JPS6333097B2 - - Google Patents
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- JPS6333097B2 JPS6333097B2 JP54011482A JP1148279A JPS6333097B2 JP S6333097 B2 JPS6333097 B2 JP S6333097B2 JP 54011482 A JP54011482 A JP 54011482A JP 1148279 A JP1148279 A JP 1148279A JP S6333097 B2 JPS6333097 B2 JP S6333097B2
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- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 claims description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 7
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
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- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005162 X-ray Laue diffraction Methods 0.000 description 1
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/20—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by using diffraction of the radiation by the materials, e.g. for investigating crystal structure; by using scattering of the radiation by the materials, e.g. for investigating non-crystalline materials; by using reflection of the radiation by the materials
- G01N23/207—Diffractometry using detectors, e.g. using a probe in a central position and one or more displaceable detectors in circumferential positions
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
多結晶試料の微小部にＸ線ビームを入射させ
て、回折角を測定することにより試料の分折を行
うことができる。このような装置において、結晶
の粒度が充分小さいときは回折Ｘ線が円錐面状に
投射されるから、その円錐面における任意の母線
上に回折Ｘ線の検出器を配置して回折角を検出す
ることができる。しかし結晶粒度が大きいと、上
記円錐面上の特定の位置のみに回折Ｘ線が生ず
る。従つてこのような場合は、円形スリツトの中
心を試料に入射するＸ線の径路またはその延長に
沿つて直線的に移動させ、該スリツトの背後にＸ
線検出器を配置して、１つの円錐面上に回折した
全Ｘ線を同時に検出する装置が用いられていた。
しかしこの装置はスリツトおよびＸ線検出器を直
線上で移動させる必要があるから、その駆動機構
が複雑であると共に回折角が小さい場合および大
きい場合の測定が困難で測定範囲が制限される。
かつ上記直線上の位置によつて検出器に入射する
Ｘ線の入射角が変化するために強度補正を必要と
する等の欠点があつた。本発明はこのような欠点
がなく、かつ例えば単結晶の方位測定等にも用い
ることのできるＸ線回折装置を提供するものであ
る。
て、回折角を測定することにより試料の分折を行
うことができる。このような装置において、結晶
の粒度が充分小さいときは回折Ｘ線が円錐面状に
投射されるから、その円錐面における任意の母線
上に回折Ｘ線の検出器を配置して回折角を検出す
ることができる。しかし結晶粒度が大きいと、上
記円錐面上の特定の位置のみに回折Ｘ線が生ず
る。従つてこのような場合は、円形スリツトの中
心を試料に入射するＸ線の径路またはその延長に
沿つて直線的に移動させ、該スリツトの背後にＸ
線検出器を配置して、１つの円錐面上に回折した
全Ｘ線を同時に検出する装置が用いられていた。
しかしこの装置はスリツトおよびＸ線検出器を直
線上で移動させる必要があるから、その駆動機構
が複雑であると共に回折角が小さい場合および大
きい場合の測定が困難で測定範囲が制限される。
かつ上記直線上の位置によつて検出器に入射する
Ｘ線の入射角が変化するために強度補正を必要と
する等の欠点があつた。本発明はこのような欠点
