JPS63288784A - Substrate for optical recording and production thereof - Google Patents

Substrate for optical recording and production thereof

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Publication number
JPS63288784A
JPS63288784A JP62124574A JP12457487A JPS63288784A JP S63288784 A JPS63288784 A JP S63288784A JP 62124574 A JP62124574 A JP 62124574A JP 12457487 A JP12457487 A JP 12457487A JP S63288784 A JPS63288784 A JP S63288784A
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JP
Japan
Prior art keywords
polymer
optical recording
group
carbon atoms
organosilicon compound
Prior art date
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Pending
Application number
JP62124574A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Mutsuo Aoyanagi
青▲やなぎ▼ 六夫
Toshiyuki Kondo
敏行 近藤
Takashi Taniguchi
孝 谷口
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toray Industries Inc
Original Assignee
Toray Industries Inc
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Filing date
Publication date
Application filed by Toray Industries Inc filed Critical Toray Industries Inc
Priority to JP62124574A priority Critical patent/JPS63288784A/en
Publication of JPS63288784A publication Critical patent/JPS63288784A/en
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B7/00Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
    • G11B7/24Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
    • G11B7/241Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
    • G11B7/252Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers
    • G11B7/253Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of substrates
    • G11B7/2533Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of substrates comprising resins

Landscapes

  • Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)

Abstract

PURPOSE:To obtain a substrate for optical recording which comprises a resin base and has excellent solvent resistance and flexibility, by laminating the resin base with a film formed from a polymer and an organosilicon compound. CONSTITUTION:A resin base is laminated with a film formed from a polymer and an organosilicon compound. The polymer is preferably a polymer having a hydrogen-bondable functional group, and may be polyvinyl alcohol, polyvinyl pyridine or the like. The organosilicon compound is preferably a compound of the formula R<1>R<2>aSi(OR<3>)3-a and/or a hydrolyzate thereof. The organosilicon compound is used in an amount of 0.5-500 pts.wt. per 100 pts.wt. of the polymer. The film, comprising the polymer in addition to the organosilicon compound, has sufficient flexibility, and is hardly cracked by rapid temperature changes or shocks. A solvent to be used may be any one that does not attack the resin base, for example, an alcohol or water.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野コ 本発明は、レーザー光によって記録し、かつ読み出すこ
とのできる光記録用基板およびその製造方法に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to an optical recording substrate that can be recorded and read by laser light, and a method for manufacturing the same.

[従来の技術] 近年、塗布によって記録層が形成できる、有機化合物を
記録月利に用いる光記録媒体が活発に検問されている。
[Prior Art] In recent years, optical recording media that use organic compounds for recording, whose recording layer can be formed by coating, have been actively investigated.

ところが、従来の有機化合物を塗膜として樹脂製の基板
上に形成する際には、塗布溶媒によって樹脂基板表面が
侵され、フォーカスサーボ・トラッキングサーボに必要
なグループ(案内溝)が消失してしまう恐れがあった。
However, when conventional organic compounds are formed as a coating on a resin substrate, the resin substrate surface is attacked by the coating solvent, and the groups (guide grooves) necessary for focus servo and tracking servo disappear. There was fear.

そこで基板と記録層の間に種々の被膜を設けて上記問題
点を解決しようとする提案がある。
Therefore, there have been proposals to solve the above problems by providing various coatings between the substrate and the recording layer.

例えば、被膜として酸化ケイ素を用いる提案(特開昭6
0−204395号公報)、ケイ素縮合物のコロイド粒
子分散液の塗膜を用いる提案(特開昭61−11294
号公報、熱処理したオルガノアルコキシシラン、オルガ
ノアロキシシラシ、オルガノシリコンの層を用いる提案
(特開昭61−35288号公報、特開昭61−573
89号公報)などがある。
For example, a proposal to use silicon oxide as a coating (Japanese Unexamined Patent Publication No. 6)
0-204395), a proposal using a coating film of a colloidal particle dispersion of a silicon condensate (JP-A-61-11294)
JP-A-61-35288, JP-A-61-573, proposals using heat-treated layers of organoalkoxysilane, organoalkoxysilane, and organosilicon.
Publication No. 89).

[発明が解決しようとする問題点] しかしながら、特開昭60−204395号公報の提案
は、通常蒸着あるいはスパッタリングによって形成する
もので、膜厚が薄く不均一であり、また生産性も悪いと
いう問題点を有していた。
[Problems to be Solved by the Invention] However, the proposal in JP-A No. 60-204395 involves the problem that the film is usually formed by vapor deposition or sputtering, and the film thickness is thin and non-uniform, and the productivity is also poor. It had a point.

また、特開昭61−11294号公報の提案は、コロイ
ド粒子間から塗布溶媒が浸透して基板を浸してしまうと
いう問題点があった。
Furthermore, the proposal of JP-A-61-11294 had a problem in that the coating solvent penetrated between the colloid particles and soaked the substrate.

