JPS634201A - Antireflection film - Google Patents

Antireflection film

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JPS634201A
JPS634201A JP61147365A JP14736586A JPS634201A JP S634201 A JPS634201 A JP S634201A JP 61147365 A JP61147365 A JP 61147365A JP 14736586 A JP14736586 A JP 14736586A JP S634201 A JPS634201 A JP S634201A
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base material
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Katsuyoshi Takeshita
克義 竹下
Junji Kawashima
川嶋 淳史
Takeaki Iriyou
毅明 井領
Takao Mogami
最上 隆夫
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Abstract

PURPOSE:To obtain a preventive film having an excellent antireflection characteristic by providing an antireflection film consisting of two layers of thin films having the optical characteristics varying from a transparent base material toward the atm. side to at least part of the base material. CONSTITUTION:The antireflection film is constituted of two layers of the thin films; a high-refractive index thin film 11 and low-refractive index thin film 12, at the time of depositing said antireflection film on the surface of a plastic lens 13. The optical characteristic of the layer 11 in such constitution is specified to 1.55<na<2.25, 0.8Xmlambda0/4<nada<1.2Xmlambda0/4 and the optical characteristic of the layer 2 is specified to 1.35Xna<1.50, 0.8Xlambda0/4<nbdb<1.2Xlambda0/4, where na and nb are refractive indices, da and db are the film thickness expressed by nm, 1 and 2 are the design wavelength of nm unit in a visible wavelength region. na is the value larger than the refractive index of the base material. The essential component of the liquid compsn. is specified to the colloidal liquid prepd. by dispersing titanium oxide particles having 1-100mmu grain size in a solvent.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、透明基材上に施される反射防止膜に関する。[Detailed description of the invention] [Industrial application field] The present invention relates to an antireflection coating applied on a transparent substrate.

〔発明の概要〕[Summary of the invention]

本発明は、透明基材の表面反射を低減させるための反射
防止膜に関するものである。すなわち、透明基材の少な
くとも一部K、屈折率の異なる二層の薄膜を施すプロセ
スにおいて、特定の成分よりなる液状組成物を塗布した
のち硬化させることにより、形成させてなる反射防止膜
に関するものである。更に詳しくは、透明基材層よりも
高屈折率を有する薄膜を形成するための塗布液の必須条
件として、水または他の溶媒に分散した酸化チタン微粒
子のコロイド分散体と、特定の有機シラン化合物および
有機チタン化合物を用いることにより、すぐれた付着性
、硬度、耐薬品物、耐擦傷性、耐水性、染色性などの諸
物性を達成させたものである。
The present invention relates to an antireflection film for reducing surface reflection of a transparent substrate. In other words, it relates to an antireflection film formed by applying and curing a liquid composition made of specific components in a process of applying two thin films with different refractive indexes to at least part of a transparent substrate. It is. More specifically, a colloidal dispersion of titanium oxide fine particles dispersed in water or other solvent and a specific organosilane compound are essential conditions for the coating solution to form a thin film with a higher refractive index than the transparent base material layer. By using organic titanium compounds and organic titanium compounds, various physical properties such as excellent adhesion, hardness, chemical resistance, scratch resistance, water resistance, and dyeability are achieved.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

反射防止膜の理論とその積層法については、多くの方法
が提案されており、真空蒸着法により、金属酸化物や7
ツ化物等の薄膜を形成する方法やスパッタ蒸着、イオン
ブレーティング等のPVD法や各種のOVD技術が一般
的である。
Many methods have been proposed regarding the theory of anti-reflection coatings and their lamination methods.
Common methods include methods for forming thin films such as tsuride, PVD methods such as sputter deposition and ion blating, and various OVD techniques.

−方、これらの物理蒸着法以外に、液状で塗布し硬化さ
せることKよって反射防止膜を得る方法として、特開昭
58−46301号公報、特開昭60−23036号公
報には、二層からなる反射防止膜、特開昭559−49
5C号公報には三層からなる反射防止膜が提案されてい
る@これらの方法は、チタンアルコラードとコロイダル
シリカからなる組成物を高屈折率薄膜用材料に用い、シ
ランカップリング剤とエポキシ化合物およびコロイダル
シリカからなる組成物を低屈折率薄膜用材料に用いるこ
とにより反射防止効果を発現しているO また、特開昭57−37301号公報には、合成樹脂の
層からなる単層または多層の反射防止膜を施した合成樹
脂製レンズが提案されており、この方法では、高屈折率
薄膜用材料として、チタン、タンタル等のアルコラード
、メラミン樹脂等が用いられている。
- On the other hand, in addition to these physical vapor deposition methods, JP-A-58-46301 and JP-A-60-23036 disclose a two-layer method for obtaining an antireflection film by coating and curing in liquid form. Anti-reflection film consisting of JP-A-559-49
Publication No. 5C proposes an antireflection film consisting of three layers. @These methods use a composition consisting of titanium alcoholade and colloidal silica as a material for a high refractive index thin film, and a silane coupling agent and an epoxy compound. By using a composition consisting of colloidal silica and colloidal silica as a material for a low refractive index thin film, an antireflection effect is exhibited. A synthetic resin lens coated with an antireflection film has been proposed, and in this method, Alcolade such as titanium or tantalum, melamine resin, etc. are used as the material for the high refractive index thin film.

また、透明材料以外の基材上に反射防止膜を設ける例と
して、太陽電池の単結晶シリコンの表面に、テトライソ
プロポキシチタンを含む液状組成物を塗布、加熱し、分
解生成物として酸化チタンの薄膜を形成させ、単層の反
射防止効果を得る方法があろo (RCA、Revie
w、Vol、41 、ぬ2  、P  133〜180
(1980))〔発明が解決しようとする問題点〕 しかし、前述の従来技術の内、真空蒸着法、スパッタ蒸
着、イオンブレーティング、CVD法等による反射防止
薄膜の形成法は、 (1)  高度の真空度を要する為、処理すべき基材の
大きさ、材料に制限を生ずる。また製造時間が長くかか
り、生産性、経済性が低い◇ (2)  薄膜材料は、主として無機化合物であり、緻
密な硬い膜を構成する反面、柔軟性に劣り、基材との線
膨張率の違いがあると環境温度の変化によりクラックを
生じたり、成形物品を機械的に曲げた時にクラックを生
ずる。
In addition, as an example of providing an antireflection film on a substrate other than a transparent material, a liquid composition containing titanium tetraisopropoxy is applied to the surface of single crystal silicon of a solar cell and heated, and titanium oxide is produced as a decomposition product. There is a way to form a thin film and obtain the antireflection effect of a single layer (RCA, Revie
w, Vol, 41, Nu 2, P 133-180
(1980)) [Problems to be solved by the invention] However, among the above-mentioned conventional techniques, methods for forming antireflection thin films by vacuum evaporation, sputter evaporation, ion blating, CVD, etc. are: (1) highly sophisticated; Since this requires a degree of vacuum, there are restrictions on the size and material of the substrate to be treated. In addition, it takes a long time to manufacture, and the productivity and economic efficiency are low. If there is a difference, cracks may occur due to changes in environmental temperature or when the molded article is mechanically bent.

(3)薄膜材料が強固に付層する基材材料が非常に限定
され、合成樹脂板やフィルムに充分な付着性を得る事は
非常に困難である。
(3) The base material to which the thin film material is firmly attached is very limited, and it is very difficult to obtain sufficient adhesion to synthetic resin plates and films.

(4)染色、着色等の加工性に乏しい為、可視部に吸収
帯を持つ蒸着材料による着色に限定される。
(4) Due to poor processability such as dyeing and coloring, coloring is limited to vapor deposition materials that have an absorption band in the visible region.

また、反射防止加工後の染色は不可能である。Furthermore, dyeing after anti-reflection treatment is not possible.

等の問題点を有する。It has the following problems.

