JPS63308722A - Magnetic recording medium - Google Patents

Magnetic recording medium

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Publication number
JPS63308722A
JPS63308722A JP14560487A JP14560487A JPS63308722A JP S63308722 A JPS63308722 A JP S63308722A JP 14560487 A JP14560487 A JP 14560487A JP 14560487 A JP14560487 A JP 14560487A JP S63308722 A JPS63308722 A JP S63308722A
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JP
Japan
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glass
magnetic
film
palladium
electroless plating
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Pending
Application number
JP14560487A
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Japanese (ja)
Inventor
Yoshihiro Ono
大野 好弘
Yasushi Karasawa
康史 柄沢
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Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
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Publication date
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  • Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)

Abstract

PURPOSE:To form a magnetic metallic layer directly on a glass substrate having a porous surface by impregnating a soln. of palladium or silver compd. into said substrate and immersing the substrate in a nonmagnetic nonelectrolytic liquid. CONSTITUTION:An Na2O-B2O3 glass phase elutes and the porous glass which consists of SiO2 having fine pores is obtd. if, for example, Na2O-B2O3-SiO2 borosilicate glass is heated and phase-separated to an SiO2 component and Na2O-B2O3 and this glass is immersed in an acid soln. or hot water. This porous glass is immersed into the soln. of the compd. of palladium or silver to impregnate the liquid contg. the palladium ions or silver ions into the fine pores. The reducing agent in the plating liquid reduces the palladium ions or silver ions and the metal palladium or metal silver deposits if this glass is immersed in the electroless plating liquid. The electroless plating is thus started. The glass disk formed with the deflectless magnetic film by the plating is obtd.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はコンピューター等の記憶装置として用いられて
いる磁気記憶装置のメッキ型磁気記憶媒体に関している
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a plated magnetic storage medium for a magnetic storage device used as a storage device for computers and the like.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来、スバフタ、無電解メッキ等の薄膜形成技術を利用
し、磁性膜を形成して成る磁気ディスク基板には、アル
ミニウム合金基板及びガラス基板が用いられている。
BACKGROUND ART Conventionally, aluminum alloy substrates and glass substrates have been used as magnetic disk substrates on which magnetic films are formed using thin film forming techniques such as buffing and electroless plating.

しかし、アルミニウム合金は、 1)軟らかく、加工性が悪い。However, aluminum alloy 1) Soft and poor workability.

2)軟らかいことから、磁気ディスクとヘッドとの耐ク
ラツシユ性、耐摩耗性が悪い。
2) Since it is soft, the crush resistance and wear resistance of the magnetic disk and head are poor.

ことから、アルミニウム合金上に非磁性の下地層を形成
し、下地層をポリッシュし、平滑面を得た上で使用され
てきた。下地層としては、非磁性で硬いことから、通常
無電解ニッケルリンメッキ膜が用いられている。
Therefore, a nonmagnetic underlayer is formed on the aluminum alloy, and the underlayer is polished to obtain a smooth surface before use. As the underlayer, an electroless nickel phosphorus plating film is usually used because it is nonmagnetic and hard.

これに反し、ガラス基板は、 1)硬く、加工性が良い 2)非磁性である。On the other hand, glass substrates 1) Hard and easy to work with 2) It is non-magnetic.

3)無電解ニッケルリンメッキ膜と比較して、硬いため
、磁気ディスクとヘッドとの酎りラッシュ性、耐摩耗性
が良い。
3) Compared to electroless nickel phosphorus plating film, it is harder and has better lash resistance and wear resistance between the magnetic disk and head.

かつ、アルミ板と異なり、無電解ニッケルメッキ膜を形
成する必要がないため、磁気ディスクを製造する工程が
簡略化され、歩留りの向上、コストの低減を可能にする
と考えられている。
Moreover, unlike aluminum plates, there is no need to form an electroless nickel plating film, which simplifies the process of manufacturing magnetic disks, and is thought to make it possible to improve yields and reduce costs.

