JPS6348694A - Semiconductor memory - Google Patents

Semiconductor memory

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JPS6348694A
JPS6348694A JP61191323A JP19132386A JPS6348694A JP S6348694 A JPS6348694 A JP S6348694A JP 61191323 A JP61191323 A JP 61191323A JP 19132386 A JP19132386 A JP 19132386A JP S6348694 A JPS6348694 A JP S6348694A
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JP
Japan
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data
transistor
pair
transistors
lines
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JP61191323A
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Japanese (ja)
Inventor
Hiroshi Shiba
宏 柴
Masashi Eguchi
江口 將志
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NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Publication date
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  • Static Random-Access Memory (AREA)

Abstract

PURPOSE:To quicken the read speed further by using a bipolar transistor (TR) so as to discharge a data line used in common between plural cell blocks. CONSTITUTION:Bipolar TRs Q7, Q8 discharge data lines DL, the inverse of DL. A bipolar TR has a far larger current capability in comparison with a MOS TR of nearly the same size and a current of the TR Q9 as a current source is selected comparatively largely and the size of the TRs Q7, Q8 is formed comparatively largely while not so much limited as a MOS TR in a memory cell. Thus, the discharge of the data line DL is conducted in a short period.

Description

【発明の詳細な説明】 〔k菜上の利用分野〕 本発明は半導体メモリに関し、特にバイポーラトランジ
スタと相補型絶縁ゲートトランジスタを複合して構成し
た。すなわちBi−CMO8構成の半導体メモリに関す
る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Application] The present invention relates to a semiconductor memory, and particularly to a semiconductor memory constructed by combining a bipolar transistor and a complementary insulated gate transistor. That is, the present invention relates to a semiconductor memory having a Bi-CMO8 configuration.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

バイポーラトランジスタの高速性とC’MO8)ランジ
スタの低消費電力および高集積比・度との両方の利点を
生かして、Bi−CMO8構成のスタティック型半導体
メモ’J(SRAM)が開発された(日経エレクトロニ
クス 1986年3月1o日号 pI)、199−21
7)。このBi −CMO8SRA〜1は、アドレス人
カバッファ、デコーダ・ドライバ。
By taking advantage of both the high speed of bipolar transistors and the low power consumption and high integration ratio of C'MO8) transistors, static semiconductor memory 'J (SRAM) with Bi-CMO8 configuration was developed (Nikkei) Electronics March 1, 1986 issue pI), 199-21
7). This Bi-CMO8SRA~1 is an address buffer and a decoder driver.

センスアンプ、出力回路等をBi−CMO8構成とし、
メモリセルアレイ部を特にn −M OS p反とする
ことシてより、バイポーラメモリ並みの高速性とCM 
OSメモリ並みの低消費成力および大記憶容量(高集積
!fJ′、)を得ている。
The sense amplifier, output circuit, etc. have a Bi-CMO8 configuration,
By making the memory cell array section particularly n-MOS p, it is possible to achieve high speed and CM similar to bipolar memory.
It has low power consumption and large storage capacity (high integration!fJ') comparable to OS memory.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

しかしながら、かかるBi−CMO8SRAMでもその
高速読出し動作においてまだまだ不充分である。その原
因の大きな一つは、メモリセル内のMOS)ランジスタ
で共通データ線の電荷を放電していることである。すな
わち、上記Bi−CMO8SRAMでもそうであるが、
一般にSRAMでは。
However, even such Bi-CMO8SRAM is still insufficient in its high-speed read operation. One of the major reasons for this is that the charge on the common data line is discharged by a MOS transistor in the memory cell. In other words, as is the case with the above Bi-CMO8SRAM,
Generally in SRAM.