また、特開昭61−35288号公報、特開昭61−5
7389号公報の提案は、熱処理にかなりの高温を必要
とするため樹脂基体への適用がむずかしく、ざらに、熱
処理後に生成するシリコーン層は非常に可撓性が乏しく
容易に亀裂が入るという欠点を有していた。
Also, JP-A-61-35288, JP-A-61-5
The proposal in Publication No. 7389 requires a considerably high temperature for heat treatment, making it difficult to apply to resin substrates, and has the drawback that the silicone layer formed after heat treatment has very poor flexibility and easily cracks. had.

本発明は、かかる従来技術の欠点を解消しようとするも
のであり、耐溶剤性、可撓性に優れた、樹脂を基体とし
た光記録用基板およびその製造方法を提供することを目
的とする。
The present invention aims to eliminate the drawbacks of the prior art, and aims to provide a resin-based optical recording substrate that has excellent solvent resistance and flexibility, and a method for manufacturing the same. .

F問題点を解決するための手段] 本発明は、上記目的を達成するために、下記の構成を有
する。
Means for Solving Problem F] In order to achieve the above object, the present invention has the following configuration.

「(1)  樹脂製の基体上に、ポリマーと有機ケイ素
化合物とから得られる被膜を積層してなることを特徴と
する光記録用基板。
(1) An optical recording substrate comprising a resin substrate and a coating made of a polymer and an organosilicon compound laminated thereon.

(2)  樹脂製の基体上に、脂肪族低級アルコール、
セロソルブ類、水から選ばれる少なくとも一種を溶媒と
したポリマーと有はケイ素化合物との溶液をコーティン
グすることを特徴とする光記録用基板の製造方法。」 本発明におけるポリマーとは、脂肪族低級アルコール、
セロソルブ類、水から選ばれる一種あるいは2種以上の
混合溶媒に溶けるポリマーなら何でもよいが、特に水素
結合性の官能基を有するポリマーが好ましく、具体的に
はポリビニルアルコール、ポリビニルピリジン、ポリビ
ニルピロリドン、ヒドロキシエチルセルロース、アセチ
ルセルロース、ヒドロキシブチルセルロースあるいはこ
れらのコポリマーからなる群から選ばれるものがその例
として挙げられる。
(2) Aliphatic lower alcohol,
1. A method for producing an optical recording substrate, comprising coating a solution of a polymer and a silicon compound using at least one selected from cellosolves and water as a solvent. ” The polymer in the present invention refers to aliphatic lower alcohol,
Any polymer can be used as long as it is soluble in one or more mixed solvents selected from cellosolves and water, but polymers with hydrogen-bonding functional groups are particularly preferred, and specific examples include polyvinyl alcohol, polyvinylpyridine, polyvinylpyrrolidone, and hydroxyl. Examples include those selected from the group consisting of ethylcellulose, acetylcellulose, hydroxybutylcellulose, or copolymers thereof.

本発明に用いる有機ケイ素化合物とは、一般式%式% (式中、R1は炭素数1〜10の有は基、R2は、炭素
数1〜6のアルキル基、またはハロゲン化アルキル基、
R3は炭素数1〜8のアルキル基、アルコキシアルキル
基またはアシル基である。aはOまたは1である。) で表わされる化合物および/またはその加水分解物であ
ることが好ましく、具体的な例としては、次のようなも
のが挙げられる。
The organosilicon compound used in the present invention has the general formula % (in the formula, R1 is a group having 1 to 10 carbon atoms, R2 is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a halogenated alkyl group,
R3 is an alkyl group, an alkoxyalkyl group, or an acyl group having 1 to 8 carbon atoms. a is O or 1. ) and/or a hydrolyzate thereof, and specific examples include the following.

