JPS63291916A - Resin for optical base material - Google Patents

Resin for optical base material

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Publication number
JPS63291916A
JPS63291916A JP62129179A JP12917987A JPS63291916A JP S63291916 A JPS63291916 A JP S63291916A JP 62129179 A JP62129179 A JP 62129179A JP 12917987 A JP12917987 A JP 12917987A JP S63291916 A JPS63291916 A JP S63291916A
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JP
Japan
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bis
integer
birefringence
tables
formulas
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Application number
JP62129179A
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Japanese (ja)
Inventor
Tadanori Fukuda
福田 忠則
Yoshihiro Abe
阿部 芳博
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Toray Industries Inc
Original Assignee
Toray Industries Inc
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Publication date
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Publication of JPS63291916A publication Critical patent/JPS63291916A/en
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Abstract

PURPOSE:To obtain the titled resin useful for optical disc substrate, etc., having excellent dimensional stability, double refraction and strength, consisting of a reaction product of a 4,4'-bis(hydroxyethyl)bisphenol, etc., and a polyisocyanate, having a specific urethane unit structure. CONSTITUTION:A diol compound such as a 4,4'-bis(hydroxyethyl)bisphenol and a polyisocyanate compound are heated and extruded by the use of an extruder to give the aimed resin comprising a polymer having a urethane unit structure shown by formula I [A is group shown by formula II (R is 1-3C bifunctional aliphatic group or sulfone; X is 1-15C lower alkyl, Cl or Br; m is 0-2 integer; p and q are 0-2 integer) or group shown by formula III (U is 1-15C bifunctional aliphatic group; Y is mere bond or COO; S is 1-20 integer; T is 5-10 integer); B is tolyene or group shown by formula IV; n is 5-300] as a repeating unit.

Description

【発明の詳細な説明】 「産業上の利用分野」 本発明は光学機器用素材に関し、特にデジタルオーディ
オディスク、光メモリ−ディスク、ビデオディスクおよ
び光学用レンズなどに適した樹脂素材に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION "Field of Industrial Application" The present invention relates to a material for optical equipment, and particularly to a resin material suitable for digital audio discs, optical memory discs, video discs, optical lenses, and the like.

[従来の技術] 従来、光学用透明成型品の材料としては、光線透過率、
成型加工性などの点で、アクリル樹脂およびポリカーボ
ネートが最も好ましいものとして実用化されている。そ
の成型法としては、通常は射出成形または圧縮成形がな
どが用いられる。
[Conventional technology] Conventionally, materials for optical transparent molded products have been used for light transmittance,
Acrylic resins and polycarbonates are the most preferred and have been put into practical use in terms of moldability and the like. As the molding method, injection molding or compression molding is usually used.

しかしながら特にディスク基板の材料としては、アクリ
ル樹脂は吸水性が大きく、吸湿による寸法変化と、基板
のソリ、あるいは乾燥と吸湿の長期繰返しによるクラッ
クが発生しやすい問題がある。
However, especially as a material for disk substrates, acrylic resin has a high water absorption property, and has the problem of dimensional changes due to moisture absorption, warpage of the substrate, or cracks due to long-term repetition of drying and moisture absorption.

一方、ポリカーボネートにおいては、吸水性が低く、ガ
ラス転移温度も高いが、射出成形または圧縮成形に際し
て配向が起こり易く、複屈折性が十分と言えなかっ、た
。上記のような欠点をなくすために、粘土平均分子量が
15.000〜18゜OOOのポリカーボネートが提案
されているが(特開昭58−180553号)、なお不
十分であり、複屈折性が大きい等の欠点を有し、未だに
その使用には限界がある。
On the other hand, polycarbonate has low water absorption and a high glass transition temperature, but orientation tends to occur during injection molding or compression molding, and its birefringence is not sufficient. In order to eliminate the above-mentioned drawbacks, a polycarbonate having a clay average molecular weight of 15.000 to 18°OOO has been proposed (Japanese Patent Application Laid-open No. 180553/1982), but this is still insufficient and has large birefringence. However, there are still limits to its use.

特に、レーザー等を利用した光による情報の読取り、書
込み等に用いられる精密光学系においては、光学用透明
成型品の複屈折は大きな問題であり、複屈折のより小さ
なプラスチックの開発が望まれていた。
Particularly in precision optical systems used for reading and writing information using light such as lasers, birefringence in optically transparent molded products is a major problem, and the development of plastics with lower birefringence is desired. Ta.

[発明が解決しようとする問題点] 本発明は、このような従来技術の欠点を解決しようとす
るものであり、射出成型法や圧縮成型法など生産性の良
い成型法を用い、かつ、吸水による基板のソリ、耐熱軟
化性、複屈折性の面でともに優れた光デイスク基板、光
メモリ−、光学用レンズなどに適した素材を提供するこ
とを目的とするものでおる。
[Problems to be Solved by the Invention] The present invention attempts to solve these drawbacks of the prior art, and uses a molding method with high productivity such as injection molding or compression molding, and The purpose of this invention is to provide a material suitable for optical disk substrates, optical memories, optical lenses, etc., which is excellent in terms of substrate warpage, heat softening resistance, and birefringence.