マ) IJワックス状配置された多数のメモリセルは複
数のセルブロックに分割され、各セルブロックの一対の
出力端子は一対の共通データ線にそれぞれ共通接続され
ている。あるいは、全セルブロックのうち所定数ずつが
複数対の共通データ線の一つの対にそれぞれ共通接続さ
れている。各セルブロックは複数のワード線、一対のビ
ット線、一つのワード線と一対のビット線とに接続され
た複数のメモリセル、および一対のビット線と共通デー
タ線との間に接続されゲートにビット線選択信号を受け
る一対のビ、シト←選択用MO8)ランジスタを有する
。したがって、共通データ線の電荷はaEされたメモリ
セル内のMOSトランジスタによってビット線逮択用M
 OS トランジスタを介して放電される。記憶容量が
増大するほど、ビット線および共通データ線は長くなり
寄生容か“が増大する。一方、メモリセル内のMOS)
ランジスタは記憶容量が増大するほど微細化され、また
電源1L圧は変らないのでその電流能力は小さくなる。
M) A large number of memory cells arranged in an IJ wax pattern are divided into a plurality of cell blocks, and a pair of output terminals of each cell block are commonly connected to a pair of common data lines. Alternatively, a predetermined number of all cell blocks are each commonly connected to one pair of the plurality of pairs of common data lines. Each cell block includes a plurality of word lines, a pair of bit lines, a plurality of memory cells connected to one word line and a pair of bit lines, and a gate connected between the pair of bit lines and a common data line. It has a pair of transistors for receiving a bit line selection signal. Therefore, the charge on the common data line is transferred to the bit line by the MOS transistor in the aE memory cell.
Discharged through the OS transistor. As the storage capacity increases, the bit lines and common data lines become longer and the parasitic capacitance (on the other hand, the MOS in the memory cell) increases.
The transistor becomes finer as its storage capacity increases, and its current capacity decreases because the 1L voltage of the power supply does not change.

このため、共通データ線の放電に時間を要することとな
シ、これがB i −CNイO8SRAMの読出し速度
の向上を制限している大きな原因の一つである。
Therefore, it takes time to discharge the common data line, and this is one of the major reasons for limiting the improvement in the read speed of B i -CN I O8 SRAM.

したがって、本発明の目的は誼出し速度をさらに向上す
る構成のBl−CMO8SRAMを提供することにある
Therefore, an object of the present invention is to provide a Bl-CMO8SRAM having a configuration that further improves the readout speed.

本発明の他の目的は、新規な構成であるが故に新規なデ
ータ書込みおよび読出し方式を提供することにある。
Another object of the present invention is to provide a new data writing and reading method due to the new configuration.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

本発明による半導体メモリは、ワード線、一対のビット
線、これらワード線と一対のビ・シト線とに接続された
メモリセル、一対のデータ線、一対のデータ線の一方に
一方のベースが他方に他方のベースがそれぞれ接続され
コレクターエミッタ電流路が前記一対のデータ131間
に直列接続されたバイポーラ型の第1と第2のトランジ
スタ、これらMlとiM2のトランジスタの工ばツタ共
通な接続点に接続された列選択信号を受ける第3のトラ
ンジスタ、前記第1又は第2のトランジスタと前記第3
のトランジスタとの導通によって生じるデータ線間の電
位差を増幅するセンスアンプ、および書込むべきデータ
信号に応答してデータ線間に電位差を生じさせその電位
差を第1および第2のトランジスタのコレクタ・ベース
接合を介してビット線対に伝えるデータ書込み回路を少
なくとも備える。
A semiconductor memory according to the present invention includes a word line, a pair of bit lines, a memory cell connected to the word lines and a pair of bit lines, a pair of data lines, and a base of one of the data lines connected to the other. Bipolar type first and second transistors whose other bases are respectively connected to and whose collector-emitter current paths are connected in series between the pair of data 131, and the terminals of these transistors M1 and iM2 are connected to a common connection point. a third transistor connected to receive a column selection signal, the first or second transistor and the third transistor connected to each other;
a sense amplifier that amplifies the potential difference between the data lines caused by conduction with the transistor; and a sense amplifier that generates a potential difference between the data lines in response to the data signal to be written and transfers the potential difference between the collector and base of the first and second transistors. It includes at least a data write circuit for transmitting data to the bit line pair via the junction.

