JPS6343133A - High-sensitivity photopolymerizable composition - Google Patents

High-sensitivity photopolymerizable composition

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JPS6343133A
JPS6343133A JP18886786A JP18886786A JPS6343133A JP S6343133 A JPS6343133 A JP S6343133A JP 18886786 A JP18886786 A JP 18886786A JP 18886786 A JP18886786 A JP 18886786A JP S6343133 A JPS6343133 A JP S6343133A
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acid
lower alkyl
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川畑 政巳
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雅彦 原田
Yasuyuki Takimoto
滝本 靖之
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    • G03F7/029Inorganic compounds; Onium compounds; Organic compounds having hetero atoms other than oxygen, nitrogen or sulfur

Abstract

PURPOSE:To improve sensitivity to visible laser light by using a photopolymn. initiator combined with a specific (thio)xanthene dye, diaryl iodonium salt and compd. having a methylene group in the alpha position of an N atom. CONSTITUTION:The titled compsn. contains the addition polymerizable compd. having ethylenic unsatd. double bonds (e.g.: methyl methacrylate/methacrylic acid copolymer) and the photopolymn. initiator. The photopolymn. initiator is constituted by the combination of the (thio)xanthene dye expressed by formula I, the diaryl iodonium salt expressed by formula II and the compd. having the methylene group in the alpha position of the N atom (more preferably N-phenyl glycine, etc.). In formulas, A denotes O, S; X denotes H, halogen; Y denotes C, N; Z denotes O, lower alkoxy, etc.; R<1> denotes (hydroxy) lower alkyl, etc.; R<2> denotes H, lower alkoxy, etc.; R<3>-R<6> denote H, halogen, etc.; X<-> denotes, a halogen ion, BF4<->, etc.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は紫外線、可視光線を含む広範な波長範囲に属す
る先に対して高い感度を示す光重合性組成物に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Application Field] The present invention relates to a photopolymerizable composition that exhibits high sensitivity to light in a wide wavelength range including ultraviolet rays and visible light.

特にアルゴンイオンレーザ−光のような可視レーザー光
に対して優れた感光性を示す光重合性組成物に関する。
In particular, the present invention relates to a photopolymerizable composition that exhibits excellent photosensitivity to visible laser light such as argon ion laser light.

[従来の技術] 写真的技法によって画像を再現するにあたっては、ジア
ゾニウム塩類、アンド類、キノンジアジド類などの感光
性をもつ化合物を含む組成物、または紫外線で作用する
光重合開始剤を含む光重合性組成物が使用されている。
[Prior Art] When reproducing images by photographic techniques, compositions containing photosensitive compounds such as diazonium salts, ANDs, and quinonediazides, or photopolymerizable compositions containing photopolymerization initiators that act with ultraviolet light are used. composition is used.

上述の化合物または組成物はいずれら紫外線には感光性
を示すものの可視光線には殆んど感光性を示さないとい
う問題かあった。紫外線の代りに可視光線(波長400
〜700 nm)に対して感光性をもつ光重合性組成物
としては、例えば特開昭57−114139号公報、特
開昭59−142205号公報などに示されている色素
と感光促進剤を含む組成物が知られている。
The above-mentioned compounds or compositions all have a problem in that they exhibit photosensitivity to ultraviolet rays but almost no photosensitivity to visible rays. Visible light (wavelength 400
Photopolymerizable compositions having photosensitivity to wavelengths of up to 700 nm) include dyes and photosensitizers as disclosed in, for example, JP-A-57-114139 and JP-A-59-142205. Compositions are known.

近年、レーザー光源による走査露光技術の進歩、特に可
視レーザー先による走査露光装置の実用化に伴い、アル
ゴンイオンレーザ−光のような可視レーザー光に高い感
光性をもつ感光材料の開発が望まれていた。ところが、
従来の感光材料にあっては、紫外線に対して感光性をも
つものは勿論のこと、可視光線に対して感光性をもつも
のであっても、可視レーザー光に対しては感度が必ずし
ら十分ではなく、レーザー光走査露光による記録は可能
であるにしてもかなりの高出力を要し、経済的ではなか
った。
In recent years, with advances in scanning exposure technology using laser light sources, and in particular the practical application of scanning exposure equipment using visible laser tips, there has been a desire to develop photosensitive materials that are highly sensitive to visible laser light such as argon ion laser light. Ta. However,
Conventional photosensitive materials are not only sensitive to ultraviolet rays, but even those that are sensitive to visible light are not necessarily sufficiently sensitive to visible laser light. Even if recording by laser beam scanning exposure is possible, it requires considerably high output and is not economical.

[発明の目的] 本発明の目的は、紫外線、可視光線を含む広範な波長範
囲に属する先に対して高い感度を示す光重合性組成物を
提供することにある。特に、アルゴンイオンレーザ−光
のような可視レーザー光に対して優れた感光性を示す光
重合性組成物を提供することにある。
[Object of the Invention] An object of the present invention is to provide a photopolymerizable composition that exhibits high sensitivity to wavelengths in a wide range of wavelengths including ultraviolet rays and visible light. In particular, it is an object of the present invention to provide a photopolymerizable composition that exhibits excellent photosensitivity to visible laser light such as argon ion laser light.

[発明の構成] 本発明者らの研究によれば、エチレン性不飽和二重結合
を有する付加重合可能な化合物と光重合開始剤を含む光
重合性組成物の系において、光重合開始剤として、ある
種のキサンチンまたはチオキサンチン系色素、ジアリー
ルヨードニウム塩、およびN−フェニルグリンンのよう
な窒素原子のα位にメチレン基を有する化合物の三者を
組合わせて使用することにより、所期の目的を達成でき
ろ事実を見出した。
[Structure of the Invention] According to research conducted by the present inventors, in a system of a photopolymerizable composition containing an addition polymerizable compound having an ethylenically unsaturated double bond and a photopolymerization initiator, By using a combination of a certain xanthine or thioxanthin dye, a diaryliodonium salt, and a compound having a methylene group at the alpha position of the nitrogen atom such as N-phenylgrine, the desired result can be obtained. I found out the fact that I can achieve my goal.

