JPS6343379A - 圧力測定器 - Google Patents

圧力測定器

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JPS6343379A
JPS6343379A JP18706186A JP18706186A JPS6343379A JP S6343379 A JPS6343379 A JP S6343379A JP 18706186 A JP18706186 A JP 18706186A JP 18706186 A JP18706186 A JP 18706186A JP S6343379 A JPS6343379 A JP S6343379A
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pressure
semiconductor
pressure measuring
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measuring device
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JP18706186A
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Masato Mizukoshi
正人 水越
Shoki Asai
昭喜 浅井
Takeshi Fukazawa
剛 深沢
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Denso Corp
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NipponDenso Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明はバルク半導体等感圧半導体を使用し、1.0O
Okq/cm”級の圧力を測定できる圧力測定器に関す
る。本発明の圧力測定器は、例えばディーゼルエンジン
燃料噴射圧等の超高圧力の測定に使用することが出来る
C従来の技術) 現在、1.000kg/cm2級の圧力を31できる圧
力測定器としては、ブルドン管を用いたもの、水晶の圧
電効果を利用したもの、構造体に歪ゲージをはりつけた
もの等がある。
し発明が解決すべき問題点] しかしながら、ブルドン管を用いた圧力測定器の場合に
は、高圧油圧回路の電子vJlll用として使用する際
、電気出力信号が得られず、また精度、信頼性において
、向上を図ることが困難であった。
水晶の圧電効果を利用した圧力測定器の場合には、蓄積
された電荷をチ1r−ジセアンブを用いて積分操作して
出力電圧としており、ドリフトが大きく、絶対値として
の信頼性が低く、また水晶のコストが高いという問題点
があった。
上記従来測定器のうち、構造体に歪ゲージをはつつけた
タイプの場合には、超高圧において、ハウジングを含め
、いたる所で歪が発生しており、製造上のバラツキが大
きり、量産は期待できないため、コストの低減を実現す
ることが困難であるという問題点があった。
本発明の圧力測定器は、上記しh問題点のない高蹟度で
、信頼性が高く、かつ安価に量産することが可能な圧力
測定器を提供することを目的とする。
[発明の構成] (問題点を解決するための手段) 本発明の圧力測定器は、壁体の少なくとも一部が変形し
て外部圧力を内部に伝達する密閉容器と、該密閉容器内
に封入された圧力伝達流体と、該圧力伝達流体中に設け
られた少なくとも1対の電極をもつバルク半導体と、各
該電極に結線され該密閉容器外に他端が取り出されたリ
ード線とからなることを特徴とするものである。
本発明の圧力測定器では、感圧半導体としてバルク半導
体を使用し、このバルク半導体に等方向な圧力が加わっ
たとき、抵抗が変化する性質を利用して圧力センサとす
ることにより、構造が簡単で、かつ信号処理の容易な圧
力測定器を実現するものである。バルク半導体は、既存
のICプロセスを流用して製造することが出来る。また
バルク半導体の密閉容器へのマウントは水晶振動子を作
製する際に用いるワイヤー・マウント技術を利用1゛る
ことが出来る。
ここでバルク半導体とは、少なくとも1対の電極を有し
、一様な圧力が加わることにより抵抗が変化する半導体
を直方体状に切り出した半導体、或いは、その表面に不
純物を拡散して形成した半導体をいう。これらの他に、
蒸着法、CVD法等により、金属、半導体、セラミック
基板上に膜形成したタイプであってもよい。バルク半導
体としてゲルマニウム、シリコンより選んで用いること
が出来る。
圧力伝達流体としては、例えばシリコン・オイル等を使
用することが出来、上記のバルク半導体を直接被測定媒
体に接触させないために使用する圧力伝達媒体をいう。
密閉容器とは、上記各構成要素を収納する硬質容器部と
この容器の壁体の一部を構成するシール・ダイアフラム
とからなる容器である。容器の壁体には、上記した圧力
伝達流体を注入し封止する液封口が設けられている。シ
ール・ダイアフラムは、封入したシリコン・オイルをシ
ールし、被測定媒体の圧力をシリコン・オイルに伝える
機能をもつもので、圧力印加に伴うシリコン・オイルの
体積変化に追従出来ることが条件である。
リード線は、上記したバルク半導体の各電極並びにバル
ク半導体の抵抗変化を電圧出力に変換するためのハイブ
リッド回路基板等を接続する信号ケーブルのことである
。これらの半導体や回路に対して給電、イコ号の授受を
行うため、上記密閉容器外に他端が取り出されている。
次に本発明の圧力測定器の構成及び作用原理を第1図に
基づいて説明する。
第1図に示すように比抵抗ρの単結晶半導体を長さ1、
幅WS厚さtの直方体状に切り出し、長さ方向の端面に
、オーミック性の電極e、、e−を取りつけた抵抗体を
考える。この場合単結晶半導示す様に比抵抗の変化によ
るもの、形状の変化によるものからなる。ピエゾ抵抗効
果による抵抗変化率はu” (πII+2πIり(−P
)となρ す、ピエゾ抵抗係数π11、πI2を用いて表わされ、
結晶の方位による依存性はない。形状の変弾性係数(コ
ンプライアンス係数)・S++、S+2を用いて式ε1
−ε2−ε5=−(S+++28at)(−P)で表わ
される。これも結晶の方位による依存性はない。S++
+28+2は0゜33xlO−6cm’/ka (?/
IJDン)、0゜44X10−8cm”/kQ Cゲ)
Ltマニウム>等の様に通常圧である。そこでなるべく