このように1本発明による半導体メモリではバイポーラ
トランジスタによってデータ線を放電させており、従来
例のようにメモリセル内の小さなMOS)ランジスタで
放電させていない。バイポーラトランジスタは同程度の
サイズのMOSトランジスタに比してかなシ大きな祇流
能力を有するので、データ線の放電時定数げ小さくなり
、読出し速度がさらに向上する。バイポーラトランジス
タを用いているため、データ書込み動作では、書込むべ
きデータ信号に応答してデータ線間に強制的に電位差を
生じせしめ、その電位差をバイポーラトランジスタのコ
レクタ・ベース接合を介してビット線対に伝達しメモリ
セルの格納データを制御している。
As described above, in the semiconductor memory according to the present invention, the data line is discharged by the bipolar transistor, and not by the small MOS transistor in the memory cell as in the conventional example. Since bipolar transistors have much greater current capability than MOS transistors of similar size, the discharge time constant of the data line is reduced, further improving the read speed. Because a bipolar transistor is used, in a data write operation, a potential difference is forcibly generated between the data lines in response to the data signal to be written, and that potential difference is transferred to the bit line pair via the collector-base junction of the bipolar transistor. and controls the data stored in the memory cells.

〔実施例〕〔Example〕

以下、図面を参照しながら本発明の実施例について詳述
しよう。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

第1図は本発明の一実施例を示す半導体メモリのブロッ
ク図である。一般に、スタティック型半導体メモリでは
、多数の半導体メモリセルが行列pて配置されてメモリ
セルアレイを構成し、しかも所定数ずつセルブロックと
して分割されているが、説明¥i−簡単にするために第
1図では1個のメモリセルMCのみを示している。この
メモリセルは四つのNチャンネルMO8)ランジスタQ
t、Qz、QsおよびQ、と二つのPチャンネルMOS
トランジスタQ3およびQ4を有し、トランジスタQ+
乃至Q4はフリヴプフロップ型式に接続され、トランジ
スタQs、Q6は転送ゲートとして働く。トランジスタ
Q3.Q4の代わりに抵抗を用いてもよい。
FIG. 1 is a block diagram of a semiconductor memory showing one embodiment of the present invention. Generally, in a static semiconductor memory, a large number of semiconductor memory cells are arranged in rows and columns p to form a memory cell array, and are further divided into cell blocks of a predetermined number. The figure shows only one memory cell MC. This memory cell consists of four N-channel MO8) transistors Q
t, Qz, Qs and Q, and two P-channel MOS
has transistors Q3 and Q4, and transistor Q+
Q4 to Q4 are connected in a flip-flop type, and transistors Qs and Q6 function as transfer gates. Transistor Q3. A resistor may be used instead of Q4.

メモリセルMcはワード線WLと一対のビット線BLお
よびBLとに接続されている。ビ、、h1g!BLおよ
びBLは抵抗R1およびR3をそれぞれ介して電源端子
Vccに接続されている。抵抗”l5R3の代わシにM
OS)ランジスタを用いてもよい。
Memory cell Mc is connected to a word line WL and a pair of bit lines BL and BL. Bi,,h1g! BL and BL are connected to power supply terminal Vcc via resistors R1 and R3, respectively. Resistor "M" instead of "l5R3"
OS) transistors may be used.

ビ+7 )線BLおよびBLは、本発明に従って設けら
れたバイポーラNPNトランジスタQ7およびQaのベ
ースにそれぞれ接続されている。これらトランジスタQ
7.Qsのコレクターエミッタ電流路は1図示のとおシ
それらのコレクタが一対のデータ線DLおよびL)Lと
なるように、データ線DL、DL間に直列接続されてい
る。トランジスタ9丁、Qsの工ばヴタ共通接続点はM
OSトランジスタQ9を介して接地され、そのグー)K
列選択信号Yが供給される。バイポーラ型のもの全トラ
ンジスタQ會として用いてもよい。一対のデータHDL
 、DLn、Bi−CMO8m成(Dセンスアンプおよ
び出力回路11と13 i −C’540S構成のデー
タ入力および書込回路12とに結合きれている。
B+7) lines BL and BL are connected to the bases of bipolar NPN transistors Q7 and Qa, respectively, provided according to the invention. These transistors Q
7. The collector-emitter current paths of Qs are connected in series between the data lines DL and DL, as shown in FIG. 1, so that their collectors form a pair of data lines DL and L)L. The common connection point for the 9 transistors and Qs is M
Grounded through the OS transistor Q9, its
A column selection signal Y is supplied. A bipolar type device may be used as an all-transistor Q group. A pair of data HDLs
, DLn, Bi-CMO 8m configuration (D sense amplifier and output circuit 11, and data input and write circuit 12 of 13i-C'540S configuration).