がなく、かつ例えば単結晶の方位測定等にも用い
ることのできるＸ線回折装置を提供するものであ
る。
第１図は本発明実施例の構成を示した図、また
第２図は第１図における位置検出型Ｘ線検出器１
のＡ―Ａ断面図である。このＸ線検出器１は円弧
状に彎曲した気密管の中心に例えば石英の細線に
カーボン被覆を施した高抵抗の陽極線２を張架
し、該陽極線の全長に亘つて陰極を対設すると共
に内部にアルゴンあるいはクセノンのような電離
ガスを比較的高い気圧で封入したものである。上
述のようなＸ線検出器１と駆動源３に連結して、
矢印ａのように前記円弧状彎曲の中心点ｏおよび
該検出器の一方の端部を通る直線ｐを軸として比
較的高速度で連続的に回転させるようにしてあ
る。また上記点ｏに多結晶試料４を配置し、アパ
ーチヤ５，６を介してＸ線管７から細い平行Ｘ線
ビームｑを前記直線ｐに沿つて試料４に入射させ
てある。従つて試料４で回折したＸ線r1，r2，…
…がＸ線検出器１に入射するが、この検出器にお
ける陽極線２の両端から得られる出力を時間差検
出回路８と時間・波高変換回路９とからなるＸ線
の入射位置検出回路１０に加えてある。すなわち
円弧状をなしたＸ線検出器１の円弧に沿つた方向
の任意の位置ｓにＸ線が入射して封入ガスに電離
を生ずると、陽極線２の両端に現れるパルスは上
記点ｓから両端までの陽極線の抵抗、従つて距離
l1，l2および電極間の容量によつて定まる時定数
に対応した速度をもつて立上る。従つて時間差検
出回路８において、陽極線の両端から得られるパ
ルスをそれぞれ２回微分することにより立上りの
最も急峻な時点で振幅が零となる波形のパルスと
なして該時点間の時間差を求め、時間・波高変換
回路９によつてこの時間差に対応した波高のパル
スを送出する。すなわち上述のような処理回路の
時定数に対してＸ線検出器１は充分低い速度で回
転しているが、上記パルスをマルチチヤンネルア
ナライザ１１に加えて、多数の出力端子のうち各
パルスの波高に対応した端子から一定の波形およ
び波高を有するパルスを送出させる。このパルス
がレートメータのような積分回路１２，１２…で
それぞれ積分されて、パルスの頻度に対応した電
圧に変換される。変換器１３は、制御器１４で駆
動されて多数の入力端子を１つの出力端子に繰返
して順次接続するもので、各入力端子に前記積分
回路１２，１２…の出力を加えてある。この切換
器の出力端子から得られる出力をブラウン管１５
のＹ軸入力とし、また制御器１４から出力端子に
接続された入力端子の位置に対応する出力を得
て、この出力を上記ブラウン管のＸ軸入力として
ある。
第２図は第１図における位置検出型Ｘ線検出器１
のＡ―Ａ断面図である。このＸ線検出器１は円弧
状に彎曲した気密管の中心に例えば石英の細線に
カーボン被覆を施した高抵抗の陽極線２を張架
し、該陽極線の全長に亘つて陰極を対設すると共
に内部にアルゴンあるいはクセノンのような電離
ガスを比較的高い気圧で封入したものである。上
述のようなＸ線検出器１と駆動源３に連結して、
矢印ａのように前記円弧状彎曲の中心点ｏおよび
該検出器の一方の端部を通る直線ｐを軸として比
較的高速度で連続的に回転させるようにしてあ
る。また上記点ｏに多結晶試料４を配置し、アパ
ーチヤ５，６を介してＸ線管７から細い平行Ｘ線
ビームｑを前記直線ｐに沿つて試料４に入射させ
てある。従つて試料４で回折したＸ線r1，r2，…
…がＸ線検出器１に入射するが、この検出器にお
ける陽極線２の両端から得られる出力を時間差検
出回路８と時間・波高変換回路９とからなるＸ線
の入射位置検出回路１０に加えてある。すなわち
円弧状をなしたＸ線検出器１の円弧に沿つた方向
の任意の位置ｓにＸ線が入射して封入ガスに電離
を生ずると、陽極線２の両端に現れるパルスは上
記点ｓから両端までの陽極線の抵抗、従つて距離
l1，l2および電極間の容量によつて定まる時定数
に対応した速度をもつて立上る。従つて時間差検
出回路８において、陽極線の両端から得られるパ
ルスをそれぞれ２回微分することにより立上りの
最も急峻な時点で振幅が零となる波形のパルスと
なして該時点間の時間差を求め、時間・波高変換
回路９によつてこの時間差に対応した波高のパル
スを送出する。すなわち上述のような処理回路の
時定数に対してＸ線検出器１は充分低い速度で回
転しているが、上記パルスをマルチチヤンネルア
ナライザ１１に加えて、多数の出力端子のうち各
パルスの波高に対応した端子から一定の波形およ
び波高を有するパルスを送出させる。このパルス
がレートメータのような積分回路１２，１２…で
それぞれ積分されて、パルスの頻度に対応した電
圧に変換される。変換器１３は、制御器１４で駆
動されて多数の入力端子を１つの出力端子に繰返
して順次接続するもので、各入力端子に前記積分
回路１２，１２…の出力を加えてある。この切換
器の出力端子から得られる出力をブラウン管１５
のＹ軸入力とし、また制御器１４から出力端子に
接続された入力端子の位置に対応する出力を得
て、この出力を上記ブラウン管のＸ軸入力として
ある。
上述の装置において、多結晶試料４は直線ｐを