即ら、本発明によれば、エチレン性不飽和二重結合を有
する付加重合可能な化合物と光重合開始剤を含む光重合
性組成物において、該光重合開始剤が、 (a)  下記一般式[1] [式中、Aは酸素原子または硫黄原子、Xは水素原子ま
たはハロゲン原子、Yは炭素原子または窒素原子(ただ
し、Yが炭素原子である場合には隣接する炭素原子との
間(点線で示した箇所)は二重結合であり、Yが窒素原
子である場合には隣接する上記炭素原子との間は一重結
合である。)、Zは酸素原子(この場合隣接する炭素原
子との間は二重結合である。)、低級アルコキシ基また
は低級アルカノイルオキシW、R’は低級アルキル盾、
ヒドロキン低級アルキル基、低級アルコキン低板アルキ
ル基、ノ低吸アルキルアミノ低級アルキル基またはアリ
ール基、R2は水素原子、低級アルコキシ基またはジ低
級アルキルアミノ基である。
That is, according to the present invention, in a photopolymerizable composition containing an addition polymerizable compound having an ethylenically unsaturated double bond and a photopolymerization initiator, the photopolymerization initiator has (a) the following general formula: [1] [In the formula, A is an oxygen atom or a sulfur atom, X is a hydrogen atom or a halogen atom, and Y is a carbon atom or a nitrogen atom (however, when Y is a carbon atom, there ) is a double bond, and if Y is a nitrogen atom, it is a single bond with the adjacent carbon atom.), Z is an oxygen atom (in this case, with the adjacent carbon atom) ), lower alkoxy group or lower alkanoyloxy W, R' is lower alkyl shield,
Hydroquine lower alkyl group, lower alkoxyl lower alkyl group, lower alkylamino lower alkyl group or aryl group, R2 is a hydrogen atom, lower alkoxy group or di-lower alkylamino group.

なお、ZとR1は両各合して−Z−4’−として、を表
イつすこともある。] で示される化合物、 (b)  ジアリールヨードニウム塩、および(C) 
 窒素原子のα位にメチレン基を有する化合物の組合わ
せからなることを特徴とする光重合性組成物が提供され
る。
Note that Z and R1 may be expressed together as -Z-4'-. ] A compound represented by (b) a diaryliodonium salt, and (C)
Provided is a photopolymerizable composition comprising a combination of compounds having a methylene group at the alpha position of a nitrogen atom.

上記一般式[+]で示される化合物(以下、成分(a)
と称することもある。)において、Xで表されるハロゲ
ン原子の具体例としては、塩素、臭素などがある。また
、Zで表される低級アルコキシ基としてはメトキノ、エ
トキシ、プロポキノなどが、(氏吸アルカノイルオキン
基としてはアセチルオキノ、プロピオニルオキン、ブチ
リルオキシなどが例示される。なおまた、RIで表され
る低級アルキル基の具体例としてはメチル、エチル、プ
ロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オク
チル、ノニル、デンルなどが、ヒドロキシ低級アルキル
基の具体例としてはヒドロキシメチル、ヒドロキシエチ
ル、ヒドロキシプロピル、ヒドロキノブチルなとか、低
級アルコキシ低級アルキル基の具体例としてはメトキシ
メチル、メトキシエチル、メトキンプロピル、エトキシ
エチル、エトキシプロピル、エトキシブチル、プロボキ
ンエヂル、プロポキンプロピルなどが、ジ低級アルキル
アミノ低級アルキル基の具体例としてはジメチルアミノ
メチル、ジエチルアミノエヂル、ジメチルアミノプロピ
ル、ジメチルアミノメチル、ジメチルアミノプロピル、
ジエチルアミノブチルなどが、アリール基の具体例とし
てはフェニル、キソリル、トリル、ナフチルなどがあり
、R2で表される低級アルコキン基の具体例としてはメ
トキノ、エトキン、プロポキシなどか、ジ低級アルキル
アミノJミの具体例としてはツメチルアミン、ジエチル
アミノなどが挙げられる。なお、一般式[+]で示され
る化合物は、キサンチンまたはヂオキサノテン系色素と
して一般に文献既知の物質である。
A compound represented by the above general formula [+] (hereinafter referred to as component (a)
It is also sometimes called. ), specific examples of the halogen atom represented by X include chlorine and bromine. In addition, examples of the lower alkoxy group represented by Z include methoxyno, ethoxy, propoquino, etc. (Examples of the alkanoyl oxine group include acetyloquino, propionyl oxine, butyryloxy, etc.). Specific examples of lower alkyl groups include methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, hexyl, heptyl, octyl, nonyl, and denyl; specific examples of hydroxy lower alkyl groups include hydroxymethyl, hydroxyethyl, hydroxypropyl, and hydroxyl. Specific examples of butyl, lower alkoxy, lower alkyl groups include methoxymethyl, methoxyethyl, methquinpropyl, ethoxyethyl, ethoxypropyl, ethoxybutyl, proboquinedyl, propoquinpropyl, and di-lower alkylamino lower alkyl groups. Specific examples include dimethylaminomethyl, diethylaminoedyl, dimethylaminopropyl, dimethylaminomethyl, dimethylaminopropyl,
Examples of the aryl group include phenyl, xoryl, tolyl, naphthyl, etc., and examples of the lower alkoxy group represented by R2 include methoxy, ethquine, propoxy, di-lower alkylamino, etc. Specific examples include trimethylamine and diethylamino. The compound represented by the general formula [+] is a substance generally known in the literature as a xanthine or dioxanothene pigment.