る。Ru.

第2図および第3図を参照して、データ記C出し動作お
よびデータ書込み動作をそれぞれ脱明しよう。
With reference to FIGS. 2 and 3, let us explain the data recording C output operation and the data write operation, respectively.

データ読出し動作において5行アドレス人力ね子1−1
乃至1−iに供給される有効な行アドレス信号RA0乃
至RAiは行アドレスバッファ6を介して行アドレスデ
コーダ・ドライバ7に供給され、この結果、ワード緋選
択信号X1が選択レベル(ハイレベル)に反転されてワ
ード線WLが付勢される0行アドレス信号RA0乃至R
Aiが他の情報のときは他の選択信号X2乃至Xmの一
つが選択レベルとされ他のワード線が付勢される。
In the data read operation, the 5th row address human power cat 1-1
Valid row address signals RA0 to RAi supplied to 1 to 1-i are supplied to the row address decoder/driver 7 via the row address buffer 6, and as a result, the word scarlet selection signal X1 goes to the selection level (high level). 0 row address signals RA0 to R that are inverted and the word line WL is activated
When Ai is other information, one of the other selection signals X2 to Xm is set to the selection level and other word lines are activated.

バッファ6およびデコーダ・ドライバ7はBi−CMO
3構成であるため、ワード線W1の付勢は。
Buffer 6 and decoder driver 7 are Bi-CMO
3 configuration, the word line W1 is energized as follows.

記2図のようにアドレス取込み時点から短時間の内に終
了する。
As shown in Figure 2, the process ends within a short time from the address capture point.

メモリセルMC内の転送ゲート用トランジスタQs、Q
sがかくして導通する。メモリセルMCにはデータ@1
1が書込まれているのでトランジスタQ2およびQ3が
導通状態にある。したがって。
Transfer gate transistors Qs and Q in memory cell MC
s is thus conductive. Data @1 in memory cell MC
Since 1 has been written, transistors Q2 and Q3 are in a conductive state. therefore.

ビット線BLがトランジスタQ6を介してトランジスタ
Q、によシ放電される。MOSトランジスタでビット線
BL又はBLが放電されるので、同じビット線対BL 
、BLに接続されるメモリセルMCの数が多い場合には
、その放電時定数がかなシ大きくなる。そこで、同じビ
ット線対に接続されるメモリセルの数を少なくする方が
有効である。
Bit line BL is discharged by transistor Q via transistor Q6. Since the bit line BL or BL is discharged by the MOS transistor, the same bit line pair BL
, BL is connected to a large number of memory cells MC, the discharge time constant becomes very large. Therefore, it is more effective to reduce the number of memory cells connected to the same bit line pair.

この対策は、同じデータ線対DL 、DLに接続される
セルブロックの数を多くしてデータ線を長くすることに
なるが、データ線はバイポーラトランジスタで放電して
いるので、その放電時定数をかなシ小さくできる。この
ことについては後で詳述する。
A countermeasure to this is to increase the number of cell blocks connected to the same data line pair DL and DL to lengthen the data line, but since the data line is discharged by a bipolar transistor, the discharge time constant Kanashi can be made smaller. This will be explained in detail later.