高い圧力感度を得るにはπ+++2π+1には負の数で
絶対値がなるべく大きい方が良い。そのような半導体と
しではn型ゲルマニウムがある。
π+++2π+ z−−6,9x10−6cm1/kg
 (n −G e:ρ−1、5Ω−am)。この時圧力
感度は−7,3x10−6cmz/kgとなる。
[発明の実施例] 以下本発明の圧力測定器の実施例を図面に基づいて説明
する。
(第1実施例) 本発明の圧力測定器の断面図を第2図に示す。
第2図において、密閉容器1は硬質容器部2とシール・
ダイアフラム3とから構成されている。
硬質容器部2の壁部には、液封口4が貫通して設けられ
、この液封口4を通じて密口1容器1内の所定空間に圧
力伝達流体であるシリコン・オイル5が注入されシール
される。
凹閉容器1を構成するシール・ダイアフラム3は、上記
の如く封入されたシリコン・オイル5をシールし、被圧
力測定媒体の圧力をシリコン・オイル5へ伝達する。
密閉容器1内には、更に、シリコン・オイル5を介して
被圧力α1定媒体の圧力を感知する感圧半導体としてバ
ルク半導体6が配線ワイヤー7.7′によりシリコン・
オイル5中で支持されている。
半導体支持用配線ワイヤー7.7−の両端には導電性リ
ードビン8.8−が設けられ、リードビン8.8′、接
片9.9′を経てハイブリッド回路基板10へ結線され
ている。なお半導体6の支持は必ずしも配線ワイヤーに
限らず、これ以外のワイヤーでもよい。このハイブリッ
ド回路基板10は、バルク半導体6の抵抗変化を電圧出
力に変換するための回路で、ホイートストンブリッジ用
基準抵抗、増幅回路用オペアンプ等からなり一端がハイ
ブリッド回路基板10に取付けられ、他端が密閉容器1
外へ取り出された束状のリード!!/A11が接続され
ている。このリード線11により外部の信号処理手段と
バルク半導体およびハイブリッド回路基板等が動作的に
接続され、給電、信号の授受が行われる。
本実施例においては、バルク半導体6の構成方法として
第3図に示すようなホイートストンブリッジ法を適用し
た。この場合、上記した抵抗変化を温度変化から分離す
るため各構成抵抗の温度係数を等しくしなければならな
い。しかしバルク半導体6として同じn型ゲルマニウム
4本を使用しだのではブリッジ出力が得られない。そこ
で2本Σ は圧力感度が正でなるべく大きいものも用いる必要があ
る。例えばn型とドーパント濃度がほぼ等しいn型ゲル
マニウム、P−Ge (ρ−1,1Ω・am)を用いる
とπ+++2π12=5.1XIO−6cmZ /kg
となり圧力感度は4.7X10−60m2/kQとなる
。このn型ゲルマニウム(n−Ge)とP型ゲルVニウ
ム(P−Ge)各2個を相対する辺とするブリッジにお
いては、ブリッジ出力感度は6.OXlo−3mV/V
・(kQ/Cm2 )となり、ブリッジ電圧5、印加圧
カー、0OOkch/am’時、出力電圧(Vout)
は30mVとなり、十分実用的な出力電圧がjqられる
。なおVl  はN源である。
第4図は上記したバルク半導体6の構成を示す平面図で
ある。すなわち、夫々電極e、e′を側平面図である。
すなわち、夫々電極e、e”を側面に有するn−Ge2
個とP−Ge2個でホイートスj・ンブリッジを構成し
、リードビン8.8′と各半導体の電極e、e−とを配
線ワイヤ7.7′で接合した。
なお本実施例の場合、」−記バルク半導体の製造方法ど
しては、ゲルマニウム表面に、CV l)、スパッタ法
により5iOzllfiを形成しフォトリソグラフィー
によりコンタクトホールをあけ、オーミック性電極金属
を蒸着し、フォトリソグラフィーにより電極部を形成す
る。これを抵抗体の大きさに切断して作る方法によるの
が適当と考えられる。
更にバルク半導体として、n型ゲルマニウムの代わりに
P型シリコン、n型シリコンを用いてもよい。
(第2実施例) 本実施例においてはバルク半導体12は第5図及び第5
図のA−△断面図である第6図に示すように、同一チッ
プ上に2重拡散法によって構成される。
即ち、n型ゲルマニウムウェハのPウェル領域P△に、
レジスト等をマスクとしてボロン等のn型ドーパントを
イオン注入する。続いてP型ゲルマニウム抵抗領域1”
−Ge−△に同じくn型ドーパントをイオン注入しPウ
ェルPA内のn型ゲルマニウム低抗g1域n−Ge−△
にn型ドーパントをイオン注入し、熱処理により活性化
する。その後は上記した1本づつ抵抗を作る方法と同様
にしてSiO2膜、コンタクトホール、電極部を形成し
、チップサイズに切断する方法によってもよい。
(第3実施例) 業 ヰ≠を被せた5iOz絶縁性基板上にn型、P型子結晶
半導体として形成した19合を示す。
(第4実施例) バルク半導体をジッ7]2溝成とし第8図に示すように
支持体の縁部に固定する例である。この場合チップを直
接、硬質容器部2の内壁に固定してもよい。−なおチッ
プ12は配線ワイヤー7.7′により基板、リードビン
8と結線されている。
[発明の効果] 本発明の圧力測定器によれば、バルク状半導体を圧力セ
ンサとして用いているため、従来の圧電型と異なり圧力
に応じたアナログ出力が容易に1!7られ、本発明の圧
力測定器の製造に従来の半導体プロセス技術、ワイV−
マウント技術を利用することが出来る。従って、安価に
j産も可能となり、超高圧用圧力測定器の製造における
生産性特性向上に大きく寄与することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の圧力測定器の構成及び作用原理説明図
であり、第2図は本発明の圧力測定器の第1実施例を示
す断面図である。第3図は本発明におけるバルク半導体
の回路構成の一例を示す回路図であり、第4図は第3図
に示された回路構成を模式的に示ず模式図である。 第5図は本発明の圧力測定器の第2実施例を示す断面図
であり、第6図は第5図のA−A ′断面図である。第
7図は本発明の圧力測定器の第3実施例を示す要部断面
図であり、第8図は本発明の圧力測定器の第4実施例を
示す要部断面図である。 1・・・密閉容器 2・・・@!質容器部 3・・・シール・ダイアフラム 5・・・シリコン・オイル(圧力伝達流体)6.12.
13・・・バルク半導体 7.7′・・・配線ワイヤ 8.8′・・・導電性リードビン 10・・・ハイブリッド回路基板 11・・・信号ケーブル(リード線) P−Ge・・・P型ゲルマニウム n−Ge・・・n型ゲルマニウム 特許出願人    日本電装株式会社 代理人     弁y!!士 大川 宏同      
弁理士 丸山明夫 第1図

