JPS6344623A - Liquid crystal shutter array - Google Patents

Liquid crystal shutter array

Info

Publication number
JPS6344623A
JPS6344623A JP61189206A JP18920686A JPS6344623A JP S6344623 A JPS6344623 A JP S6344623A JP 61189206 A JP61189206 A JP 61189206A JP 18920686 A JP18920686 A JP 18920686A JP S6344623 A JPS6344623 A JP S6344623A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
liquid crystal
light
shutter array
crystal shutter
photosensitive material
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP61189206A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hisao Oishi
大石 尚生
Kazuhiko Yanagihara
柳原 和彦
Tadashi Miyagawa
正 宮川
Takeshi Nakamura
武司 中村
Kazuhiko Akimoto
一彦 秋元
Mitsuaki Shioji
光昭 塩路
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sharp Corp, Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Sharp Corp
Priority to JP61189206A priority Critical patent/JPS6344623A/en
Publication of JPS6344623A publication Critical patent/JPS6344623A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Liquid Crystal (AREA)
  • Printers Or Recording Devices Using Electromagnetic And Radiation Means (AREA)

Abstract

PURPOSE:To record while a photosensitive material is held in tight contact with a liquid crystal shutter array and to permit the faithful recording of image light by outputting the light subjected to on-off control in a liquid crystal through FOP. CONSTITUTION:The FOP (fiber optical plate) 50 as a transparent substrate is provided on the outside of pixel electrodes 44. Even if the parallel image light 1 projected to the liquid crystal shutter array 40 is subjected to the on-off control according to image signals by the pixel electrodes 44, said light arrives straightly at the photosensitive material 30 held in tight contact with the shutter array without being diffused by the light transparent side substrate and without being subjected to light interference, etc., by the adjacent pixels. The photosensitive material is, therefore, exposed directly by the light corresponding to the images. The recorded images are thereby made into the high-quality images corresponding to the on-off control of the pixel electrodes 44.

Description

【発明の詳細な説明】 (発明の技術分野) この発明は、例えば液晶光シャッタとして利用される液
晶デバイス、詳しくは液晶に印加する電圧の大きさ及び
/又は印加時間あるいは周波数を制御することにより、
透過あるいは反射する光量を変調するように構成されて
いる液晶デバイスを用いた液晶シャッタアレイの構造に
関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Technical Field of the Invention) The present invention relates to a liquid crystal device used as a liquid crystal light shutter, for example, by controlling the magnitude and/or application time or frequency of a voltage applied to a liquid crystal. ,
The present invention relates to the structure of a liquid crystal shutter array using a liquid crystal device configured to modulate the amount of transmitted or reflected light.