軸とし頂角がそれぞれ所定の角度をなす円錐の母
線に沿つて回折Ｘ線r1，r2…を生ずる。かつ試料
４のＸ線入射部に含まれる結晶粒の数が少ない場
合は、上述の回折Ｘ線が直線ｐを軸とする円周方
向において特定の位置だけに間歇的に発生する。
このような回折Ｘ線の１つ例えばr2が検出器１に
おける点ｓに入射すると、検出回路１０から上記
点ｓの位置に対応した波高をもつた１つのパルス
が送出される。そのパルスがマルチチヤンネルア
ナライザ１１に加わるから、該パルスの波高に対
応した出力端から一定の波形並びに波高のパルス
が送出されて、このパルスが積分回路１２でそれ
ぞれ積分される。またＸ線検出器１は矢印ａのよ
うに連続回転しているから、同一の回折角を有し
同一の円錐面に沿つて投射される回折Ｘ線は上記
回転に伴つて検出器１の同一位置へ順次入射す
る。すなわち同一の回折角を有するＸ線が検出器
１における同一の位置へ順次入射して、その位置
に対応した積分回路１２に一定の波形および波高
のパルスが加わる。従つて前述のように検出器１
を比較的高速度で回転すると、レートメータのよ
うな積分回路１２，１２…の各々から、その位置
に対応した回折角を有する回折Ｘ線の総量に対応
した出力電圧が送出される。その積分回路の出力
電圧が順次切換えられてブラウン管１５にＹ軸入
力として加わると共にそのＸ軸には切換位置に対
応した電圧が加わる。このためブラウン管１５の
スクリーンには、第３図に示したようにＸ線の回
折角θと、同一の回折角を有する回折Ｘ線の総量
Ｉとの関係を表わした曲線が画かれる。
軸とし頂角がそれぞれ所定の角度をなす円錐の母
線に沿つて回折Ｘ線r1，r2…を生ずる。かつ試料
４のＸ線入射部に含まれる結晶粒の数が少ない場
合は、上述の回折Ｘ線が直線ｐを軸とする円周方
向において特定の位置だけに間歇的に発生する。
このような回折Ｘ線の１つ例えばr2が検出器１に
おける点ｓに入射すると、検出回路１０から上記
点ｓの位置に対応した波高をもつた１つのパルス
が送出される。そのパルスがマルチチヤンネルア
ナライザ１１に加わるから、該パルスの波高に対
応した出力端から一定の波形並びに波高のパルス
が送出されて、このパルスが積分回路１２でそれ
ぞれ積分される。またＸ線検出器１は矢印ａのよ
うに連続回転しているから、同一の回折角を有し
同一の円錐面に沿つて投射される回折Ｘ線は上記
回転に伴つて検出器１の同一位置へ順次入射す
る。すなわち同一の回折角を有するＸ線が検出器
１における同一の位置へ順次入射して、その位置
に対応した積分回路１２に一定の波形および波高
のパルスが加わる。従つて前述のように検出器１
を比較的高速度で回転すると、レートメータのよ
うな積分回路１２，１２…の各々から、その位置
に対応した回折角を有する回折Ｘ線の総量に対応
した出力電圧が送出される。その積分回路の出力
電圧が順次切換えられてブラウン管１５にＹ軸入
力として加わると共にそのＸ軸には切換位置に対
応した電圧が加わる。このためブラウン管１５の
スクリーンには、第３図に示したようにＸ線の回
折角θと、同一の回折角を有する回折Ｘ線の総量
Ｉとの関係を表わした曲線が画かれる。
なおブラウン管の表示を極座標となし、回折Ｘ
線検出器１の回転に対して非同期の入力をブラウ
ン管の方位角入力とすると共に位置検出回路１０
の出力を半径入力とするときは、試料４のＸ線入
射部における結晶粒の数が比較的少ない場合でも
第４図に示したように同心円の図形が得られる。
従つて各円の半径Ｒによつて回折角θを知ること
ができるもので、回折Ｘ線の強度を定量的に求め
る必要のない場合はこのような装置によつて簡易
に回折角の測定を行い得る。またこの装置におい
て試料４を単結晶となし、ブラウン管の方位角入
力をＸ線検出器１の回転に同期させるときは第５
図に示したように原点ｏを中心とするラウエ斑点
図形が得られる。従つてこの図形から試料の結晶
方位の測定等を行うことができる。
線検出器１の回転に対して非同期の入力をブラウ
ン管の方位角入力とすると共に位置検出回路１０
の出力を半径入力とするときは、試料４のＸ線入
射部における結晶粒の数が比較的少ない場合でも
第４図に示したように同心円の図形が得られる。
従つて各円の半径Ｒによつて回折角θを知ること
ができるもので、回折Ｘ線の強度を定量的に求め
る必要のない場合はこのような装置によつて簡易
に回折角の測定を行い得る。またこの装置におい
て試料４を単結晶となし、ブラウン管の方位角入
力をＸ線検出器１の回転に同期させるときは第５
図に示したように原点ｏを中心とするラウエ斑点
図形が得られる。従つてこの図形から試料の結晶
方位の測定等を行うことができる。
以上説明したように本発明の装置は前述のよう
な従来の装置の欠点がなく、Ｘ線検出器を一定の
速度で連続回転させるから、その駆動機構が簡単
である。また回折角が極めて小さい場合、および
大きい場合でもこれを容易に測定し得るから、測
定範囲に全く制限を受けないと共に回折Ｘ線がそ
の回折角に関係なく検出器に直角に入射するか
ら、入射角に対する補正を必要としない。等の効
果がある。
な従来の装置の欠点がなく、Ｘ線検出器を一定の