一方1列アドレス端子2−1乃至2−jVC供給される
有効な列アドレス信号CAo乃至CAjはBi−CMO
8構成の列アドレスバッファ8を介してBi−CMO8
構成の列アドレスデコーダ・ドライバ9に取込まれ、こ
の結果1列選択信号Y1が短時間のうちにハイレベルに
変化するトランジスタQsがかくして導通する。列アド
レスデコーダ・ドライバ9rOi他の列アドレス情報に
応じて信号Y3乃至Ymの一つを選択レベルにする。ト
ランジスタQsrtその導通によってトランジスタQ7
゜Qaの電流源として作用し、かつこの時点でトランジ
スタQ7のベース電位はQaのそれよりも高くなってい
る。したがってトランジスタQγが導通し、データ線D
Lの電荷を放電する。一対のデータ線DLおよびDLK
は大記憶容量のために複数のセルブロックに共用きれ、
また、前述のとおシ各セルブロック内の一対のビット線
BL 、 BLに接続されるメモリセルの数を少なくす
るほどセルブロックの数が増大する。すなわち、データ
線DL、DLは長くなシその容量は比較的太きくなる。
On the other hand, the valid column address signals CAo to CAj supplied to the first column address terminals 2-1 to 2-jVC are Bi-CMO.
Bi-CMO 8 via column address buffer 8 with 8 configurations.
The transistor Qs is taken into the column address decoder/driver 9 of the configuration, and as a result, the one column selection signal Y1 changes to a high level in a short time, and the transistor Qs becomes conductive. Column address decoder/driver 9rOi sets one of the signals Y3 to Ym to a selection level in accordance with other column address information. The conduction of transistor Qsrt causes transistor Q7 to
It acts as a current source for Qa, and at this point the base potential of transistor Q7 is higher than that of Qa. Therefore, transistor Qγ becomes conductive, and data line D
Discharge the charge of L. A pair of data lines DL and DLK
can be shared among multiple cell blocks due to its large storage capacity,
Further, as described above, the number of cell blocks increases as the number of memory cells connected to the pair of bit lines BL, BL in each cell block decreases. That is, the data lines DL, DL are not long and their capacitance is relatively large.

このため、従来のB i −CMOS  S RAMの
ように、メモリセル内の小さfihiO8)ランジスタ
でデータmyJIiを放電させると、その放電時定数は
非常に大きくなり、第2図の点線50で示されるように
データ線DLldゆるやかに放電される。
For this reason, when the data myJIi is discharged by a small transistor in the memory cell as in the conventional Bi-CMOS S RAM, the discharge time constant becomes very large, as indicated by the dotted line 50 in FIG. As such, the data line DLld is slowly discharged.

これが読み出し速度の向上を制限しているのである。本
発明ではバイポーラトランジスタQア(Qs)でデータ
線DL(f)L)を放1している。バイポーラトランジ
スタは同程度の大きざのMOSトランジスタに比してか
なシ大きな電流能力を有し。
This limits the improvement in read speed. In the present invention, the data line DL(f)L) is released by the bipolar transistor Qa(Qs). Bipolar transistors have a much larger current capacity than MOS transistors of similar size.

また′電流源としてのトランジスタQ、の′成流値を比
較的大きく設定できるし、トランジスタQ y 、 Q
 sのサイズはメモリセル内のMoSトランジスタはど
制限されず比較的大きくつくれる。したがって。
In addition, the current value of the transistor Q as a current source can be set relatively large, and the transistors Q y , Q
The size of the MoS transistor in the memory cell is not limited and can be made relatively large. therefore.

データ線DLの放tは第2図のとおり短時間で行なわれ
る。
The data line DL is released in a short time as shown in FIG.

データ読出し動作においては、端子3に供給される読出
し書込み信号WEは読出しレベル(ロウレベル)にある
ので、制御回路10は読出し活性化信号WEをハイレベ
ルし、書込み活性化信号几Eiロウレベルにする。した
がって、センスアンプおよび出力回路11は活性化され
、一方、データ入力および書込回路12は非活性化状態
にある。
In the data read operation, since the read/write signal WE supplied to the terminal 3 is at the read level (low level), the control circuit 10 sets the read activation signal WE to a high level and sets the write activation signal Ei to a low level. Therefore, sense amplifier and output circuit 11 is activated, while data input and write circuit 12 is in an inactive state.