薄膜磁気ディスクは、今後の高記録密度対応用ディスク
と位置づけられ、磁性膜の薄膜化、高保持力化がはから
れている。しかし記録密度は、磁気ディスクのみの特性
で決定される訳でなく、磁気ヘッドとの組み合わせによ
って決定される。同一の磁気ヘッドを用いた場合、高記
録密度を達成するには磁気ヘッドの7ライハイトを低(
する必要がある。しかし、磁気ヘッドのフライハイドを
低(すると、ディスクとの耐クラツシユ性、耐摩耗性が
悪くなることが知られている。
Thin-film magnetic disks are positioned as future disks for high recording densities, and efforts are being made to make the magnetic film thinner and have higher coercive force. However, the recording density is determined not only by the characteristics of the magnetic disk but also by the combination with the magnetic head. When using the same magnetic head, to achieve high recording density, the magnetic head's 7 light height should be lowered (
There is a need to. However, it is known that if the flyhide of the magnetic head is reduced, the crush resistance and wear resistance with the disk will deteriorate.

以上により、高記録密度対応のディスク基板として低コ
スト及び、耐クラツシユ性、耐摩耗性の良いガラス基板
が使用されるようになってきている。
As a result of the above, glass substrates that are low in cost and have good crush resistance and abrasion resistance have come to be used as disk substrates compatible with high recording densities.

高記録密度ディスクに適したガラス基板を用いて、無電
解メッキにより磁気ディスクを製造する時、十分に洗浄
したガラス基板を通常無電解メッキの前処理として、塩
化第一スズ溶液に浸漬するセンシタイジング工程、次に
、塩化パラジウム硝酸銀等の触媒液に浸漬するアクティ
ベイティング工程を通って、 非磁性無電解メッキ液に
浸漬され、非磁性膜が形成された後、無電解磁性メッキ
液に浸漬され、磁性メッキ膜が形成される。
When manufacturing magnetic disks by electroless plating using glass substrates suitable for high recording density disks, the sufficiently cleaned glass substrate is usually immersed in a stannous chloride solution as a pretreatment for electroless plating. After passing through the activating process, which involves immersing in a catalyst solution such as palladium chloride and silver nitrate, it is immersed in a non-magnetic electroless plating solution to form a non-magnetic film, and then immersed in an electroless magnetic plating solution. , a magnetic plating film is formed.

センシタイジング工程は、ガラス基板にスズの2価イオ
ンを吸着させる工程であり、スズの2価イオンの吸着力
が大きいため、塩化第一スズ溶液に浸漬されたすべての
ものの上に2価イオンが吸着する。
The sensitizing process is a process in which divalent tin ions are adsorbed onto the glass substrate.Since the adsorption power of divalent tin ions is large, divalent ions are absorbed onto everything immersed in the stannous chloride solution. is absorbed.

アクティベイティング工程とは、 触媒液中でガラス基
板の上に吸着している2価のスズイオンと、パラジウム
イオンあるいは銀イオンが反応しパラジウム、銀の触媒
核が形成される工程のことである。
The activating step is a step in which divalent tin ions adsorbed on the glass substrate in a catalyst solution react with palladium ions or silver ions to form catalyst nuclei of palladium and silver.

301 + + p dM + −> 3 n 4 +
 十P d@(触媒核) Sn ″ ”  +2Ag”−*Sn’  ”  +2
Ag”(触媒核) アクティベイティング後、非磁性膜を介して磁性メッキ
膜を形成するか、非磁性膜を介さず直接磁性メッキ膜を
形成するかは、任意である。
301 + + p dM + -> 3 n 4 +
10P d@(catalytic nucleus) Sn ″ ″ +2Ag″−*Sn′ ″ +2
Ag" (Catalytic Nucleus) After activation, it is optional whether to form a magnetic plating film through a non-magnetic film or directly without a non-magnetic film.

