JPS63301888A - Oxanol compound - Google Patents
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は新規なオキソノール系化合物に関する。[Detailed description of the invention] [Industrial application field] The present invention relates to novel oxonol compounds.
さらに詳しくは新規なピラゾロピリジン核を有するオキ
ソノール系化合物に関する。More specifically, the present invention relates to a novel oxonol compound having a pyrazolopyridine nucleus.
情報記録媒体に関する。Regarding information recording media.
従来ピラゾロピリジン核を有するオキソノール系化合物
としては特開昭52−135335号、同60−719
25号、及び特公昭58−35544号に記載された化
合物が知られていた。Conventional oxonol compounds having a pyrazolopyridine nucleus include JP-A-52-135335 and JP-A-60-719.
No. 25, and the compounds described in Japanese Patent Publication No. 58-35544 were known.
しかし、これらの化合物は、吸収波長の範囲が比較的狭
いという問題があった。However, these compounds have a problem in that their absorption wavelength range is relatively narrow.
本発明の目的は、近赤外域に至るまでの広汎な波長領域
に吸収帯を有する新規なオキソノール系化合物を提供す
ることである。An object of the present invention is to provide a novel oxonol compound having an absorption band in a wide wavelength range up to the near infrared region.
本発明の新規化合物は下記一般式(I)で表わされる。 The novel compound of the present invention is represented by the following general formula (I).
一般式(I)
〔式中りは置換されていてもよいメチン基、またはこれ
らが共役二重結合で連結されて形成されるトリメチン鎖
もしくはペンタメチン鎖を表わし、EはO,S、、N−
R’を表わしSR’%R’は独立に置換されていてもよ
いアルキル基、置換されていてもよいアルケニル基、置
換されていてもよいアルキニル基、置換されていてもよ
いアリール基、置換されていてもよい複素環基、置換さ
れていてもよいアミノ基、置換されていてもよいヒドラ
ジノ基、又は置換されていてもよいジアゼニル基を表わ
し;R1は置換されていてもよいアルキル基、置換され
ていてもよいアリール基、置換されていてもよいアルケ
ニル基、置換されていてもよいアルキニル基、または置
換されていてもよい複素環基を表わし;R″は水素原子
、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、水酸基、カルボ
キシル基、置換されていてもよいアルキル基、置換され
ていてもよいアリール基、置換されていてもよいアルケ
ニル基、置換されていてもよい複素環基、置換されてい
てもよいアルコキシ基、置換されていてもよいアリール
オキシ基、置換されていてもよいアルコキシカルボニル
基、置換されていてもよいアリールオキシカルボニル基
、置換されていてもよいアミノ基、置換されていてもよ
いアシルオキシ基、置換されていてもよいカルバモイル
基、置換されていてもよいスルファモイル基、置換され
ていてもよいアルキルチオ基、置換されていてもよいア
リールチオ基、置換されていてもよいアルキルスルホニ
ル基、置換されていてもよいアリールスルホニル基、ま
たは置換されていてもよいアルキニル基を表わし、R1
とR4とは互いに連結して環を形成してもよい。〕本発
明の化合物と従来のピラゾロピリジン核を含むオキソノ
ール系化合物との構造上の相異点は、Rtで表わされる
基が水素原子ではない点であり、この相異点が、本発明
の化合物に近赤外光の吸収、合成の簡便さ、優れた安定
性、などの好ましい特性を付与しているものと推定され
る。General formula (I) [The formula represents an optionally substituted methine group, or a trimethine chain or pentamethine chain formed by connecting these with a conjugated double bond, and E is O, S, N-
R' represents an optionally substituted alkyl group, an optionally substituted alkenyl group, an optionally substituted alkynyl group, an optionally substituted aryl group, an optionally substituted aryl group, and an optionally substituted aryl group. R1 represents an optionally substituted heterocyclic group, an optionally substituted amino group, an optionally substituted hydrazino group, or an optionally substituted diazenyl group; R1 is an optionally substituted alkyl group, a substituted represents an optionally substituted aryl group, an optionally substituted alkenyl group, an optionally substituted alkynyl group, or an optionally substituted heterocyclic group; R″ is a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group , nitro group, hydroxyl group, carboxyl group, optionally substituted alkyl group, optionally substituted aryl group, optionally substituted alkenyl group, optionally substituted heterocyclic group, unsubstituted optionally substituted alkoxy group, optionally substituted aryloxy group, optionally substituted alkoxycarbonyl group, optionally substituted aryloxycarbonyl group, optionally substituted amino group, optionally substituted a good acyloxy group, an optionally substituted carbamoyl group, an optionally substituted sulfamoyl group, an optionally substituted alkylthio group, an optionally substituted arylthio group, an optionally substituted alkylsulfonyl group, represents an optionally substituted arylsulfonyl group or an optionally substituted alkynyl group, and R1
and R4 may be linked to each other to form a ring. ] The structural difference between the compound of the present invention and conventional oxonol compounds containing a pyrazolopyridine nucleus is that the group represented by Rt is not a hydrogen atom. It is presumed that the compound has favorable properties such as absorption of near-infrared light, ease of synthesis, and excellent stability.
なお当然のことながら一般式(I)の化合物は下記一般
式(Ia)及び(Ib)の化合物との互変異性体混合物
として存在し得るが、本明細書では便宜上一般式(I)
の構造式にて記述する。It should be noted that, as a matter of course, the compound of the general formula (I) may exist as a tautomeric mixture with the compounds of the following general formulas (Ia) and (Ib), but in this specification, for convenience, the compound of the general formula (I)
Described using the structural formula.
(Ia)
Lが共役二重結合で連結されて形成されるメチン鎖とし
ては、特に一般式(a)ないしく1)で表わされるもの
が好ましい。(Ia) As the methine chain formed by connecting L with a conjugated double bond, those represented by general formulas (a) to 1) are particularly preferred.
一般式(a)
一般式(b)
冨CH−CI = C−CH= CI −■
一般式(C)
一般式(el
一般式(fl
一般式(幻
一般式(h)
一般式(I)
%式%
一般式(a)ないしく1)においてYは水素原子または
、1価の基を表わし、pおよびqは独立に0もしくは1
を表わす、この場合、1価の基としては、メチル基など
の低級アルキル基、アラルキル基、メトキシ基などの低
級アルコキシ基、ジメチルアミノ基、ジフェニルアミノ
基、メチルフェニルアミノ基、モルフォリノ基、イミダ
ゾリジノ基、エトキシカルボニルピペラジノ基などのジ
置換アミノ基、アセトキシ基などのアルキルカルボニル
オキシ基、メチルチオ基などのアルキルチオ基、シアノ
基、ニトロ基、FS CA’、Brなどのハロゲン原子
などが好ましい。General formula (a) General formula (b) Tomi CH-CI = C-CH= CI -■ General formula (C) General formula (el General formula (fl General formula (phantom general formula (h) General formula (I) % Formula % In general formula (a) or 1), Y represents a hydrogen atom or a monovalent group, and p and q are independently 0 or 1.
In this case, the monovalent group includes a lower alkyl group such as a methyl group, an aralkyl group, a lower alkoxy group such as a methoxy group, a dimethylamino group, a diphenylamino group, a methylphenylamino group, a morpholino group, an imidazolidino group. , a di-substituted amino group such as an ethoxycarbonylpiperazino group, an alkylcarbonyloxy group such as an acetoxy group, an alkylthio group such as a methylthio group, a cyano group, a nitro group, and a halogen atom such as FS CA' and Br.
なおしで表わされる連結基のうち特に好ましいものは一
般式(a)もしくは(b)で表わされるものであり、と
くにYが水素原子を表わし、pもしくはqのうち少なく
とも一方がOを表わすものである。Among the connecting groups represented by the above, particularly preferred are those represented by the general formula (a) or (b), especially those in which Y represents a hydrogen atom and at least one of p or q represents O. .
一般式(I)におけるL上の置換基として好ましいもの
は、炭素原子数30以下のものであって、以下に挙げる
基の中から選ばれ、これらの基はさらに置換基を有して
いてもよい、すなわち、アルキル基、アラルキル基、ア
リール基、ヒドロキシ基、FS C&、BrS L シ
アノ基、ニトロ基、アルコキシ基、アラルキルオキシ基
、アリールオキシ基、アシル基、アシロキシ基、アシル
アミノ基、スルホンアミド基、アリールオキシカルボニ
ル基、アラルキルオキシカルボニル基、アルコキシカル
ボニル基、カルバモイル基、スルファモイル基、カルボ
キシ基もしくはカルボキシラド基、スルホン酸基もしく
はスルホナト基、カルバモイルアミノ基、スルファモイ
ルアミノ基、アルキルスルホニル基、アラルキルスルホ
ニル基、了り−ルスルホニル基、アルキルスルフィニル
基、アラルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル
基、アルキルチオ基、アラルキルチオ基、またはアリー
ルチオ基である。Preferred substituents on L in general formula (I) have 30 or less carbon atoms and are selected from the groups listed below, even if these groups further have a substituent. Good, that is, alkyl group, aralkyl group, aryl group, hydroxy group, FS C&, BrS L cyano group, nitro group, alkoxy group, aralkyloxy group, aryloxy group, acyl group, acyloxy group, acylamino group, sulfonamido group , aryloxycarbonyl group, aralkyloxycarbonyl group, alkoxycarbonyl group, carbamoyl group, sulfamoyl group, carboxyl group or carboxylad group, sulfonic acid group or sulfonato group, carbamoylamino group, sulfamoylamino group, alkylsulfonyl group, aralkyl group They are a sulfonyl group, an alkylsulfonyl group, an alkylsulfinyl group, an aralkylsulfinyl group, an arylsulfinyl group, an alkylthio group, an aralkylthio group, or an arylthio group.
Eで表わされる基のうち好ましいものは0又はN−R’
であり、R4として好ましいものは、置換されていても
よいアルキル基、置換されていてもよいアルケニル基、
置換されていてもよいアリール基、置換されていてもよ
いアミノ基、置換されていてもよいヒドラジノ基、置換
されていてもよいジアゾ基であり、EがNR’の場合に
はとくにR4がR1と連結して環を形成したものが好ま
しい。R1とR4が連結することにより形成される環と
して好ましいものはイミダゾール、ピラゾール、トリア
ゾール、テトラゾール環であり、これらの環は置換基を
有していてもよく、また他の環と縮合環を形成していて
もよい。Among the groups represented by E, preferred are 0 or NR'
and preferred as R4 are an optionally substituted alkyl group, an optionally substituted alkenyl group,
An optionally substituted aryl group, an optionally substituted amino group, an optionally substituted hydrazino group, an optionally substituted diazo group, and especially when E is NR', R4 is R1 It is preferable to form a ring by linking with. Preferred rings formed by connecting R1 and R4 are imidazole, pyrazole, triazole, and tetrazole rings, and these rings may have a substituent or form a fused ring with another ring. You may do so.
