distribution extracting unit 15 of the above-described embodiment, an example of extracting the line number and the line width distribution by paying attention to the black points existing between the white points However, the present invention is not limited to this embodiment, for example, paying attention to the white point existing between the black point and the black point, this white point part as one line segment, other The number of lines and the line width distribution can be obtained by performing the same processing as in the embodiment.

又、上述した実施例では線数分布抽出部を第一及び第二
線数分布抽出手段を以って構成し、線幅分布抽出部を第
一及び第二線幅分布抽出手段を以って構成した例でそれ
ぞれ説明しているが、線数及び線幅分布抽出部の構成は
この実施例に限定されるものではなく設計に応じ変更す
ることが出来る。例えば時分割を行うようにしそれぞれ
一つの線数及び線幅抽出手段で照合及び登録パターンの
線数及び線幅分布を作成しても良い。
Further, in the above-described embodiment, the line number distribution extracting section is configured by the first and second line number distribution extracting means, and the line width distribution extracting section is configured by the first and second line width distribution extracting means. Although the respective configurations have been described, the configurations of the number of lines and the line width distribution extraction unit are not limited to this embodiment, and can be changed according to the design. For example, time division may be performed, and the line number and line width distribution of the matching and registered patterns may be created by one line number and line width extracting means, respectively.

又、この発明の指紋照合装置を指紋以外の図形の照合装
置に応用出来ること明らかである。
Further, it is obvious that the fingerprint collation device of the present invention can be applied to a collation device for figures other than fingerprints.

(発明の効果) 上述した説明からも明らかなように、この発明の指紋照
合装置によれば、照合する二つの指紋のパターンから第
一及び第二方向毎で線数分布及び線幅分布をそれぞれ抽
出し、これらの線数分布同士及び線幅分布同士を第一及
び第二方向毎でそれぞれ比較し、二つの指紋のパターン
の重ね合せ最適位置を検出する手段を具えている。従っ
て、二つの指紋の重ね合せ位置を正確にかつ迅速に決定
することが出来るので、照合に要する時間の短縮も図る
ことが出来る。
(Effects of the Invention) As is apparent from the above description, according to the fingerprint collation apparatus of the present invention, the line number distribution and the line width distribution are respectively obtained from the two fingerprint patterns to be collated in each of the first and second directions. It is provided with means for extracting and comparing these line number distributions and line width distributions in the first and second directions, respectively, and detecting the optimum position of superimposition of the two fingerprint patterns. Therefore, the superposition position of the two fingerprints can be accurately and quickly determined, and the time required for the collation can be shortened.

これがため、高い位置合せ精度で指紋の照合を行える指
紋照合装置を提供することが出来る。
Therefore, it is possible to provide a fingerprint collation device that can collate fingerprints with high alignment accuracy.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図はこの発明の指紋照合装置の実施例を示すブロッ
ク図、 第2図はこの発明に係る線数分布抽出部の動作を示す流
れ図、 第3図(A)及び(B)はこの発明に係る線数分布抽出
部及び線幅分布抽出部の説明に供する、パターンメモリ
に対する走査処理を示す説明図、 第4図はこの発明に係る線幅分布抽出部の動作を示す流
れ図である。 11……読み取り部、12……照合パターンメモリ 13……登録パターンメモリ 14……線数分布抽出部 14a……第一線数分布抽出手段 14b……第二線数分布抽出手段 15……線幅分布抽出部 15a……第一線幅分布抽出手段 15b……第二線幅分布抽出手段 16……基準点抽出部、17……一致判定部。
FIG. 1 is a block diagram showing an embodiment of a fingerprint collation device of the present invention, FIG. 2 is a flow chart showing the operation of a line number distribution extracting section according to the present invention, and FIGS. 3 (A) and 3 (B) are the present invention. And FIG. 4 is a flow chart showing the operation of the line width distribution extraction unit according to the present invention, for explaining the line number distribution extraction unit and line width distribution extraction unit according to FIG. 11 …… reading section, 12 …… matching pattern memory 13 …… registered pattern memory 14 …… line number distribution extracting section 14a …… first line number distribution extracting means 14b …… second line number distribution extracting means 15 …… line Width distribution extraction unit 15a ... first line width distribution extraction means 15b ... second line width distribution extraction means 16 ... reference point extraction unit 17 ... match determination unit.