また、特開昭58−46501号公報、特開昭60−2
5056号公報における二層からなる反射防止膜、さら
には特開昭59−49501号公報における三層からな
る反射防止膜の形成方法では、チタンの了ルコラート化
合物、キレート化合物等の有機チタン化合物か高屈折率
薄膜用材料として用いられているが、これらのチタン化
合物は完全に縮重合させるためには、通常350℃以上
に加熱する必要があり、実施例中の硬化温度では、完全
に友応させることは困難で、未反応了ルフラートの残存
によると推定されるが、得られた膜の付着性、耐水性、
耐擦傷性などの耐久性に劣るという問題点を有する。ま
た、他の金属アルコラードを用いて薄膜を形成する方法
においても、薄膜の中に未反応の一〇H基、−OR基が
残存するため、特に耐水性の点で問題がある。このため
、太陽電池に用いられる単結晶シリコンや、無機ガラス
等の熱安定性を有する基材であれば、高温加熱が可能で
あり、膜の耐久性の問題を解決することができるが、プ
ラスチック等の熱可塑性樹脂の゛場合には、塗布基材と
して制限を生じるため、金属アルコラードの使用か困難
である〇 また、特開昭57−57501号公報の実施例に開示さ
れた方法では、反射防止効果が充分でなく、また耐水性
も充分ではないという問題点を有する。
Also, JP-A-58-46501, JP-A-60-2
In the method for forming a two-layer antireflection film in JP-A No. 5056, and a three-layer antireflection film in JP-A-59-49501, organic titanium compounds such as titanium tricholate compounds and chelate compounds or high These titanium compounds are used as materials for refractive index thin films, but in order to completely condensate and polymerize these titanium compounds, it is usually necessary to heat them to 350°C or higher, and at the curing temperature in the example, complete condensation cannot be achieved. Although this is difficult and is presumed to be due to residual unreacted sulfurate, the resulting film has poor adhesion, water resistance,
It has the problem of poor durability such as scratch resistance. Further, in the method of forming a thin film using other metal alcolades, unreacted 10H groups and -OR groups remain in the thin film, which causes problems particularly in terms of water resistance. For this reason, thermally stable base materials such as single-crystal silicon used in solar cells and inorganic glass can be heated to high temperatures and solve the problem of film durability, but plastics In the case of thermoplastic resins such as, it is difficult to use metal alcolade due to limitations as a coating base material.Furthermore, in the method disclosed in the example of JP-A-57-57501, it is difficult to use reflective There are problems in that the preventive effect is not sufficient and the water resistance is also not sufficient.

そこで、本発明は、このような問題点を解決するもので
、その目的とするところは、優れた反射防止特性を有し
、付着性、硬度、耐薬品性、耐擦傷性、耐水性、染色性
の優れた二層からなる反射防止膜を提供することにある
Therefore, the present invention aims to solve these problems, and aims to have excellent anti-reflection properties, adhesion, hardness, chemical resistance, scratch resistance, water resistance, and dyeing resistance. An object of the present invention is to provide an antireflection film consisting of two layers with excellent properties.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

本発明の反射防止膜は、 α)透明基材の少なくとも一部に、該基材から大気側に
向かって、■、Oの二層の薄膜からなる反射防止膜を施
すにあたり、 b)[イ]、[ロ]の二層の光学特性 は、各々■ 155<n<2.25 α8×讐λ。< n a d’ < t2 X トロ@
  t 55 < n b< t 5008×−λo 
(n 、 d b < t 2 X aλ。
The anti-reflection film of the present invention includes the following steps: α) When applying an anti-reflection film consisting of two thin films of (i) and O to at least a portion of a transparent base material from the base material toward the atmosphere, b) [i] The optical properties of the two layers of ] and [b] are as follows: 155<n<2.25 α8×λ. < na d'< t2 X Toro@
t 55 < n b < t 5008×-λo
(n, d b < t 2 X aλ.

(ここで、n a ’i n Bは各々、[イ]層、[
ロ]層の屈折率、d、、d、は各々、[イ]層、[ロ]
層の膜厚(nm単位)を表わし、mは1または2、R0
は可視波長領域にあける設計波長(nm単位)を表わす
・また、n、〉(基材の屈折率)である。)の条件を満
たし、 C)[イ]層、[ロ]層の各薄膜は、各々、液状で塗布
し、加熱・乾燥或いは活性エネルギー線による硬化で得
られ、 d)さらに・0層を形成するための液状組成物の主成分
は、 1)粒径1〜100ynμの、水または他の溶媒に分散
した酸化チタン微粒子のコロイド分散体。
(Here, n a 'i n B are [A] layer, [
The refractive indexes, d, and d of the [b] layer and [b] layer are respectively
Represents the thickness of the layer (in nm), m is 1 or 2, R0
represents the design wavelength (in nanometer units) in the visible wavelength region, and n is the refractive index of the base material. ), C) Each of the thin films of the [a] layer and the [b] layer is applied in liquid form and obtained by heating and drying or curing with active energy rays, and d) Further, the layer 0 is formed. The main components of the liquid composition for this purpose are: 1) A colloidal dispersion of fine titanium oxide particles having a particle size of 1 to 100 ynμ dispersed in water or other solvent.

(但しR1はアルキル基、アルケニル基、フェニル基、
ハロゲン基等、またR2は、エポキシ基、了ミノ基、ア
ミド基、メルカプト基、メタクリロイルオキシ基、シア
ノ基、核ハロゲン化芳香環を有する基等を含む有機基を
示し、Xは、ハロゲン基、アルコキシル基、アルコキシ
アルコキシル基、了シルオキシ基等の加水分解可能な基
を示す@また、asbは各々0.1または2で、a+b
が1ないし5である。) で表わされるシランカップリング剤。
(However, R1 is an alkyl group, an alkenyl group, a phenyl group,
halogen group, etc., and R2 represents an organic group including an epoxy group, a ryomino group, an amide group, a mercapto group, a methacryloyloxy group, a cyano group, a group having a nuclear halogenated aromatic ring, etc., and X represents a halogen group, Indicates a hydrolyzable group such as an alkoxyl group, an alkoxyalkoxyl group, and a ryosyloxy group.
is 1 to 5. ) A silane coupling agent represented by

(OR3)0 (但し、R3は水素または、炭素数1〜6の炭化水素。(OR3)0 (However, R3 is hydrogen or a hydrocarbon having 1 to 6 carbon atoms.

R4は、少なくとも一個のカルボン酸を有する有機基◇
Cは、1.2または5である。)で表わされる、チタン
のヒドロキシ酸配位化合物0 で示される化合物を一種以上を含み、且つ、薄膜とした
とき、1)が99〜90重量%、目)が9、9〜90重
量%、111)か0.1〜20重量%であることを特徴
とする。
R4 is an organic group having at least one carboxylic acid ◇
C is 1.2 or 5. ) is a titanium hydroxy acid coordination compound 0 When formed into a thin film, 1) is 99 to 90% by weight, 2) is 9.9 to 90% by weight, 111) or 0.1 to 20% by weight.

ここで、透明基材とは、ガラス成形物をはじめ、PMM
Aやポリカーボネート、ポリエチレンテレ、7タレート
、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート樹脂、
ポリスチレン、核置換フェニル基を分子内に有する高屈
折率樹脂、アリル樹脂等の光学用途に用いられている合
成樹脂成形物品であり、その形状は、フィルム、パネル
、レンズ、シート、その他任意の物品に加工したものを
用いることができる。これらの基材は、そのままで、或
いは必要に応じて表面を変性させて、反射防止薄膜との
付着性を向上させることが可能である。
Here, the transparent base material includes glass molded products, PMM
A, polycarbonate, polyethylene tele, 7 tallate, diethylene glycol bisallyl carbonate resin,
Synthetic resin molded articles used for optical purposes such as polystyrene, high refractive index resins having nuclear-substituted phenyl groups in the molecule, allyl resins, etc., and can be shaped into films, panels, lenses, sheets, and other arbitrary articles. A processed product can be used. These base materials can be used as they are, or their surfaces can be modified as necessary to improve adhesion to the antireflection thin film.