[問題を解決するための手段] 本発明は、上記の目的を達成するために次のような構成
から成る。
[Means for solving the problem] In order to achieve the above object, the present invention has the following configuration.

[下記の一般式[I]で示されるウレタンユニット構造
を繰り返し単位とするポリマーからなることを特徴とす
る光学基材用樹脂。
[A resin for optical substrates comprising a polymer having a urethane unit structure represented by the following general formula [I] as a repeating unit.

千−A −00CHN−B −NHCOO→下    
 [I][ただしA、およびBは下記の構造である。
Thousand-A -00CHN-B -NHCOO→Bottom
[I] [However, A and B have the following structures.

又は (A成分中、Rは炭素中1〜3の2価の脂肪族、脂環族
もしくはスルホン、XはC1〜15の低級ア7L/ *
 /L/ 基、C1もしくは3r、n−5〜300の整
数、m−0〜2の整数、pおよびqはO〜2の整数を示
し、UはC1〜15の2価の脂肪族、脂環族、もしくは
〕汗ニル置換アルキル基であり、Yは単なる結合もしく
は−coo−、sは1〜20の整数、Tは5〜10の整
数を示す。) B: から選ばれる一種以上の有機基。]」 Aの構造を付与するには、製造するに際して次のような
化合物を使用するすることができる。具体的には、ビス
(4−ヒドロキシエチルフェニル〉メタン、1.1−ビ
ス(4−ヒドロキシエチルフェニル)エタン、2,2−
ビス(4−ヒドロキシエチルフェニル)プロパン、ビス
(4−ジヒドロキシエチルフェニル)メタン、2,2−
ビス(4−ジヒドロキシエチルフェニル)エタン、2,
2−ビス(4−ジヒドロキシエチルフェニル)プロパン
、4.4−ビス(ヒドロキシエチル)ビスフェノールA
、4.4−ビス(ジヒドロキシエチル)ビスフェノニル
A、4.4−ビス(ヒドロキシエチル)テトラブロモビ
スフェノールA、ビス(4−ヒドロキシエチルフェニル
)スルホン、ビス(ジヒドロキシエチルフェニル)スル
ホン、2゜2−ビス(4−シクロヘキサノール)プロパ
ン、2,2−ビス(4−ヒドロキシエチルシクロヘキシ
ル〉プロパン、2.2−ビス(4−ヒドロキシエチルシ
クロヘキシル)スルホンが例示される。
or (in component A, R is a divalent aliphatic, alicyclic or sulfone having 1 to 3 carbon atoms,
/L/ group, C1 or 3r, an integer of n-5 to 300, an integer of m-0 to 2, p and q represent an integer of O to 2, U is a divalent aliphatic group of C1 to 15, aliphatic It is a ring group or a]-substituted alkyl group, Y is a simple bond or -coo-, s is an integer of 1 to 20, and T is an integer of 5 to 10. ) B: One or more organic groups selected from. ]” In order to impart the structure of A, the following compounds can be used during production. Specifically, bis(4-hydroxyethylphenyl)methane, 1,1-bis(4-hydroxyethylphenyl)ethane, 2,2-
Bis(4-hydroxyethylphenyl)propane, bis(4-dihydroxyethylphenyl)methane, 2,2-
Bis(4-dihydroxyethylphenyl)ethane, 2,
2-bis(4-dihydroxyethylphenyl)propane, 4.4-bis(hydroxyethyl)bisphenol A
, 4.4-bis(dihydroxyethyl)bisphenonyl A, 4.4-bis(hydroxyethyl)tetrabromobisphenol A, bis(4-hydroxyethylphenyl)sulfone, bis(dihydroxyethylphenyl)sulfone, 2゜2-bis Examples include (4-cyclohexanol)propane, 2,2-bis(4-hydroxyethylcyclohexyl)propane, and 2,2-bis(4-hydroxyethylcyclohexyl)sulfone.

上記において、4.4−ビス(ヒドロキシエチル)ビス
フェノールA、4.4−ビス(ヒドロキシエチル)テト
ラブロモビスフェノールA1ビス(4−ヒドロキシエチ
ルフェニル)スルホン、2゜2−ビス(4−シクロヘキ
サノール)プロパンが特にすぐれた効果を発揮する。
In the above, 4.4-bis(hydroxyethyl)bisphenol A, 4.4-bis(hydroxyethyl)tetrabromobisphenol A1 bis(4-hydroxyethylphenyl)sulfone, 2゜2-bis(4-cyclohexanol)propane is particularly effective.

Bの構造を付与するには、製造するに際して次のような
化合物を使用する。具体的には、トリレンジイソシアネ
ート、ジフェニルメタンジインシアネート、キシリレン
ジイソシアネート、4.4−イソプロピリデンジフェニ
ルジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート、ト
リレンジイソシアネートの水添化物、ジフェニルメタン
ジイソシアネートの水添化物1、キシリレンジイソシア
ネートの水添化物等が有用である。
In order to impart the structure B, the following compounds are used during production. Specifically, tolylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, xylylene diisocyanate, 4,4-isopropylidenediphenyl diisocyanate, naphthalene diisocyanate, hydrogenated product of tolylene diisocyanate, hydrogenated product 1 of diphenylmethane diisocyanate, water of xylylene diisocyanate. Additives etc. are useful.