(発明の技術的背景とその問題点) 従来より、液晶デバイスを例えばライン状に構成したシ
ャッタアレイによって、画像光を感光材料に記録する技
術が開発されている。第3図は、このような液晶シャッ
タアレイの構造及びその記録の様子を示している。すな
わち、画像信号に応じて制御される液晶シャッタアレイ
10には平行光1が照射され、液晶シャッタアレイ10
で画像信号に応じてオン・オフ;b(」御されて透過し
た光が、集光性光伝送体アレイ、例えばセルフォックレ
ンズ(日本板硝子に、に、の屈折率分布型レンズの商品
名)アレイ20で結像ざわて感光材料30に露光される
ようになっている5液晶シヤツタアレイlOは、液晶1
1を充填して所定距、!i!fl (たとえば6μ)に
対向されている一対の配向膜12八及び12[1をイ1
しており、一方の配向11(512Bにはシャッタアレ
イの画素を規定する透明材のピクセル電極13が埋設さ
れており、他方の配向膜12八内には各ピクセルTL極
13に対応する位置関係で遮光用フォトマスク17が埋
設されており、更にその外側には透明材のコモン電極1
4が層設されている。又、配向膜12Bの外側にはガラ
ス等で成る透明基板1511か層設され、コモン電極1
4Bの外側には上記透明基板15[1とほぼ同一の厚さ
を有する透明基板15八が層設され、これら透明基板1
5A及び15Bの外側には更に1′n向板16A及び1
6Bがそれぞれ層設されている。従って、液晶シャッタ
アレイ10に照射される平行光1はピクセル電極13に
達するので、各ピクセル電極13及びこれらに対向して
いるコモン電極14とを電気的にIIIJ御することに
よって、その透過光をフォトマスク17と協動して遮光
制御することができる。I夜晶シャッタアレイ10のこ
のような画素毎のピクセル電極13の位首を通過した光
は、セルフォツタレンズアレイ20で不吉像されて感光
材料30に露光され、画像が光学的に記録されることに
なる。
(Technical Background of the Invention and Problems Thereof) Conventionally, a technique has been developed for recording image light on a photosensitive material using a shutter array in which liquid crystal devices are arranged in, for example, a line shape. FIG. 3 shows the structure of such a liquid crystal shutter array and its recording state. That is, the parallel light 1 is irradiated onto the liquid crystal shutter array 10 which is controlled according to an image signal, and the liquid crystal shutter array 10 is
The transmitted light is turned on and off according to the image signal;b ('), and the transmitted light is transmitted through a condensing light transmitter array, such as a SELFOC lens (a product name of a gradient index lens manufactured by Nippon Sheet Glass). The 5-liquid crystal shutter array 10, which is configured to expose the photosensitive material 30 by forming an image in the array 20, has a liquid crystal 1
1 to a specified distance! i! A pair of alignment films 128 and 12[1 facing each other
A pixel electrode 13 made of a transparent material that defines the pixels of the shutter array is buried in one alignment film 11 (512B), and a positional relationship corresponding to each pixel TL pole 13 is embedded in the other alignment film 128. A light-shielding photomask 17 is embedded in the mask, and a common electrode 1 made of a transparent material is placed outside of the photomask 17.
4 are arranged in layers. Further, a transparent substrate 1511 made of glass or the like is layered on the outside of the alignment film 12B, and the common electrode 1
Transparent substrates 158 having approximately the same thickness as the transparent substrate 15[1] are layered on the outside of the transparent substrate 15[1].
Further, 1'n facing plates 16A and 1 are provided on the outside of 5A and 15B.
6B are arranged in layers. Therefore, since the parallel light 1 irradiated on the liquid crystal shutter array 10 reaches the pixel electrodes 13, the transmitted light can be reduced by electrically controlling each pixel electrode 13 and the common electrode 14 facing them. Light shielding can be controlled in cooperation with the photomask 17. The light that passes through the pixel electrodes 13 of each pixel of the night crystal shutter array 10 is formed into an ominous image by the self-photograph lens array 20 and exposed to the photosensitive material 30, and an image is optically recorded. It turns out.

なお、第3図における平行光1は、−11り的には完全
な平行光となっていないので、説明のために入射角を極
端に設けた例を示しである。
Note that the parallel light 1 in FIG. 3 is not perfectly parallel light in terms of −11 degrees, so for the sake of explanation, an example in which the incident angle is set to an extreme value is shown.

このように液晶シャッタアレイにより画像記録を行なう
場合、入射光は通常平行光とされるが、完全な平行光と
はなっておらず、このため、液晶シャッタアレイ10よ
り出た光を結像手段のセルフォックレンズアレイ20等
で集光しないと、光の拡散度が大きくなって感光材料3
0上で解像度を十分に得ることができない。このため、
セルフォックレンズアレイ20等を液晶シャッタアレイ
10と感光材料30との間に介挿して記録を行なうよう
にしているが、このために光学系が大きくなり、装置も
大型化してしまう欠点があった。
When recording an image using a liquid crystal shutter array in this way, the incident light is usually parallel light, but it is not completely parallel light. If the light is not focused by a SELFOC lens array 20 or the like, the degree of light diffusion will increase and the photosensitive material 3
0, it is not possible to obtain sufficient resolution. For this reason,
Recording is performed by inserting a SELFOC lens array 20 or the like between the liquid crystal shutter array 10 and the photosensitive material 30, but this has the disadvantage that the optical system becomes larger and the device also becomes larger. .

又、液晶シャッタアレイlOの光出力側である透明基板
15への厚さが、ピクセル電極13の幅寸法と比較して
厚いために、ピクセル電極13及びコモン電極14で光
の透過を制御されている画素毎の光が、透明基板15八
内でその進行に従って相互に拡散してしまう等の不都合
も有り、商品′ζりの画像記録を行なうことができない
といった問題もあ)た。
Furthermore, since the thickness of the transparent substrate 15 on the light output side of the liquid crystal shutter array IO is thicker than the width dimension of the pixel electrode 13, the transmission of light is controlled by the pixel electrode 13 and the common electrode 14. There is also the problem that the light from each pixel in the transparent substrate 158 is mutually diffused as it progresses, and it is not possible to record an image of the product.