この表面処理の方法として、アルカリ性溶液或いは酸化
力のある強酸による処理(%公昭58−13784号公
報等)、オゾンによる処理(USF5227605号)
、電荷を負荷した火炎による処理(特開昭48−848
79号公報)、プラズマガスによる処理(4?開昭55
−137269号公報)、酸化剤と還化剤による処理(
特開昭48−81966号公報)、ポリエチレングリフ
ールを含むアルカリ金属溶液による処理(特願昭59−
119682号)、その他、コロナ放電、スパッタリン
グ、紫外線や電子線、放射線等の活性電磁波照射等の例
を挙げることができ、基材の材質や表面の状態により、
公知の表面処理を施して使用することができる。
As methods for this surface treatment, treatment with an alkaline solution or strong acid with oxidizing power (% Publication No. 58-13784, etc.), treatment with ozone (USF No. 5227605)
, Treatment with charged flame (Japanese Patent Application Laid-Open No. 48-848
No. 79), treatment with plasma gas (4?
-137269), treatment with an oxidizing agent and a reducing agent (
JP-A-48-81966), treatment with an alkali metal solution containing polyethylene glyfur (Japanese Patent Application No. 59-81)
119682), other examples include corona discharge, sputtering, and irradiation with active electromagnetic waves such as ultraviolet rays, electron beams, and radiation.Depending on the material and surface condition of the base material,
It can be used after being subjected to known surface treatment.

また、基材が合成樹脂のように比較的傷つき易い場合、
耐摩耗性を向上させる為、予め、耐摩耗性の硬化被膜を
施し、その上に反射防止薄膜を積層することができる。
In addition, if the base material is relatively easily damaged such as synthetic resin,
In order to improve abrasion resistance, a wear-resistant hardened coating can be applied in advance, and an antireflection thin film can be laminated thereon.

これらの方法としては、例えば、特願昭59−1060
92号や、特開昭59−231501号公報等に示され
た表面硬化被膜を形成する方法がある。また着色膜や調
光性能を有する被膜を有する光学基材(特開昭59−4
6625号公報)を用いることもできる。
These methods include, for example, Japanese Patent Application No. 59-1060.
There are methods of forming a surface hardening film as disclosed in No. 92 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 59-231501. Optical substrates with colored films or films with light control performance (Japanese Unexamined Patent Publication No. 59-4
6625) can also be used.

本発明においては、反射防止膜として屈折率の相異なる
0層および0層の薄膜を透明基材上に形成するわけであ
るが、薄膜の光学機能は、それぞれの薄膜を形成するた
めの液状組成物およびその塗布法、硬化法により、各薄
膜の光学特性が決定付けられる。
In the present invention, a 0 layer and a 0 layer thin film having different refractive indexes are formed on a transparent substrate as an antireflection film, and the optical function of the thin film depends on the liquid composition used to form each thin film. The material and its coating and curing methods determine the optical properties of each thin film.

本発明における0層を形成する為の液状組成物としては
、溶媒にシリカ徽粒子を分散させたコロイダルンリカ、
有機残基を有するシラン化合物やその加水分解縮合物、
天然樹脂、合成樹脂等の高分子、重合性単量体、熱硬化
反応型単量体等の反応性化合物から選ばれる少なくとも
1成分からなるもので、さらに透明基材より高屈折率を
有する0層を形成するための液状組成物は、上記化合物
から選ばれる少なくとも1種の他に水または他の溶媒に
分散した酸化チタン微粒子のコロイド分散体及び、チタ
ン有機化合物より構成されるものである。
In the present invention, the liquid composition for forming the zero layer includes colloidal silica in which silica particles are dispersed in a solvent;
Silane compounds having organic residues and their hydrolyzed condensates,
It consists of at least one component selected from polymers such as natural resins and synthetic resins, and reactive compounds such as polymerizable monomers and thermosetting reactive monomers, and also has a refractive index higher than that of the transparent base material. The liquid composition for forming the layer is composed of at least one selected from the above compounds, a colloidal dispersion of titanium oxide fine particles dispersed in water or another solvent, and a titanium organic compound.

そこで、0層を形成するための液状組成物の主成分であ
る酸化チタン微粒子とは、水または他の溶媒に分散した
、粒径1〜100mμの酸化チタン微粒子のコロイド分
散体が好適である。酸化チタン微粒子の主な目的は、二
層系の反射防止膜における高屈折率を有する薄膜を得る
ためである。
Therefore, the titanium oxide fine particles which are the main component of the liquid composition for forming the zero layer are preferably colloidal dispersions of titanium oxide fine particles having a particle size of 1 to 100 mμ dispersed in water or other solvent. The main purpose of the titanium oxide fine particles is to obtain a thin film having a high refractive index in a two-layer antireflection film.

この酸化チタン微粒子の粒径は、1〜100mμのもの
が使用されるが、より好ましくは、5〜50mμの粒径
のものが用いられる。即ち粒径が、100mμ以上にな
ると可視領域における光の波長との兼ね合いで、硬化後
の薄膜が白濁または着色を生じ、透明材料の反射防止膜
として不適当となるためである。また、粒径が1mμ以
下であると、硬化後の薄膜硬度が不充分であり膜の耐久
性に劣る。
The titanium oxide fine particles used have a particle size of 1 to 100 mμ, more preferably a particle size of 5 to 50 mμ. That is, if the particle size is 100 mμ or more, the thin film after curing becomes cloudy or colored due to the wavelength of light in the visible region, making it unsuitable as an antireflection film for transparent materials. Furthermore, if the particle size is less than 1 mμ, the hardness of the thin film after curing will be insufficient and the durability of the film will be poor.

また、酸化チタン微粒子の分散媒としては、水の他、メ
タノール、エタノール、イソプロピルアルコール、メチ
ルセロソルブ等のアルコール系分散媒、酢酸、プロピオ
ン酸、酪酸などのカルボン酸等が使用される。また、水
を分散媒とした場合は、金属酸化物微゛粒子を酢酸、硝
酸、硫酸、有機酸(シュウ酸、酒石酸、リンゴ識、クエ
ン駿、アミノ酸等)等で安定化させたものを用いること
もできる。
In addition to water, alcohol dispersion media such as methanol, ethanol, isopropyl alcohol, and methyl cellosolve, and carboxylic acids such as acetic acid, propionic acid, and butyric acid are used as dispersion media for the titanium oxide fine particles. In addition, when water is used as a dispersion medium, metal oxide fine particles stabilized with acetic acid, nitric acid, sulfuric acid, organic acids (oxalic acid, tartaric acid, apple acid, citric acid, amino acids, etc.) are used. You can also do that.

この酸化チタン微粒子は、の層中に99〜90重量%含
まれることが必要であるが、これは酸化チタン徽粒子の
含有量が9.9重量%未満であると、反射防止薄膜とし
て要求される所望の屈折率が得られ難いためであり、ま
た90重量%以上であると、薄膜にクラックが入るため
である。
The titanium oxide fine particles must be contained in the layer in an amount of 99 to 90% by weight; however, if the content of the titanium oxide particles is less than 9.9% by weight, it is not required as an antireflection thin film. This is because it is difficult to obtain a desired refractive index, and if the content exceeds 90% by weight, cracks will occur in the thin film.

酸化チタン微粒子は、高屈折率で且つ充分な硬さを有す
る薄膜を得る為の不可欠な成分である。
Titanium oxide fine particles are an essential component for obtaining a thin film with a high refractive index and sufficient hardness.