磁性膜の磁気特性は構造敏感性であり、下地の構造によ
って、同一メッキ液に浸漬しても磁気特性が変わること
はよく知られている。
It is well known that the magnetic properties of a magnetic film are structurally sensitive, and that the magnetic properties change depending on the underlying structure even when immersed in the same plating solution.

このため、求める磁気特性によって、非磁性膜を介すか
、否かは決定される。非磁性膜としては通常、無電解ニ
ッケル膜が使用される。
Therefore, whether or not to use a nonmagnetic film is determined depending on the desired magnetic properties. An electroless nickel film is usually used as the nonmagnetic film.

〔発明が解決しようとする問題点3 以上の工程かられかるように、高記録密度用基板として
用いられるガラス基板を、無電解メッキの前処理工程を
通す場合、ガラス基板のみに無電解メッキ膜が形成され
るのでな(、ガラス基板をささえている治具の回りにも
無電解メッキ膜が形成されることになる。
[Problem to be Solved by the Invention 3] As can be seen from the above steps, when a glass substrate used as a high recording density substrate is subjected to an electroless plating pretreatment process, an electroless plating film is formed only on the glass substrate. (An electroless plating film is also formed around the jig that supports the glass substrate.)

これは、 1)無電解メッキ膜が余分な治具表面に形成されること
でメッキ浴の劣化が早くなる。
This is because: 1) An electroless plating film is formed on the extra surface of the jig, which accelerates the deterioration of the plating bath.

2)治具に成膜された無電解メッキ膜は、1回の工程ご
とエツチングする必要があり、余分な工程が増す。
2) The electroless plating film formed on the jig must be etched for each step, which increases the number of extra steps.

3)治具に成膜された無電解メッキ膜が、クリ離し、メ
ッキ浴中に落下すると、無電解メッキ浴の分解を起こす
おそれがある。
3) If the electroless plating film formed on the jig comes off and falls into the plating bath, there is a risk that the electroless plating bath will decompose.

という問題点を存している。There is a problem.

更に、センシタイザ−としての塩化第一スズは空気中の
酸素と反応して、 スズ酸を形成しゃすく、形成された
スズ酸は、固形状となって、塩化第一スズ溶液中に浮遊
する。浮遊したスズ酸が、ガラス基板に付着した場合、
その部分は活性化されず無電解メッキ膜のピンホールと
なり、この部分は信号の記録のできない領域、いわゆる
ディフェクトを発生することになる。
Furthermore, stannous chloride as a sensitizer reacts with oxygen in the air to form stannic acid, which becomes solid and floats in the stannous chloride solution. If floating stannic acid adheres to the glass substrate,
This portion is not activated and becomes a pinhole in the electroless plating film, resulting in an area where no signal can be recorded, a so-called defect.

ガラス基板に、無電解メッキで磁性膜を形成する場合、
センシタイジング及びアクティベイティングの通常の前
処理工程を通すと、無電解メッキ液の早期劣化あるいは
、極端な場合は分解が起きる。かつ、治具についた無電
解メッキ膜を毎回エツチングする必要があり、磁気ディ
スクのコストアップにつながる。更に、磁気ディスクは
ディフェクトの多いものとなり、高記録密度のディスク
には適さないという致命的な欠点があった。
When forming a magnetic film on a glass substrate by electroless plating,
The usual pretreatment steps of sensitizing and activating lead to premature deterioration or, in extreme cases, decomposition of the electroless plating solution. Moreover, it is necessary to etch the electroless plating film on the jig every time, which increases the cost of the magnetic disk. Furthermore, magnetic disks have many defects, which is a fatal drawback in that they are not suitable for high-density disks.