さらに、イソシアネート化合物として、1,3−ビス(
α、α−ジメチル−イソシアネートメチル)ベンビン、
別名としてのテトラメチルキシリレン−ジイソシアネー
トを使用してもよい。該化合物は、分子中にベンゼン環
を有する無黄変ジイソシアネートであり、イソシアネー
ト基は2つのメチル基でシールドされている。従って、
イソシアネート基がベンゼン環に隣接していながら黄変
しにくい特徴がある。
Furthermore, as an isocyanate compound, 1,3-bis(
α,α-dimethyl-isocyanatomethyl)benbin,
Another name may be used: tetramethylxylylene diisocyanate. This compound is a non-yellowing diisocyanate having a benzene ring in the molecule, and the isocyanate group is shielded by two methyl groups. Therefore,
Although the isocyanate group is adjacent to the benzene ring, it is resistant to yellowing.

以上の成分を用い、通常の方法によってウレタン樹脂を
製造する。ウレタン反応は適当な溶媒中で行なってもよ
いし、融点の低い化合物に対してはそのまま直接に行な
ってもよい。A成分中のOH基と8成分中のNGO基と
を適宜な比率で反応させるが、通常はNGO10H比率
は1.0近辺が好ましく、必要に応じて触媒や鎖伸長剤
を用いて反応させることができる。反応温度は50〜2
oo’cが適当であり。特に70〜120’C好ましい
A urethane resin is produced using the above-mentioned components in a conventional manner. The urethane reaction may be carried out in a suitable solvent, or for compounds with a low melting point, it may be carried out directly. The OH group in the A component and the NGO group in the 8 components are reacted at an appropriate ratio, but usually the NGO10H ratio is preferably around 1.0, and the reaction may be performed using a catalyst or chain extender if necessary. Can be done. The reaction temperature is 50-2
oo'c is appropriate. Particularly preferred is 70 to 120'C.

一方、分子量は目的に応じて選択される。すなわち、本
発明のウレタン樹脂の溶融粘度は、射出成形や圧縮成形
などの条件に合わせ、複屈折性を配慮しながら選択する
必要がある。射出成形の場合、成形温度は150〜25
0″Cが好ましく、成形時の粘度はi oooポイズ前
後が適当である。
On the other hand, the molecular weight is selected depending on the purpose. That is, the melt viscosity of the urethane resin of the present invention needs to be selected in accordance with the conditions of injection molding, compression molding, etc., while taking birefringence into consideration. For injection molding, the molding temperature is 150-25
0''C is preferable, and the viscosity during molding is suitably around i ooo poise.

本発明において構成するウレタン樹脂の構造は、FT−
IR,NMR,元素分析、GC,HPLC。
The structure of the urethane resin constituted in the present invention is FT-
IR, NMR, elemental analysis, GC, HPLC.

GC−MSなどの通常の分析手段により容易に確認する
ことができる。
It can be easily confirmed by conventional analytical means such as GC-MS.

本発明の光学機器用素材作製するに当って、酸化防止剤
、紫外線吸収剤などの通常の添加剤を配合してもよい。
In producing the material for optical equipment of the present invention, conventional additives such as antioxidants and ultraviolet absorbers may be added.

さらに、本発明における特徴はウレタン樹脂の製造法で
ある。即ら、本発明では上記のジオール化合物ならびに
イソシアネート化合物を、例えばエクストルーダー中に
投入し、エクストルーダー中で加熱押出しながらウレタ
ン樹脂を製造することができる。そしてエクストルーダ
ーに直結された成型機で、ウレタン樹脂を外部に取出す
ことなくそのまま成型することができる。従って、成型
された幕板は極めてクリーンであり、記録特性に悪影響
を及ぼし高品質を損なう要因となるごみや埃などの混入
を防ぐことができる。
Furthermore, a feature of the present invention is a method for producing urethane resin. That is, in the present invention, the above-mentioned diol compound and isocyanate compound can be put into an extruder, for example, and the urethane resin can be produced while being heated and extruded in the extruder. A molding machine that is directly connected to the extruder allows the urethane resin to be molded as it is without having to take it out. Therefore, the molded curtain plate is extremely clean, and it is possible to prevent the contamination of dirt, dust, etc. that would adversely affect recording characteristics and impair high quality.

かかる点は、従来のアクリル樹脂やポリカーボネートで
は問題点のひとつであり、メーカにおいて大きな努力が
はられれているが、本発明ではこのような問題は解決さ
れている。
This is one of the problems with conventional acrylic resins and polycarbonates, and great efforts are being made by manufacturers, but this problem has been solved with the present invention.

本発明において、ウレタン反応は触媒を用いてもよいし
、触媒を用いずにそのまま行うことができる。本発明で
用いるイソシアネートは反応性は高くない。むしろイソ
シアネートの中では遅いほうである。従って100℃近
辺の温度でも十分に脱泡することができる。
In the present invention, the urethane reaction may be performed using a catalyst or may be carried out as it is without using a catalyst. The isocyanate used in the present invention is not highly reactive. Rather, it is one of the slower isocyanates. Therefore, sufficient defoaming can be achieved even at temperatures around 100°C.