上記ジアリールヨードニウム塩(以下、成分(b)と称
することもある。)は、下記一般式[■]で示される化
合物である。
The diaryliodonium salt (hereinafter sometimes referred to as component (b)) is a compound represented by the following general formula [■].

[式中、R3〜R0は同一または異なって、水素原子、
ハロゲン原子(例えば塩素、臭素)、低級アルキル基(
例えばメチル、エチル、プロピル、t−ブチル)、低級
アルコキシ基(例えばメトキシ、エトキシ、プロポキン
)またはニトロ基を表わし、X−はハロゲンイオン(例
えばCQ−1Br−1I−)、r3F、二P F a−
1AsP、−または5bFa−を表わす。
[In the formula, R3 to R0 are the same or different, hydrogen atoms,
Halogen atoms (e.g. chlorine, bromine), lower alkyl groups (
(e.g. methyl, ethyl, propyl, t-butyl), lower alkoxy group (e.g. methoxy, ethoxy, propokine) or nitro group, and X- represents a halogen ion (e.g. CQ-1Br-1I-), r3F, diPFa −
1AsP, - or 5bFa-.

] 一般式[II]で示される化合物は、例えば「ジャーナ
ル・オブ・ポリマー・サイエンス・ポリマー・ンンボノ
アj(J 、 P olym、 S ci、 P ol
ym、 S ymp、)56巻383〜395頁(10
00年)に記載の方法に従って合成することができ、例
えばジフェニルヨードニウム、ビス(p−クロロフェニ
ル)ヨードニウム、ノトリルヨードニウム、ビス(p−
t−ブチルフェニル)ヨードニウム、ビス(m−ニトロ
フェニル)ヨードニウムなどのヨードニウムのクロリド
、プロミド、ホウフッ化塩、ヘキサフルオロホスフェー
ト塩、ヘキサフルオロアルセネート塩、ヘキサフルオロ
ホスフェ−ト塩を挙げることができる。
] The compound represented by the general formula [II] is described, for example, in "Journal of Polymer Science
ym, Symp, ) vol. 56, pp. 383-395 (10
For example, diphenyliodonium, bis(p-chlorophenyl)iodonium, notryliodonium, bis(p-
Examples include chlorides, bromides, borofluoride salts, hexafluorophosphate salts, hexafluoroarsenate salts, and hexafluorophosphate salts of iodonium such as t-butylphenyl)iodonium and bis(m-nitrophenyl)iodonium. .

上記窒素原子のα位にメチレン基を有する化合物(以下
、成分(C)と称することらある。)としては、例えば
トリエチルアミン、N−メチルジェタノールアミン、ト
リエタノールアミン、N−エチル−N−ベンジルアニリ
ン、N、N−ジエチル−p−フェニレンジアミン、N−
フェニルグリンンなどを挙げることができ、特にN−フ
ェニルグリンンが好ましい。
Examples of the compound having a methylene group at the alpha position of the nitrogen atom (hereinafter sometimes referred to as component (C)) include triethylamine, N-methyljetanolamine, triethanolamine, N-ethyl-N-benzyl Aniline, N, N-diethyl-p-phenylenediamine, N-
Examples include phenylgrin, and N-phenylgrin is particularly preferred.

上記エヂレン性不飽和二重結合を有する付加重合可能な
化合物(以下、二重結合含有化合物と弥することらある
。)は、光重合開始剤の作用により付加重合して硬化し
、実質的に不溶化を乙たらすよらなエヂレン性不飽和二
玉結合を何する単量体または重合体であればよい。その
具体例としては、不飽和カルホン酸、不飽和カルボン酸
と脂肪族ポリヒドロキシ化合物とのエステル、不飽和カ
ルボン酸と芳香族ポリヒドロキシ化合物とのエステル、
不飽和カルボン酸とエポキシドとの付加反応物、不飽和
カルボン酸および多価カルボン酸と脂肪族ポリヒドロキ
シ化合物、芳香族ポリヒドロキノ化合物などの多価ヒド
ロキシ化合物とのエステル化反応により得られろエステ
ルなどが挙げられろ。
The addition-polymerizable compound having an ethylenically unsaturated double bond (hereinafter sometimes referred to as a double-bond-containing compound) is addition-polymerized and cured by the action of a photopolymerization initiator, and substantially Any monomer or polymer can be used as long as it has a stable double unsaturated bond that causes insolubilization. Specific examples include unsaturated carboxylic acids, esters of unsaturated carboxylic acids and aliphatic polyhydroxy compounds, esters of unsaturated carboxylic acids and aromatic polyhydroxy compounds,
Addition products of unsaturated carboxylic acids and epoxides, esters obtained by esterification reactions of unsaturated carboxylic acids and polycarboxylic acids with polyhydric hydroxy compounds such as aliphatic polyhydroxy compounds and aromatic polyhydroquino compounds. Can you name it?