本発明の目的は、上記欠点をな(した磁性膜がメッキで
形成されたガラスディスクを提供することにある。
An object of the present invention is to provide a glass disk in which a magnetic film is formed by plating, which does not have the above-mentioned drawbacks.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

本発明は、かかる問題点を解決するために、ガラスから
なる基体の表面が多孔質であるガラス基体に、パラジウ
ムあるいは銀化合物の溶解液を含浸させ、 非磁性無電
解メッキ液に浸漬することで、非磁性無電解メッキ膜を
形成し、該非磁性メッキ膜を介して磁性金属層が無電解
メッキによって形成されるか、あるいは該非磁性・メッ
キ膜を介さず、直接磁性金属層が無電解メッキによって
形成したことを特徴とする。
In order to solve this problem, the present invention impregnates a glass substrate whose surface is porous with a solution of palladium or a silver compound, and immerses it in a non-magnetic electroless plating solution. , a non-magnetic electroless plated film is formed, and a magnetic metal layer is formed by electroless plating through the non-magnetic plated film, or a magnetic metal layer is directly formed by electroless plating without using the non-magnetic plated film. It is characterized by the fact that it has been formed.

表面が多孔質層であるガラス基板は、コーニング社のバ
イコール型多孔質ガラスを代表として数多い。例として
は、 1)バイコール型多孔質ガラス 2)PPG多孔質ガラス 3)CeO* ” 5Nbt Os系多孔質ガラス4)
S ios ” Pa Os系多孔質ガラス5)Sto
w ”Ge0t系多孔質ガラス6)シラス多孔質ガラス 7)無アルカリガラスから得た多孔質ガラス8)重合屑
酸化物含育多孔質ガラス 9)ムライト系多孔質結晶ガラス 10)多孔質の高ケイ酸質泡ガラス がある。
There are many glass substrates having a porous layer on the surface, such as Corning's Vycor type porous glass. Examples include: 1) Vycor type porous glass 2) PPG porous glass 3) CeO* 5Nbt Os type porous glass 4)
S ios ” Pa Os-based porous glass 5) Sto
w “Ge0t-based porous glass 6) Shirasu porous glass 7) Porous glass obtained from alkali-free glass 8) Polymerization waste oxide-containing porous glass 9) Mullite-based porous crystal glass 10) Porous high silicon There is acid bubble glass.

多孔質ガラスは、ガラスの相分離現象を利用したもので
ある。
Porous glass utilizes the phase separation phenomenon of glass.

Nat O−B* Os −3i Ox系のホウケイ酸
ガラスを例にとると、ガラスを加熱することでStow
成分とNano−Btusを相分離する。
Taking Nat O-B* Os -3i Ox-based borosilicate glass as an example, heating the glass can cause Stow
The components and Nano-Btus are phase separated.

この相分離別したガラスを酸溶液または熱水中に浸漬す
ると、Nag O−B* Osガラス相は溶出し、細孔
のあるS i Ox成分の多孔質ガラスが得られる。
When this phase-separated glass is immersed in an acid solution or hot water, the Nag O-B*Os glass phase is eluted and a porous glass of SiOx component with pores is obtained.

ガラスの細孔径はガラスの成分、熱処理温度によって変
わる。また、多孔質ガラスを作った後、アルカリ液に浸
漬することで、sio*成分を溶解し、細孔径を大きく
することも可能である。この細孔径は数十〜数千オング
ストロームまで可変であり、本発明のガラス基板の多孔
質径は、この範囲内であればどの大きさでも良い。
The pore size of glass varies depending on the glass components and heat treatment temperature. Furthermore, after making porous glass, it is possible to dissolve the sio* component and increase the pore diameter by immersing it in an alkaline solution. The pore diameter is variable from several tens to several thousand angstroms, and the pore diameter of the glass substrate of the present invention may be any size within this range.