また本発明においては、前記のポリカーボネートは末端
アルコール性ポリカーボネートであってもよい。かかる
末端停止ポリマーを用いるときは、かかる構造のポリマ
ーを作るにはたとえば4.4゛−ジヒドロキシジフェニ
ルアルカンを使用する。
Further, in the present invention, the polycarbonate may be a terminal alcoholic polycarbonate. When such end-stopped polymers are used, for example, 4.4'-dihydroxydiphenylalkanes are used to create polymers of such structure.

4.4°−ジヒドロキシジフェニルアルカンの例として
は、ビス(4−ヒドロキシフェニル〉メタン、1.1−
ビス(4−ヒドロキシフェニル)エタン、2゜2−ビス
(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2゜2−ビス(
4−ヒドロキシフェニル)ブタン、 1.1−ビス(4
−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、2.2−ビス
(4−ヒドロキシ−3,5−ジブロモフェニル)プロパ
ン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジクロロ
フェニル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−
3,5−ジメチルフェニル)プロパン、2゜2−ビス(
4−ヒドロキシ−3,5−ジエチルフェニル)プロパン
、1−フェニル−1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)エタン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)−ジフェ
ニルメタンなどである。
Examples of 4.4°-dihydroxydiphenylalkanes include bis(4-hydroxyphenyl)methane, 1.1-
Bis(4-hydroxyphenyl)ethane, 2゜2-bis(4-hydroxyphenyl)propane, 2゜2-bis(
4-hydroxyphenyl)butane, 1,1-bis(4
-hydroxyphenyl)cyclohexane, 2,2-bis(4-hydroxy-3,5-dibromophenyl)propane, 2,2-bis(4-hydroxy-3,5-dichlorophenyl)propane, 2,2-bis(4-dichlorophenyl)propane, -Hydroxy-
3,5-dimethylphenyl)propane, 2゜2-bis(
These include 4-hydroxy-3,5-diethylphenyl)propane, 1-phenyl-1,1-bis(4-hydroxyphenyl)ethane, and bis(4-hydroxyphenyl)-diphenylmethane.

また末端停止剤として用いられる化合物としては、ヒド
ロキシエチルフェノール、ヒドロキシエチルフェノール
、ヒドロキシプロピルフェノール、ヒドロキシラウリル
フェノール、ヒドロキシオクチルフェノール、ヒドロキ
シ安息香酸メタノール、ヒドロキシ安息香酸エタノール
、ヒドロキシ安息香酸プロパツール、ヒドロキシ安息香
酸オクタツール、ヒドロキシ安息香酸オクタツールなど
でおる。
Compounds used as terminal capping agents include hydroxyethylphenol, hydroxyethylphenol, hydroxypropylphenol, hydroxylaurylphenol, hydroxyoctylphenol, methanol hydroxybenzoate, ethanol hydroxybenzoate, propatool hydroxybenzoate, and octylbenzoate. Tool, hydroxybenzoic acid octatool, etc.

上記、末端アルコール性ポリカーボネートを得るには、
界面重合法により製造する。該末端アルコール性ポリカ
ーボネートの平均重合度は5〜10の範囲が適当である
。この範囲よりも平均Φ今度が大きくなると、溶融粘度
が高くなりすぎ、成型した基板の複屈折が増大しやすい
。一方、上記の範囲よりも平均重合度が小さいと、基板
の機械的特性が著しく低下する問題がある。従って、好
適なポリカーボネートは末端アルコール性ポリカーボネ
ートオリゴマーである。
To obtain the above terminal alcoholic polycarbonate,
Manufactured by interfacial polymerization method. The average degree of polymerization of the terminal alcoholic polycarbonate is suitably in the range of 5 to 10. When the average Φ degree is larger than this range, the melt viscosity becomes too high and the birefringence of the molded substrate tends to increase. On the other hand, if the average degree of polymerization is smaller than the above range, there is a problem that the mechanical properties of the substrate are significantly deteriorated. Therefore, preferred polycarbonates are terminal alcoholic polycarbonate oligomers.

一方、上記の末端アルコール性ポリカーボネートオリゴ
マーと反応させるイソシアネート化合物としては、2官
能性のジイソシアネート化合物を使用することができる
。特に、芳香環やシクロヘキサン環を有する化合物が有
用である。例えば、トリレンジイソシアネート、ジフェ
ニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネ
ート、トリレンジイソシアネートの水添化物、ジフェニ
ルメタンジイソシアネート水添化物、キシリレンジイソ
シアネート水添化物等が挙げられる。
On the other hand, as the isocyanate compound to be reacted with the terminal alcoholic polycarbonate oligomer, a bifunctional diisocyanate compound can be used. In particular, compounds having an aromatic ring or a cyclohexane ring are useful. Examples include tolylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, xylylene diisocyanate, hydrogenated products of tolylene diisocyanate, hydrogenated products of diphenylmethane diisocyanate, and hydrogenated products of xylylene diisocyanate.