H% で表わされるシランカップリング剤は、R’がアルキル
基、アルケニル基、フェニル基、ハロゲン基等、また、
R2は、エポキシ基、アミノ基、アミド基、メルカプト
基、メタクリロイルオキシ基、シアノ基、核ハロゲン化
芳香環を有する基等を含む有機基を示し、又は、ハロゲ
ン基・アシルオキシ基、アルコキシアルコキシル基、了
シルオキシ基等の加水分解可能な基を示す。また、1.
bは、各々0.1または2で、a + bが1ないし5
である。これらの化合物の例としては、テトラメトキシ
シラン等の四官能シラン、メチルトリメトキシシラン、
メチルトリエトキシシラン、r−クロロプロピルトリメ
トキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、γ−メタク
リロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、β−(5
,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシ
ラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、
γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、r−アミ
ノプロピルトリメトキンシラン、N−β−(アミノエチ
ル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−ウ
レイドプロピルトリメトキシシラン、γ−シアノプロピ
ルトリメトキシシラン、γ−モル7オリノブロビルトリ
メトキシンラン、N−7二二ルアミノプロビルトリメト
キシシラン等の三官能シラン、前記三官能シランの一部
がメチル基、エチル基、ビニル基に置換した三官能シラ
ン等が挙げられる。また、これらの加水分解物、部分縮
合物等も同等の性質を有する。
The silane coupling agent represented by H% is such that R' is an alkyl group, an alkenyl group, a phenyl group, a halogen group, etc.
R2 represents an organic group including an epoxy group, an amino group, an amide group, a mercapto group, a methacryloyloxy group, a cyano group, a group having a nuclear halogenated aromatic ring, or a halogen group, an acyloxy group, an alkoxyalkoxyl group, Indicates a hydrolyzable group such as a siloxy group. Also, 1.
b is each 0.1 or 2, and a + b is 1 to 5
It is. Examples of these compounds include tetrafunctional silanes such as tetramethoxysilane, methyltrimethoxysilane,
Methyltriethoxysilane, r-chloropropyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, γ-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane, β-(5
, 4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane,
γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, r-aminopropyltrimethoxysilane, N-β-(aminoethyl)-γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-ureidopropyltrimethoxysilane, γ-cyanopropyltrimethoxysilane, γ - Trifunctional silane such as mol 7 olinobrobyltrimethoxysilane, N-7 2-22 aminopropyl trimethoxysilane, trifunctional silane in which a part of the above trifunctional silane is substituted with a methyl group, ethyl group, or vinyl group etc. Moreover, these hydrolysates, partial condensates, etc. also have similar properties.

このシラン化合物は、0層中に99〜909〜90重量
%含とが必要であるが、これは、シラン化合物の含有量
が、99重重量未満であると、薄膜にクラックが入るた
めであり、また90重量%以上であると、反射防止薄膜
として要求される所望の屈折率が得られ難いためである
This silane compound needs to be contained in the 0 layer in an amount of 99 to 909 to 90% by weight. This is because if the content of the silane compound is less than 99% by weight, cracks will occur in the thin film. Moreover, if the content is 90% by weight or more, it is difficult to obtain the desired refractive index required for an antireflection thin film.

このシラン化合物は、薄膜の硬さ、強靭さを出すための
、不可欠な成分である。
This silane compound is an essential component for providing hardness and toughness to thin films.

次に、チタン有機化合物としては、−般式%式%) で表わされるチタンのヒドロキシ酸配位化合物がある。Next, as a titanium organic compound, - general formula % formula %) There is a titanium hydroxy acid coordination compound represented by

ここでR3は水素または、炭素数1〜6の炭化水素、R
4は少なくとも一個のカルボン酸を有する有機基を示す
。また、Oは、1.2または3である。これらの化合物
の例としては、グリコール酸、乳酸、グリセリン酸、リ
ンゴ酸、酒石酸、クエン酸、グリオキシル酸、ピルビン
酸、アセト酢酸等が配位しているチタン有機化合物が挙
げられる。
Here, R3 is hydrogen or a hydrocarbon having 1 to 6 carbon atoms, R
4 represents an organic group having at least one carboxylic acid. Further, O is 1.2 or 3. Examples of these compounds include titanium organic compounds coordinated with glycolic acid, lactic acid, glyceric acid, malic acid, tartaric acid, citric acid, glyoxylic acid, pyruvic acid, acetoacetic acid, and the like.

このチタン有機化合物は、0層中に、α1〜201〜2
0重量%含とが好ましい。更に好ましくは、1〜10重
量%含んで用いられるが、これは、チタン有機化合物の
含有量が、α1重量%未満または、20重量%以上では
、薄膜に充分な硬さを与えることができないためである
This titanium organic compound is present in the 0 layer with α1-201-2
Preferably, it contains 0% by weight. More preferably, it is used in a content of 1 to 10% by weight, but this is because if the content of the titanium organic compound is less than 1% by weight or more than 20% by weight, sufficient hardness cannot be imparted to the thin film. It is.

このチタン有機化合物は、充分な硬さを有する薄膜を得
るための不可欠な成分である。
This titanium organic compound is an essential component for obtaining a thin film with sufficient hardness.

次に、0層を形成する成分としては、前記有機シラン化
合物、コロイダルシリカ、エポキシ化合物、硬化触媒等
の他に、特に低屈折率層を形成させるAK、パーフルオ
ロアルキル基を含む官能シラン化合物が挙げられる。
Next, as components for forming the 0 layer, in addition to the organic silane compound, colloidal silica, epoxy compound, curing catalyst, etc., there are also functional silane compounds containing AK and perfluoroalkyl groups that form a low refractive index layer. Can be mentioned.

ここで、コロイダルシリカとしては、粒径1〜100m
μのシリカ微粒子を含むものが、所望の硬さ及び透明性
を得る上で好適であり、メタノール、エタノール、イソ
プロピルアルコール等ヲ分散媒とした公知のものを使用
することができる。
Here, the colloidal silica has a particle size of 1 to 100 m.
A material containing μ silica fine particles is suitable for obtaining the desired hardness and transparency, and known dispersion media such as methanol, ethanol, isopropyl alcohol, etc. can be used.

このコロイダルシリカは、低屈折率で且つ充分な硬さを
有する薄膜を得るための有用な成分である。
This colloidal silica is a useful component for obtaining a thin film having a low refractive index and sufficient hardness.

次にエポキシ化合物としては、(ポリ)エチレングリコ
ール、(ポリ)プロピレングリコール、ネオペンチルグ
リコール、カテコール、レゾルシノール、アルキレング
リコールなどの二官能性アルコールのジグリシジルエー
テル、またはグリセリン、トリメチロールプロパンなど
の三官能性アルコールのジまたはトリガリシジルエーテ
ルなどがあげられる◇ 一般に、シラノールあるいはエポキシ基の硬化触媒とし
ては、以下のようなものがあるO九−ブチルアミン、ト
リエチルアミン、グアニジン、ビグアニドなどのアミン
、グリシンなどのアミノ酸や、アルミニウムアセチルア
セトネート、クロム了セチルアセトネート、チタニアア
セチルアセトネート、コバルトアセチルアセトネートな
どの金属アセチルアセトネートや、酢酸す) IJ ラ
ム、ナフテン酸亜鉛、ナフテン酸コバルト、オクチル酸
亜鉛、オクチル酸スズなどの有機酸金属塩や、5nCf
i4% AfiCffi8、Fool、、T i OA
、、Zn0Q□、5bai3などのルイス酸、などがあ
るが、あらゆる特性について過塩素酸マグネシウムか、
優れている。
Epoxy compounds include diglycidyl ethers of difunctional alcohols such as (poly)ethylene glycol, (poly)propylene glycol, neopentyl glycol, catechol, resorcinol, and alkylene glycol, or trifunctional alcohols such as glycerin and trimethylolpropane. ◇ In general, curing catalysts for silanol or epoxy groups include the following: O-9-butylamine, triethylamine, guanidine, biguanide, and other amines; glycine and other curing catalysts. Amino acids, metal acetylacetonates such as aluminum acetylacetonate, chromium acetylacetonate, titania acetylacetonate, cobalt acetylacetonate, acetic acid) IJ ram, zinc naphthenate, cobalt naphthenate, zinc octylate, octyl Organic acid metal salts such as acid tin, 5nCf
i4% AfiCffi8, Fool,, T i OA
,, Lewis acids such as Zn0Q□, 5bai3, etc., but regarding all the characteristics, magnesium perchlorate,
Are better.