不飽和カルボン酸の具体例としてはアクリル酸、メタク
リル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイノ酸などがあ
る。脂肪族ポリヒドロキノ化合物としてはエチレングリ
コール、ジエヂレングリコール、トリエチレングリコー
ル、テトラエチレングリコール、ネオペンチルグリコー
ル、プロピレングリコール、1.2−ブタンノオールな
どの二価アルコール類、トリメチロールエタン、トリメ
チロールプロパン、グリセロールなどの三価アルコール
類、ペンタエリスリトール、トリペンタエリスリトール
などの四価あるいはそれ以」二の多価アルコール類、多
価ヒドロキノカルボン酸類などが例示される。芳香族ポ
リヒドロキシ化合物としてはハイドロキノン、レゾルシ
ン、カテコール、ピロガロールなどがある。エポキシド
としてはトリメチロールプロパンボリグリンノルエーテ
ル、ペンタエリスリトールポリグリシジルエーテル、プ
ロピレングリコールジグリンジルエーテル、フタル酸の
ジグリンジルエステル、エピクロルヒドリンと2.2−
ビス(4−ヒドロキシフェニル)−プロパンとの反応物
などがある。多価カルボン酸としてはフタル酸、イソフ
タル酸、テレフタル酸、テトラクロルフタル酸、トリメ
リット酸、ピC1メリット酸、ベンゾフェノンジカルボ
ン酸、マレイン酸、フマル酸、マロン酸、ゲルタール酸
、アノピン酸、セバシン酸、テトラヒドロフタル酸など
がある。
Specific examples of unsaturated carboxylic acids include acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, and maleinoic acid. Aliphatic polyhydroquino compounds include ethylene glycol, diethlene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, neopentyl glycol, propylene glycol, dihydric alcohols such as 1,2-butanol, trimethylolethane, trimethylolpropane, and glycerol. Examples include trihydric alcohols such as, tetrahydric or dihydric alcohols such as pentaerythritol and tripentaerythritol, and polyhydric hydroquinocarboxylic acids. Examples of aromatic polyhydroxy compounds include hydroquinone, resorcinol, catechol, and pyrogallol. Epoxides include trimethylolpropane polyglycidyl ether, pentaerythritol polyglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, diglyndyl phthalic acid ester, epichlorohydrin and 2.2-
Examples include reactants with bis(4-hydroxyphenyl)-propane. Examples of polycarboxylic acids include phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, tetrachlorophthalic acid, trimellitic acid, piC1mellitic acid, benzophenone dicarboxylic acid, maleic acid, fumaric acid, malonic acid, geltaric acid, anopic acid, and sebacic acid. , tetrahydrophthalic acid, etc.

不飽和カルボン酸と脂肪族ポリヒドロキシ化合物とのエ
ステル、または不飽和カルボン酸と芳香族ポリヒドロキ
ン化合物とのエステルの代表的な例としては、上記脂肪
族ポリヒドロキシ化合物または芳香族ポリヒドロキシ化
合物のアクリル酸またはメタクリル酸のエステルが挙げ
られる。不飽和カルボン酸および多価カルボン酸と多価
ヒドロキノ化合物とのエステル化反応により得られるエ
ステルの代表的な例としては、以下に示す乙のが挙げら
れる。(ただし、Z″はアクリロイル基またはメタクリ
ロイル基である。)・ Z′−イ0C21Lデ「00CイC1!2大−COOイ
C2+1.0片Z′Z′−(OC2iI4÷r OOC
−C1l = Cll −CooイC211,0汁Z′
Z’  −QC,IL−00C−(C112)、−CO
O−Cll2Z’  −0Ct11.−00C−(C!
l、)4−COO−C11Z’ −0C2+1.−00
C−(Cll2)、−COO−Cll、      −
その池水発明に用いることができる二重結合含有化合物
の例としては、アクリルアミド、エチレンビスアクリル
アミド、ヘキサメチレンビスアクリルアミドなどのアク
リルアミド類、エチレンビスメタクリルアミド、ヘキサ
メチレンビスメタクリルアミドなどのメタクリルアミド
類、フタル酸ノアリル、マロン酸ジアリル、フマル酸ノ
アリル、トリアリルイソシアヌレ−1・などのアリルエ
ステル類などの二重結合含有化合物が挙げられる。
Typical examples of esters of unsaturated carboxylic acids and aliphatic polyhydroxy compounds, or esters of unsaturated carboxylic acids and aromatic polyhydroquine compounds include acrylic acids of the above aliphatic polyhydroxy compounds or aromatic polyhydroxy compounds. Or ester of methacrylic acid. Typical examples of esters obtained by the esterification reaction of unsaturated carboxylic acids and polyhydric carboxylic acids with polyhydroquino compounds include those shown below. (However, Z″ is an acryloyl group or a methacryloyl group.)
-C1l = Cll -Cooi C211,0 juice Z'
Z' -QC, IL-00C- (C112), -CO
O-Cll2Z'-0Ct11. -00C-(C!
l,)4-COO-C11Z'-0C2+1. -00
C-(Cll2), -COO-Cll, -
Examples of double bond-containing compounds that can be used in the pond water invention include acrylamide, acrylamides such as ethylenebisacrylamide and hexamethylenebisacrylamide, methacrylamides such as ethylenebismethacrylamide and hexamethylenebismethacrylamide, and phthalates. Examples include double bond-containing compounds such as allyl esters such as noallyl acid, diallyl malonate, noallyl fumarate, and triallylisocyanurate-1.