(発「月の目的) この発明は上述のような事情からなされたしのであり、
この発明の目的は、液晶シャッタアレイの外部に特別な
光学系を用いることなく1、′1に品シャッタアレイそ
のものでも高品質の画像記録を行なうことができるよう
にした液晶シャッタアレイを提供することにある。
(From "Purpose of the Moon") This invention was made due to the circumstances mentioned above.
An object of the present invention is to provide a liquid crystal shutter array that is capable of recording high-quality images using the shutter array itself without using a special optical system outside the liquid crystal shutter array. It is in.

(発明の概要) この発明は、・7に晶を充填させて対向しているピクセ
ル電極及びコモン電極と、これらピクセル電極及びコモ
ン電極を挟持している1対の透明基板と、これら透明基
板の各外側に層設された偏向板とで成る液晶シャッタア
レイにおいて、前記ピクセル電極に対応して前記透明基
板のいずれか一方にフォトマスクを層設すると共に前記
1対の透明基板のうち少なくともいずれか一方をFOP
で構成したものである。
(Summary of the Invention) This invention comprises: a pixel electrode and a common electrode which are filled with crystal and face each other; a pair of transparent substrates sandwiching these pixel electrodes and common electrode; In a liquid crystal shutter array comprising deflection plates layered on each outer side, a photomask is layered on either one of the transparent substrates corresponding to the pixel electrode, and at least one of the pair of transparent substrates is layered. One side is FOP
It is composed of

(発明の実施例) 第1図はこの発明の一実施例を示しており、液晶シャッ
タアレイ40は、液晶41を充填して所定距1iiIt
(例えば6μ)で対向している配向膜42A及び42B
を有している。そして、光入力端の配向膜42[lと透
明材のコモン電極43が層設され、その外側にはガラス
等の透明材料で成る厚さ0.5〜1.Omm程度の透明
基板47が層設され、更にその外側には偏向板48が層
設されている。
(Embodiment of the Invention) FIG. 1 shows an embodiment of the present invention, in which a liquid crystal shutter array 40 is filled with liquid crystal 41 for a predetermined distance 1iiIt.
Alignment films 42A and 42B facing each other at (for example, 6μ)
have. Then, an alignment film 42[l at the light input end and a common electrode 43 made of a transparent material are layered, and the outer side thereof is made of a transparent material such as glass and has a thickness of 0.5 to 1.5 cm. A transparent substrate 47 with a thickness of about 0 mm is layered, and a deflection plate 48 is further layered on the outside thereof.

又、光出力側には配向11U 42 Aと画素に対応す
る透明材のピクセル電極44が埋設されており、このピ
クセル電極44の外側には透明基板としてのFOP(F
iber 0ptical Plate)50か層設さ
れている。このFOI”50のビッヂは、ピクセル型棒
44のピクセルサイズよりも十分小さくなっており、F
OP50に人力された光はそのまま出力されるようにな
っている。
Further, on the light output side, a pixel electrode 44 made of a transparent material corresponding to the pixel with orientation 11U 42 A is buried, and outside of this pixel electrode 44, an FOP (FOP) as a transparent substrate is buried.
iber 0ptical plate) 50 layers. This bit of FOI"50 is sufficiently smaller than the pixel size of the pixel type bar 44, and
The light manually applied to OP50 is output as is.

モしてFOP50の外側にはピクセル電極44に対応す
る位置関係に遮光用のフォトマスク46が埋設され、フ
ォトマスク・16の外側には更に偏向板45が層設され
ている。
A light-shielding photomask 46 is buried outside the FOP 50 in a positional relationship corresponding to the pixel electrode 44, and a deflection plate 45 is further layered outside the photomask 16.