本発明における液状組成分は、上記の薄膜形成物の他に
塗布作業性の問題を考慮して、適当な溶剤が加えられる
。溶剤としては、アルコール類、ケトン類、七ロソルプ
類、ホルムアミド類、水、7レオン等の溶剤を用いて、
1〜20重量%の固形分を含む溶液が好適であるが、必
ずしも限定されるものではない。
In addition to the above-mentioned thin film forming material, an appropriate solvent is added to the liquid composition in the present invention, taking into consideration the problem of coating workability. As a solvent, using a solvent such as alcohols, ketones, heptarosols, formamides, water, or 7 leone,
Solutions containing 1 to 20% solids by weight are preferred, but not necessarily limited.

また、界面活性剤や紫外線吸収剤、酸化防止剤、チキソ
トロピー剤、顔料、染料、帯電防止剤、導電性粒子等を
加えることもできる。
Further, surfactants, ultraviolet absorbers, antioxidants, thixotropic agents, pigments, dyes, antistatic agents, conductive particles, etc. can also be added.

このようにして得られた組成物は、公知の方法で塗布、
硬化させることによりて塗膜を形成させる◎即ち、70
−フート、デイツプコート、スピンコード、ロールコー
ト、スプレー:I−)お!び各種の改善された塗布方法
を用いることができる0また、乾燥と硬化は、用いる成
分によって決められるが、好ましくは40℃〜130℃
で、10分〜10時間の加熱による硬化が実用的である
The composition thus obtained is applied by a known method,
Form a coating film by curing ◎ That is, 70
-Foot, dip coat, spin cord, roll coat, spray: I-) Oh! Drying and curing are determined by the ingredients used, but preferably from 40°C to 130°C.
Therefore, curing by heating for 10 minutes to 10 hours is practical.

また、用いた成分中の度応基の架橋、重合反応を促進す
る為、赤外線、紫外線や、γ線、電子線の照射を行うこ
とによっても硬化を行うことができる。
Further, in order to promote crosslinking and polymerization reactions of reactive groups in the components used, curing can also be carried out by irradiation with infrared rays, ultraviolet rays, gamma rays, or electron beams.

本発明における反射防止薄膜の屈折率は、基材から第1
層、第2層の屈折率がそれぞれ155〜2.55、およ
び135〜150であり、第1層の屈折率は、基材の屈
折率より高いものを選択する必要があり、また、第2層
は、屈折率が小さければ小さい程、優れた反射防止特性
を示すQ−方、膜厚は溶剤或いはコーティング法で調整
することにより任意の値に設定出来る為、屈折率の組合
せに応じた任意の膜厚の組合せから選択するが、特に各
層の光学膜厚は、0層については、設計波長の四分の−
または二分の一1■層については、設計波長の四分の−
が好ましい・以上のように得られた薄膜を有する物品は
、分散染料により染色可能である。
The refractive index of the antireflection thin film in the present invention is the first
The refractive index of the layer and the second layer are 155 to 2.55 and 135 to 150, respectively, and the refractive index of the first layer must be selected to be higher than the refractive index of the base material. The smaller the refractive index of the layer, the better the anti-reflection properties.The film thickness can be set to any value by adjusting it with a solvent or coating method, so it can be used as desired depending on the combination of refractive indexes. In particular, the optical thickness of each layer is selected from combinations of film thicknesses of
or for a 1/2 layer, - a quarter of the design wavelength.
It is preferable that the article having the thin film obtained as described above can be dyed with a disperse dye.

〔実施例〕〔Example〕

以下、実施例により本発明の詳細な説明するが、本発明
はこれに限定されるものではない。
Hereinafter, the present invention will be explained in detail with reference to Examples, but the present invention is not limited thereto.

実施例t (1)高屈折率用コーテイング液(A1)の調製反応用
フラスコ内に、イソプロピルアルコール206.28?
、r−グリシドキシプロビルトリメトキシシラン5.1
9 F、α05N塩酸水t42?を加え、室温下1時間
攪拌し、加水分解を行なった0 その後、上記混合物に水を分散媒とする酸化チタン微粒
子のコロイド分散体(平均粒子径12±1渭μ、酸化チ
タン含有量10%)56.56”?を加え攪拌下、ジヒ
ドロキシビス(タートレート)チタン0.75 ?およ
びシリコン系界面活性剤0.02fをこの順に加え、室
温下1時間攪拌を行ない、コーテイング液とした。この
コーテイング液の粘度は、2.4センチストークス(2
0℃)、固型分濃度は、3.2重量%であった。
Example t (1) Preparation of coating liquid for high refractive index (A1) In a reaction flask, add 206.28% of isopropyl alcohol.
, r-glycidoxypropyltrimethoxysilane 5.1
9 F, α05N hydrochloric acid water t42? was added and stirred at room temperature for 1 hour to perform hydrolysis. Thereafter, a colloidal dispersion of titanium oxide fine particles using water as a dispersion medium (average particle diameter 12 ± 1μ, titanium oxide content 10%) was added to the above mixture. ) 56.56"? and stirring, 0.75" dihydroxybis(tartrate) titanium and 0.02f silicone surfactant were added in this order and stirred at room temperature for 1 hour to prepare a coating liquid. The viscosity of the coating liquid is 2.4 centistokes (2
0° C.), and the solid content concentration was 3.2% by weight.

(2)  低屈折率用コーテイング液(A2)の調製反
応用フラスコ内に、イソプロパツール232゜521を
入れ、攪拌下、メチルトリエトキシシラン(KBm−1
5、信越化学■製) 34.05 P、0、05 N塩
酸水12.41 ?を加え、室温下1時間攪拌を行なっ
た。
(2) Preparation of coating liquid for low refractive index (A2) Place isopropanol 232°521 into a reaction flask, and add methyltriethoxysilane (KBm-1) with stirring.
5, Shin-Etsu Chemical ■) 34.05 P, 0, 05 N hydrochloric acid water 12.41 ? was added and stirred at room temperature for 1 hour.

この後、メタノール分散コロイダルシリカ(メタノール
シリカゾル、日産化学婦製、固形分濃度30%)2tO
OPを加え、室温で30分間攪拌を行なった・その後、
シリコン系界面活性剤を加えた。このコーテイング液の
粘度は、14センチストークス(20℃)、固型分濃度
は、6.3重量%であった。
After this, methanol-dispersed colloidal silica (methanol silica sol, manufactured by Nissan Chemical, solid content concentration 30%) 2tO
OP was added and stirred at room temperature for 30 minutes. Then,
Added silicone surfactant. The viscosity of this coating liquid was 14 centistokes (20° C.), and the solid content concentration was 6.3% by weight.

尚、上記コーテイング液(A1)、(A2)は、液調製
後、各々・メンブランフィルタ−により濾過を行ない、
巨大粒子や不溶分を除去した。
In addition, the above coating liquids (A1) and (A2) are each filtered with a membrane filter after liquid preparation.
Large particles and insoluble matter were removed.

(3)反射防止膜の塗布及び硬化 5%水酸化す) IJウム水溶液中に5分間浸漬し、ア
ルカリ処理を施したジエチレングリコールビスアリルカ
ーボネート樹脂製プラ/レンズ(厚さ0.2備、屈折率
t50、全光線透過率92%)に以下の方法で反射防止
膜を設けた。
(3) Coating and curing of anti-reflection film with 5% hydroxide) Diethylene glycol bisallyl carbonate resin plastic/lens (thickness 0.2, refractive index t50, total light transmittance 92%), an antireflection film was provided by the following method.

最初に高屈折率薄膜用のコーテイング液(AI)に該レ
ンズを浸し、液温10℃、引き上げ逮・度12cm/分
の条件で塗布を行なった。引き上げ後、100℃で40
分間硬化を行ない高屈折率層を得た0 続いて、該レンズを強酸性水溶液中に3分間浸し処理し
た後、充分水洗を行ない乾燥させた。その後、該レンズ
を低屈折率薄膜用コーテイング液(A2)に浸し、液温
8℃、引き上げ速度2C1n/分の条件で塗布を行なっ
た。引き上げ後、160℃で30分硬化させ、二層から
なる反射防止膜を得た。
First, the lens was immersed in a coating liquid (AI) for high refractive index thin films, and coating was carried out at a liquid temperature of 10° C. and a lifting speed of 12 cm/min. After lifting, 40℃ at 100℃
The lens was cured for 3 minutes to obtain a high refractive index layer.Subsequently, the lens was immersed in a strongly acidic aqueous solution for 3 minutes, thoroughly rinsed with water, and dried. Thereafter, the lens was immersed in a low refractive index thin film coating liquid (A2), and coating was performed at a liquid temperature of 8° C. and a pulling rate of 2 C1 n/min. After pulling it up, it was cured at 160° C. for 30 minutes to obtain a two-layer antireflection film.