重合体としての二重結合含有化合物にあって、主鎖に二
重結合を何するものの例としては、不飽和二価カルボン
酸(例えばマレイン酸、フマル酸)とノヒドロキノ化合
物(例えば上記二価アルコール類)との重縮合反応によ
り得られるポリエステル、上記不飽和二価カルボン酸と
ジアミン(例えばエヂレノジアミン、ヘキザメヂレンジ
アミン)との重縮合反応により得られるポリアミドなど
が挙げられろ。側鎖に二重結合を有するものの例として
は、側鎖に二重結合をらっ二価カルボン酸(例えばイタ
コン酸、α−メチルイタフン酸、γ−メチルイタコン酸
、プロピリデンコハク酸、α−エヂリデンジグタル酸、
エチリデンマロン酸、プ[Jビリデンマロン酸)と上記
ジビトロキシ化合物との重縮合反応により得られろポリ
エステル、あるいは上記ジアミンとの重縮合反応により
得られるポリアミドが挙げられる。また、側鎖にヒドロ
キノ基やハロゲン化メチル塙の如き官能基をもつ重合体
とアクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸のような不飽
和カルボッ酸との高分子反応に上り得られろ重合体も使
用できる。なお、側鎖に官能基をもつ重合体としては、
ポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニルの部分ケン化物
、アクリロニトリルとスチレン、塩化ビニル、塩化ヒニ
リデンなととの共重合体、アクリロニトリルと酢酸ビニ
ルとの共重合体の完全ケン化物、2−ヒドロキンエチル
メタクリレートとアクリロニトリル、メチルメタクリレ
ート、ブチルメタクリレ−1・、スチレン、塩化ビニリ
デン、酢酸ビニルなどとの共重合体、ポリ(4−ヒドロ
キシスチレン)、ポリ(N−メチロールアクリルアミド
)などが挙げられる。
Among double bond-containing compounds as polymers, examples of compounds with double bonds in the main chain include unsaturated dihydric carboxylic acids (e.g., maleic acid, fumaric acid) and nohydroquino compounds (e.g., the dihydric alcohols mentioned above). Examples include polyesters obtained by a polycondensation reaction between the above-mentioned unsaturated dihydric carboxylic acids and diamines (eg, ethylenediamine, hexamethylenediamine), and the like. Examples of compounds with a double bond in the side chain include dicarboxylic acids with a double bond in the side chain (e.g. itaconic acid, α-methylitafunic acid, γ-methylitaconic acid, propylidenesuccinic acid, α-edithic acid). redenedigtaric acid,
Examples include polyesters obtained by a polycondensation reaction of ethylidenemalonic acid or p[Jpylidenemalonic acid) with the above-mentioned divitroxy compounds, and polyamides obtained by a polycondensation reaction with the above-mentioned diamines. In addition, polymers obtained by polymer reaction between polymers with functional groups such as hydroquino groups or methyl halide in their side chains and unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, and crotonic acid are also used. can. In addition, as a polymer having a functional group in the side chain,
Polyvinyl alcohol, partially saponified polyvinyl acetate, copolymer of acrylonitrile with styrene, vinyl chloride, hnylidene chloride, completely saponified copolymer of acrylonitrile and vinyl acetate, 2-hydroquinethyl methacrylate and acrylonitrile , methyl methacrylate, butyl methacrylate-1, copolymers with styrene, vinylidene chloride, vinyl acetate, poly(4-hydroxystyrene), poly(N-methylolacrylamide), and the like.

以上の二重結合含有化合物にあって、アクリル酸エステ
ル類またはメタクリル酸エステル類の単量体の使用が特
に好ましい。
Among the double bond-containing compounds mentioned above, it is particularly preferable to use monomers of acrylic esters or methacrylic esters.

本発明組成物にあっては、二重結合倉荷化合物1重量部
に対して、成分(a)を0.01〜0.2重量flL 
&T4ニジ<iio、02〜0.1重量部、成分(b)
および(C)の各々を0005〜02重量部、好ましく
は0.O1〜0.08重1部の割合で使用する。
In the composition of the present invention, component (a) is added in an amount of 0.01 to 0.2 weight flL per 1 part by weight of the double bond cargo compound.
&T4 Niji<iio, 02 to 0.1 parts by weight, component (b)
and (C), preferably 0.0005 to 0.02 parts by weight. It is used at a ratio of 1 to 0.08 parts by weight.

これらの3成分のいずれかの使用割合かそれぞれの下限
より少ないと、感光性が低下し当該組成物の不溶化に長
い時間を要することになる。また、上限よりも多くなる
と、当該組成物から形成されろ皮膜の強度や耐溶媒溶解
性などの低下を乙たらし、実用的用途に適さなくなる。
If the proportion of any of these three components used is less than the respective lower limit, the photosensitivity will decrease and it will take a long time to insolubilize the composition. Moreover, if the amount exceeds the upper limit, the strength and solvent solubility resistance of the filter film formed from the composition will deteriorate, making it unsuitable for practical use.

本発明組成物は、上述の二重結合自存化合物と成分(a
)(bXc)の組合わせからなる光重合開始剤・ぢ必須
成分とずろか、必要に応じて高分子結合剤、熱重合防止
剤、可塑剤、着色剤などを併用してよい。高分子結合剤
は相溶性、皮膜形成性、現像性、1妾i慣生など往々の
改Hr<−目的をイイするらのてあり、その目的に応じ
て適宜の種類のものを選択すればよい。例えば水系溶媒
による現像性改善には、アクリル酸(またはメタクリル
酸)とアクリル酸(またはメタクリル酸)アルキルエス
テル(例えばメチルエステル、エチルエステル、ブチル
エステル)との共重合体、イタコン酸共重合体、部分エ
ステル化マレイン酸共重合体、側鎖にカルボキシルj、
ξを有する酸性セルロース変性物、ポリエチレンオキシ
ド、ポリビニルピロリドンなどが1丁用であり、皮膜強
度、接着性の改善には、エビクコロヒドリンと2.2−
ビス(4−ヒドロキシフェニル)ブ[1パンとのポリエ
ーテル、ポリアミドなどが右″用である。熱重合防止剤
としては、例えばハイド【1キノン、p−メトキシフェ
ノール、ピロガロール、カテコール、2.6−ジーし一
ブヂルーp−クレゾール、β−ナフトールなどが有用で
ある。可wiIH剤としては、例えばノオクヂルフタレ
ート、ノドデンルフタレート、ジブチルフタレ−1・す
との″、シタル酸ノエステル、ジオクチルアジペート、
ノブチルアノベート、ジブチルセバケートなとの11旨
肪族二塩基酸エステルなどが有用である。着色剤として
は、例えばフタロシアニン系顔料、アゾ系顔料、カーボ
ンブラック、酸化チタンなどの顔料、トリフェニルメタ
ン系染料、アゾ系染料、アントラキノン系染料などが有
用である。
The composition of the present invention comprises the above-mentioned double bond naturally occurring compound and the component (a
In addition to the photopolymerization initiator consisting of the combination of (bXc), a polymeric binder, a thermal polymerization inhibitor, a plasticizer, a coloring agent, etc. may be used in combination as necessary. Polymer binders often meet various objectives, such as compatibility, film-forming properties, developability, and stability, and if an appropriate type is selected according to the purpose, good. For example, to improve developability with an aqueous solvent, copolymers of acrylic acid (or methacrylic acid) and acrylic acid (or methacrylic acid) alkyl esters (such as methyl ester, ethyl ester, butyl ester), itaconic acid copolymers, Partially esterified maleic acid copolymer, carboxyl j in the side chain,
Acidic cellulose modified products having ξ, polyethylene oxide, polyvinylpyrrolidone, etc. are used for one coat, and to improve film strength and adhesion, corohydrin and 2.2-
Polyethers, polyamides, etc. with bis(4-hydroxyphenyl)bu[1] are suitable for use.As thermal polymerization inhibitors, examples include hyde[1, p-methoxyphenol, pyrogallol, catechol, 2.6 - p-cresol, β-naphthol, etc. are useful. Examples of suitable IH agents include noocdylphthalate, nododenulphthalate, dibutyl phthalate, sitalic acid noester, and dioctyl adipate. ,
Useful examples include esters of 11 aliphatic dibasic acids such as butyl anovate and dibutyl sebacate. Useful colorants include, for example, phthalocyanine pigments, azo pigments, carbon black, titanium oxide pigments, triphenylmethane dyes, azo dyes, anthraquinone dyes, and the like.