この多孔質ガラスを、パラジウムあるいは銀の化合物の
溶解液の中に浸漬することで、細孔の中にパラジウムイ
オンあるいは、銀イオンを含んだ液が含浸される。この
ため、ガラス基体の細孔径はパラジウムイオンあるいは
銀イオンを含んだ液が含浸される大きさであればよい。
By immersing this porous glass in a solution containing a palladium or silver compound, the pores are impregnated with a solution containing palladium ions or silver ions. Therefore, the pore diameter of the glass substrate may be large enough to be impregnated with a liquid containing palladium ions or silver ions.

次に、この多孔質ガラスを無電解メッキ液の中に浸漬す
ると、無電解メッキ液中の、還元剤がパラジウムイオン
あるいは銀イオンの還元をすることで金属パラジウムあ
るいは金Wj4mが析出し、触媒となって無電解メッキ
が開始される。
Next, when this porous glass is immersed in an electroless plating solution, the reducing agent in the electroless plating solution reduces palladium ions or silver ions, so that metallic palladium or gold Wj4m is precipitated and acts as a catalyst. Then electroless plating starts.

パラジウムイオンあるいは銀イオンは吸着力が極めて弱
く、多孔質ガラス基板を支えている治具には吸看せず、
よって治具上には無電解メッキ膜が析出しない。
Palladium ions or silver ions have extremely weak adsorption power, and do not absorb into the jig that supports the porous glass substrate.
Therefore, no electroless plating film is deposited on the jig.

又、センシタイザ−として塩化第一スズ溶液も使用しな
いため、ディフェクトの少ない無電解メッキ膜が得られ
る。
Furthermore, since no stannous chloride solution is used as a sensitizer, an electroless plating film with fewer defects can be obtained.

また、メッキ工程から塩化第一スズ槽及びその洗浄槽を
省略できるためコストダウンをはかることもできる。
Furthermore, since the stannous chloride tank and its cleaning tank can be omitted from the plating process, costs can be reduced.

以下実施例を用いて詳細に説明する。This will be explained in detail below using examples.

〔実施例1〕 直径95mmの円形の平滑、鏡面のホウケイ酸ガラス基
板(Rmaxo、05μm  Ra0.003μm) 
を550°Cで1時間焼成することで、S i O*の
成分とB* Os −Nag Oの成分に相分離した。
[Example 1] Circular, smooth, mirror-finished borosilicate glass substrate with a diameter of 95 mm (Rmaxo, 05 μm, Ra 0.003 μm)
By baking at 550°C for 1 hour, phase separation was effected into a SiO* component and a B*Os-NagO component.

ホウケイ酸ガラスの成分は、 S i O*  60 w t% B x Os  30 w t% N a * 0 10 w t% である。The ingredients of borosilicate glass are S i O* 60 w t% B x Os 30 wt% N a * 0 10 w t% It is.

この相分離したホウケイ酸ガラス基板を、 90°Cに
加熱した3規程の硫酸溶液中に30分間浸漬することで
、Bx Os −Nag Oの相を溶出した。これによ
ってこのガラス基板は、平均細孔径約100人や多孔質
ガラス基板となった。
This phase-separated borosilicate glass substrate was immersed for 30 minutes in a 3N sulfuric acid solution heated to 90°C to elute the BxOs-NagO phase. As a result, this glass substrate became a porous glass substrate with an average pore diameter of about 100 pores.

この基板を、日本カニゼン輛製しフドシューマの建浴液
に5分間浸漬し、十分な水洗を行った。
This substrate was immersed in Fudoshuma bath preparation solution manufactured by Nippon Kanizen Co., Ltd. for 5 minutes, and thoroughly rinsed with water.

この後、日本カニゼン■製の無電解ニッケルリンメッキ
液5K−100に浸漬し、基板上に無電解メッキ膜を形
成した。メッキ条件は、85°Cで浸漬時間3分間であ
り、メッキ膜厚は2500人であった。
Thereafter, the substrate was immersed in an electroless nickel phosphorus plating solution 5K-100 manufactured by Nippon Kanigen ■ to form an electroless plating film on the substrate. The plating conditions were 85° C. and 3 minutes of immersion time, and the plating film thickness was 2,500 mm.