このような構造を有する液晶シャッタアレイ=+0とす
ることにより、液晶シャッタアレイ4oに照射された平
行画像光1は、ピクセル電極44で画像信号に応じてオ
ン・オフ制御されても、光透過側基板で光が拡散される
ことがなく、各隣接のピクセルで光干渉等を受けずにそ
のまま密着された感光材料30に達するので、画像に応
じた光が直接感光材料30を露光するようになる。この
ため、その記録画像はピクセル電極14のオン・オフ1
b1」御に応じた高品質な画像となる。
By setting the liquid crystal shutter array having such a structure to = +0, the parallel image light 1 irradiated onto the liquid crystal shutter array 4o is controlled on and off by the pixel electrode 44 in accordance with the image signal, but the light transmitting side Since the light is not diffused by the substrate and reaches the photosensitive material 30 that is in close contact with each adjacent pixel without receiving light interference, the light corresponding to the image directly exposes the photosensitive material 30. . Therefore, the recorded image is
The result is a high-quality image that meets your needs.

液晶シャッタアレイ40は、第2図(A)で示すように
ライン状のJA llaとなっているものでも可能であ
り、又同図(!りで示すような面状の(1゛を成となっ
ているものでも同様に構成することができる。又、上述
の各実施例では、ピクセルli・171とフォトマスク
46の開口部とを1対1に対応させて同一のサイズとし
ているか、〕オオド下マスク4のサイズをピクセルサイ
ズ・14のサイズよりも小さくすると、ピクセル電極4
4とフォトマスク46の位置合せが楽になり、製造時に
有利となる。また、偏向板45をFOP50と配向膜4
2Δどの間に設けるようにしても同様の効果が得られる
The liquid crystal shutter array 40 can be a linear array as shown in FIG. In addition, in each of the above-described embodiments, the pixel li 171 and the opening of the photomask 46 are made to have the same size with a one-to-one correspondence. When the size of the lower mask 4 is made smaller than the pixel size 14, the pixel electrode 4
4 and the photomask 46 becomes easier, which is advantageous during manufacturing. In addition, the deflection plate 45 is connected to the FOP 50 and the alignment film 4.
Similar effects can be obtained regardless of the distance between 2Δ.

なお、フォトマスク46を透明基板I17と偏向板91
8との間、或いはFOP50と偏向板45との間に設け
るようにしても良い。
Note that the photomask 46 is connected to the transparent substrate I17 and the deflection plate 91.
8 or between the FOP 50 and the deflection plate 45.

(発明の効果) 以上のようにこの発明の液晶シでツタアレイによれば、
液晶部でオン・オフ制fffllされた光がFOPを経
て出力されるようになっているので、液晶シャッタアレ
イに感光材料を密着させて記録することができ、液晶ア
レイ外部にセルフォックレンズアレイ等の光学系を用い
ることなく画像光を忠実に記録することができ、装置が
小型化となる利点がある。
(Effects of the Invention) As described above, according to the ivy array in the liquid crystal display of this invention,
Since the light that has been turned on and off in the liquid crystal section is output through the FOP, it is possible to record with a photosensitive material in close contact with the liquid crystal shutter array, and a Selfoc lens array etc. can be placed outside the liquid crystal array. Image light can be faithfully recorded without using an optical system, and the device has the advantage of being miniaturized.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図はこの発明の一実施例を示す断面構造図、第2図
(A)はライン状の液晶シャッタアレイを説明するため
の図、同図(B)は面状の液晶シャッタアレイの様子を
示−・j゛図、第3図は従来の液晶シャッタアレイの構
造及びその記録の様子を示す図である。 1・・・平行光、10.40・・・液晶シャックアレイ
、11.41・・・7夜晶、13.44・・・ピクセル
電極極、N。 43・・・コモン電極、15A、158.47・・・透
明基板、16へ。 16[1,48・・・偏向板、20・・・セルフォック
レンズアレイ、30・・・感光材料、5σ・・・For
。 (,4> (B) $2 図
FIG. 1 is a cross-sectional structural diagram showing one embodiment of the present invention, FIG. 2 (A) is a diagram for explaining a line-shaped liquid crystal shutter array, and FIG. 2 (B) is a diagram of a planar liquid crystal shutter array. FIG. 3 is a diagram showing the structure of a conventional liquid crystal shutter array and its recording state. 1... Parallel light, 10.40... Liquid crystal shack array, 11.41... 7 night crystal, 13.44... Pixel electrode pole, N. 43...Common electrode, 15A, 158.47...Transparent substrate, to 16. 16 [1,48... Deflection plate, 20... Selfoc lens array, 30... Photosensitive material, 5σ... For
. (,4> (B) $2 Fig.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)液晶を充填させて対向しているピクセル電極及び
コモン電極と、これらピクセル電極及びコモン電極を挟
持している1対の透明基板と、これら透明基板の各外側
に層設された偏向板とで成る液晶シャッタアレイにおい
て、前記ピクセル電極に対応して前記透明基板のいずれ
か一方又は前記コモン電極にフォトマスクを層設すると
共に、前記1対の透明基板のうち少なくともいずれか一
方をFOPで構成したことを特徴とする液晶シャッタア
レイ。
(1) A pixel electrode and a common electrode filled with liquid crystal and facing each other, a pair of transparent substrates sandwiching these pixel electrodes and common electrode, and a deflection plate layered on the outside of each of these transparent substrates. In the liquid crystal shutter array, a photomask is layered on one of the transparent substrates or the common electrode in correspondence with the pixel electrode, and at least one of the pair of transparent substrates is formed using an FOP. A liquid crystal shutter array characterized by the following configuration.
(2)前記ピクセル電極と前記フォトマスクの開口部と
が1対1に対応している特許請求の範囲第1項に記載の
液晶シャッタアレイ。
(2) The liquid crystal shutter array according to claim 1, wherein the pixel electrode and the opening of the photomask have a one-to-one correspondence.
(3)前記フォトマスクの開口部のサイズが前記ピクセ
ル電極のサイズよりも小さい特許請求の範囲第1項に記
載の液晶シャッタアレイ。
(3) The liquid crystal shutter array according to claim 1, wherein the size of the opening of the photomask is smaller than the size of the pixel electrode.
JP61189206A 1986-08-12 1986-08-12 Liquid crystal shutter array Pending JPS6344623A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP61189206A JPS6344623A (en) 1986-08-12 1986-08-12 Liquid crystal shutter array