速度で連続回転させるから、その駆動機構が簡単
である。また回折角が極めて小さい場合、および
大きい場合でもこれを容易に測定し得るから、測
定範囲に全く制限を受けないと共に回折Ｘ線がそ
の回折角に関係なく検出器に直角に入射するか
ら、入射角に対する補正を必要としない。等の効
果がある。
第１図は本発明実施例の構成を示した図、第２
図は第１図におけるＸ線検出器のＡ―Ａ断面図、
第３図，第４図および第５図はそれぞれ本発明の
装置によつて得られる表示図形を例示したもので
ある。なお図において、１はＸ線検出器、２は陽
極線、３は駆動源、４は試料、５，６はアパーチ
ヤ、７はＸ線管、８は時間差検出回路、９は時
間・波高変換回路、１０は位置検出回路、１１は
マルチチヤンネルアナライザ、１２は積分回路、
１３は切換器、１４は制御器、１５はブラウン管
である。
図は第１図におけるＸ線検出器のＡ―Ａ断面図、
第３図，第４図および第５図はそれぞれ本発明の
装置によつて得られる表示図形を例示したもので
ある。なお図において、１はＸ線検出器、２は陽
極線、３は駆動源、４は試料、５，６はアパーチ
ヤ、７はＸ線管、８は時間差検出回路、９は時
間・波高変換回路、１０は位置検出回路、１１は
マルチチヤンネルアナライザ、１２は積分回路、
１３は切換器、１４は制御器、１５はブラウン管
である。
Claims (1)
- １ 試料に対して一定の方向から上記試料にＸ線
ビームを照射するＸ線源と、上記試料におけるＸ
線の入射部に中心点を配置した円弧状の入射位置
検出型Ｘ線検出器と、試料に入射するＸ線の径路
を軸として上記Ｘ線検出器を連続回転させる駆動
源と、試料で回折して上記円弧状の入射位置検出
型Ｘ線検出器に入射するＸ線の該検出器に沿つた
方向の入射位置に対応した信号を出力として送出
する位置検出回路と、上記位置検出回路の出力に
よつて前記入射位置に対応するＸ線回折角を表示
する手段とよりなることを特徴とするＸ線回折装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1148279A JPS55104747A (en) | 1979-02-05 | 1979-02-05 | X-ray diffraction divice |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1148279A JPS55104747A (en) | 1979-02-05 | 1979-02-05 | X-ray diffraction divice |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS55104747A JPS55104747A (en) | 1980-08-11 |
| JPS6333097B2 true JPS6333097B2 (ja) | 1988-07-04 |
Family
ID=11779264
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1148279A Granted JPS55104747A (en) | 1979-02-05 | 1979-02-05 | X-ray diffraction divice |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS55104747A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2584187B1 (fr) * | 1985-07-01 | 1987-11-13 | Centre Nat Rech Scient | Procede pour l'etude de la structure cristalline de monocristaux et dispositif pour la mise en oeuvre de ce procede |
| FR2587805B1 (fr) * | 1985-09-24 | 1988-01-15 | Univ Metz | Procede et dispositif de determination de la texture cristallographique d'un materiau polycristallin |
| US4910758A (en) * | 1988-08-09 | 1990-03-20 | Amoco Corporation | X-ray diffraction method for generating mineralogy record of whole core |
-
1979
- 1979-02-05 JP JP1148279A patent/JPS55104747A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS55104747A (en) | 1980-08-11 |
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