かくして、Bi−CMO8構成のセンスアンプおよび出
力回路11はデータ線対DL、DL間の電位差を増幅し
、′11の出力データDOυ丁を出力端子4に発生する
0本実施例による半導体メモリのアクセスタイムに第2
図の時間TLとなる。これに対し、従来例では、データ
線DLの放電時定数が大きいため、そのアクセスタイム
はTn とする。
Thus, the sense amplifier and output circuit 11 having the Bi-CMO8 configuration amplifies the potential difference between the data line pair DL, DL, and generates the output data DOυ of '11 at the output terminal 4. 2nd in time
The time is TL in the figure. On the other hand, in the conventional example, since the discharge time constant of the data line DL is large, its access time is set to Tn.

なお、データ読出しにより生じるビット線対BL、BL
の電位差、データ線対1)L、DL間の電位差rt篭源
4圧−ばいとせずに中間レベルとし。
Note that the bit line pair BL, BL caused by data reading
The potential difference between the data line pair 1) and the potential difference between L and DL is set to an intermediate level without setting the source 4 voltage.

動作速度を向上させている。Improves operating speed.

データ書込みモードにおいては、ワード線Wの付勢まで
はデータ読出しモードと同じである。選択されたメモリ
セルM Cがデータ11″を格納していたとすると、ビ
ット線BLの電位がトランジスタQ2によって低下され
る。
In the data write mode, up to the activation of the word line W is the same as in the data read mode. If the selected memory cell MC stores data 11'', the potential of the bit line BL is lowered by the transistor Q2.

データ書込み時には、端子3への4i号〜VBはノ・イ
レベルを取り、したがって、沓込み活性化信号WEの方
がハイレベルとなる。この信号WEd列アドレスデコー
ダ・ドライバ9にも供給されている。このため1列アド
レスデコーダ中ドライバ9は列アドレス信号CAo乃至
CAjが取シ込まれても第3図に示すように列選択信号
Y1をロウレベルに保持してトランジスタQ、の遮断状
態を維持する。その代わ如1列アドレスデコーダ・ドラ
イバ9はハイレベルの信号Yl/をデータ入力および書
込み回路12に供給し、この回路12に結合されたデー
タ線対DL、DLK−)ながるセルブロック内のメモリ
セルがデータ書込みの対象であることを同回路12に知
らしめる。なお、データ線DL、DLが一対だけの場合
は、信号Y、/を発生する必要はない。データ入力およ
び書込み回路12はかくして入力端子5に供給される書
込むデータDINに応じてデータ線DLおよびDLの一
方を強制的にロウレベルにする。データ“Olを書込む
゛場合は、データNDLがロウレベルに反転される。こ
のとき、トランジスタQ、およびQsは遮断状態にある
。したがって、ハイレベルにあるビット@BLは)ラン
ジスタQyのコレクターベース間のPN接合を介して第
3図のごとくロウレベルに変化させる。データ線DLは
ハイレベルにあるのでトランジスタQyのコレクターベ
ース間のPN接合は逆ベイアスされる。ピッ)iBLの
電位がビット線BLのそれよりも低くなると、トランジ
スタQs、Q4が導通し、Qh、Qsが遮断状態となる
。この状態は、データ入力および書込み回路12が両デ
ータ線DL、DLの電位をハイレベルにしても、保持さ
れる。これは、トランジスタQy、Q−のコレクタ・ベ
ース接合が逆バイアスされるからである。
At the time of data writing, signals 4i to VB to terminal 3 take the no-y level, and therefore the write activation signal WE goes to the high level. This signal WEd is also supplied to the column address decoder/driver 9. Therefore, even when the column address signals CAo to CAj are received, the first column address decoder driver 9 holds the column selection signal Y1 at a low level and maintains the cut-off state of the transistor Q, as shown in FIG. Instead, the first column address decoder/driver 9 supplies a high-level signal Yl/ to the data input and write circuit 12, and connects the data line pair DL, DLK-) connected to the data input and write circuit 12 to the data input and write circuit 12. The circuit 12 is informed that the memory cell is the target of data writing. Note that if there is only one pair of data lines DL, DL, it is not necessary to generate the signals Y, /. The data input and write circuit 12 thus forces one of the data lines DL and DL to a low level in response to the write data DIN supplied to the input terminal 5. When writing data "Ol", data NDL is inverted to low level. At this time, transistors Q and Qs are in a cut-off state. Therefore, the bit @BL at high level is between the collector base of transistor Qy. as shown in Figure 3. Since the data line DL is at a high level, the PN junction between the collector and base of the transistor Qy is reverse biased. When the voltage becomes lower than that, transistors Qs and Q4 become conductive, and Qh and Qs are cut off.This state is maintained even if the data input and write circuit 12 sets the potential of both data lines DL and DL to a high level. This is because the collector-base junctions of transistors Qy, Q- are reverse biased.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上のとおシ1本発明は、複数のセルブロック間で共通
につかわれるデータ線をバイポーラトランジスタで数域
し、またその構成であるから同トランジスタのコレクタ
ーベース間のPN接合を介して選択されたメモリセルに
データ書込み行なうという、読出し速度をさらに向上し
たBi−CMO8SRAMを提供している。
Based on the above, the present invention uses several bipolar transistors as data lines that are commonly used among a plurality of cell blocks, and because of this structure, the selected memory is We provide a Bi-CMO8 SRAM that further improves the read speed by writing data into cells.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の一実施例を示すプロ、ツク図。 第2図はデータ読出し動作時のタイミングチャート、第
3図はデータ書込み時のタイミングチャートである。 代理人 弁理士  FF3  原   首   ′第 
1  回 昇 2 圀 芽 3 文
FIG. 1 is a professional diagram showing an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a timing chart for a data read operation, and FIG. 3 is a timing chart for a data write operation. Agent Patent Attorney FF3 Original Head 'No.
1 rise 2 kunime 3 sentences