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】照合する指紋を二値の照合パターンとして
読み取る読み取り部と、 前記照合パターンを格納する照合パターンメモリと、 予め登録されている指紋を前記二値の登録パターンとし
て格納する登録パターンメモリと、 前記照合パターンメモリ及び登録パターンメモリを第一
の方向及び第二の方向毎でそれぞれラスタ方式で走査し
これら両パターンの線数を各走査毎で求めて、該両パタ
ーンの前記第一及び第二方向毎の線数分布を抽出する線
数分布抽出部と、 前記照合パターンメモリ及び登録パターンメモリを第一
の方向及び第二の方向毎でそれぞれラスタ方式で走査し
これら両パターンの最大線幅を各走査毎で求めて、該両
パターンの前記第一及び第二方向毎の線幅分布を抽出す
る線幅分布抽出部と、 前記第一及び第二方向毎の、前記照合パターンと前記登
録パターンとの線幅分布同士及び線数分布同士をそれぞ
れ比較し両パターンの重ね合せ位置を抽出する基準点抽
出部と、 前記重ね合せ位置に基づいて前記照合及び登録パターン
を重ね合せ両パターンの一致度を求め、該一致度に基づ
いて前記両パターンの一致・不一致を判定する一致判定
部と を具えることを特徴とする指紋照合装置。
1. A reading unit for reading a fingerprint to be collated as a binary collation pattern, a collation pattern memory for storing the collation pattern, and a registered pattern memory for storing a fingerprint registered in advance as the binary registration pattern. And scanning the collation pattern memory and the registered pattern memory in a raster system in each of the first direction and the second direction to obtain the line numbers of both patterns for each scan, and A line number distribution extraction unit that extracts the line number distribution for each second direction, and scans the matching pattern memory and the registered pattern memory in a raster method in each of the first direction and the second direction, and the maximum line of both patterns. Obtaining the width for each scan, a line width distribution extraction unit for extracting the line width distribution for each of the first and second directions of both patterns, and for each of the first and second directions A reference point extracting unit that compares the line width distributions and line number distributions of the matching pattern and the registered pattern with each other to extract the overlapping position of both patterns, and the matching and registration pattern based on the overlapping position. A fingerprint collation device, comprising: a coincidence determination unit that determines the degree of coincidence between both superposed patterns and determines whether or not the patterns coincide with each other based on the degree of coincidence.
【請求項2】前記基準点抽出部は、前記両パターンの前
記第一方向の線数分布同士及び線幅分布同士をそれぞれ
比較して得られる最小相違度と、前記両パターンの前記
第二方向の線数分布同士及び線幅分布同士をそれぞれ比
較して得られる最小相違度との少なくとも一方の値が所
定値より大きいとき前記両パターンは不一致と判定する
ことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の指紋照合
装置。
2. The minimum difference obtained by comparing the line number distributions in the first direction and the line width distributions in the first direction of the two patterns with each other, and the second direction of the two patterns. Claims characterized in that the two patterns are judged as non-coincidence when at least one of the minimum dissimilarity obtained by comparing the line number distributions and the line width distributions is larger than a predetermined value. The fingerprint collation device according to item 1.
【請求項3】前記線幅は前記二値の一方の値と一方の値
との間に存在する他方の値の部分を一つの線幅として求
めることを特徴とする特許請求の範囲第1項又は第2項
記載の指紋照合装置。
3. The line width according to claim 1, wherein a part of the other value existing between one of the two values is calculated as one line width. Alternatively, the fingerprint collation device according to item 2.
【請求項4】前記線数は前記二値の一方の値と一方の値
との間に存在する他方の値の部分を一本の線数として求
めることを特徴とする特許請求の範囲第1項又は第2項
記載の指紋照合装置。
4. The line number is obtained by determining the portion of the other value existing between one value of the two values as one line number. The fingerprint collation device according to item 2 or 3.
【請求項5】前記線数は前記二値の一方の値と一方の値
との間に存在する他方の値の個数が予め定めた範囲内の
個数であるとき一本の線数として求めることを特徴とす
る特許請求の範囲第1項又は第2項記載の指紋照合装
置。
5. The number of lines is obtained as one number of lines when the number of the other values existing between one of the two values is within a predetermined range. The fingerprint collation device according to claim 1 or 2, characterized in that.
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