R1で表わされる基のうち好ましいものは炭素原子数1
ないし30の置換されていてもよいアルキル基、炭素原
子数6ないし30の置換されていてもよいフェニル基、
環員数5もしくは6で炭素原子数1ないし30の置換さ
れていてもよい複素環基(ヘテロ原子としては例えばB
SN、0、S、Ses Teを含むもの)を表わす、複
素環基の具体例としは置換されていてもよい、ピロリジ
ル基、モルホリノ基、2−ボラ−1,3−ジオキソラニ
ル基、1.3チアゾリジニル基、などの飽和へテロ環、
置換されていてもよいイミダゾリル、チアゾリル、ベン
ゾチアゾリル、ベンゾオキサシリル、ペンゾテルラゾリ
ル、ペンゼセレナゾリル、ピリジル、ピリミジニル、キ
ノリニルなどの不飽和へテロ環が挙げられる。これらの
基土に置換されていてもよい置換基として好ましいもの
は、ハロゲン原子(例えばF、C1Br5 I)、シ
アノ基、ニトロ基、カルボキシル基、スルホン酸基、水
酸基、アルコキシ基(例えばメトキシ基、イソプロポキ
シ基、ヘキサデシルオキシ基など)、アリールオキシ基
(例えばフェノキシ基、2,4−ジ−t−ペンチルフェ
ノキシ基、m−ペンタデシルフェノキシ基、p−メトキ
シフェニル基、3.5−ジクロロフェニル基、3−スル
ホフェニルg、3゜5−ジスルホフェニル基など)アル
キル基(メチル基、4−スルホブチル基、2−メトキシ
エチル基、トリフルオロメチル基など)、アリール基(
例えばフェニル基、4−スルホフェニル基、3−クロえ
ロフェニル基、4−へキシルフェニル基、2−ナフチル
基など)、置換もしくは無置換のアミノ基(例えばアミ
ノ基、メチルアミノ基、フェニルアミノ基、アセチルア
ミノ基、メタンスルホニルアミノ基、メチルカルバモイ
ルアミノ基、フェニルチオカルバモイルアミノ基、ベン
ゼンスルホニルアミノ基など)、カルバモイル基(例え
ばカルバモイル基、メチルカルバモイル基、フヱニルカ
ルバモイル基、オクタデシルカルバモイル基、ジエチル
カルバモイル基、ピロリジノカルボニル基など)スルフ
ァモイル基(例えば、スルファモイル基、ジメチルスル
ファモイル基、t−ブチルスルファモイル基、フェニル
スルファモイル基、ピロリジノスルホニル基、3− (
2,4−シーを一ペンチルフェノキシ)ブチルスルファ
モイル基など)、アルキルもしくはアリールチオ基(例
えばメチルチオ基、フェニルチオ基、ベンジルチオ基、
オクタデシルチオ基)、アルキルスルホニル基(例えば
メタンスルホニル基、2−エトキシエチルスルホニル基
など)、了り−ルスルホニル基(例えばベンゼンスルフ
ァモイル基、ドデシルベンゼンスルホニル基、2−(2
−メトキシエトキシ)−5−(4−ヒドロキシフェニル
アゾ)−ベンゼンスルホニル基など)である。Among the groups represented by R1, preferable groups have 1 carbon atom.
an optionally substituted alkyl group having 6 to 30 carbon atoms; an optionally substituted phenyl group having 6 to 30 carbon atoms;
An optionally substituted heterocyclic group having 5 or 6 ring members and 1 to 30 carbon atoms (heteroatoms include, for example, B
Specific examples of the heterocyclic group (including SN, 0, S, Ses Te) include an optionally substituted pyrrolidyl group, morpholino group, 2-bora-1,3-dioxolanyl group, 1.3 saturated heterocycles such as thiazolidinyl groups,
Examples include unsaturated heterocycles such as optionally substituted imidazolyl, thiazolyl, benzothiazolyl, benzoxasilyl, penzotellazolyl, penzeselenazolyl, pyridyl, pyrimidinyl, and quinolinyl. Preferred substituents that may be substituted on these bases include halogen atoms (e.g. F, C1Br5 I), cyano groups, nitro groups, carboxyl groups, sulfonic acid groups, hydroxyl groups, alkoxy groups (e.g. methoxy groups, isopropoxy group, hexadecyloxy group), aryloxy group (e.g. phenoxy group, 2,4-di-t-pentylphenoxy group, m-pentadecylphenoxy group, p-methoxyphenyl group, 3,5-dichlorophenyl group) , 3-sulfophenyl group, 3゜5-disulfophenyl group, etc.), alkyl group (methyl group, 4-sulfobutyl group, 2-methoxyethyl group, trifluoromethyl group, etc.), aryl group (
For example, phenyl group, 4-sulfophenyl group, 3-chlorophenyl group, 4-hexylphenyl group, 2-naphthyl group, etc.), substituted or unsubstituted amino group (for example, amino group, methylamino group, phenylamino group) , acetylamino group, methanesulfonylamino group, methylcarbamoylamino group, phenylthiocarbamoylamino group, benzenesulfonylamino group, etc.), carbamoyl group (e.g. carbamoyl group, methylcarbamoyl group, phenylcarbamoyl group, octadecylcarbamoyl group, diethyl group) carbamoyl group, pyrrolidinocarbonyl group) sulfamoyl group (e.g. sulfamoyl group, dimethylsulfamoyl group, t-butylsulfamoyl group, phenylsulfamoyl group, pyrrolidinosulfonyl group, 3-(
(2,4-cy to monopentylphenoxy)butylsulfamoyl group, etc.), alkyl or arylthio groups (such as methylthio group, phenylthio group, benzylthio group,
octadecylthio group), alkylsulfonyl group (e.g. methanesulfonyl group, 2-ethoxyethylsulfonyl group, etc.), irisulfonyl group (e.g. benzenesulfamoyl group, dodecylbenzenesulfonyl group, 2-(2
-methoxyethoxy)-5-(4-hydroxyphenylazo)-benzenesulfonyl group, etc.).
R1で表わされる基のうち特に好ましいものは炭素原子
数1ないし20の置換されていてもよいアルキル基(上
記の好ましい置換基で置換されていてもよい)、炭素原
子数6ないし20の置換されていてもよいフェニル基(
上記の好ましい置換基で置換されていてもよい)、炭素
原子数1ないし20の6もしくは6員の複素環基(例え
ば2−ピリジル、4−ピリジル、2−ベンズチアゾリル
、2−(I−メチルイミダゾリル)、4.6−ジエチル
アミノ−2−トリアジニルなど)である。Among the groups represented by R1, particularly preferred are an optionally substituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms (which may be substituted with the above-mentioned preferred substituents), and a substituted alkyl group having 6 to 20 carbon atoms. Phenyl group (which may be
2-pyridyl, 4-pyridyl, 2-benzthiazolyl, 2-(I-methylimidazolyl), 6- or 6-membered heterocyclic groups having 1 to 20 carbon atoms (e.g. ), 4,6-diethylamino-2-triazinyl, etc.).
置換されていてもよいアルキル基の具体例としては、メ
チル基、イソプロピル基、n−ブチル基、t−ペンチル
基、シクロヘキシル基、2−エチルヘキシル基、ベンジ
ル基、3− (2,4−ジ−t−ペンチルフェノキシ)
プロピル基、オクタデシル基、カルボキシメチル基、4
−スルホブチル基、2−スルホベンジル基、2−メトキ
シエトキシ基、トリフルオロメチル基、置換されていて
もよいフェニル基の例としてはフェニル基、4−メトキ
シフェニル基、3−クロロフェニル!、4−ヘキシルフ
ェニル基、3−スルホフェニル基、4−1−オクチルフ
ェニル基、2−スルホベンジル基、4−メタンスルホン
アミド−2−スルファモイルフェニル基など、複素環基
の例としては2−ピリジル基、2−イミダゾリル基、1
−メチルベンゾチアゾール−2−イル基、2−イミダゾ
リジニル基、2−ピリミジニル基などが挙げられる。Specific examples of the optionally substituted alkyl group include methyl group, isopropyl group, n-butyl group, t-pentyl group, cyclohexyl group, 2-ethylhexyl group, benzyl group, 3-(2,4-di- t-pentylphenoxy)
Propyl group, octadecyl group, carboxymethyl group, 4
-Sulfobutyl group, 2-sulfobenzyl group, 2-methoxyethoxy group, trifluoromethyl group, examples of the optionally substituted phenyl group include phenyl group, 4-methoxyphenyl group, 3-chlorophenyl group! , 4-hexylphenyl group, 3-sulfophenyl group, 4-1-octylphenyl group, 2-sulfobenzyl group, 4-methanesulfonamido-2-sulfamoylphenyl group, etc. -pyridyl group, 2-imidazolyl group, 1
Examples include -methylbenzothiazol-2-yl group, 2-imidazolidinyl group, and 2-pyrimidinyl group.
R2で表わされる基のうち好ましいものは、炭素原子数
1ないし30の置換されていてもよいアルキル基、炭素
原子数6ないし30の置換されていてもよいフェニル基
、炭素原子数lないし30の置換されていてもよい複素
環基(環員数は5もしくは6、ヘテロ原子としてはBS
N、0.51SeSTeのうちから選ばれるもの)であ
る。これらの基土に置換する基として好ましいものは、
R1上の好ましい置換基として上述した基が挙げられる
。Among the groups represented by R2, preferred are an optionally substituted alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, an optionally substituted phenyl group having 6 to 30 carbon atoms, and an optionally substituted phenyl group having 1 to 30 carbon atoms. Optionally substituted heterocyclic group (number of ring members is 5 or 6, heteroatom is BS
N, 0.51SeSTe). Preferred groups for substituting these bases are:
Preferred substituents on R1 include the groups mentioned above.
R2で表わされる基のうち好ましいものは、炭素原子数
1ないし20の置換されていてもよいアルキル基(例え
ばメチル基、4−スルホブチル基、2−メトキシエチル
基、トリフルオロメチル基、ベンゾイルオキシメチル基
など)、炭素原子数6ないし20の置換されていてもよ
いフェニル基(例えばフェニル基、4−スルホフェニル
基、4−メトキシフェニル基、3−クロロフェニル基、
3−トリフルオロメチルフェニル基、2−メタンスルホ
ニル−4−二トロフェニル基、2−ニトロ−4−ジメチ
ルスルファモイルフェニル基、4−メタンスルホニルフ
ェニル基など)、炭素原子数1ないし20で環員数5も
しくは6の複素環基(例えば2−ピリジル、4−ピリジ
ル、3−ビリ゛ジル、2−ベンズチアゾリル、2−(I
−メチル−イミダゾリル)、4.6−シブチルアミノ−
2−トリアジニルなど)である。Among the groups represented by R2, preferred are optionally substituted alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms (e.g., methyl group, 4-sulfobutyl group, 2-methoxyethyl group, trifluoromethyl group, benzoyloxymethyl group). groups), optionally substituted phenyl groups having 6 to 20 carbon atoms (e.g. phenyl group, 4-sulfophenyl group, 4-methoxyphenyl group, 3-chlorophenyl group,
(3-trifluoromethylphenyl group, 2-methanesulfonyl-4-nitrophenyl group, 2-nitro-4-dimethylsulfamoylphenyl group, 4-methanesulfonylphenyl group, etc.), ring having 1 to 20 carbon atoms Heterocyclic groups having 5 or 6 members (e.g. 2-pyridyl, 4-pyridyl, 3-pyridyl, 2-benzthiazolyl, 2-(I
-methyl-imidazolyl), 4,6-sibutylamino-
2-triazinyl, etc.).