(4)試験結果 このようにして得られたレンズの全光線透過率は、9′
15%であり、y射干渉色は緑色を呈した。
(4) Test results The total light transmittance of the lens thus obtained was 9'
15%, and the Y radiation interference color was green.

また、この反射防止加工を施したレンズを赤、青、黄の
3色を混合した市販の分散染料を水に分散溶解させた染
色浴を用い、90℃、3分間染色した。このレンズの全
光線透過率は、54,8%で・良好な染色性を示した。
Further, the antireflection-treated lens was dyed at 90° C. for 3 minutes using a dye bath containing a commercially available disperse dye mixed with three colors, red, blue, and yellow, dispersed and dissolved in water. The total light transmittance of this lens was 54.8%, indicating good stainability.

さらに、得られたレンズは、次に述べる方法で試験を行
ない、その結果を表1に示す。
Furthermore, the obtained lenses were tested by the method described below, and the results are shown in Table 1.

α)付着性二反射防止膜と透明基材の付着性は、J工5
D−0202に準じてクロスカットテープ試験によって
行なった◎即ち、ナイフを用い、反射防止加工後の透明
基材表面に1語間隔に切り百を入れ、1−のマス目を1
00個形成させる。次にその上へセロファン粘着テープ
(日東化学■靭を強く押し付けた後、表面から90°方
向へ急に引っばり剥離した後、コート被膜の残っている
マス目をもって付着性指標とした。
α) Adhesion The adhesion between the anti-reflection film and the transparent substrate is
A cross-cut tape test was conducted according to D-0202. ◎ That is, using a knife, cut the surface of the transparent substrate after anti-reflection treatment into 1-word intervals, and mark the 1- squares with 1-
Form 00 pieces. Next, a cellophane adhesive tape (Nitto Kagaku ■) was strongly pressed onto it, and then it was suddenly pulled off from the surface in a 90° direction, and the remaining squares of the coat film were used as an adhesion index.

b)耐擦傷性:#0000スチールウールで2oarの
荷重をかけ、100往復、表面を摩擦し、傷のついた程
度を目視で次の段階に分けて評価したO A:1cmX5備の範囲に全く傷がつかない。
b) Scratch resistance: A load of 2 oar was applied with #0000 steel wool, the surface was rubbed 100 times, and the degree of scratches was visually evaluated in the following stages. No scratches.

B:上記範囲内に1〜10本の傷がつくOC:上記範囲
内に10〜100本の傷がつく。
B: 1 to 10 scratches within the above range OC: 10 to 100 scratches within the above range.

D:無数の傷がついているが、平滑な表面が残っている
O E:表面についた傷のため平滑な表面は残っていない。
D: Countless scratches are present, but a smooth surface remains O E: No smooth surface remains due to scratches on the surface.

C)耐水、耐薬品性:水、アルコール、灯油中に48時
間浸漬し、表面状態を調べた。
C) Water resistance and chemical resistance: It was immersed in water, alcohol, and kerosene for 48 hours, and the surface condition was examined.

d)耐候性:キセノンランプによるサンシャインウェザ
−メーターに400時間暴露した後の表面状態を調べた
d) Weather resistance: The surface condition was examined after being exposed to a sunshine weather meter using a xenon lamp for 400 hours.

外観を調べ、異常のないものを良としたりまた、温水試
験後の反射防止膜の付着性を前記クロスカットテープ試
験により評価した。
The appearance was examined, and those with no abnormalities were evaluated as good.The adhesion of the antireflection film after the hot water test was evaluated by the cross-cut tape test described above.

尚、(A1)、(A2)の各コーテイング液を塗布して
得られた薄膜を各々、11.12層とすると屈折率と膜
厚は以下のとおりであった〇薄線   屈折率   膜
厚(nm) 1 1       1、 7 3        I
  S  O,312t  4 2         
9  t  5実施例2゜ (1)  ハードコート加工 α)ハードコート液の調製 γ−グリシドキシプロビルメチルジェトキシシラン10
6.85’を10℃に冷却し、攪拌しながら50、05
 N塩酸水溶液15.51を徐々に滴下し、滴下終了後
、室温にてさらに1時間攪拌をし加水分解を行なった。
In addition, if the thin films obtained by applying each of the coating liquids (A1) and (A2) were 11.12 layers each, the refractive index and film thickness were as follows.〇Thin line Refractive index Film thickness ( nm) 1 1 1, 7 3 I
SO, 312t 4 2
9 t 5 Example 2゜(1) Hard coat processing α) Preparation of hard coat liquid γ-Glycidoxypropyl methyljethoxysilane 10
6.85' was cooled to 10°C and heated to 50,05 with stirring.
15.5 liters of an aqueous N-hydrochloric acid solution was gradually added dropwise, and after completion of the addition, the mixture was further stirred at room temperature for 1 hour to effect hydrolysis.

この溶液忙、エポキシ樹脂(9エピコート827′、シ
ェル化学■製)252、エポキシ樹脂(″エボライ)3
002”、共コール58.9 f、ベンジルアルコール
295?、メタノール31(1’、シリコン系界面活性
剤t5?を添加混合し、さらにメタノール分散コロイダ
ルシリカ(平均粒子径12±1mμ、固型分50%)4
16.7g!とアルミニウムアセチルアセトネ−) 1
2.5 fを添加し、充分攪拌した後、ハードコート液
とした。
This solution, epoxy resin (9 Epicoat 827', manufactured by Shell Chemical ■) 252, epoxy resin (Evolai) 3
002", cocoal 58.9 f, benzyl alcohol 295?, methanol 31 (1'), silicone surfactant t5? were added and mixed, and methanol-dispersed colloidal silica (average particle size 12 ± 1 mμ, solid content 50 %) 4
16.7g! and aluminum acetylacetonate) 1
After adding 2.5 f and stirring thoroughly, a hard coat liquid was obtained.

b)ハードコート液の塗布及び硬化 実施例1で用いたと同様のジエチレングリコールビスア
リルカーボネート樹脂製プ、ラルンズにアルゴンガスプ
ラズマ処理(aoow、2o秒)を行なった後、前記ハ
ードコート液を浸漬法で塗布し、93℃で4時間加熱乾
燥を行ないハードコート層を得た。
b) Application and curing of hard coat liquid After performing argon gas plasma treatment (AOOW, 20 seconds) on the same diethylene glycol bisallyl carbonate resin plastic as used in Example 1, the hard coat liquid was applied by dipping. It was coated and dried by heating at 93° C. for 4 hours to obtain a hard coat layer.

(3)反射防止膜の塗布及び硬化 前記ハードコート加工を施したレンズに、前記と同様に
アルゴンガスプラズマ処理(aaow。
(3) Coating and curing of antireflection film The hard coated lens was subjected to argon gas plasma treatment (aaow) in the same manner as described above.

20秒)を行なった後、実施例1と同様の方法で反射防
止膜を設けた。
20 seconds), an antireflection film was provided in the same manner as in Example 1.

(4)  試験結果 このようにして得られたレンズの全光線透過率は、97
.0%であり、反射干渉色は緑色を呈した。
(4) Test results The total light transmittance of the lens thus obtained was 97.
.. 0%, and the reflected interference color was green.

また、この反射防止加工を施したレンズを赤、青、黄の
3色を混合した市販の分散染料を水に分散溶解させた染
色浴を用い、90℃、3分間染色した◇このレンズの全
光線透過率は、55゜2%で良好な染色性を示した。
In addition, this anti-reflection-treated lens was dyed at 90°C for 3 minutes using a dye bath containing a commercially available disperse dye mixed with red, blue, and yellow in water for 3 minutes. The light transmittance was 55.2%, indicating good dyeability.