本発明組成物は通常の方法で調製されてよい。The composition of the invention may be prepared in a conventional manner.

例えば上述の必須成分および任ひ成分をそのままらしく
は必要に応じて溶媒(例えばメチルエチルケトン、アセ
トン、シクロヘキサノンなどのケトノ系溶媒、酢酸エチ
ル、酢酸ブチルなどのエステル系溶媒、トルエン、キン
レンなどの芳香族系溶媒、メチルセロソルブ、エチルセ
ロソルブ、ブチルセロソルブなどのセロソルブ系溶媒、
メタノール、エタノール、プロパツールなどのアルコー
ル系溶媒、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエー
テル溶媒)を配合し、冷暗所にて例えばニーグーあるい
はミキサーを使用して混合することにより1凋製てきる
For example, if the above-mentioned essential components and optional components are used as they are, a solvent such as a ketone solvent such as methyl ethyl ketone, acetone, or cyclohexanone, an ester solvent such as ethyl acetate or butyl acetate, or an aromatic solvent such as toluene or quinolne is added as necessary. Solvents, cellosolve solvents such as methyl cellosolve, ethyl cellosolve, butyl cellosolve,
Alcohol solvents such as methanol, ethanol and propatool, and ether solvents such as tetrahydrofuran and dioxane) are blended and mixed in a cool, dark place using, for example, a niegu or a mixer to prepare the product for 1 hour.

1発明の効果] 本発明組成物による感光層は、当該組成物を通常の方法
に従い例えばバーコーターあるいはスピンナーにより支
持体上に塗布し、乾燥することにより形成することがで
きる。なお、形成されfこ感光層には、その表面保護と
酸素による感度低下などの悪影響を防止するための公知
技術が適用されてもよい。例えば感光層上に剥離可能な
透明カバーノートを設けたり、酸素透過性の小さいロウ
状物質、水溶性またはアルカリ可溶性ポリマーなどによ
る被覆層を設けることもてきる。
1. Effects of the Invention] A photosensitive layer based on the composition of the present invention can be formed by applying the composition onto a support according to a conventional method, for example, using a bar coater or a spinner, and drying it. Note that known techniques may be applied to the formed photosensitive layer to protect its surface and prevent adverse effects such as a decrease in sensitivity due to oxygen. For example, a removable transparent cover note may be provided on the photosensitive layer, or a coating layer made of a waxy material with low oxygen permeability, a water-soluble or alkali-soluble polymer, etc. may be provided.

上記感光層は、アルゴンイオンレーザ−、ヘリウムカド
玉つムレーザー、クリプトンレーザーなどのレーザーの
他、高圧水銀灯、低圧水銀灯、メタルハライドランプ、
キセノンランプ、タングステンランプなどの紫外線また
は可視光線を発生する汎用の光源を使用して不溶化する
ことができろ。
The photosensitive layer can be used for lasers such as argon ion laser, helium cadmium laser, krypton laser, high pressure mercury lamp, low pressure mercury lamp, metal halide lamp, etc.
Insolubilization can be achieved using a general-purpose light source that generates ultraviolet or visible light, such as a xenon lamp or tungsten lamp.

なお、光照射後の現象は、感光層の組成内容に応じ、未
露光の感光層を溶解させ得る適宜の現像液を使用して行
なえばよい。
Note that the phenomenon after light irradiation may be carried out using an appropriate developer capable of dissolving the unexposed photosensitive layer depending on the composition of the photosensitive layer.