置換されていてもよアルキル基の具体例としては、メチ
ル基、イソプロピル基、n−ブチル基、t−ペンチル基
、シクロヘキシル基、2−エチルヘキシル基、ベンジル
基、3− (2,4−ジ−t−ペンチルフェノキシ)プ
ロピル基、オクタデシル基、カルボキシメチル基、2−
メトキシエトキシ基、トリフルオロメチル基など、置換
されていてもよいフェニル基の例としては、フェニル基
、4−メトキシフェニル基、3−クロロフェニル基、4
−へキシルフェニル基、3−スルホフェニル基、4−t
−オクチルフェニル基などが挙げられる。Specific examples of optionally substituted alkyl groups include methyl group, isopropyl group, n-butyl group, t-pentyl group, cyclohexyl group, 2-ethylhexyl group, benzyl group, 3-(2,4-di- t-pentylphenoxy)propyl group, octadecyl group, carboxymethyl group, 2-
Examples of optionally substituted phenyl groups such as methoxyethoxy group and trifluoromethyl group include phenyl group, 4-methoxyphenyl group, 3-chlorophenyl group,
-hexylphenyl group, 3-sulfophenyl group, 4-t
-octylphenyl group and the like.
R3で表わされる基のうち好ましいものは、水素原子、
炭素原子数1ないし30の置換されていてもよいアルキ
ル基、炭素原子数6ないし3oの置換されていてもよい
フェニル基、炭素原子数1ないし30の置換されていて
もよいカルバモイル基、炭素原子数2ないし30の置換
されていてもよいアルコキシカルボニル基、炭素原子数
7ないし30の置換されていてもよいフェノキシカルボ
ニル基、カルボキシル基、または水酸基である。Among the groups represented by R3, preferred are a hydrogen atom,
An optionally substituted alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, an optionally substituted phenyl group having 6 to 3 o carbon atoms, an optionally substituted carbamoyl group having 1 to 30 carbon atoms, a carbon atom An optionally substituted alkoxycarbonyl group having 2 to 30 carbon atoms, an optionally substituted phenoxycarbonyl group having 7 to 30 carbon atoms, a carboxyl group, or a hydroxyl group.
これらの基土に置換する基・とじて好ましいものは、R
1上の好ましい置換基として上述した基が挙げれる。Preferred groups to substitute on these bases are R
Preferred substituents on 1 include the groups mentioned above.
R3で表わされる基のうち特に好ましいものは、炭素原
子数1ないし20の置換されていてもよいアルキル基(
例えばメチル基、t−ブチル基、トリフルオロメチル基
など)、炭素原子数6ないし20の置換されていてもよ
いフェニル基(例えばフェニル基、4−メトキシフェニ
ルL3,5−ジクロロフェニル基など)、カルボキシル
基及びその塩、炭素原子数1ないし20の置換されてい
てもよいカルバモイル基(例えばカルバモイル基、メチ
ルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、ピロリジ
ノカルボニル基、2−エチルへキシルカルバモイル基な
ど)、炭素原子数2ないし20のアルコキシカルボニル
基(例えばエトキシカルボニル基、ヘキサデシルオキシ
カルボニル基、t−ブトキシカルボニル基、コレステリ
ルオキシカルボニル基など)、カルボキシル基又はその
塩、または水酸基である。Among the groups represented by R3, particularly preferred are optionally substituted alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms (
(e.g., methyl group, t-butyl group, trifluoromethyl group, etc.), optionally substituted phenyl group having 6 to 20 carbon atoms (e.g., phenyl group, 4-methoxyphenyl group, L3,5-dichlorophenyl group, etc.), carboxyl group groups and salts thereof, optionally substituted carbamoyl groups having 1 to 20 carbon atoms (e.g. carbamoyl group, methylcarbamoyl group, diethylcarbamoyl group, pyrrolidinocarbonyl group, 2-ethylhexylcarbamoyl group, etc.), carbon atoms It is an alkoxycarbonyl group of number 2 to 20 (eg, ethoxycarbonyl group, hexadecyloxycarbonyl group, t-butoxycarbonyl group, cholesteryloxycarbonyl group, etc.), a carboxyl group or a salt thereof, or a hydroxyl group.
置換されていてもよいアルキル基の好ましい例としては
、メチル基、t−ブチル基、トリフルオロメチル基、2
−エチルヘキシル基、ペンタデシル基、置換されていて
もよいフェニル基の好ましい例としては、フェニル基、
4−メトキシフェニル基、4−ニトロフェニル基など、
置換されていてもよいカルバモイル基の好ましい例とし
ては、カルバモイル基、メチルカルバモイル基、ブチル
カルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、ピロリジノ
カルボニル基、モルホリノカルボニル基、ヘキサデシル
カルバモイル基、フェニルカルバモイル基、N−メチル
−N−フェニルカルバモイル基、2−メトキシエトキシ
カルバモイル基、2−エチルへキシルカルバモイル基な
ど、置換されていてもよいアルコキシカルボニル基の好
ましい例としては、エトキシカルボニル基、ブトキシカ
ルボニル基、ベンジニオキシカルボニル基、2−メトキ
シエトキシカルボニル基、2−ドデシルオキシ−エトキ
シカルボニル基などが挙げられる。Preferred examples of the optionally substituted alkyl group include methyl group, t-butyl group, trifluoromethyl group, 2
- Preferred examples of ethylhexyl group, pentadecyl group, and optionally substituted phenyl group include phenyl group,
4-methoxyphenyl group, 4-nitrophenyl group, etc.
Preferred examples of the optionally substituted carbamoyl group include carbamoyl group, methylcarbamoyl group, butylcarbamoyl group, diethylcarbamoyl group, pyrrolidinocarbonyl group, morpholinocarbonyl group, hexadecylcarbamoyl group, phenylcarbamoyl group, N-methyl -N-Phenylcarbamoyl group, 2-methoxyethoxycarbamoyl group, 2-ethylhexylcarbamoyl group, and other preferred examples of optionally substituted alkoxycarbonyl groups include ethoxycarbonyl group, butoxycarbonyl group, and benzinioxycarbonyl group. group, 2-methoxyethoxycarbonyl group, 2-dodecyloxy-ethoxycarbonyl group, and the like.
表1に一般式(I)で表わされる化合物の具体例を挙げ
るが本発明の範囲はこれらのみに限定されるものではな
い。Table 1 lists specific examples of the compound represented by the general formula (I), but the scope of the present invention is not limited thereto.
哨
ロ(I:l
C1)本
発明の化合物は下記一般式(n)で表わされるジオキソ
ピラゾロピリジン化合物をメタノール等の適当な溶媒中
で適当なメチン源、トリメチン源、ペンタメチン源化合
物(例えばオルトギ酸エチル、1.5−ジフェニル−1
,5−ジアザ−1゜3−ペンタジェン、1.5.5−ト
リアルコキシ−1,3−ペンタジェン、1,7−ジフェ
ニル−1,7−ジアザ−1,3,5−へブタトリエンな
ど)と反応させることにより合成することができる。こ
の際、トリエチルアミン等の塩基性物質及び無水酢酸等
の酸無水物を添加すると反応が促進されることがある。Sentry
B (I:l
C1) The compound of the present invention is prepared by mixing a dioxopyrazolopyridine compound represented by the following general formula (n) with a suitable methine source, trimethine source, or pentamethine source compound (for example, ethyl orthoformate, 1. 5-diphenyl-1
, 5-diaza-1°3-pentadiene, 1.5.5-trialkoxy-1,3-pentadiene, 1,7-diphenyl-1,7-diaza-1,3,5-hebutatriene, etc.) It can be synthesized by At this time, the reaction may be accelerated by adding a basic substance such as triethylamine and an acid anhydride such as acetic anhydride.
より具体的には特公昭39−22069号、同43−3
504号、同52−38056号、同54−38129
号、同55−10059号、特開昭49−99620号
、同59−16834号、あるいは米国特許第4,18
1.225号などに記載されている方法を利用して合成
することができる。More specifically, Special Publication No. 39-22069, No. 43-3
No. 504, No. 52-38056, No. 54-38129
No. 55-10059, JP-A No. 49-99620, JP-A No. 59-16834, or U.S. Patent No. 4,18
1.225, etc., can be used for synthesis.
一般式(n)
〔式中R’ 、R” 、R’ 、Eは一般式(I)にお
ける 定義と同義の基を表わす。〕
−i式(If)で表わされる化合物は下記一般式(II
I)で表わされる化合物と一般式(IV)で表わされる
化合物とを酸性条件下で加熱することによって合成でき
る。General formula (n) [In the formula, R', R", R', and E represent the same groups as defined in general formula (I).] -i The compound represented by formula (If) has the following general formula (II
It can be synthesized by heating the compound represented by I) and the compound represented by general formula (IV) under acidic conditions.
一般式(I[[)
〔式中RISR2、Eは一般式(I)におけるR1、R
1、Eと同義の基を表わす〕
一般式(IV)
〔式中R3は一般式(I)におけるR3と同義の基を表
わし、R4はアルキル基またはアリール基を表わす、〕
一般式(II)で表わされる化合物は、また特開昭52
−112626号に記載されたジオキソピラゾロピリジ
ン化合物(一般式(■))をアルキル化、アリール化、
あるいはアシル化することによって合成することもでき
る。General formula (I[[) [wherein RISR2, E are R1, R in general formula (I)]
1, represents a group with the same meaning as E] General formula (IV) [In the formula, R3 represents a group with the same meaning as R3 in general formula (I), and R4 represents an alkyl group or an aryl group] General formula (II) The compound represented by
-112626, the dioxopyrazolopyridine compound (general formula (■)) is alkylated, arylated,
Alternatively, it can also be synthesized by acylation.
一般式(■) :
式中R’ SR″’%Eは一般式(I)のR1、R3、
Eと同義の基を表わす。なお当然のことながら一般式(
I)又は一般式(II)で表わされる化合物上の官能基
は公知の方法で他の官能基へ変換することが可能である
。General formula (■): In the formula, R'SR''%E is R1, R3 of general formula (I),
Represents a group having the same meaning as E. Of course, the general formula (
The functional group on the compound represented by I) or general formula (II) can be converted into another functional group by a known method.
以下に本発明の化合物の合成法の具体例を挙げる。Specific examples of methods for synthesizing the compounds of the present invention are listed below.
合成例1.化合物2の合成
1−フェニル−3−アニリノ−2−ピラゾリン−5−オ
ン(25g)、アセト酢酸エチル(I8g)、および酢
酸(I50ml)を6時間加熱還流した。反応液を水で
希釈し、生じた固体をアセトニトリルから結晶化させ゛
ることにより10.9 gの2.7−ジフェニル−4−
メチルピラゾロ(3,4−b )ピリジン−3,6−ジ
オンを得た。Synthesis example 1. Synthesis of Compound 2 1-Phenyl-3-anilino-2-pyrazolin-5-one (25 g), ethyl acetoacetate (18 g), and acetic acid (150 ml) were heated under reflux for 6 hours. The reaction solution was diluted with water and the resulting solid was crystallized from acetonitrile to yield 10.9 g of 2,7-diphenyl-4-.