さらに、得られたレンズは、実施例1と同様の方法で試
験を行ない、その結果を表1に示した。
Furthermore, the obtained lenses were tested in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Table 1.

尚、(A1)、(A2)の各コーテイング液を塗布して
得られた各薄膜の膜厚は、実施例1と同じであった。
The thickness of each thin film obtained by applying each of the coating liquids (A1) and (A2) was the same as in Example 1.

実施例3゜ (1)高屈折率用コーテイング液(B1)の調製反応用
フラスコ内に、メチルセロソルブ194、82 ?、γ
−グリシドキシプロビルトリメトキシシラン4.65 
?、0.05 N塩酸水1.27 Pを加え、室温下1
時間攪拌し、加水分解を行なった。
Example 3 (1) Preparation of coating liquid for high refractive index (B1) In a reaction flask, methyl cellosolve 194, 82? , γ
-Glycidoxyprobyltrimethoxysilane 4.65
? , add 1.27 P of 0.05 N hydrochloric acid, and leave at room temperature for 1.
Hydrolysis was carried out by stirring for hours.

その後、実施例1で使用した水を分散媒とする酸化チタ
ン微粒子のコロイド分散体48.6IPを加え攪拌下、
ジヒドロキシビス(ラクテート)チタン0.65 ?お
よびシリコン系界面活性剤[102Fをこの順に加え、
室温下1時間攪拌を行ない、コーテイング液とした。こ
のコーテイング液の粘度H12,7センチストークス(
20℃)、固型分濃度は、3.5重量%であった。
Thereafter, 48.6 IP of colloidal dispersion of titanium oxide fine particles using water as a dispersion medium used in Example 1 was added and stirred.
Dihydroxybis(lactate) titanium 0.65 ? and silicone surfactant [102F were added in this order,
The mixture was stirred at room temperature for 1 hour to obtain a coating liquid. The viscosity of this coating liquid is H12, 7 centistokes (
20° C.), and the solid content concentration was 3.5% by weight.

(2)低屈折率用コーテイング液(B2)の調製反応用
フラスコ内に、エタノール255.00 Pを入れ、攪
拌下、r−グリシドキシプロビルトリメトキンシランZ
072、α05N塩酸水t94?を加え、室温下1時間
攪拌を行なった口この後、イソプロピルアルコール分散
コロイダルシリカ(オスカル1432、触媒化成■製・
固型分濃度30%) 29.7 Ofを加え、室温で3
0分間攪拌を行なった。その後、グリセロールジグリシ
ジルエーテル5.94P、過塩素酸マグネシウム0.5
5 ?、シリコン系界面活性剤0.02 Pを加え溶解
させた。このコーテイング液の粘度は、19センチスト
ークス(20℃)、固型分m度Bi6重景%であった。
(2) Preparation of coating liquid for low refractive index (B2) Put 255.00 P of ethanol into a reaction flask, and add r-glycidoxypropyltrimethquinsilane Z while stirring.
072, α05N hydrochloric acid water t94? After stirring for 1 hour at room temperature, isopropyl alcohol-dispersed colloidal silica (Oscar 1432, Catalyst Kasei Co., Ltd.) was added.
Add 29.7 Of (solid content concentration 30%) and stir at room temperature.
Stirring was performed for 0 minutes. After that, glycerol diglycidyl ether 5.94P, magnesium perchlorate 0.5
5? , 0.02 P of silicone surfactant was added and dissolved. The viscosity of this coating liquid was 19 centistokes (20° C.), and the solid content was m degrees Bi6%.

尚、上記コーテイング液(B1)、(B2)は原調製後
、各々、メンブランフィルタ−により一過を行ない、巨
大粒子や不溶分を除失した。
After the coating solutions (B1) and (B2) were prepared, they were each passed through a membrane filter to remove giant particles and insoluble matter.

(3)又射防止膜の塗布及び硬化 5%水酸化ナトリウム水溶液中に3分間浸漬し、アルカ
リ処理を施した市販の無機ガラスパネル(直径12Cl
11.厚さ0.2備、屈折率t52、全光線透過率92
%)に以下の方法で反射防止膜を設けた。
(3) Coating and curing of anti-spray film A commercially available inorganic glass panel (diameter 12Cl
11. Thickness 0.2, refractive index t52, total light transmittance 92
%) was provided with an anti-reflection film by the following method.

最初に高屈折率薄膜用のコーテイング液(B1)に該レ
ンズを浸し、液温10℃引さ上げ速度8am/分の条件
で塗布を行なったう引き上げ後生00℃で50分間硬化
を行ない高屈折率層を得た。
First, the lens was immersed in a coating liquid (B1) for high refractive index thin film, and the coating was carried out under the condition that the liquid temperature was raised by 10°C and the rate of increase was 8 am/min. Got the rate layer.

続いて、該レンズを強酸性水溶液中に3分間浸し処理し
た後、充分水洗を行ない乾燥させた。その後、該レンズ
を低屈折率薄膜用コーテイング液(B2)K浸し、液温
9℃、引き上げ速度2 C?11 /分の条件で塗布を
行なった。引き上げ後、130℃で30分硬化させ、二
層からなる反射防止膜を得た。
Subsequently, the lens was immersed in a strongly acidic aqueous solution for 3 minutes, thoroughly rinsed with water, and dried. Thereafter, the lens was immersed in a low refractive index thin film coating liquid (B2) K at a liquid temperature of 9°C and a lifting speed of 2°C. Coating was carried out at a rate of 11/min. After pulling it up, it was cured at 130° C. for 30 minutes to obtain a two-layer antireflection film.

(4)試験結果 このようにして得られた無機ガラスパネルの全光線透過
率は、978%であり、反射干渉色は黄緑色を呈した。
(4) Test results The total light transmittance of the inorganic glass panel thus obtained was 978%, and the reflection interference color was yellow-green.

尚、(B1)、(B2)の各コーテイング液を塗布して
得られた薄膜を各々、21.22層とすると屈折率と膜
厚は以下のとおりであった・薄膜   屈折率   膜
厚(nm) 21      177      14&92 2 
     1、 4 3        9  α 9
実施例4゜ (1)反射防止膜の塗布及び硬化 セイコー・ブラックス・ダイヤコートI(セイコーエプ
ソン■製)にアルゴンガスプラズマ処理(400W、2
0秒)を行なった後、実施例3と同様の方法で反射防止
膜を設けた。
In addition, if the thin films obtained by applying each of the coating solutions (B1) and (B2) were each 21.22 layers, the refractive index and film thickness were as follows - Thin film Refractive index Film thickness (nm ) 21 177 14&92 2
1, 4 3 9 α 9
Example 4 (1) Coating and curing of antireflection film Seiko Blacks Diamond Coat I (manufactured by Seiko Epson) was treated with argon gas plasma (400W, 2
0 seconds), an antireflection film was provided in the same manner as in Example 3.

(2)  試験結果 このようにして得られたレンズの全光線透過率は、97
.5%であり、反射干渉色は緑色を呈した。
(2) Test results The total light transmittance of the lens thus obtained was 97
.. 5%, and the reflected interference color was green.

また、この反射防止加工を施したレンズを赤、青、黄の
3色を混合した市販の分散染料を水に分散溶解させた染
色浴を用い、90℃、3分間染色した。このレンズの全
光線透過率は、55.2%で、良好な染色性を示した。
Further, the antireflection-treated lens was dyed at 90° C. for 3 minutes using a dye bath containing a commercially available disperse dye mixed with three colors, red, blue, and yellow, dispersed and dissolved in water. The total light transmittance of this lens was 55.2%, indicating good dyeability.

さらに、得られたレンズは、実施例1と同様の方法で試
験を行ない、その結果を表1に示した。
Furthermore, the obtained lenses were tested in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Table 1.