このメッキ膜つき基板を、次の組成の磁性メッキ液に浸
漬することで、磁性膜を形成した。
A magnetic film was formed by immersing this plated film-coated substrate in a magnetic plating solution having the following composition.

書硫酸コバルト     0.07mol/1・硫酸ニ
ッケル     0.03mol/1−酒石酸ナトリウ
ム   0.2mol/1拳リンゴ酸ナトリウム   
0.4mol/1・コハク酸ナトリウム   O,1m
ol/1・ホウ酸          0.2mol/
1・硫酸アンモニウム    O,1mol/1轡次亜
リン酸ナトリウム 0.15mo+/1・PH=9.0
  (水酸化ナトリウムで調整)・温度       
75°C メッキ液への浸漬時間は、1分間で、磁性膜の膜厚は8
00人であり、保持力は8500eであった。
Cobalt sulfate 0.07 mol/1 Nickel sulfate 0.03 mol/1 Sodium tartrate 0.2 mol/1 Sodium malate
0.4mol/1・sodium succinate O, 1m
ol/1・boric acid 0.2mol/
1. Ammonium sulfate O, 1 mol/1 liter Sodium hypophosphite 0.15 mo+/1. PH=9.0
(Adjusted with sodium hydroxide)・Temperature
The immersion time in the plating solution at 75°C was 1 minute, and the thickness of the magnetic film was 8.
00 people, and the holding power was 8500e.

この時、ガラス基板を支持している治具には、メッキ膜
が形成されなかった。
At this time, no plating film was formed on the jig supporting the glass substrate.

磁性膜のついたガラス基板に、保膜、潤滑膜とシテクロ
ム100人、カーボン400人の膜をスパッタにて形成
した。
A holding film, a lubricating film, a 100-layer film of Citechrome, and a 400-layer film of carbon were formed on a glass substrate with a magnetic film by sputtering.

この後、磁性膜のピンホール数を試験するために、ギヤ
ツブ巾18μmのミニモノリシックヘッドを用いて、 
アデルフィー製のサーテイファイヤ−で録再試験を行っ
たが、ディフェクトは検出されなかった。
After this, in order to test the number of pinholes in the magnetic film, a mini monolithic head with a gear tooth width of 18 μm was used to test the number of pinholes in the magnetic film.
A recording/reproduction test was conducted using an Adelphi Certifier, but no defects were detected.

〔実施例2〕 実施例1と同形状同成分の円形のホウケイ酸ガラスを5
50°Cで24時間焼成することで5iO1の成分とB
m Os −Nag Oの成分の相分離を行った。
[Example 2] Five pieces of circular borosilicate glass having the same shape and composition as Example 1 were prepared.
By baking at 50°C for 24 hours, the components of 5iO1 and B
Phase separation of the components of mOs-NagO was performed.

この相分離したホウケイ酸ガラス基板を、 90°Cに
加熱した5規程の硫酸溶液中に2時間浸漬した後、10
規程の水酸化ナトリウム液に1時間浸漬した。これによ
って、このガラス基板は、平均細孔径約250人の多孔
質ガラス基板となった。
This phase-separated borosilicate glass substrate was immersed for 2 hours in a 5N sulfuric acid solution heated to 90°C, and then
It was immersed in the prescribed sodium hydroxide solution for 1 hour. As a result, this glass substrate became a porous glass substrate with an average pore diameter of about 250 pores.

この基板を、日本カニゼン社製のレフトシューマーの建
浴液に5分間浸漬し、十分な水洗を行った後、実施例1
と同じ磁性メッキ液に、同一条件で浸漬し、磁性膜を形
成した。
This substrate was immersed in Nippon Kanigen Co., Ltd.'s Leftsumer bath preparation solution for 5 minutes, and after thorough washing with water, Example 1
A magnetic film was formed by immersing it in the same magnetic plating solution under the same conditions.