Methylpyrazolo(3,4-b)pyridine-3,6-dione was obtained.
融点145−147℃
この2.7−ジフェニル−4−メチルピラゾロ(3,4
−b)ピリジン−3,6−ジオン(3,17g)にメタ
ノール(50mjりとトリエチルアミン(2,8++/
りとを加えて作った溶液に1.7−ジフェニル−1,7
−ジアザ−1,3,5−ヘプタトリエン塩酸塩(2,8
5g)を加えて溶解し、次いで無水酢酸(I,88n1
1)を加え室温で1時間攪拌した。生じた沈殿を濾取し
、メタノールで洗浄し、乾燥して5− (5−(N−ア
セチルアニリノ)−2,3−ペンタジエニリデン)−2
,7−ジフェニル−4−メチルピラゾロ(3,4−b
)ピリジン−3,6−ジオン(I,9g)を得た。この
結晶(I,5g)にN、N−ジメチルホルムアミド(6
0ml) 、2.7−ジフェニル−4−メチルピラゾロ
(3,4−b)ピリジン−3,6−ジオン(0,95g
)、およびトリエチルアミン(0,42mjt)を加え
、50℃で2時間攪拌した。微量の不溶物を濾過した後
、攪拌しながら10倍容の酢酸エチルを加えて晶析した
。得られた結晶を再び少量のN、N−ジメチルホルムア
ミドに溶かした後、10倍容の酢酸エチルを加えて晶析
し、濾取、乾燥して化合物2(I,3g)を得た。黄金
色結晶、融点300℃以上、
合成例2 化合物1の合成
3−メチルアミノ−1−フェニル−2−ピラゾリン−5
−オン(I,9g)、アセト酢酸エチル(I,4g)、
および酢酸(8++jりを6時間加熱還流した。反応液
を水で希釈し生じた結晶を濾取し、イソプロピルアルコ
ールで洗浄し1.8gの4゜7−シメチルー2−フェニ
ルピラゾロ(3,4−b)ピリジン−3,6−ジオン(
融点179−181℃)を得た。この結晶(Ig> に
メタノール(20mJ)とトリエチルアミン(0,7m
Aりとをカロえて作った溶液に、1.7−ジフェニル−
1,7−ジアザ−1,3,5−ヘプタトリエン塩酸塩(
0,7g)を加えて溶解し、次いで無水酢酸(0,6m
j2)を加え室温で1時間攪拌した。Melting point: 145-147°C This 2,7-diphenyl-4-methylpyrazolo(3,4
-b) Pyridine-3,6-dione (3,17 g), methanol (50 mj) and triethylamine (2,8++/
1,7-diphenyl-1,7 to the solution made by adding
-Diaza-1,3,5-heptatriene hydrochloride (2,8
5 g) was added and dissolved, and then acetic anhydride (I, 88n1
1) was added and stirred at room temperature for 1 hour. The resulting precipitate was collected by filtration, washed with methanol, and dried to give 5-(5-(N-acetylanilino)-2,3-pentadienylidene)-2.
,7-diphenyl-4-methylpyrazolo(3,4-b
) Pyridine-3,6-dione (I, 9 g) was obtained. This crystal (I, 5 g) was added to N,N-dimethylformamide (6
0ml), 2,7-diphenyl-4-methylpyrazolo(3,4-b)pyridine-3,6-dione (0.95g
), and triethylamine (0.42 mjt) were added, and the mixture was stirred at 50°C for 2 hours. After filtering off a trace amount of insoluble matter, 10 times the volume of ethyl acetate was added to the mixture while stirring to cause crystallization. The obtained crystals were again dissolved in a small amount of N,N-dimethylformamide, and then 10 times the volume of ethyl acetate was added to crystallize, collected by filtration, and dried to obtain Compound 2 (I, 3 g). Golden crystals, melting point 300°C or higher, Synthesis Example 2 Synthesis of Compound 1 3-Methylamino-1-phenyl-2-pyrazoline-5
-one (I, 9g), ethyl acetoacetate (I, 4g),
and acetic acid (8++) were heated under reflux for 6 hours. The reaction solution was diluted with water, the resulting crystals were collected by filtration, washed with isopropyl alcohol, and 1.8 g of 4°7-dimethyl-2-phenylpyrazolo (3,4 -b) Pyridine-3,6-dione (
(melting point 179-181°C) was obtained. This crystal (Ig>) was mixed with methanol (20 mJ) and triethylamine (0.7 mJ).
Add 1,7-diphenyl- to the solution prepared by adding A.
1,7-Diaza-1,3,5-heptatriene hydrochloride (
0.7 g) was added and dissolved, and then acetic anhydride (0.6 m
j2) was added and stirred at room temperature for 1 hour.
生じた沈殿を濾取し、メタノールで洗浄し、乾燥して5
− (5−(N−アセチルアニリノ)−一2.3−ペン
タジエニリデン)−4,7−シメチルー2−フェニルピ
ラゾロ(3,4−b)ピリジン−3,6−ジオン(0,
2g)を得た。この結晶(0,15g)にN、N−ジメ
チルホルムアミド(5ml)と4.7−シメチルー2−
フェニルピラゾロ(3,4−b)ピリジン−3,6−ジ
オン(0,08g)を加え、50℃で2時間攪拌した。The resulting precipitate was collected by filtration, washed with methanol, and dried.
- (5-(N-acetylanilino)-2,3-pentadienylidene)-4,7-dimethyl-2-phenylpyrazolo(3,4-b)pyridine-3,6-dione (0,
2g) was obtained. To this crystal (0.15 g) was added N,N-dimethylformamide (5 ml) and 4.7-dimethyl-2-
Phenylpyrazolo(3,4-b)pyridine-3,6-dione (0.08g) was added and stirred at 50°C for 2 hours.
反応液を濾過した後、水で希釈して、晶析し、濾取、水
洗、乾燥して化合物1(0,2g)を得た。The reaction solution was filtered, diluted with water, crystallized, collected by filtration, washed with water, and dried to obtain Compound 1 (0.2 g).
合成例3 化合物4の合成
3−(3−クロロフェニルアミノ)−1−フェニル−2
−ピラゾリン−5−オン(5,7g)に、アセト酢酸エ
チル(2,8g)、および酢酸(40111)を加え6
時間加熱還流した。生じた結晶を濾取し、イソプロピル
アルコールで洗浄し2gのの7−(3−クロロフェニル
)−4−メチル−2−フェニルピラゾロ(3,4−b)
ピリジン−3゜6−ジオンを得た(融点278−282
℃)。Synthesis Example 3 Synthesis of Compound 4 3-(3-chlorophenylamino)-1-phenyl-2
- Add ethyl acetoacetate (2.8 g) and acetic acid (40111) to pyrazolin-5-one (5.7 g) and add 6
The mixture was heated to reflux for an hour. The resulting crystals were collected by filtration and washed with isopropyl alcohol to give 2 g of 7-(3-chlorophenyl)-4-methyl-2-phenylpyrazolo (3,4-b).
Pyridine-3°6-dione was obtained (melting point 278-282
℃).
この結晶(I,4g)にメタノール(24nl)とトリ
エチルアミン(I,12m1)とを加えて作った溶液に
、1.7−ジフェニル−1,7−ジアザ−1,3,5−
へブタトリエン塩酸塩(I,13g)を加えて溶かし、
次いで無水酢酸< 0.75m l )を加えて室温で
1時間攪拌した。生じた沈殿を濾取し、メタノールで洗
浄、乾燥して5− (5−(N−アセチルアニリノ)−
2,3−ペンタジエニリデン)−7−(3−クロロフェ
ニル)−4−メチル−2−フェニルピラゾロ(3,4−
b)ピリジン−3,6−ジオンを得た。この結晶(0,
5g)にN、N−ジメチルホルムアミド(30mjり
、8−(3−クロロフェニル)−4−メチル−2−フェ
ニルピラゾロ(3,4−b)ピリジン−3,6−ジオン
(0,32g)、およびトリエチルアミン(0,13a
+J)を加えて、50℃で2時間攪拌した。1,7-diphenyl-1,7-diaza-1,3,5-
Add and dissolve hebutatriene hydrochloride (I, 13 g),
Then, acetic anhydride (<0.75 ml) was added and stirred at room temperature for 1 hour. The resulting precipitate was collected by filtration, washed with methanol, and dried to give 5-(5-(N-acetylanilino)-
2,3-Pentadienylidene)-7-(3-chlorophenyl)-4-methyl-2-phenylpyrazolo(3,4-
b) Pyridine-3,6-dione was obtained. This crystal (0,
5 g) and N,N-dimethylformamide (30 mj)
, 8-(3-chlorophenyl)-4-methyl-2-phenylpyrazolo(3,4-b)pyridine-3,6-dione (0,32g), and triethylamine (0,13a
+J) and stirred at 50°C for 2 hours.
反応液を濾過した後、攪拌しながらlO倍容の酢酸エチ
ルを加えて晶析した。得られた結晶を再び少量のN、N
−ジメチルホルムアミドに溶かした後、10倍量の酢酸
エチルを添加して晶析し、濾取し、酢酸エチルで洗浄し
、乾燥して化合物4(0,4g)を得た。After the reaction solution was filtered, 10 times the volume of ethyl acetate was added to the solution while stirring for crystallization. The obtained crystals are again treated with a small amount of N, N
- After dissolving in dimethylformamide, 10 times the amount of ethyl acetate was added to crystallize, collected by filtration, washed with ethyl acetate, and dried to obtain Compound 4 (0.4 g).
融点300℃以上 Ae*sx ’/ bZnl1
合成例4 化合物3の合成
3−(4−メトキシフェニルアミノ)−1−フェニル−
2−ピラゾリン−5−オン(I4g)にアセト酢酸エチ
ル(8,5g)、および酢酸(75I111)を加え6
時間加熱還流した。反応液を水150m1に注入し、生
じた固体をメタノール(500mA’)とアセトン(I
50ml)の混合物に加熱溶解した後冷却して8.4g
の7−(4−メトキシフェニル)−4−メチル−2−フ
ェニルピラゾロ(3,4−b)ピリジン−3,6−ジオ
ン(融点189−190℃)を得た。この結晶(3,4
7g)にメタノール(40a+A’)とトリエチルアミ
ン(2,8n+1)とを加えて作った溶液に、1.7−
ジフェニル−1,7−ジアザ−1,3゜5−へブタトリ
エン塩酸塩(2,85g)を加えて溶解し、次いで無水
酢酸(I,88mjりを加え室温で1時間撹拌した。生
じた沈殿を濾取し、メタノールで洗浄し、乾燥して5−
(5−N−アセチルアニリノ)−2,3−ペンタジエ
ニリデン〕−7−(4−メトキシフェニル)−4−メチ
ル−2−フェニルピラゾロ(3,4−b )ピリジン−
3,6−ジオン(4,1g)を得た。この結晶(3,8
g)にN、N−ジメチルホルムアミド(40ml)、7
−(4−メトキシフェニル)−4−メチル−2−フェニ
ル−ピラゾロ(3,4−b )ピリジン−3,6−ジオ
ン及びトリエチルアミン0.98m1を加え50℃で2
時間攪拌した。反応液を濾過した後、攪拌しながら10
倍容の酢酸エチルを添加して晶析した。得られた結晶を
アセトニトリルより再結晶して化合物3 (I,0,g
)を得た。Melting point 300℃ or higher Ae*sx'/bZnl1
Synthesis Example 4 Synthesis of Compound 3 3-(4-methoxyphenylamino)-1-phenyl-
Ethyl acetoacetate (8.5 g) and acetic acid (75I111) were added to 2-pyrazolin-5-one (I4 g).