上記の末端アルコール性ポリカーボネートオリゴマーの
OH基と、2官能性のジイソシアネート化合物のNCO
基とを反応させて、ウレタン樹脂を製造する。ウレタン
反応は、常法に従って、適当な溶媒中で行ってもよいし
、溶融させながら直接に行ってもよい。
The OH group of the above terminal alcoholic polycarbonate oligomer and the NCO of the bifunctional diisocyanate compound
A urethane resin is produced by reacting with the group. The urethane reaction may be carried out in a suitable solvent or directly while melting, according to a conventional method.

本発明で得られるウレタン樹脂は、従来の光学用透明成
型材料としてのアクリル樹脂よりも吸水率が低く、ポリ
カーボネートよりも複屈折性が優れる特徴がある。従っ
て該ウレタン樹脂を各種の光学機器用素材として使用す
ると、様々な条件下で安定に作動する。
The urethane resin obtained in the present invention has a lower water absorption than acrylic resins used as conventional optical transparent molding materials, and has better birefringence than polycarbonate. Therefore, when the urethane resin is used as a material for various optical devices, it operates stably under various conditions.

それ故、本発明の素材は、デジタルオーディオディスク
、光メモリ−ディスク、ビデオディスクおよび光学用レ
ンズ用として有効に利用することができる。
Therefore, the material of the present invention can be effectively used for digital audio discs, optical memory discs, video discs, and optical lenses.

[実施例コ 次に本発明を実施例によって説明する。[Example code] Next, the present invention will be explained by examples.

本発明の主旨を明瞭にするために、次に実施例を挙げる
が、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない
。なお、実施例、比較例において、下記の試験法によっ
て特性を測定した。
EXAMPLES In order to clarify the gist of the present invention, Examples are given below, but the present invention is not limited to these Examples. In addition, in Examples and Comparative Examples, characteristics were measured by the following test method.

■ 複屈折:成形した基板を偏向板で挟み、肉眼観察で
複屈折性を判定した。
■ Birefringence: The molded substrate was sandwiched between deflection plates, and birefringence was determined by visual observation.

■ 吸水率:JIS  K−7209に従った。すなわ
ち、50mmX50mmX3Qmmの試験片を23′c
の水中に浸せきし、24時間後の吸水率を測定した。
■ Water absorption rate: According to JIS K-7209. In other words, a test piece of 50mm x 50mm x 3Qmm was placed at 23'c.
The water absorption rate was measured after 24 hours.

■ Tg: DSC(示差走査熱量分析)法によって、
熱量の変化する温度域の中間点をTgとして求めた。以
下ガラス転移点として表示する。
■ Tg: By DSC (differential scanning calorimetry) method,
The midpoint of the temperature range in which the amount of heat changes was determined as Tg. Hereinafter, it will be expressed as a glass transition point.

実施例1 4.4−ビス(ヒドロキシエチル)ビスフェノールA6
2.4重量部、ジフェニルメタンジイソシアネート 3
7.61ffi部をジメチルホルムアミドの溶媒に溶か
し、均一に攪拌しなから100℃に加熱して付加反応を
行い、ウレタン樹脂を作製した。
Example 1 4.4-bis(hydroxyethyl)bisphenol A6
2.4 parts by weight, diphenylmethane diisocyanate 3
7.61 parts of ffi was dissolved in a dimethylformamide solvent, stirred uniformly, and heated to 100°C to carry out an addition reaction to produce a urethane resin.

この溶液を200℃に加熱してエクストルウダー中で脱
溶媒した後、引続き、シリンダ一温度200℃、金型温
度80℃の条件下で射出成型し、直径12cm、厚み’
l、2mmの透明なディスク基板をつくった。この基板
の吸水率は0.6%であり、アクリル樹脂の1.2%に
比べてきわめて低く、複屈折性も良好であった。特性の
結果を表1に示す。
After heating this solution to 200°C and desolventizing it in an extruder, it was subsequently injection molded under conditions of a cylinder temperature of 200°C and a mold temperature of 80°C.
A 2 mm transparent disk substrate was made. The water absorption rate of this substrate was 0.6%, which was extremely low compared to 1.2% of the acrylic resin, and the birefringence was also good. The results of the characteristics are shown in Table 1.

実施例2 2.2−ビス(4−シクロヘキサノール)プロパン 5
6.511部、キシリレンジイソシアネート 43.5
重量部もちいて、実施例1に準じてディスク基板を作製
した。この基板の吸水率は0.6%であり、複屈折性も
良好であった。特性の結果を表1に示す。
Example 2 2.2-bis(4-cyclohexanol)propane 5
6.511 parts, xylylene diisocyanate 43.5
A disk substrate was prepared according to Example 1 using parts by weight. The water absorption rate of this substrate was 0.6%, and the birefringence was also good. The results of the characteristics are shown in Table 1.

実施例3 4.4−ビス(ヒドロキシエチル)テトラブロモ ビス
フェノールA77.1重量部キシリレンジイソシアネー
ト 22.9重量部をもちいて、。
Example 3 77.1 parts by weight of 4.4-bis(hydroxyethyl)tetrabromo bisphenol A and 22.9 parts by weight of xylylene diisocyanate were used.