このように本発明組成物は、紫外線〜可視光線、更に詳
しくは紫外線〜600nm600部む広、鞄な波長範囲
における光に対して高い感度を示すので、当該組成物の
用途性をより一層拡張することができる。しから、アル
ゴンイオンレーザ−光のような上記波長範囲の可視レー
ザー光に対して優れた感光性を示すので、従来のネガフ
ィルムなどを使用することなく、走査露光装置を用いて
画線の信号を直接的に本発明組成物を設けた披画線体、
例えば平版印刷版、プリント配線基板作製用レジスト、
ポログラムの母型作製用原版などに書き込むことができ
、その実用的効果は非常に大である。
As described above, the composition of the present invention exhibits high sensitivity to light in the wide wavelength range from ultraviolet rays to visible light, more specifically, from ultraviolet rays to 600 nm, which further expands the applicability of the composition. be able to. However, it exhibits excellent photosensitivity to visible laser light in the above wavelength range, such as argon ion laser light, so it can be used to print image signals using a scanning exposure device without using conventional negative film. a ray body directly provided with the composition of the present invention,
For example, lithographic printing plates, resists for producing printed wiring boards,
It can be written on a master plate for making a porogram matrix, and its practical effects are very large.

「実施例] 以下、本発明を実施例および比較例により具体的に説明
するが、本発明はこれら実施例に限定されるらのではな
い。
"Examples" The present invention will be specifically explained below using Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited to these Examples.

実意例1〜8および比較例1〜B 疋重合性イn成物の調製 メチルメタクリレート/メタクリル酸共重合体(三菱レ
ーヨン肚製r13R−77j、重工平均分子’1’t?
J70000 )  I 00fW<(重量部、以下同
様)をメチルエチルケトンt o o o ;lζに溶
解させた後、これにペンタエリスリトールトリアクリレ
ート 100部を溶解させて第1液を得た。
Practical Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to B Preparation of Polymerizable Ingredient Methyl methacrylate/methacrylic acid copolymer (r13R-77j manufactured by Mitsubishi Rayon Fu, heavy industry average molecular weight '1't?
J70000) I00fW< (parts by weight, the same applies hereinafter) was dissolved in methyl ethyl ketone, and then 100 parts of pentaerythritol triacrylate was dissolved therein to obtain a first liquid.

次に、第1表に示す割合て光重合開始剤(成分(a)〜
(C))をメチルセロソルブ300部に溶解させて第2
液とし、その各々の全量を第1液に加え、よく攪拌して
光重合性組成物の溶tgL(感光液)を得た。
Next, photopolymerization initiators (components (a) to
(C)) was dissolved in 300 parts of methyl cellosolve and a second
The total amount of each liquid was added to the first liquid and thoroughly stirred to obtain a molten tgL (photosensitive liquid) of the photopolymerizable composition.

感光層(試験板)の作成 アルミニウム支持体上にバーコーターを用いて塗布量が
乾燥時に2g/m2になるように上記感光液を塗布し、
60℃の乾燥器中で3分間乾燥した。
Preparation of photosensitive layer (test plate) The above photosensitive solution was coated on an aluminum support using a bar coater so that the coating amount was 2 g/m2 when dry.
It was dried for 3 minutes in a dryer at 60°C.

厚さ2.0μmの感光層が得られた。この感光層−にに
、バーコーターを用いて、5%ポリビニルアルコール(
ケン化度88%、重合度500)水溶液を厚さ2.0μ
岨こなるように塗布してオーバーコート層とした。
A photosensitive layer with a thickness of 2.0 μm was obtained. This photosensitive layer was coated with 5% polyvinyl alcohol (
saponification degree 88%, polymerization degree 500) aqueous solution to a thickness of 2.0μ
It was coated in a uniform manner to form an overcoat layer.

感度の測定 コダック社製ステップタブレットNo、2(21ステツ
プ)と上記試験板を重ね合わUo、キセノンランプ(ウ
シオ電機社製、150’#)の光から東芝KL−/19
フィルターを通して取り出した490部m前後の波長の
光(光強度4 、0 mW / cm’)をその上から
10秒間照射した。現像液(無水炭酸ナトリウム10重
量部、ブチルセロソルブ50部およびアニオン系活性剤
3部を水1000部に溶かしたしの)により現象して、
光硬化した段数に基づいて硬化に必要な露光エネルギー
を算出し、その値を「感度」とした。結果を第1表に示
す。
Measurement of Sensitivity The Kodak Step Tablet No. 2 (21 steps) and the above test plate were superimposed, and Toshiba KL-/19 was exposed to light from a xenon lamp (manufactured by Ushio Inc., 150'#).
Light with a wavelength of around 490 parts m (light intensity 4, 0 mW/cm') extracted through a filter was irradiated from above for 10 seconds. Developed with a developer (10 parts by weight of anhydrous sodium carbonate, 50 parts of butyl cellosolve and 3 parts of anionic activator dissolved in 1000 parts of water),
The exposure energy required for curing was calculated based on the number of photocured stages, and the value was defined as "sensitivity". The results are shown in Table 1.

アルゴンイオンレーザ−光による画像形成出力0.2W
のアルゴンイオンレーザ−光源から光学系を通してビー
ム径20μに集光したレーザー光(488部m)を変:
A器で変調しながら試験板上を円筒走査(1000rp
m、  600本/インチ)した。
Argon ion laser - image formation output by light 0.2W
A laser beam (488 parts m) focused from an argon ion laser light source through an optical system to a beam diameter of 20μ is changed:
Cylindrical scanning on the test plate while modulating with A device (1000 rpm
m, 600 lines/inch).

次にこれを前記の現像液で現象して「アルゴンイオンレ
ーザ−光による画像」を得た。その結果を第1表に示す
Next, this was developed using the developer described above to obtain an ``argon ion laser image''. The results are shown in Table 1.

(注) 成分a−1:前記一般式[冒においてA=S、X=1−
1.Y=C,Z=OC,I−(5、R’=C。
(Note) Component a-1: The above general formula [where A=S, X=1-
1. Y=C, Z=OC, I-(5, R'=C.

H5(フェニル)、R” = Hである化合物。H5 (phenyl), a compound where R''=H.

成分a−2:m記一般式[l]においてA=O1X−C
l 、 Y = N、 Z = O1R’=C,ll5
0(CH2)3、R2−N(C,R5)、である化合物
Component a-2: In general formula [l] m, A=O1X-C
l, Y = N, Z = O1R'=C, ll5
0(CH2)3, R2-N(C,R5).