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP61189206A JPS6344623A (en) 1986-08-12 1986-08-12 Liquid crystal shutter array

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS6344623A true JPS6344623A (en) 1988-02-25

Family

ID=16237309

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP61189206A Pending JPS6344623A (en) 1986-08-12 1986-08-12 Liquid crystal shutter array

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS6344623A (en)

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS56117217A (en) * 1980-02-21 1981-09-14 Sharp Corp Liquid-crystal display recorder
JPS59137930A (en) * 1983-01-28 1984-08-08 Fuji Photo Film Co Ltd Color optical printer head

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS56117217A (en) * 1980-02-21 1981-09-14 Sharp Corp Liquid-crystal display recorder
JPS59137930A (en) * 1983-01-28 1984-08-08 Fuji Photo Film Co Ltd Color optical printer head

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5093874A (en) Integrated electro-optical scanner with photoconductive substrate
US3555987A (en) Focal plane shutter system
JPS6344624A (en) Liquid crystal device
US4334734A (en) Optical apparatus for the reproduction of images using a liquid crystal cell
JPS6298348A (en) Exposure of image sheet using optical valve as wavelength transformer
JPS6227716A (en) Light valve for meshed-dot formation
TWI240823B (en) Electrooptic device and its manufacture, and projection type display device
KR950019831A (en) Microlens substrate, liquid crystal display element and liquid crystal projector device using same
JPS6344623A (en) Liquid crystal shutter array
JPS63148233A (en) Liquid crystal shutter array
JPH0430140A (en) Projection type color liquid crystal display device
JPH0712717B2 (en) Halftone image forming method
JPH0216065A (en) Liquid crystal optical shutter
JPS6344625A (en) Image recording method by liquid crystal
JPH02169270A (en) Crystalline liquid color printer
JPS63148234A (en) Liquid crystal shutter array
JPS5574516A (en) Liquid crystal light valve system projection type image display device
US3997243A (en) Color image reproduction system
JPS63109415A (en) Liquid crystal shutter array
JPH0361927A (en) Liquid crystal display device
JP2973515B2 (en) Image recording device
JPH032723A (en) Liquid crystal display device
JPS63182632A (en) Filter
JPH02169271A (en) Crystalline liquid color printer
JPH0214165A (en) Liquid crystal optical shutter for exposure device