実施例1に準じてディスク基板を作製した。この基板の
吸水率は0.3%でポリカーボネートに匹敵しており、
複屈折性も良好であった。特性の結果を表1に示す。
A disk substrate was produced according to Example 1. The water absorption rate of this substrate is 0.3%, which is comparable to polycarbonate.
Birefringence was also good. The results of the characteristics are shown in Table 1.

実施例4 ビス(4−ヒドロキシエチルフェニル)スルホン 57
.2重量部、水添ジフェニルメタンジイソシアネート 
42.7重量部をもちいて、実施例1に準じてディスク
基板を作製した。この基板の吸水率は0.5%であり、
複屈折性も良好であった。特性の結果を表1に示す。
Example 4 Bis(4-hydroxyethylphenyl)sulfone 57
.. 2 parts by weight, hydrogenated diphenylmethane diisocyanate
A disk substrate was produced according to Example 1 using 42.7 parts by weight. The water absorption rate of this substrate is 0.5%,
Birefringence was also good. The results of the characteristics are shown in Table 1.

実施例5 ビス(4−ヒドロキシエチルフェニル)スルホン 59
.0、キシリレンジイソシアネート 42.7重量部を
もちいて、実施例1に準じてディスク基板を作製した。
Example 5 Bis(4-hydroxyethylphenyl)sulfone 59
.. A disk substrate was prepared according to Example 1 using 42.7 parts by weight of 0.0 xylylene diisocyanate.

特性の結果を表1に示す。The results of the characteristics are shown in Table 1.

比較例1 ポリメチルメタクリレートを用いて射出成形し1、直径
12α、厚さ1.2mのディスク基板を得た。
Comparative Example 1 A disk substrate having a diameter of 12α and a thickness of 1.2 m was obtained by injection molding using polymethyl methacrylate.

特性の結果を表1に示す。複屈折性も良好であるが、吸
水率が高い欠点がある。
The results of the characteristics are shown in Table 1. Although it has good birefringence, it has a drawback of high water absorption.

比較例2 ポリカーボネートを用いて射出成形し、直径12 cm
、厚さ1.2aiのディスク基板を得た。特性の結果を
表1に示す。吸水性が優れるが、複屈折性が劣っている
Comparative Example 2 Injection molded using polycarbonate, diameter 12 cm
A disk substrate with a thickness of 1.2 ai was obtained. The results of the characteristics are shown in Table 1. Excellent water absorption, but poor birefringence.

表1 ポリマ特性 実施例6 4.4−ビス(ヒドロキシエチル)ビスフェノールA 
(OH価350)  56.4重ffi部、イソシアネ
ート化合物として、1,3ビス(α、αジメチル イソ
シアネートメチル)ベンゼン(NCO含量 34.4w
t%)43.6重量部およびジブチルチンジラウラート
 0.011量部の混合物を、成型機に直結したエクス
トルウダー中に投入し、エクストルーダーを稼働しなが
ら140℃で約10分間加熱して付加反応を行い、ウレ
タン樹脂を作製した。
Table 1 Polymer properties Example 6 4.4-bis(hydroxyethyl)bisphenol A
(OH value 350) 56.4 parts ffi, as an isocyanate compound, 1,3 bis(α,α dimethyl isocyanate methyl)benzene (NCO content 34.4w
A mixture of 43.6 parts by weight of t%) and 0.011 parts by weight of dibutyl tin dilaurate was put into an extruder directly connected to the molding machine, and heated at 140°C for about 10 minutes while the extruder was running. An addition reaction was performed to produce a urethane resin.

このポリマを200℃に加熱してシリンダーに送込み、
金型温度80℃の条件下で射出成型し、直径’12cm
、厚み’1.2mmの透明なディスク基板をつくった。
This polymer is heated to 200℃ and sent into a cylinder.
Injection molded at a mold temperature of 80℃, diameter 12cm.
A transparent disk substrate with a thickness of 1.2 mm was made.

この基板の吸水率は0.5%であり、アクリル樹脂の1
.2%に比べてきわめて低く、複屈折性も良好であった
。特性の結果を表2に示す。
The water absorption rate of this substrate is 0.5%, and the water absorption rate of acrylic resin is 1%.
.. The birefringence was extremely low compared to 2%, and the birefringence was also good. The results of the characteristics are shown in Table 2.

実施例7 2.2−ビス(4−シクロヘキサノール)プロパン(O
8価460)49.6重量部、1,3ビス(α、αジメ
チル イソシアネートメチル)ベンゼン 50.4重1
部およびジブチルチンジラウラート 0.01重量部の
混合物をもちいて、実施例1に準じてディスク基板を作
製した。この基板の吸水率は0.6%であり、複屈折性
も良好であった。特性の結果を表2に示す。
Example 7 2.2-bis(4-cyclohexanol)propane (O
8 valent 460) 49.6 parts by weight, 1,3 bis (α, α dimethyl isocyanate methyl) benzene 50.4 parts by weight 1
A disk substrate was prepared according to Example 1 using a mixture of 0.01 parts by weight of dibutyl tin dilaurate and 0.01 parts by weight of dibutyltin dilaurate. The water absorption rate of this substrate was 0.6%, and the birefringence was also good. The results of the characteristics are shown in Table 2.