実施例5゜ (1)  反射防止膜の塗布及び硬化 ハードコートをほどこしたアクリル板(商品名:アク、
リライトMR,三菱し−ヨン■製、100111X30
00as、厚さ2 wh 、屈折率t49、全光線透過
率92%)に実施例1と同様の方法で反射防止膜を設け
た。
Example 5゜(1) Acrylic plate coated with anti-reflection film and hardened hard coat (product name: Aku,
Rewrite MR, made by Mitsubishi Shion■, 100111X30
00as, thickness 2wh, refractive index t49, total light transmittance 92%), an antireflection film was provided in the same manner as in Example 1.

(2)  試験結果 このようKして得られたレンズの全光線透過率は、97
.8%であり、反射干渉色は緑色を呈した◎比較例を 実施例1において、高屈折率用コーテイング液の調製時
、ジヒドロキシビス(タートレート)+タンを添加しな
いこと以外は、実施例1と同様にして反射防止膜を設け
たレンズを得た・この試験結果を表1に示した〇 比較例2゜ 実施例3において、高屈折率用コーテイング液の調製時
、ジヒドロキシビス(ラクテート)チタンを添加しない
こと以外は、実施例3と同様にして反射防止膜を設けた
無機ガラスパネルを得た。
(2) Test results The total light transmittance of the lens obtained by K in this way is 97
.. 8%, and the reflection interference color was green. ◎Comparative Example is the same as Example 1 except that dihydroxybis(tartrate) + tan was not added when preparing the coating liquid for high refractive index. A lens provided with an anti-reflection film was obtained in the same manner as in Table 1. The test results are shown in Table 1. Comparative Example 2 In Example 3, when preparing the coating liquid for high refractive index, dihydroxybis(lactate) titanium An inorganic glass panel provided with an antireflection film was obtained in the same manner as in Example 3, except that .

この試験結果を表1に示した。The test results are shown in Table 1.

第    1    表 (1)表中の各記号はそれぞれ次の状態を示す〇〇:良
好または異常なし Δ:目視でやや欠点がみえる。
Each symbol in Table 1 (1) indicates the following conditions: 〇〇: Good or no abnormality ∆: Some defects are visible by visual inspection.

×:反射防止膜が障害をうける。×: The antireflection film is damaged.

(2)表中の1007100は密着性良、O/100は
密着性か悪いことを示す〇 〔発明の効果〕 以上述べたように、本発明によれば、透明基材の少なく
とも一部に屈折率の異なる二層の薄膜からなる反射防止
膜を液状組成物の塗布および硬化により施すにあたり、
透明基材層よりも高い屈折率を有する高屈折率薄膜を形
成するための塗布液として、水または他の溶媒に分散し
た酸化チタン微粒子のコロイド分散体を主成分として用
いることにより、所望の屈折率が実現され、また従来の
金属アルコラードを用いた場合に比べ、付着性、硬度、
耐薬品性、耐擦傷性、耐水性、染色性などの諸物性に優
れた反射防止膜を得ることが可能となった0
(2) In the table, 1007100 indicates good adhesion, and O/100 indicates poor adhesion. [Effects of the Invention] As described above, according to the present invention, at least a part of the transparent base material has a refractive index. When applying an anti-reflection film consisting of two thin films with different ratios by coating and curing a liquid composition,
By using a colloidal dispersion of titanium oxide fine particles dispersed in water or other solvent as a main component as a coating liquid for forming a high refractive index thin film having a higher refractive index than the transparent base material layer, desired refraction can be achieved. compared to the conventional metal Alcorade, it has improved adhesion, hardness,
It has become possible to obtain an antireflection film with excellent physical properties such as chemical resistance, scratch resistance, water resistance, and dyeability.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は、実施例1の反射防止膜の断面図11・・・・
・・高屈折率薄膜 12・・・・・・低屈折率薄膜 13・・・・・・プラスチックレンズ 第2図は、実施例60反射スペクトル図以  上
FIG. 1 is a cross-sectional view 11 of the antireflection film of Example 1.
...High refractive index thin film 12...Low refractive index thin film 13...Plastic lens Figure 2 is the reflection spectrum diagram of Example 60 and above.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)a)透明基材の少なくとも一部に、該基材から大
気側に向かって、[イ]、[ロ]の二層の薄膜からなる
反射防止膜を施すにあたり、 b)[イ]、[ロ]の二層の光学特性は、各々[イ]1
.55<n_a<2.25 0.8×(m/4)λ_n<n_ad_a<1.2×(
m/4)λ_0[ロ]1.35×n_a<1.50 0.8×(1/4)λ_0<n_bd_b<1.2×(
1/4)λ_0(ここで、n_a、n_bは各々、[イ
]層、[ロ]層の屈折率、d_a、d_bは各々、[イ
]層、[ロ]層の膜厚(nm単位)を表し、mは1また
は2、λ_0は可視波長領域にあける設計波長(nm単
位)を表す。また、n_a>(基材の屈折率)である。 )の条件を満たし、 c)[イ]層、[ロ]層の各薄膜は、各々、液状で塗布
し、加熱・乾燥或いは活性エネルギー線による硬化で得
られ、 d)さらに、[イ]層を形成するための液状組成物の主
成分は、 i)粒径1〜100mμの、水または他の溶媒に分散し
た酸化チタン微粒子のコロイド分散体。 ii)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (但しR^1はアルキル基、アルケニル基、フェニル基
、ハロゲン基等、またR^2は、エポキシ基、アミノ基
、アミド基、メルカプト基、メタクリロイルオキシ基、
シアノ基、核ハロゲン化芳香環を有する基等を含む有機
基を示し、xは、ハロゲン基、アルコキシル基、アルコ
キシアルコキシル基、アシルオキシ基等の加水分解可能
な基を示す。また、a、bは各々0、1または2で、a
+bが1ないし3である。) で表わされるシランカップリング剤。 iii)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (但し、R^3は水素または、炭素数1〜6の炭化水素
。R^4は、少なくとも一個のカルボン酸を有する有機
基。cは、1、2または3である。)で表わされる、チ
タンのヒドロキシ酸配位化合物。 で示される化合物を一種以上含み、且つ、薄膜としたと
き、i)が99〜90重量%、ii)が99〜90重量
%、iii)が0.1〜20重量%であることを特徴と
する反射防止膜。
(1) a) When applying an anti-reflection film consisting of two thin layers of [a] and [b] from the base material toward the atmosphere to at least a part of the transparent base material, b) [a] The optical properties of the two layers of [B] and [B] are respectively [B]1
.. 55<n_a<2.25 0.8×(m/4)λ_n<n_ad_a<1.2×(
m/4)λ_0[b]1.35×n_a<1.50 0.8×(1/4)λ_0<n_bd_b<1.2×(
1/4) λ_0 (where n_a and n_b are the refractive indexes of the [a] layer and [b] layer, respectively, and d_a and d_b are the film thicknesses (in nm units) of the [a] layer and [b] layer, respectively. , m is 1 or 2, and λ_0 is the design wavelength (in nm units) in the visible wavelength region.Also, n_a>(refractive index of the base material)) satisfies the condition c) [a] Each thin film of the layer and [B] layer is obtained by applying in liquid form and curing with heating and drying or active energy rays, and d) Furthermore, the main component of the liquid composition for forming the layer [B]. i) A colloidal dispersion of fine titanium oxide particles having a particle size of 1 to 100 mμ dispersed in water or other solvent. ii) General formula ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (However, R^1 is an alkyl group, alkenyl group, phenyl group, halogen group, etc., and R^2 is an epoxy group, amino group, amide group, mercapto group. , methacryloyloxy group,
It represents an organic group including a cyano group, a group having a halogenated aromatic ring, and x represents a hydrolyzable group such as a halogen group, an alkoxyl group, an alkoxyalkoxyl group, or an acyloxy group. Also, a and b are each 0, 1 or 2, and a
+b is 1 to 3. ) A silane coupling agent represented by iii) General formula ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (However, R^3 is hydrogen or a hydrocarbon having 1 to 6 carbon atoms. R^4 is an organic group having at least one carboxylic acid. c is , 1, 2 or 3). It contains one or more compounds represented by, and when formed into a thin film, i) is 99 to 90% by weight, ii) is 99 to 90% by weight, and iii) is 0.1 to 20% by weight. Anti-reflective coating.
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