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)壁体の少なくとも一部が変形して外部圧力を内部
    に伝達する密閉容器と、該密閉容器内に封入された圧力
    伝達流体と、該圧力伝達流体中に設けられた少なくとも
    1対の電極をもつバルク半導体と、各該電極に結線され
    該密閉容器外に他端が取り出されたリード線とからなる
    ことを特徴とする圧力測定器。
  2. (2)密閉容器は硬質容器部とシール・ダイアフラムで
    構成されている特許請求の範囲第1項記載の圧力測定器
  3. (3)バルク半導体はゲルマニウム、シリコンのいずれ
    か1つである特許請求の範囲第1項記載の圧力測定器。
JP61187061A 1986-08-08 1986-08-08 圧力測定器 Expired - Lifetime JPH0824197B2 (ja)

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JP61187061A JPH0824197B2 (ja) 1986-08-08 1986-08-08 圧力測定器

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JPH0824197B2 JPH0824197B2 (ja) 1996-03-06

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5565629A (en) * 1992-12-11 1996-10-15 Nippondenso Co., Ltd. Semiconductor-type pressure sensor with isolation diaphragm with flat portion between corrugations

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JPS5783048A (en) * 1980-11-10 1982-05-24 Matsushita Electric Ind Co Ltd Monograin layer polycrystalline semiconductor resistor
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JPS6049441U (ja) * 1983-09-14 1985-04-06 株式会社日立製作所 圧力変換器

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