実施例8 4.4−ビス(ヒドロキシエチル)テトラブロモ ビス
フェノールA (OH価178)72.0重量部キシリ
レンジイソシアネート 28.01量部およびジブチル
チンシラをもちいて、実施例1に準じてディスク基板を
作製した。この基板の吸水率は0.3%でポリカーボネ
ートに匹敵しており、複屈折性も良好であった。特性の
結果を表2に示す。
Example 8 A disk substrate was prepared according to Example 1 using 72.0 parts by weight of 4.4-bis(hydroxyethyl)tetrabromobisphenol A (OH value 178), 28.01 parts by weight of xylylene diisocyanate, and dibutyltinsila. Created. The water absorption rate of this substrate was 0.3%, which was comparable to polycarbonate, and the birefringence was also good. The results of the characteristics are shown in Table 2.

比較例3 ポリメチルメタクリレートを用いて射出成形し、直径’
+2cm、厚さ1.2M111のディスク基板を得た。
Comparative Example 3 Injection molding using polymethyl methacrylate, diameter
A disk substrate of +2 cm and thickness of 1.2M111 was obtained.

特性の結果を表1に示す。複屈折性も良好でおるが、吸
水率が高い欠点がある。
The results of the characteristics are shown in Table 1. Although it has good birefringence, it has a drawback of high water absorption.

比較例4 ポリカーボネートを用いて射出成形し、直径12cm、
厚さ1.2Mのディスク基板を得た。特性の結果を表1
に示す。吸水性が優れるが、複屈折性が劣っている。
Comparative Example 4 Injection molded using polycarbonate, diameter 12 cm,
A disk substrate with a thickness of 1.2M was obtained. Table 1 shows the characteristics results.
Shown below. Excellent water absorption, but poor birefringence.

参考例1 水酸化ナトリウム3.7−を水42Qに溶解し、20℃
に保ちながら2.2−(4−ビスヒドロキシフェニル)
プロパン(BPA)7.3kq、ハイドロサルファイド
8gを溶解した。
Reference Example 1 Sodium hydroxide 3.7- was dissolved in water 42Q and heated at 20°C.
2.2-(4-bishydroxyphenyl) while keeping
7.3 kq of propane (BPA) and 8 g of hydrosulfide were dissolved.

これに12−ヒドロキシラウリン酸クロライド433g
を加え、次いでホスゲン2.5に9を60分で吹き込ん
だ。
Add to this 433g of 12-hydroxylauric acid chloride.
was added and then 2.5 to 9 of phosgene was bubbled over 60 minutes.

ホスゲン吹き込み終了後、激しく攪拌して反応液を乳化
させ、乳化後8gのトリエチルアミンを加え約1時間攪
拌を続は重合させた。
After the phosgene injection was completed, the reaction solution was vigorously stirred to emulsify it, and after emulsification, 8 g of triethylamine was added and the mixture was stirred for about 1 hour to allow polymerization.

重合液を、水相と有機相に分離し、有機相をリン酸で中
和したのち、洗液のpHが中性となるまで水洗を繰り返
した後、洗液イソプロパツールを35M加えて、重合物
を沈澱させた。沈澱物を濾過し、その後乾燥することに
より、白色粉末上のポリカーボネートオリゴマーを得た
。このオリゴマーの平均重合度は約7であった。
The polymerization solution was separated into an aqueous phase and an organic phase, and the organic phase was neutralized with phosphoric acid. After repeating water washing until the pH of the washing solution became neutral, 35M of isopropanol was added to the washing solution. The polymer was precipitated. The precipitate was filtered and then dried to obtain a polycarbonate oligomer as a white powder. The average degree of polymerization of this oligomer was about 7.

実施例9 参考例1で得た末端アルコール性ポリカーボネートオリ
ゴマー 89重量部、ジフェニルメタンジイソシアネー
ト 11重量部をジメチルホルムアミドの溶媒に溶か参
考例1でえた末端アルコール性ポリカーボネートオリゴ
マー 89重量部、均一に攪拌しなから100’Cに加
熱して付加反応を行い、ウレタン樹脂を作製した。
Example 9 89 parts by weight of the terminal alcoholic polycarbonate oligomer obtained in Reference Example 1 and 11 parts by weight of diphenylmethane diisocyanate were dissolved in a solvent of dimethylformamide, and 89 parts by weight of the terminal alcoholic polycarbonate oligomer obtained in Reference Example 1 were uniformly stirred. The mixture was heated to 100'C to perform an addition reaction to produce a urethane resin.