The mixture was heated to reflux for an hour. The reaction solution was poured into 150 ml of water, and the resulting solid was mixed with methanol (500 mA') and acetone (I
50 ml) and then cooled to give 8.4 g.
7-(4-methoxyphenyl)-4-methyl-2-phenylpyrazolo(3,4-b)pyridine-3,6-dione (melting point 189-190°C) was obtained. This crystal (3,4
7g), methanol (40a+A') and triethylamine (2,8n+1),
Diphenyl-1,7-diaza-1,3゜5-hebutatriene hydrochloride (2.85 g) was added and dissolved, and then acetic anhydride (I, 88 mj) was added and stirred at room temperature for 1 hour. The resulting precipitate was It is filtered, washed with methanol, and dried to give 5-
(5-N-acetylanilino)-2,3-pentadienylidene]-7-(4-methoxyphenyl)-4-methyl-2-phenylpyrazolo(3,4-b)pyridine-
3,6-dione (4.1 g) was obtained. This crystal (3,8
g) N,N-dimethylformamide (40 ml), 7
-(4-Methoxyphenyl)-4-methyl-2-phenyl-pyrazolo(3,4-b)pyridine-3,6-dione and 0.98 ml of triethylamine were added and heated at 50℃ for 2 hours.
Stir for hours. After filtering the reaction solution, 10
Crystallization was carried out by adding twice the volume of ethyl acetate. The obtained crystals were recrystallized from acetonitrile to give compound 3 (I,0,g
) was obtained.
合成例5 化合物5の合成
合成例1において、1−フェニル−3−アニリノ−2−
ピラゾリン−5−オンの代りに、3〜(3−メチル−4
−メトキシフェニルアミノ)−1−フェニル−2−ピラ
ゾリン−5−オンを用いたほかは同様にして、化合物5
を得た。Synthesis Example 5 Synthesis of Compound 5 In Synthesis Example 1, 1-phenyl-3-anilino-2-
Instead of pyrazolin-5-one, 3-(3-methyl-4
Compound 5 was prepared in the same manner except that -methoxyphenylamino)-1-phenyl-2-pyrazolin-5-one was used.
I got it.
(融点300℃以上)
合成例6 化合物6の合成
合成例1において、1−フェニル−3−アニリノ−2−
ピラゾリン−5−オンの代りに、3−(4−n−へキシ
ルフェニルアミノ)−1−フェニル−2−ピラゾリン−
5−オンを用いたほかは同様にして、化合物6を得た。(Melting point 300°C or higher) Synthesis Example 6 Synthesis of Compound 6 In Synthesis Example 1, 1-phenyl-3-anilino-2-
3-(4-n-hexylphenylamino)-1-phenyl-2-pyrazoline- instead of pyrazolin-5-one
Compound 6 was obtained in the same manner except that 5-one was used.
(融点22〇−223℃)
合成例7
以下同様にして化合物12〜16.27.30.33〜
35.44〜60を合成した。これらの化合物の融点は
いずれも300℃以上であった。(Melting point 220-223°C) Synthesis Example 7 Compounds 12-16.27.30.33-
35.44-60 were synthesized. The melting points of these compounds were all 300°C or higher.
本発明の化合物の用途としては種々のものが考えられる
。例えば光ディスクに代表される光学的情報記録媒体、
写真感光材料(とくにハロゲン化銀写真感光材料におけ
るハレーション防止あるいはイラジエイション防止用と
して)、光学フィルター、インク、感熱紙用発色組成物
などである。Various uses can be considered for the compounds of the present invention. For example, optical information recording media such as optical discs,
These include photographic light-sensitive materials (particularly for preventing halation or irradiation in silver halide photographic light-sensitive materials), optical filters, inks, coloring compositions for thermal paper, and the like.
本発明の化合物を光記録媒体において用いる場合には単
独で用いても、2種以上併用してもよく、あるいは本発
明のオキソノール系化合物以外の色素と併用して用いて
もよい。また耐久性向上のため種々の酸化防止剤や一重
項酸素クエンチャーを併用することも有効である。また
、種々の樹脂を併用してもよい。When the compound of the present invention is used in an optical recording medium, it may be used alone, in combination of two or more kinds, or in combination with a dye other than the oxonol compound of the present invention. It is also effective to use various antioxidants and singlet oxygen quenchers in combination to improve durability. Moreover, various resins may be used in combination.
あるいは遷移金属イオンを添加してキレートを形成させ
て用いることにより耐久性を増すこともできる。Alternatively, durability can be increased by adding transition metal ions to form a chelate.
本発明の一般式(I)の化合物を光学フィルターとして
用いる場合は前記一般式(I)で表わされる化合物を、
適宜に結合剤中に含有させて用いることができる。結合
剤としては、有機、無機の区別なく用いることができ、
例えば光学用フィルターの場合はプラスチックのような
高分子材料、ガラスのような無機材料などを挙げられる
。When the compound of the general formula (I) of the present invention is used as an optical filter, the compound represented by the general formula (I) is
It can be used by appropriately incorporating it into a binder. As a binder, it can be used regardless of whether it is organic or inorganic.
For example, in the case of optical filters, examples include polymeric materials such as plastics and inorganic materials such as glass.
好ましくは、結合剤としては、透明性および機械的性質
の優れた結合剤が用いられる。このような結合剤の例と
しては、例えばポリエチレンテレフタレートで代表され
るポリエチレン類、セルロースジアセテート、セルロー
ストリアセテート、セルロースアセテートブチレートな
どのセルロースエステル類、ポリエチレン、ポリプロピ
レンなどのポリオレフィン類、ポリ塩化ビニル、ポリ塩
化ビニリデン、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ
スチレンなどのポリビニル化合物、ポリメチルメタクリ
レートなどのアクリル系付加重合体、ポリ炭酸エステル
から成るポリカーボネート、ウレタン系樹脂またはゼラ
チンなどの親水性バインダーなど、公知のフィルム形成
結合剤を挙げることができる。Preferably, a binder having excellent transparency and mechanical properties is used as the binder. Examples of such binders include polyethylenes such as polyethylene terephthalate, cellulose esters such as cellulose diacetate, cellulose triacetate, and cellulose acetate butyrate, polyolefins such as polyethylene and polypropylene, polyvinyl chloride, and polypropylene. Known materials such as vinylidene chloride, vinyl chloride-vinyl acetate copolymers, polyvinyl compounds such as polystyrene, acrylic addition polymers such as polymethyl methacrylate, polycarbonates made of polycarbonate esters, hydrophilic binders such as urethane resins or gelatin, etc. Mention may be made of film-forming binders.
特に好ましいものは、透明性および機械的性質が優れて
いる点でセルローストリアセテートなどのセルロースエ
ステル類である。Particularly preferred are cellulose esters such as cellulose triacetate because of their excellent transparency and mechanical properties.
上述のプラスチック材料に前記一般式(I)の化合物を
添加、保持させてフィルムを形成する方法としは第一に
フィルム作成時にプラスチックス中に配合する方法があ
る。すなわち、式(I)の化合物を各種の添加剤と共に
ポリマー粉末もしくはベレットに混合し、溶融してTダ
イ法またはインフレーション法を押出すか、あるいはカ
レンダー法でフィルム化すれば前記化合物が均一に分散
したフィルムが得られる。また流延法でポリマー溶液か
らフィルムを製造する場合は該溶液中に前記一般式(I
)の化合物を含有させればよい。As a method for forming a film by adding and retaining the compound of general formula (I) to the above-mentioned plastic material, there is first a method of blending it into the plastic at the time of film production. That is, if the compound of formula (I) is mixed with various additives into a polymer powder or pellet, melted and extruded by T-die method or inflation method, or formed into a film by calender method, the compound is uniformly dispersed. A film is obtained. In addition, when producing a film from a polymer solution by a casting method, the general formula (I) is added to the solution.
) may be contained.
第二には適当な方法で製造された各種のプラスチックフ
ィルムまたはガラス板上の表面に前記一般式(I)の化
合物を含むポリマー溶液または分散液を塗布することに
よって光吸収層を形成する方法がある。塗布液に用いる
結合剤としては、一般式(I)の化合物をできるだけよ
く溶解し、しかも支持体となるプラスチックフェニルま
たはガラス板との接着性のすぐれたものが選ばれる。ポ
リメチルメタクリレート、セルロースアセテートブチレ
ート、ポリカーボネートなど力(この目的に適している
。接着性を向上させるために支持体フィルムに適当な下
塗りをあらかじめ施してもよい。The second method is to form a light absorption layer by applying a polymer solution or dispersion containing the compound of general formula (I) to the surface of various plastic films or glass plates manufactured by an appropriate method. be. As the binder used in the coating solution, one is selected that dissolves the compound of general formula (I) as well as possible and has excellent adhesiveness to the plastic phenyl or glass plate serving as the support. Polymethyl methacrylate, cellulose acetate butyrate, polycarbonate, etc. are suitable for this purpose. The support film may be pre-applied with a suitable primer to improve adhesion.
第三の方法としては、特定波長領域のカットされるべき
素子の光入射窓枠中に一般式(I)の化合物と重合性上
ツマ−を混合し、適当な重合開始剤を加え、熱または光
を加えて重合させ、生成したポリマーで窓枠にフィルタ
ーを形成せしめる方法がある。この方法では、素子全体
をエチレン性不飽和型重合性モノマーまたはエポキシ樹
脂などの重付加性組成物から生成するプラスチックスで
包埋することもできる。The third method is to mix the compound of general formula (I) and a polymerizable polymer in the light incident window frame of the element to be cut in a specific wavelength region, add a suitable polymerization initiator, and heat or One method is to add light to cause polymerization, and then use the resulting polymer to form a filter on the window frame. In this method, the entire device can also be embedded in plastics made from ethylenically unsaturated polymerizable monomers or polyaddition compositions such as epoxy resins.
第四の方法は、本発明に係る化合物(I)を適当な支持
体上に蒸着する方法がある。この方法ではさらに保護層
として適当なフィルム形成性結合剤層を支持体より遠い
位置に設けてもよい。A fourth method is a method in which the compound (I) according to the present invention is vapor-deposited on a suitable support. In this process, a suitable film-forming binder layer may also be provided as a protective layer at a position remote from the support.
本発明の一般式(I)の化合物より得られた光学フィル
ターは、特開昭57−58107号、同59−9317
号および同59−30509号に記載された如き色分離
フィルターに組合せて使用することもできる。The optical filter obtained from the compound of general formula (I) of the present invention is disclosed in JP-A-57-58107 and JP-A-59-9317.