成分b  l:ジフjニルヨードニウムのホウフッ化塩
Component bl: Borofluoride salt of diphnyliodonium.

成分b−2ニジーp−トリルヨードニウムのホウフッ化
塩。
Component b-2 Borofluoride salt of p-tolyliodonium.

成分c−1・N−フェニルグリシン。Ingredient c-1 N-phenylglycine.

成分c −2: t−リエタノールアミン。Component c-2: t-liethanolamine.

第1表の結果から明らかな如く、光正合開始剤として成
分(a)〜(C)の王者を組合わせて使用すると、その
内の王者の組合わせを採用する場合に比較して、3〜5
倍程度の高感度を示して、その実用性が高いことを示し
、また可視レーザー光に対して高い感光性を示すことが
認められろ。
As is clear from the results in Table 1, when a combination of components (a) to (C) is used as a photo-synthesis initiator, compared to a case where the combination of components (a) to (C) is used as a photo-synthesis initiator, the 5
It is recognized that the sensitivity is about twice as high, indicating its high practicality, and that it also exhibits high photosensitivity to visible laser light.

実施例9 実施例1におけるペンタエリスリトールトリアクリレー
ト100部の代わりにプロピレノグリコールジグリシジ
ルエーテル1モルにアクリル酸2モルを付加した化合物
100部を用いろ以外は、すべて実施例Iと同様にして
試験板の作成、感度の測定およびアルゴンイオンレーザ
−光による画像形成を行った。その結果、感度は0.6
mJ7cz’であり、アルゴンイオンレーザ−による画
像は実施例1で得られたものと同様に鮮明なものであっ
た。
Example 9 All tests were conducted in the same manner as in Example I, except that 100 parts of a compound obtained by adding 2 moles of acrylic acid to 1 mole of propylene glycol diglycidyl ether was used instead of 100 parts of pentaerythritol triacrylate in Example 1. A plate was prepared, sensitivity was measured, and an image was formed using argon ion laser light. As a result, the sensitivity is 0.6
mJ7cz', and the image obtained by the argon ion laser was as clear as that obtained in Example 1.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、エチレン性不飽和二重結合を有する付加重合可能な
化合物と光重合開始剤を含む光重合性組成物において、
該光重合開始剤が、 (a)下記一般式[ I ] ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、Aは酸素原子または硫黄原子、Xは水素原子ま
たはハロゲン原子、Yは炭素原子または窒素原子(ただ
し、Yが炭素原子である場合には隣接する炭素原子との
間(点線で示した箇所)は二重結合であり、Yが窒素原
子である場合には隣接する上記炭素原子との間は一重結
合である。)、Zは酸素原子(この場合隣接する炭素原
子との間は二重結合である。)、低級アルコキシ基また
は低級アルカノイルオキシ基、R^1は低級アルキル基
、ヒドロキシ低級アルキル基、低級アルコキシ低級アル
キル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基またはア
リール基、R^2は水素原子、低級アルコキシ基または
ジ低級アルキルアミノ基である。 なお、ZとR^1は両者合して−Z−R^1−として、
▲数式、化学式、表等があります▼ を表わすこともある。] で示される化合物、 (b)ジアリールヨードニウム塩、および (c)窒素原子のα位にメチレン基を有する化合物 の組合わせからなることを特徴とする光重合性組成物。 2、成分(c)がN−フェニルグリシン、トリエチルア
ミンおよびトリエタノールアミンからなる群から選ばれ
る上記第1項の組成物。
[Claims] 1. A photopolymerizable composition containing an addition polymerizable compound having an ethylenically unsaturated double bond and a photopolymerization initiator,
The photopolymerization initiator has the following general formula [I] ▲ Numerical formula, chemical formula, table, etc. ▼ [In the formula, A is an oxygen atom or a sulfur atom, X is a hydrogen atom or a halogen atom, and Y is a carbon atom. or a nitrogen atom (however, if Y is a carbon atom, there is a double bond between the adjacent carbon atoms (indicated by a dotted line), and if Y is a nitrogen atom, the adjacent carbon atom ), Z is an oxygen atom (in this case, there is a double bond between adjacent carbon atoms), a lower alkoxy group or a lower alkanoyloxy group, R^1 is a lower alkyl group , a hydroxy lower alkyl group, a lower alkoxy lower alkyl group, a di-lower alkylamino lower alkyl group or an aryl group, and R^2 is a hydrogen atom, a lower alkoxy group or a di-lower alkylamino group. In addition, Z and R^1 are both combined as -Z-R^1-,
▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ It can also be expressed. ] A photopolymerizable composition comprising a combination of a compound represented by (b) a diaryliodonium salt, and (c) a compound having a methylene group at the α-position of a nitrogen atom. 2. The composition of item 1 above, wherein component (c) is selected from the group consisting of N-phenylglycine, triethylamine and triethanolamine.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0315988A2 (en) * 1987-11-10 1989-05-17 Nippon Paint Co., Ltd. Photopolymerizable composition
JPH01238656A (en) * 1988-03-18 1989-09-22 Nippon Paint Co Ltd High sensitive photopolymerizable composition
JPH02238002A (en) * 1989-03-10 1990-09-20 Nippon Paint Co Ltd Photosensitive composition

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0315988A2 (en) * 1987-11-10 1989-05-17 Nippon Paint Co., Ltd. Photopolymerizable composition
JPH01238656A (en) * 1988-03-18 1989-09-22 Nippon Paint Co Ltd High sensitive photopolymerizable composition
JPH02238002A (en) * 1989-03-10 1990-09-20 Nippon Paint Co Ltd Photosensitive composition

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