磁性膜の厚みは、1000人であり、保持力は7000
eであった。
The thickness of the magnetic film is 1000 mm, and the holding force is 7000 mm.
It was e.

実施例1と同様に、このガラス基板を支持している治具
には、メッキ膜は析出しなかった。
As in Example 1, no plating film was deposited on the jig supporting this glass substrate.

また、クロム100人、カーボン400人の保護膜を形
成した後、実施例1と同様の方法で録再試験を行ったが
、同様にディフェクトは検出されなかった。
Further, after forming a protective film of 100 chromium and 400 carbon, a recording/reproduction test was conducted in the same manner as in Example 1, but similarly no defects were detected.

〔実施例3〕 Nag O−Bm Os  CeOs  ’ 3Nbt
 06系のガラスを用いて、実施例1と同形状のガラス
基板を作製した。600°Cで12時間熱処理で相分離
、結晶化させ、5規程、90°Cの硫酸に1時間浸漬す
ることで、NazO−BtO,相を溶出させた。これに
よって、平均細孔径800人ガラス基板を得た。
[Example 3] Nag O-Bm Os CeOs ' 3Nbt
A glass substrate having the same shape as in Example 1 was produced using 06 series glass. Phase separation and crystallization were performed by heat treatment at 600°C for 12 hours, and the NazO-BtO phase was eluted by immersion in 5-regular sulfuric acid at 90°C for 1 hour. As a result, a glass substrate having an average pore diameter of 800 was obtained.

この基板を用いて、実施例1と同じ工程で、磁性膜を形
成し、クロムカーボンの保護膜を形成した後、録再試験
を行った。実施例1と同様にディフェクトは検出されな
かった。
Using this substrate, a magnetic film was formed and a chromium carbon protective film was formed in the same steps as in Example 1, and then a recording/reproduction test was conducted. As in Example 1, no defects were detected.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上の実施例かられかるように、本発明の磁気記録媒体
は、製造工程で、治具に余分のメッキが析出することが
なく、磁性メッキ浴が早期に劣化することを防いでいる
。また、センシタイザ−七して塩化第一スズ溶液を使わ
ないことで、工程が簡略化でき、かつ、スズ酸がガラス
基板上に付着することがないため、磁性膜にピンホール
が発生しに(いという効果があった。
As can be seen from the above embodiments, in the magnetic recording medium of the present invention, no excess plating is deposited on the jig during the manufacturing process, and the magnetic plating bath is prevented from deteriorating early. In addition, by not using a stannous chloride solution as a sensitizer, the process can be simplified, and since stannic acid does not adhere to the glass substrate, pinholes do not occur in the magnetic film ( It had a positive effect.

以  上 ゛\〜′that's all ゛\〜′

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] ガラスからなる基体の表面が多孔質層であるガラス基体
に、パラジウムあるいは銀化合物の溶解液を含浸させ、
非磁性無電解メッキ液に浸漬することで、非磁性無電解
メッキ膜を形成し、該非磁性メッキ膜を介して、磁性金
属層が無電解メッキによって形成されるか、あるいは、
該非磁性メッキ膜を介さず、直接磁性金属層が無電解メ
ッキによって形成されたことを特徴とする磁気記録媒体
A glass substrate whose surface is a porous layer is impregnated with a solution of palladium or a silver compound,
A nonmagnetic electroless plating film is formed by immersion in a nonmagnetic electroless plating solution, and a magnetic metal layer is formed by electroless plating via the nonmagnetic plating film, or,
A magnetic recording medium characterized in that a magnetic metal layer is directly formed by electroless plating without using the non-magnetic plated film.
JP14560487A 1987-06-11 1987-06-11 Magnetic recording medium Pending JPS63308722A (en)

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JPS63308722A true JPS63308722A (en) 1988-12-16

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