It can also be used in combination with color separation filters such as those described in No. 1 and No. 59-30509.
本発明の一般式(I)の化合物を光学フィルターとして
用いる場合は前記一般式(I)で表わされる化合物を2
種以上併用してもよい。When the compound of the general formula (I) of the present invention is used as an optical filter, the compound represented by the general formula (I) is
More than one species may be used in combination.
本発明の一般式(I)の化合物を光学フィルターとして
用いる場合は、更に、紫外線吸収剤を併用しても良く、
レゾルシンモノベンゾエート、サリチル酸メチルなどの
置換または無置換安息香酸エステル類、2−オキシ−3
−メトキシケイ皮酸ブチルなどのケイ皮酸エステル類、
2.4−ジオキシベンゾフェノンなどのベンゾフェノン
類、ジベンザルアセトンなどのα、β−不飽和ケトン、
5.7−シオキシクマリンなどのクマリン類、l。When the compound of general formula (I) of the present invention is used as an optical filter, an ultraviolet absorber may be further used in combination,
Resorcin monobenzoate, substituted or unsubstituted benzoic acid esters such as methyl salicylate, 2-oxy-3
- cinnamate esters such as butyl methoxycinnamate,
2. Benzophenones such as 4-dioxybenzophenone, α, β-unsaturated ketones such as dibenzalacetone,
5. Coumarins such as 7-cyoxycoumarin, l.
4−ジメチル−7−オキシカルボスチリルなどのカルボ
スチリル類、2−フェニルベンゾイミダゾール、2−
(2−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾールなどの
アゾール類などが使用される。Carbostyryls such as 4-dimethyl-7-oxycarbostyryl, 2-phenylbenzimidazole, 2-
Azoles such as (2-hydroxyphenyl)benzotriazole and the like are used.
更に本発明の化合物とその他の黄色染料、マゼンタ染料
、シアン染料を併用することができる。Furthermore, the compound of the present invention can be used in combination with other yellow dyes, magenta dyes, and cyan dyes.
また本発明の一般式(りの化合物を用いてコーティング
法で作成したフィルムの場合は、コーティング層の保護
、流通性の付与などの目的でコーティング層の表面に薄
いプラスチックフィルム −を貼り合わせたり、
塗設したりすることができる。In addition, in the case of a film made by a coating method using a compound of the general formula (R) of the present invention, a thin plastic film is pasted on the surface of the coating layer for the purpose of protecting the coating layer and imparting distribution properties.
It can be painted.
例えば0.05mm厚のポリ塩化ビニルフィルムを重ね
て120〜140℃に加熱圧着すると積層状のフィルム
が得られる。For example, by stacking polyvinyl chloride films with a thickness of 0.05 mm and heat-pressing them at 120 to 140°C, a laminated film can be obtained.
次に本発明の一般式(I)の化合物をインクジェット用
のインクに用いる場合の実施態様について述べる。Next, embodiments in which the compound of general formula (I) of the present invention is used in inkjet inks will be described.
有機溶剤を溶媒に用いるインクジェットプリンタ用イン
クは主に静電加速型、静電空気流式などに用いられ、い
ずれもインクに高圧パルスを印加してインク流またはイ
ンク小滴の形成を可能にせねばならない、これにはイン
クの電気的性質のみならず、表面張力、粘度などの流動
性に関係する物性値も問題となり、特開昭49−509
35号や特開昭56−135568号公報に記載されて
いる方法に準じて実施することができる。Inkjet printer inks that use organic solvents as solvents are mainly used in electrostatic acceleration type and electrostatic air flow type, both of which require applying high-pressure pulses to the ink to enable ink flow or ink droplet formation. This problem involves not only the electrical properties of the ink, but also the physical properties related to fluidity such as surface tension and viscosity.
It can be carried out according to the methods described in No. 35 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 56-135568.
インクジェットプリンタ用インクとしては、本発明の一
般式(I)の化合物の他に溶剤としてはエチルセロソル
ブ、トルエン、エタノール、n−ブタノール、エチルメ
チルケトン、メチルイソブチルケトン、ジクロルメタン
、トリエタノールアミン、ジメチルホルムアミド、イソ
アミルアセテートなどに代表される有機溶剤を用い、こ
れに粘度調節のためにグリセリン、金属石鹸などを加え
る。Ink for inkjet printers may include, in addition to the compound of general formula (I) of the present invention, solvents such as ethyl cellosolve, toluene, ethanol, n-butanol, ethyl methyl ketone, methyl isobutyl ketone, dichloromethane, triethanolamine, and dimethyl formamide. An organic solvent such as isoamyl acetate is used, and glycerin, metal soap, etc. are added to adjust the viscosity.
含有量は粘度が常温で1Ocp、以下、比抵抗が1×1
04〜1×1OLlΩ・(至)になるように有機溶剤と
粘度調節剤の組成比を選ぶ。The content has a viscosity of 1Ocp at room temperature and a resistivity of 1×1.
The composition ratio of the organic solvent and the viscosity modifier is selected so that it becomes 04 to 1×1 OLlΩ·(to).
溶剤に対する一般式(I>の化合物の含有比は溶剤1重
量部に対し、一般式(I)の化合物0、O1〜0.8部
であり、常温において好ましくは溶解し、あるいは少な
くとも平均粒径0.8μm以下に微分散していなければ
ならない。場合によっては該インク中に可視光線あるい
は近赤外光線を吸収する色素も加えてもよい。The content ratio of the compound of the general formula (I) to the solvent is 0, 1 to 0.8 parts of the compound of the general formula (I) per 1 part by weight of the solvent, and preferably dissolves at room temperature, or at least has an average particle size. The ink must be finely dispersed to a size of 0.8 μm or less. In some cases, a pigment that absorbs visible light or near-infrared light may be added to the ink.
本発明の一般式(I)の化合物は有機もしくは金属錯体
系の公知の近赤外線吸収剤とを併用することもできる。The compound of general formula (I) of the present invention can also be used in combination with known near-infrared absorbers of organic or metal complex type.
特に吸収極大の異なった吸収剤と併用すると、吸収波長
域を広げることができる。In particular, when used in combination with absorbers having different absorption maximums, the absorption wavelength range can be expanded.
本発明の化合物は単独で用いても十分耐光性が高いが、
更に耐光性を高めるために特開昭50−87649、特
開昭54−62826、特開昭54−62987、特開
昭54−65185、特開昭54−69580、特開昭
54−72780、特開昭54−82234、特開昭5
4−82384、特開昭54−82385、特開昭54
−82386、米国特許−4268605、米国特許−
4246330、特開昭55−12129、特開昭56
−167138号及び特願昭61−13396号明細書
に記載されている金属錯体あるいは種々の一重項酸素り
エチャーあるいは種々の酸化防止剤と併用することもで
きる。Although the compound of the present invention has sufficiently high light resistance even when used alone,
In order to further improve the light resistance, JP-A-50-87649, JP-A-54-62826, JP-A-54-62987, JP-A-54-65185, JP-A-54-69580, JP-A-54-72780, 1973-82234, Japanese Patent Publication No. 5
4-82384, Japanese Patent Publication No. 54-82385, Japanese Patent Application Publication No. 1973
-82386, US Patent -4268605, US Patent -
4246330, JP-A-55-12129, JP-A-56
It can also be used in combination with metal complexes, various singlet oxygen etchers, or various antioxidants described in Japanese Patent Application No. 167138 and Japanese Patent Application No. 13396/1982.
本発明の新規化合物は、置換基の選択次第で近赤外域に
到るまでの広汎な波長領域に吸収帯を設定でき、そのた
めレーザービームを用いる光情報記録媒体、写真感光材
料、光学フィルターなどをはじめとする多くの用途に供
することができる。The novel compounds of the present invention can set absorption bands in a wide range of wavelengths up to the near infrared region depending on the selection of substituents, and are therefore useful for optical information recording media that use laser beams, photographic materials, optical filters, etc. It can be used for many purposes, including:
特に、光および熱に対する堅牢性の優れたフィルターを
得ることができ、低コストの光学フィルターとすること
ができる。In particular, a filter with excellent fastness to light and heat can be obtained, and a low-cost optical filter can be obtained.
さらに本発明の前記一般式(I)で表わされる化合物中
の置換基を適宜選択し、組合わせることにより溶剤に対
する溶解性を調節できるので各種の結合剤を幅広く採用
できるという利点を有する。Furthermore, by appropriately selecting and combining the substituents in the compound represented by the general formula (I) of the present invention, the solubility in solvents can be adjusted, so that it has the advantage that a wide variety of binders can be employed.
本発明の一般式(I)の化合物より得られる光学フィル
ターは近赤外線吸収材料として、赤外感光性の感材用セ
ーフライトフィルター、植物の生育の制御、熱線の遮断
、人間の目の組織に有害な赤外線カットフィルター、半
導体受光素子カラー固体撮像素子の赤外線カットフィル
ター用、電気と同時に光学的機能をもった素子を一緒に
同一基板上に組込んだオプトエレクトロニック集積回路
での赤外光カットフィルター用の外、各種の用途に用い
ることができる。The optical filter obtained from the compound of general formula (I) of the present invention can be used as a near-infrared absorbing material, as a safelight filter for infrared-sensitive materials, for controlling plant growth, for blocking heat rays, and for human eye tissue. Harmful infrared cut filters, infrared cut filters for semiconductor photodetectors and color solid-state image sensors, infrared light cut filters for optoelectronic integrated circuits that incorporate elements with both electrical and optical functions on the same substrate. In addition to this, it can be used for various purposes.
さらにまた、本発明の一般式(I)の化合物は、レーザ
ーによる記録媒体及びインクジェットプリンタ用インキ
に用いることができる。Furthermore, the compound of general formula (I) of the present invention can be used in laser recording media and inks for inkjet printers.
また本発明の化合物は吸収した光を熱に変換する性質を
有し、放射線/熱交換剤としても利用できる。典型例を
挙げると、1)特開昭57−14095号または同57
−14096号に記載されたようなレーザー感熱記録体
に添加して、赤外域レーザーを照射し発生する熱でひき
起こされる混合発色反応を高めることができる。2)レ
ーザー光に基づく熱の作用により溶解性が変化するよう
な、例えば特開昭57−40256号に記載したレジス
ト材料に含有させることができる。Furthermore, the compound of the present invention has the property of converting absorbed light into heat, and can be used as a radiation/heat exchange agent. Typical examples include: 1) JP-A-57-14095 or JP-A-57-14095;
It can be added to a laser thermosensitive recording material such as that described in No. 14096 to enhance the mixed color reaction caused by the heat generated by irradiation with an infrared laser. 2) It can be included in resist materials whose solubility changes due to the action of heat generated by laser light, such as those described in JP-A-57-40256.
3)特開昭56−143242号に記載されたような、
熱乾燥性または熱硬化性の組成物に本発明の化合物を含
有せしめると反応を促進させることができる。3) As described in JP-A-56-143242,
When the compound of the present invention is included in a heat-drying or thermosetting composition, the reaction can be accelerated.