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims]  ワード線、一対のビット線、これらワード線とビット
線とに接続されたメモリセル、一対のデータ線、前記一
対のデータ線の一方に一方のベースが他方に他方のベー
スがそれぞれ接続されコレクターエミッタ電流路が前記
一対のデータ線間に直列接続されたバイポーラ型の第1
と第2のトランジスタ、これら第1と第2のトランジス
タのエミッタ共通接続点に接続され列選択信号を受ける
第3のトランジスタ、前記第1又は第2のトランジスタ
と前記第3のトランジスタの導通によって生じる前記デ
ータ線間の電位差を増幅するセンスアンプ、および書込
むべきデータ信号に応答して前記データ線間に電位差を
生じせしめ該電位差を前記第1と第2のトランジスタの
コレクタ・ベース間PN接合を利用して前記ビット線間
に伝えるデータ書込み回路を少なくとも備えることを特
徴とする半導体メモリ。
A word line, a pair of bit lines, a memory cell connected to the word line and the bit line, a pair of data lines, and a collector emitter with one base connected to one of the pair of data lines and the other base connected to the other. A bipolar type first current path is connected in series between the pair of data lines.
and a second transistor, a third transistor connected to a common emitter connection point of these first and second transistors and receiving a column selection signal, caused by conduction between the first or second transistor and the third transistor. a sense amplifier that amplifies the potential difference between the data lines; and a sense amplifier that generates a potential difference between the data lines in response to a data signal to be written, and applies the potential difference to the collector-base PN junction of the first and second transistors. A semiconductor memory comprising at least a data write circuit for transmitting data between the bit lines.
JP61191323A 1986-08-15 1986-08-15 Semiconductor memory Pending JPS6348694A (en)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02130795A (en) * 1988-10-31 1990-05-18 Internatl Business Mach Corp <Ibm> Memory circuit
JPH055431U (en) * 1991-07-04 1993-01-26 三菱樹脂株式会社 Solidification extrusion molding equipment

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