JPS6330998Y2 - - Google Patents
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- JPS6330998Y2 JPS6330998Y2 JP5533780U JP5533780U JPS6330998Y2 JP S6330998 Y2 JPS6330998 Y2 JP S6330998Y2 JP 5533780 U JP5533780 U JP 5533780U JP 5533780 U JP5533780 U JP 5533780U JP S6330998 Y2 JPS6330998 Y2 JP S6330998Y2
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- Japan
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- sample
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- concave groove
- plate
- ray
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- Expired
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Landscapes
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本考案は粉末試料と気体との反応過程あるいは
温度変化の過程等におけるＸ線回折の測定に適す
る試料保持器に関する。例えば金属粉末を板状に
押し固めて加圧水素ガス雰囲気中に配置し、該試
料の温度を上昇させると金属粉末の水素化物が生
成される。その過程におけるＸ線回折の測定を行
う場合に、従来は単に板状の基板に形成した凹孔
に試料の金属粉末を充填して押し固める試料保持
器等が用いられていた。しかし粉末試料に上述の
ような化学変化あるいは温度変化等が生ずると、
実質体積あるいは見掛けの体積の変化によつて、
押し固められた試料表面の位置形状に変動を生ず
る。すなわち試料におけるＸ線入射面の位置が移
動するから、回折Ｘ線の集束条件等が変化し、こ
のため測定に誤差を生ずる欠点があつた。本考案
はこのような欠点のない試料保持器を提供するも
のである。
温度変化の過程等におけるＸ線回折の測定に適す
る試料保持器に関する。例えば金属粉末を板状に
押し固めて加圧水素ガス雰囲気中に配置し、該試
料の温度を上昇させると金属粉末の水素化物が生
成される。その過程におけるＸ線回折の測定を行
う場合に、従来は単に板状の基板に形成した凹孔
に試料の金属粉末を充填して押し固める試料保持
器等が用いられていた。しかし粉末試料に上述の
ような化学変化あるいは温度変化等が生ずると、
実質体積あるいは見掛けの体積の変化によつて、
押し固められた試料表面の位置形状に変動を生ず
る。すなわち試料におけるＸ線入射面の位置が移
動するから、回折Ｘ線の集束条件等が変化し、こ
のため測定に誤差を生ずる欠点があつた。本考案
はこのような欠点のない試料保持器を提供するも
のである。
第１図は本考案実施例の試料保持器を分解した
状態の斜視図で、試料保持基板１はステンレス鋼
ニツケルあるいはベリリウム銅等の矩形板であつ
て数粍の厚みを有し、かつ一方の面に幅ａの狭い
底部２とこれより多少広い幅ｂの部分３とからな
る凸字形断面の凹溝を形成して、その凹溝を基板
１の上端に開口させ、また上記凹溝の側部にねじ
孔４，４……を設けてある。矩形板状の治具５は
基板１における凸字形凹溝の底部２に頂度嵌合す
るような幅ａと厚みとを有し、該凹溝より充分長
い長さのものである。試料支持膜６は、試料の成
型性が良好な場合はこれを必ずしも必要としない
が、例えば数ミクロン乃至数十ミクロンの厚みを
有する極めて薄いニツケル箔あるいはメツシユで
あつて、基板１の凸字形凹溝における幅の広い部
分に嵌合するような大きさである。更にＸ線透過
板７は、例えば数十乃至百ミクロンの厚みを有す
るベリリウム板であつて、基板１と同等またはこ
れより多少小さい大きさを有する。また押え金具
８および９は帯状の金属板であつて両端に孔１０
を有し、４本のねじ１１は上記孔１０を貫通して
基板１のねじ孔４に螺合するものである。
状態の斜視図で、試料保持基板１はステンレス鋼
ニツケルあるいはベリリウム銅等の矩形板であつ
て数粍の厚みを有し、かつ一方の面に幅ａの狭い
底部２とこれより多少広い幅ｂの部分３とからな
る凸字形断面の凹溝を形成して、その凹溝を基板
１の上端に開口させ、また上記凹溝の側部にねじ
孔４，４……を設けてある。矩形板状の治具５は
基板１における凸字形凹溝の底部２に頂度嵌合す
るような幅ａと厚みとを有し、該凹溝より充分長
い長さのものである。試料支持膜６は、試料の成
型性が良好な場合はこれを必ずしも必要としない
が、例えば数ミクロン乃至数十ミクロンの厚みを
有する極めて薄いニツケル箔あるいはメツシユで
あつて、基板１の凸字形凹溝における幅の広い部
分に嵌合するような大きさである。更にＸ線透過
板７は、例えば数十乃至百ミクロンの厚みを有す
るベリリウム板であつて、基板１と同等またはこ
れより多少小さい大きさを有する。また押え金具
８および９は帯状の金属板であつて両端に孔１０
を有し、４本のねじ１１は上記孔１０を貫通して
基板１のねじ孔４に螺合するものである。
上述の保持具に試料を充填する場合は、まず基
板１の凸字形凹溝における幅の狭い底部２に治具
５を嵌合し、更に幅の広い部分３に支持膜６を嵌
合する。この状態で上記幅の広い部分３に粉末状
の試料を充填して、その表面が基板１の表面と一
致するように充分に押し固める。その試料の表面
にＸ線透過板７を配置して、該透過板の上部並び
に下部を金具８，９で押え、ねじ１１で基板１に
固定する。つぎに前記治具５を基板１の上端から
引き抜いて試料１２の装着を完了するもので、該
基板の背後に電熱器１３を密着させると共にこの