この溶液を200℃に加熱してエクストルウダー中で減
圧下で脱溶媒した後、引続き、シリンダ一温度270℃
、金型温度100℃の条件下で射出成型し、直径12c
m、厚み’1.2mmの透明なディスク基板をつくった
。この基板の吸水率は0.5%であり、アクリル樹脂の
1.2%に比べてきわめて低く、複屈折性も良好であっ
た。特性の結果を表3に示す。
After heating this solution to 200°C and removing the solvent under reduced pressure in an extruder, the temperature at the cylinder temperature was 270°C.
, injection molded at a mold temperature of 100℃, diameter 12cm
A transparent disk substrate with a thickness of 1.2 mm was made. The water absorption rate of this substrate was 0.5%, which was extremely low compared to 1.2% of the acrylic resin, and the birefringence was also good. The results of the characteristics are shown in Table 3.

実施例10 参考例1で得た末端アルコール性ポリカーボネートオリ
ゴマー 91重量部、キシリレンジイソシアネート 9
重ω部もちいて、実施例1に準じてディスク基板を作製
した。この基板の吸水率は0.4%であり、複屈折性も
良好でおった。特性の結果を表3に示す。
Example 10 91 parts by weight of the terminal alcoholic polycarbonate oligomer obtained in Reference Example 1, 9 parts by weight of xylylene diisocyanate
A disk substrate was manufactured according to Example 1 using the heavy ω portion. The water absorption rate of this substrate was 0.4%, and the birefringence was also good. The results of the characteristics are shown in Table 3.

実施例11 参考例1で1qだ末端アルコール性ポリカーボネートオ
リゴマー 91重量部、キリレンジイソシアネートの水
添加物 9重岨部をもちいて、実施例1に準じてディス
ク基板を作製した。この基板の吸水率は0.4%でポリ
カーボネートに匹敵しており、複屈折性も良好であった
。特性の結果を表3に示す。
Example 11 A disk substrate was prepared according to Example 1 using 91 parts by weight of the 1q-terminated alcoholic polycarbonate oligomer and 9 parts by weight of the water additive of kylylene diisocyanate. The water absorption rate of this substrate was 0.4%, which was comparable to polycarbonate, and the birefringence was also good. The results of the characteristics are shown in Table 3.

比較例5 ポリメチルメタクリレートを用いて射出成形し、直径1
2cm、厚さ1.2面のディスク基板を得た。
Comparative Example 5 Injection molded using polymethyl methacrylate, diameter 1
A disk substrate of 2 cm and 1.2 sides in thickness was obtained.

特性の結果を表3に示す。複屈折性も良好であるが、吸
水率が高い欠点がある。
The results of the characteristics are shown in Table 3. Although it has good birefringence, it has a drawback of high water absorption.

比較例6 ポリカーボネートを用いて射出成形し、直径12cm、
厚さ1.2頭のディスク基板を(qた。特性の結果を表
3に示す。吸水性が優れるが、複屈折性が劣っている。
Comparative Example 6 Injection molded using polycarbonate, diameter 12 cm,
A disk substrate with a thickness of 1.2 cm was used. The results of the characteristics are shown in Table 3. The water absorption property is excellent, but the birefringence is poor.

[発明の効果コ 本発明のウレタン樹脂は、光学用成型材料に使用でき、
特に光デイスク基板に用いると、吸水性が優れることか
ら寸法安定性に優れ、複屈折性が優れ、かつ強靭な光デ
イスク基板を作製することが出来る。
[Effects of the invention] The urethane resin of the invention can be used as an optical molding material,
In particular, when used in optical disk substrates, it is possible to produce optical disk substrates that have excellent dimensional stability, excellent birefringence, and toughness due to their excellent water absorption.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)下記の一般式[ I ]で示されるウレタンユニッ
ト構造を繰り返し単位とするポリマーからなることを特
徴とする光学基材用樹脂。 ▲数式、化学式、表等があります▼ [ I ] [ただしA、およびBは下記の構造である。 ▲数式、化学式、表等があります▼ 又は ▲数式、化学式、表等があります▼ 又は  ▲数式、化学式、表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼ (A成分中、Rは炭素中1〜3の2価の脂肪族、脂環族
もしくはスルホン、XはC_1〜_1_5の低級アルキ
ル基、ClもしくはBr、n=5〜300の整数、m=
0〜2の整数、pおよびqは0〜2の整数を示し、Uは
C_1〜_1_5の2価の脂肪族、脂環族、もしくはフ
ェニル置換アルキル基であり、Yは単なる結合もしくは
−COO−、Sは1〜20の整数、Tは5〜10の整数
を示す。) B: ▲数式、化学式、表等があります▼ から選ばれる一種以上の有機基。]
(1) A resin for optical substrates comprising a polymer having a urethane unit structure represented by the following general formula [I] as a repeating unit. ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ [I] [However, A and B have the following structures. ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ or ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ or ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (In the A component, R is carbon Among them, 1 to 3 divalent aliphatic, alicyclic or sulfone, X is a lower alkyl group of C_1 to_1_5, Cl or Br, n = an integer of 5 to 300, m =
An integer of 0 to 2, p and q represent integers of 0 to 2, U is a divalent aliphatic, alicyclic, or phenyl-substituted alkyl group of C_1 to_1_5, and Y is a simple bond or -COO- , S represents an integer of 1 to 20, and T represents an integer of 5 to 10. ) B: ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ One or more organic groups selected from. ]
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