本発明に係る化合物はさらにまた特開昭58−2141
62号に記載されたように、半導体レーザーを光源とし
た電子写真方式プリンターの電子写真用感光皮膜にも利
用できる。また電子写真のトナー組成物に含有させて熱
定着性を改善することもできる。The compound according to the present invention is further disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 58-2141.
As described in No. 62, it can also be used as an electrophotographic photosensitive coating for an electrophotographic printer using a semiconductor laser as a light source. It can also be incorporated into electrophotographic toner compositions to improve heat fixability.
上記の記載は本発明に係る化合物の使用用途を制限する
ものではないのはもちろんである。Of course, the above description does not limit the uses of the compounds according to the present invention.
「参考例」
次に本発明を参考例に基づきさらに詳細に説明する。な
お、「部」は「重量部」を示す。"Reference Example" Next, the present invention will be explained in more detail based on a reference example. Note that "parts" indicate "parts by weight."
参考例1
例示化合物3を用い下記の近赤外線吸収組成物を調製し
光学フィルターを作成した。すなわち、下に重量部で示
した組成で各成分を混合しよく攪拌してから、ろ過後、
金属の支持体上に流延法により塗布して製膜後剥離し、
°目的とする光学フィルターを得た。乾燥膜圧を0.0
2ないし0.3 mm+の間で変化させた数種の光学フ
ィルターを得た。このようにして得られた光学フィルタ
ー(厚さ25ミクロン)の光学濃度を第1図に示した。Reference Example 1 Using Exemplified Compound 3, the following near-infrared absorbing composition was prepared to create an optical filter. That is, after mixing each component with the composition shown below in parts by weight and stirring well, after filtration,
It is coated on a metal support by a casting method and peeled off after film formation.
°The desired optical filter was obtained. Dry film pressure 0.0
Several optical filters were obtained varying between 2 and 0.3 mm+. The optical density of the optical filter thus obtained (thickness: 25 microns) is shown in FIG.
三酢酸セルロース 170部トリフェニ
ルホスフェイト 10部メチレンクロリド
160部2.2,3.3−テトラフル
オロプロパツール 800部例示化合物3
10部第1図かられかるように
、可視光域は透過率が高く近赤外線の透過率が低い光学
フィルターが得られた。Cellulose triacetate 170 parts Triphenyl phosphate 10 parts Methylene chloride
160 parts 2.2,3.3-tetrafluoropropanol 800 parts Exemplary compound 3
As can be seen from Figure 1 of Part 10, an optical filter with high transmittance in the visible light range and low transmittance in near-infrared light was obtained.
参考例2
例示化合物3 0.8部油溶性青色
染料 0.7部エチルセロソルブ
5部1.2−ペンツイソブチアゾロ
ン(防カビ剤) 0.001部グリセリ
ン 3部上記成分を均質に混合
し、得られた組成物は、比抵抗103Ω・値、粘度5c
p、である。このインク組成物をインクジェット記録装
置にかけ記録したところ、良好な画像が得られた。これ
は半導体レーザ(780nm)を光源とする読取装置で
読取りが可能であった。Reference example 2 Exemplary compound 3 0.8 parts Oil-soluble blue dye 0.7 parts Ethyl cellosolve
5 parts 1.2-pentisobutiazolone (antifungal agent) 0.001 part Glycerin 3 parts The above components were mixed homogeneously, and the resulting composition had a specific resistance of 103Ω and a viscosity of 5c.
p. When this ink composition was recorded on an inkjet recording device, a good image was obtained. This could be read with a reading device using a semiconductor laser (780 nm) as a light source.
参考例3
イソアミルアセテート 7部例示化合物
6 0.4部油溶性染料(オイルブ
ラック
HB B ) 0.5部金属セッ
ケン 0.05部上記成分を均質に
混合し、得られたインク組成物は比抵抗10″ Ω・1
粘度4.5cp、でインクジェット記録装置にかけ記録
を行ったところ良好な画像が得られた。これは半導体レ
ーザー(780nm)を光源とする読取装置で読取りが
可能であった。Reference Example 3 Isoamyl acetate 7 parts Exemplary Compound 6 0.4 parts Oil-soluble dye (Oil Black HB B) 0.5 parts Metal soap 0.05 parts The above components were mixed homogeneously, and the resulting ink composition had a specific resistance. 10″Ω・1
A good image was obtained when recording was performed using an inkjet recording device with a viscosity of 4.5 cp. This could be read with a reading device using a semiconductor laser (780 nm) as a light source.
参考例4
2−アニリノ−3−メチル−6−N−シクロへキシル−
N−メチルアミノフルオラン2.4部、2−アニリノ−
3−クロロ−6−ジニチルアミノフルオラン2.4部(
発色剤二ロイコ染料)、例示化合物60.3部をジイソ
プロピルナフタレン25部に溶解し、芯物質となる溶液
調製した。Reference example 4 2-anilino-3-methyl-6-N-cyclohexyl-
2.4 parts of N-methylaminofluorane, 2-anilino-
2.4 parts of 3-chloro-6-dinithylaminofluorane (
A solution serving as a core substance was prepared by dissolving 60.3 parts of the exemplified compound (dileuco dye) in 25 parts of diisopropylnaphthalene.
さらにキシリレランジイソシアネート・トリメチロール
プロパン(3:1)付加物18部とメチレンクロライド
17部を添加し、溶解した。Furthermore, 18 parts of xylylerane diisocyanate/trimethylolpropane (3:1) adduct and 17 parts of methylene chloride were added and dissolved.
この発色剤の溶液を、ポリビニルアルコール3.5部、
ゼラチン1.7部および1.4−ジ(ヒドロキシエトキ
シ)ベンゼン2.4部が水58部に溶解している水溶液
に添加して20℃の温度で乳化分散させ、平均粒径3μ
mの乳化液を得た。乳化液に水100部を加えて攪拌し
ながら60℃に加温し、2時間後に発色剤、着色防止剤
および紫外線吸収剤を芯物質に含有するマイクロカプセ
ル液を得た。This color former solution was mixed with 3.5 parts of polyvinyl alcohol,
It was added to an aqueous solution containing 1.7 parts of gelatin and 2.4 parts of 1,4-di(hydroxyethoxy)benzene dissolved in 58 parts of water and emulsified and dispersed at a temperature of 20°C to obtain an average particle size of 3μ.
An emulsion of m was obtained. 100 parts of water was added to the emulsion and heated to 60° C. while stirring, and after 2 hours, a microcapsule liquid containing a color former, a color inhibitor, and an ultraviolet absorber in the core substance was obtained.
別に、顕色剤としてビスフェノールA20部を5%ポリ
ビニルアルコール水溶液100部に加えてサンドミルで
約24時間分散し、平均3μmのビスフェノールAの分
散液を得た。Separately, 20 parts of bisphenol A as a color developer was added to 100 parts of a 5% polyvinyl alcohol aqueous solution and dispersed in a sand mill for about 24 hours to obtain a dispersion of bisphenol A with an average diameter of 3 μm.
得られたマイクロカプセル液5部およびビスフェノール
八分散液3部を混合して塗布液とした。Five parts of the obtained microcapsule liquid and three parts of the bisphenol 8 dispersion were mixed to prepare a coating liquid.
この塗布液を平滑な上質紙(50g/rrr)の表面に
塗布し、40℃の温度で30分間乾燥して、乾燥重量が
1g/rdの感熱記録層を設けた。This coating liquid was applied to the surface of smooth high-quality paper (50 g/rrr) and dried at a temperature of 40° C. for 30 minutes to provide a heat-sensitive recording layer having a dry weight of 1 g/rd.
このようにして、例示化合物6を含有するマイクロカプ
セルを含む感熱記録シートAを製造した。In this way, thermosensitive recording sheet A containing microcapsules containing Exemplified Compound 6 was produced.
また別に例示化合物6を添加しない感熱記録シートBを
作製した。Separately, a thermosensitive recording sheet B to which Exemplified Compound 6 was not added was prepared.
次に、得られた各感熱記録シートを用いて感熱記録を行
った。Next, thermal recording was performed using each of the obtained thermal recording sheets.
感熱記録シートをG■モード感熱プリンター(バナファ
ソクス7200、日立製作所■製)に装填し、サーマル
ヘッドを作動させて記録シート上に熱記録したところ下
記品ように例示化合物6を含んでいる方が発色濃度の高
い画像が得られた。When the thermal recording sheet was loaded into a G mode thermal printer (Banafa Sox 7200, manufactured by Hitachi, Ltd.) and the thermal head was activated to record heat on the recording sheet, the product containing Exemplary Compound 6 developed color as shown in the product below. An image with high density was obtained.
感熱記録シー)A 感熱記録シートB(例示化合物有
) (例示化合物熱)発色濃度 1.23
1.09着色(カブ 0.11 0
.10ワ)濃度
参考例5
ヘキサハイドロフタル酸70g1テトラグリシジルイソ
シアヌレート20g、CX−221(チッソ■社製、商
品名)30g、イミダゾール0.15gを混合した可視
光透過樹脂に例示化合物80.5gを溶解させてなる樹
脂組成物(A)を用いてカメラの光検出装置のシリコン
ダイオードをモールドした。Heat-sensitive recording sheet) A Heat-sensitive recording sheet B (with exemplified compound) (Exemplary compound heat) Color density 1.23
1.09 coloring (turnip 0.11 0
.. 10W) Concentration Reference Example 5 80.5 g of the exemplary compound was added to a visible light transmitting resin containing 70 g of hexahydrophthalic acid, 20 g of tetraglycidyl isocyanurate, 30 g of CX-221 (manufactured by Chisso Corporation, trade name), and 0.15 g of imidazole. A silicon diode for a photodetector of a camera was molded using the dissolved resin composition (A).
モールドは150℃程度に加温したモールド金型にシリ
コンダイオードをセットし、樹脂組成物(A)をダイオ
ードの表面上に厚さ2111111程度となるように流
し込み5分間硬化させ、樹脂組成物(A)でモールドさ
れたシリコンダイオードを金型より取り出し150℃で
約2時間さらに硬化させ行なった。The mold was prepared by setting a silicon diode in a mold heated to about 150°C, pouring the resin composition (A) onto the surface of the diode to a thickness of about 2111111 mm, curing for 5 minutes, and pouring the resin composition (A) into the mold. ) was removed from the mold and further cured at 150° C. for about 2 hours.
参考例6
厚さ0.5mmの透明ガラス目的板上に例示化合物4、
熱硬化性アクリル樹脂およびジメチルホルムアミドを1
.3:8:3(重量比)で含有する組成液を塗布して厚
さ3μmの近赤外線吸収用樹脂膜を形成し、150℃、
20分間加熱して硬化させて赤外線遮断層を形成した。Reference Example 6 Exemplary compound 4 was placed on a transparent glass objective plate with a thickness of 0.5 mm.
Thermosetting acrylic resin and dimethylformamide
.. A composition liquid containing 3:8:3 (weight ratio) was applied to form a near-infrared absorbing resin film with a thickness of 3 μm, and heated at 150°C.
The infrared ray blocking layer was formed by heating and curing for 20 minutes.