基板および電熱器を任意の気体が流通する容器に
収容してＸ線回折装置に設備する。第２図はこの
状態における縦断面図、第３図は横断面図で、第
３図のようにＸ線透過板７を透して試料１２が発
散Ｘ線１４で照射され、該試料によつて回折した
Ｘ線１５がＸ線検出器の入射窓に集束して検出さ
れる。
板１の凸字形凹溝における幅の狭い底部２に治具
５を嵌合し、更に幅の広い部分３に支持膜６を嵌
合する。この状態で上記幅の広い部分３に粉末状
の試料を充填して、その表面が基板１の表面と一
致するように充分に押し固める。その試料の表面
にＸ線透過板７を配置して、該透過板の上部並び
に下部を金具８，９で押え、ねじ１１で基板１に
固定する。つぎに前記治具５を基板１の上端から
引き抜いて試料１２の装着を完了するもので、該
基板の背後に電熱器１３を密着させると共にこの
基板および電熱器を任意の気体が流通する容器に
収容してＸ線回折装置に設備する。第２図はこの
状態における縦断面図、第３図は横断面図で、第
３図のようにＸ線透過板７を透して試料１２が発
散Ｘ線１４で照射され、該試料によつて回折した
Ｘ線１５がＸ線検出器の入射窓に集束して検出さ
れる。
このように本考案の試料保持器は、粉末試料１
２の前面をＸ線透過板７で押えて背後に凸字形凹
溝の底部２で形成された空間を設けることができ
る。また前記実施例のように治具５の抜き取りを
容易にすると共に成型性の悪い試料に対してその
支持作用を有する薄膜６を設けた場合でも、この
薄膜は可撓性を有するから容易に屈曲する。従つ
て試料の温度変化あるいは気体との反応による化
学変化でこれが膨張した場合でも、該試料は背後
の空間のみへ膨出して、前面は常に基板１の表面
と同一の位置を保持する。このため回折Ｘ線１５
の集束位置が変動して、測定誤差を生ずるような
おそれがないものである。
２の前面をＸ線透過板７で押えて背後に凸字形凹
溝の底部２で形成された空間を設けることができ
る。また前記実施例のように治具５の抜き取りを
容易にすると共に成型性の悪い試料に対してその
支持作用を有する薄膜６を設けた場合でも、この
薄膜は可撓性を有するから容易に屈曲する。従つ
て試料の温度変化あるいは気体との反応による化
学変化でこれが膨張した場合でも、該試料は背後
の空間のみへ膨出して、前面は常に基板１の表面
と同一の位置を保持する。このため回折Ｘ線１５
の集束位置が変動して、測定誤差を生ずるような
おそれがないものである。
第１図は本考案実施例の分解状態における斜視
図、第２図は試料を充填した状態の縦断面図、第
３図は同じく横断面図である。なお図において１
は基板、２および３は凹溝、４はねじ孔、５は治
具、６は支持膜、７はＸ線透過板、８，９は押え
金具、１０は孔、１１はねじ、１２は試料であ
る。
図、第２図は試料を充填した状態の縦断面図、第
３図は同じく横断面図である。なお図において１
は基板、２および３は凹溝、４はねじ孔、５は治
具、６は支持膜、７はＸ線透過板、８，９は押え
金具、１０は孔、１１はねじ、１２は試料であ
る。
Claims (1)
- 断面が凸字形をなした凹溝を有する試料保持基
板と、上記凹溝の底部における幅の狭い部分に嵌
合して該凹溝の幅の広い部分に粉末試料を充填し
たのち該凹溝の端部から引き抜かれる板状の治具
と、上記試料の前面を押えるＸ線透過板とよりな
るＸ線回折試料保持器。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5533780U JPS6330998Y2 (ja) | 1980-04-24 | 1980-04-24 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5533780U JPS6330998Y2 (ja) | 1980-04-24 | 1980-04-24 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS56157663U JPS56157663U (ja) | 1981-11-25 |
| JPS6330998Y2 true JPS6330998Y2 (ja) | 1988-08-18 |
Family
ID=29650009
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5533780U Expired JPS6330998Y2 (ja) | 1980-04-24 | 1980-04-24 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6330998Y2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20220024884A (ko) | 2019-06-28 | 2022-03-03 | 가부시키가이샤 스크린 홀딩스 | 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0795011B2 (ja) * | 1985-11-19 | 1995-10-11 | 株式会社島津製作所 | 螢光ｘ線分析装置 |
| JP7005892B2 (ja) * | 2016-10-19 | 2022-01-24 | 住友金属鉱山株式会社 | 粉末試料の分析方法 |
-
1980
- 1980-04-24 JP JP5533780U patent/JPS6330998Y2/ja not_active Expired
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20220024884A (ko) | 2019-06-28 | 2022-03-03 | 가부시키가이샤 스크린 홀딩스 | 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS56157663U (ja) | 1981-11-25 |
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