この赤外線遮断層上にスパッタリング法により窒化クロ
ム層を500人の厚さに被着し、さらにその上にクロム
層を1500人の厚さに被着させた。次いでこのクロム
層上にAZ−1450レジスト(米国シラプレー社製)
を塗布後、所定のホトマスクにより露光して現像、乾燥
を行ない、次いで硝酸セリウムアンモン系のエツチング
液で露出しているクロム層、窒化クロム層をエツチング
して除去した。その後、レジスト層を剥離して赤外線遮
断層上に所定のパターンをもったフォトシールド層を形
成する。このフォトシールド層はガラス面からの反射率
が15%以下となるためフレアーの問題はなくなる。A chromium nitride layer was deposited on this infrared blocking layer to a thickness of 500 nm by sputtering, and a chromium layer was further deposited thereon to a thickness of 1500 nm. Next, AZ-1450 resist (manufactured by Silapray, USA) was applied on this chromium layer.
After coating, the film was exposed to light using a predetermined photomask, developed and dried, and then the exposed chromium layer and chromium nitride layer were removed by etching with a cerium ammonium nitrate based etching solution. Thereafter, the resist layer is peeled off to form a photoshield layer having a predetermined pattern on the infrared blocking layer. Since this photoshield layer has a reflectance from the glass surface of 15% or less, the problem of flare is eliminated.
次に、フォトシールド層をもった赤外線遮断層上に、カ
ゼイン−重クロム酸アンモニウムからなる水溶性感光液
を0.8μmの膜厚に塗布、乾燥後、所定のホトマスク
を正確に位置合せして密着、露光し、温水により現像、
所定パターンをもった被染色層を形成し、この被染色層
を赤染色浴により染色し、Rの着色層を形成する。次い
で、所定の防染処理を行なった後、前記と同様の方法に
より、水溶性感光液を0.8μmの膜厚に塗布、乾燥、
露光、現像後、緑色染色浴による染色を行なって所定パ
ターンをもったGの着色層を形成し、2色目の着色層を
形成した。さらに、2色目の着色層の形成方法と同様の
方法により、青色染色浴を用いて所定パターンをもった
3色目のBの着色層を形成した。こうして、所定パター
ンをもったR、G、Bの着色層からなる色分離フィルタ
一層が得られた。その後、この色分離フィルタ一層上に
アクリル樹脂を1μmの膜厚に塗布し、保護膜を形成し
た。色分離フィルターのチップサイズは固体撮像素子の
感光部のエリアのサイズとした。この色分離フィルター
は700nm以上の長波長光の遮断能力の優れるもので
あった。Next, a water-soluble photosensitive solution consisting of casein-ammonium dichromate was applied to a thickness of 0.8 μm on the infrared blocking layer with the photoshield layer, and after drying, a predetermined photomask was accurately aligned. Close contact, expose, develop with warm water,
A dyed layer having a predetermined pattern is formed, and this dyed layer is dyed with a red dyeing bath to form an R colored layer. Next, after carrying out a predetermined resist dyeing treatment, a water-soluble photosensitive liquid was applied to a film thickness of 0.8 μm by the same method as above, dried, and
After exposure and development, dyeing was performed using a green dyeing bath to form a G colored layer having a predetermined pattern, and a second color colored layer was formed. Furthermore, a third color B colored layer having a predetermined pattern was formed using a blue dyeing bath in the same manner as the method for forming the second color colored layer. In this way, a single layer color separation filter consisting of R, G, and B colored layers having a predetermined pattern was obtained. Thereafter, an acrylic resin was applied to a thickness of 1 μm on one layer of the color separation filter to form a protective film. The chip size of the color separation filter was set to be the size of the photosensitive area of the solid-state image sensor. This color separation filter had an excellent ability to block long wavelength light of 700 nm or more.
なお、上記において用いたR、G、Bの染色浴組成は次
のとおりである。The compositions of the R, G, and B dye baths used above are as follows.
赤色染色浴
カヤノールミーリングレッド
R3(日本化薬社製) 1部酢酸
3部水
100部緑色染色浴
ブリリアントインブルー
(ヘキスト社製) 1部スミノールイ
エローMR
(住友化学社製) 1部酢#1
3部水
100部青色染色浴
カヤノールシアニン6B
(日本化薬社製) 1部酢酸
3部水
100部Red dyeing bath Kayanol Milling Red R3 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 1 part acetic acid
3 parts water
100 parts Green dye bath Brilliant in Blue (manufactured by Hoechst) 1 part Suminol Yellow MR (manufactured by Sumitomo Chemical) 1 part Vinegar #1
3 parts water
100 parts Blue dyeing bath Kayanolcyanine 6B (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 1 part acetic acid
3 parts water
100 copies
第1図は実施例1によって得られた光学フィルターの波
長と吸光度との関係を示す。
部七超
昭和 年 月 日
3.補正をする者
事件との関係 出願人
名 称 (520)富士写真フィルム株式会社4、代
理人
5、補正命令の日付 自 発
6、補正の対象 明細書の発明の詳細な説明の欄
7、補正の内容
(I)明細書第16頁11行目の“カルボキシメチル基
”を「カルボキシメチル基」と訂正する。
(2)同書21頁6行目の“ベンジニオキシ”を「ベン
ジルオキシ」と訂正する。
(3)回書第24頁表1中の化合物25のR2に相当す
る式を下記のとおり訂正する。
「
」
(4)同書第25頁表1中の化合物40のR2に相当す
る式を下記のとおり訂正する。
「 0
−CH,CCH3
」
(5)回書第26頁表1中の化合物43のR2に相当す
る式を下記のとおり訂正する。
r −CH2CミCHJ
(6)同書第27頁表1中の化合物52のR2に相当す
る式を下記のとおり訂正する。
’ CHzCHzOHJFIG. 1 shows the relationship between wavelength and absorbance of the optical filter obtained in Example 1. Part 7 Super Showa Year Month Day 3. Person making the amendment Relationship to the case Applicant name (520) Fuji Photo Film Co., Ltd. 4, Agent 5, Date of amendment order Initiator 6, Subject of amendment Detailed explanation of the invention in the specification column 7, Amendment Content (I) "Carboxymethyl group" on page 16, line 11 of the specification is corrected to "carboxymethyl group." (2) "Benzinioxy" on page 21, line 6 of the same book is corrected to "benzyloxy." (3) The formula corresponding to R2 of compound 25 in Table 1 on page 24 of the circular is corrected as follows. (4) The formula corresponding to R2 of compound 40 in Table 1 on page 25 of the same book is corrected as follows. "0-CH,CCH3" (5) The formula corresponding to R2 of compound 43 in Table 1 on page 26 of the circular is corrected as follows. r -CH2CmiCHJ (6) The formula corresponding to R2 of compound 52 in Table 1, page 27 of the same book is corrected as follows. 'CHzCHzOHJ
Claims (1)
れらが共役二重結合で連結されて形成されるトリメチン
鎖もしくはペンタメチン鎖を表わし;EはO、S、N−
R^4を表わし;R^1、R^4は独立に置換されてい
てもよいアルキル基、置換されていてもよいアルケニル
基、置換されていてもよいアルキニル基、置換されてい
てもよいアリール基、置換されていてもよい複素環基、
置換されていてもよいアミノ基、置換されていてもよい
ヒドラジノ基、又は置換されていてもよいジアゼニル基
を表わし;R^2は置換されていてもよいアルキル基、
置換されていてもよいアリール基、置換されていてもよ
いアルケニル基、置換されていてもよいアルキニル基、
または置換されていてもよい複素環基を表わし;R^3
は水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、水酸
基、カルボキシル基、置換されていてもよいアルキル基
、置換されていてもよいアリール基、置換されていても
よいアルケニル基、置換されていてもよい複素環基、置
換されていてもよいアルコキシ基、置換されていてもよ
いアリールオキシ基、置換されていてもよいアルコキシ
カルボニル基、置換されていてもよいアリールオキシカ
ルボニル基、置換されていてもよいアミノ基、置換され
ていてもよいアシルオキシ基、置換されていてもよいカ
ルバモイル基、置換されていてもよいスルファモイル基
、置換されていてもよいアルキルチオ基、置換されてい
てもよいアリールチオ基、置換されていてもよいアルキ
ルスルホニル基、置換されていてもよいアリールスルホ
ニル基、または置換されていてもよいアルキニル基を表
わし;R^1とR^4とは互いに連結して環を形成して
もよい。〕[Claims] An oxonol compound represented by the following general formula (I). General Formula (I) ▲ Numerical formulas, chemical formulas, tables, etc. Representation: E is O, S, N-
R^4 represents; R^1 and R^4 are independently an optionally substituted alkyl group, an optionally substituted alkenyl group, an optionally substituted alkynyl group, an optionally substituted aryl group; group, an optionally substituted heterocyclic group,
represents an optionally substituted amino group, an optionally substituted hydrazino group, or an optionally substituted diazenyl group; R^2 is an optionally substituted alkyl group,
an optionally substituted aryl group, an optionally substituted alkenyl group, an optionally substituted alkynyl group,
or represents an optionally substituted heterocyclic group; R^3
is a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, a nitro group, a hydroxyl group, a carboxyl group, an optionally substituted alkyl group, an optionally substituted aryl group, an optionally substituted alkenyl group, an optionally substituted alkenyl group, and an optionally substituted alkenyl group. A good heterocyclic group, an optionally substituted alkoxy group, an optionally substituted aryloxy group, an optionally substituted alkoxycarbonyl group, an optionally substituted aryloxycarbonyl group, an optionally substituted aryloxycarbonyl group an optionally substituted acyloxy group, an optionally substituted carbamoyl group, an optionally substituted sulfamoyl group, an optionally substituted alkylthio group, an optionally substituted arylthio group, a substituted represents an optionally substituted alkylsulfonyl group, an optionally substituted arylsulfonyl group, or an optionally substituted alkynyl group; R^1 and R^4 may be linked to each other to form a ring; good. ]
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13574887A JPH0681756B2 (en) | 1987-05-30 | 1987-05-30 | Oxanol compound |
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63301888A true JPS63301888A (en) | 1988-12-08 |
JPH0681756B2 JPH0681756B2 (en) | 1994-10-19 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP13574887A Expired - Fee Related JPH0681756B2 (en) | 1987-05-30 | 1987-05-30 | Oxanol compound |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0681756B2 (en) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63316853A (en) * | 1987-06-19 | 1988-12-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | Silver halide photographic sensitive material |
JPH02282244A (en) * | 1989-04-24 | 1990-11-19 | Fuji Photo Film Co Ltd | Silver halide photographic sensitive material |
US6057026A (en) * | 1997-01-24 | 2000-05-02 | Konica Corporation | Recording sheet for ink-jet recording and ink jet |
JP2008127417A (en) * | 2006-11-17 | 2008-06-05 | Fujifilm Corp | Black pigment, black pigment dispersion containing the same and black resin composition |
-
1987
- 1987-05-30 JP JP13574887A patent/JPH0681756B2/en not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2008127417A (en) * | 2006-11-17 | 2008-06-05 | Fujifilm Corp | Black pigment, black pigment dispersion containing the same and black resin composition |
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JPH0681756B2 (en) | 1994-10-19 |
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