β−グリシドキシエチルトリメトキシシラン、γ−グリ
シドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキ
シエチルトリエトキシシラン、β−グリシドキシプロピ
ルトリメトキシシラン、β−グリシドキシエチルメチル
ジメトキシシラン、β−グリシドキシエチルメチルジェ
トキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメ1
−キシシラン、γ−グリシドキシプロビルメチルジェト
キシシラン、β−グリシドキシプロピルメチルジェトキ
シシラン、T−グリシドキシプロビルエチルジメトキシ
シラン、γ−グリシドキシプロピルエチルジェトキシシ
ラン、β−グリシドキシプロピルエチルジェトキシシラ
ン、β−グリシドキシエチルプロピルジメトキシシラン
、β−(3,4エポキシシクロヘキシル)エチルトリエ
トキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリ
エトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルト
リエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニ
ルトリメトキシエトキシシラン、γ−クロロプロピルト
リメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリエトキシシ
ラン、γ−クロロプロピルトリプロポキシシラン、γ−
クロロプロピルトリブトキシシラン、フェニルトリメト
キシシラン、フェニルトリエトキシシラン、γ−トリフ
ロロプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシ
プロピルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラ
ン、γ−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、γ−
メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシランなどが
挙げられる。またこれらの化合物は、単独のみならす2
種以上混合して用いることも可能である。
β-glycidoxyethyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxyethyltriethoxysilane, β-glycidoxypropyltrimethoxysilane, β-glycidoxyethylmethyldimethoxysilane, β-glycidoxyethylmethyljethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldime 1
-xysilane, γ-glycidoxypropylmethyljethoxysilane, β-glycidoxypropylmethyljethoxysilane, T-glycidoxypropylethyldimethoxysilane, γ-glycidoxypropylethyljethoxysilane, β- Glycidoxypropylethyljethoxysilane, β-glycidoxyethylpropyldimethoxysilane, β-(3,4 epoxycyclohexyl)ethyltriethoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane Ethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, vinyltrimethoxyethoxysilane, γ-chloropropyltrimethoxysilane, γ-chloropropyltriethoxysilane, γ-chloropropyltripropoxysilane, γ-
Chloropropyltributoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, γ-trifluoropropyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, γ-chloropropylmethyldimethoxysilane, γ-
Examples include methacryloxypropylmethyldimethoxysilane. In addition, these compounds may be used alone or in combination with 2
It is also possible to use a mixture of more than one species.

上記有機ケイ素化合物の使用に際しては、そのまま成分
として添加することもできるし、あらかじめ加水分解を
行なった後、添加して使用することも可能である。また
、加水分解に際しては、通常の方法、例えば、塩酸等の
無機酸、酢酸等の有 □機酸、カセイソーダのようなア
ルカリ、あるいは水のみを用いて加水分解する方法を利
用することができる。
When using the above-mentioned organosilicon compound, it can be added as a component as it is, or it can be added after being hydrolyzed in advance. Further, for hydrolysis, a conventional method can be used, for example, a method of hydrolysis using an inorganic acid such as hydrochloric acid, an organic acid such as acetic acid, an alkali such as caustic soda, or only water.

また、該有機ケイ素化合物の被膜における硬度を向上さ
せる目的で一般式が、 AQ−Xo−Y3□ (ここでXは、低級アルコキシ基
、Yは、MI C0CHコC0M2およびM3C0CR
2COOM 4からなる群から選ばれた化合物から生ず
る配位子(Ml 、M2、M3およびM4は低級アルキ
ル基、nは0.1または2である)で表わされるアルミ
ニウムキレート化合物を添加することが好ましい。
In addition, for the purpose of improving the hardness of the film of the organosilicon compound, the general formula is AQ-Xo-Y3□ (where X is a lower alkoxy group, Y is MI C0CH, C0M2, and M3C0CR).
It is preferred to add an aluminum chelate compound represented by a ligand derived from a compound selected from the group consisting of 2COOM 4 (Ml, M2, M3 and M4 are lower alkyl groups, n is 0.1 or 2) .

かかるアルミニウムキレート化合物は各種の化合物が使
用できるが、触媒活性、組成物中の溶解性および安定性
の点から好ましい例としては、アルミニウムアセチルア
セトナート、アルミニウムエチルアセトアセテートビス
アセチルアセトナート、アルミニウムビスアセトアセテ
ートアセチルアトナート、アルミニウムジn−ブトキシ
ドモノエチルアセテート、アルミニウムジ−ミープロポ
キシドモノメチルアセトアセテートなどが挙げられ、こ
れらの化合物の混合物を用いることもできる。
Various types of aluminum chelate compounds can be used, but preferred examples from the viewpoint of catalytic activity, solubility in the composition, and stability are aluminum acetylacetonate, aluminum ethyl acetoacetate bisacetylacetonate, and aluminum bisacetoacetate. Examples include acetate acetylatonate, aluminum di-n-butoxide monoethyl acetate, aluminum di-propoxide monomethyl acetoacetate, and mixtures of these compounds can also be used.

本発明の被膜は通常は各々次のような割合で用いられる
成分で組成物を形成する。これらはいずれも固形分量と
して各々ポリマーを100重同部に対して有機ケイ素化
合物は0.5〜500重量部の範囲で用いられる。有機
ケイ素化合物が0゜5重量部よりも少ないと記録層形成
時に塗布溶媒が浸透して基板を侵してしまう。また50
0重量部よりも多くなると被膜にむらが生じて記録層形
成がむずかしくなる。より好ましくは10〜400重量
部である。またアルミニウムにキレート化合物を使用す
る際には0.05〜30重量部の範囲内で用いられるこ
とが好ましい。0.05重量部より少ない場合は耐溶剤
性、密着性が不充分となる場合があり、30重量部より
多くなると被膜の透明性が不充分となるなどの原因とな
る。より好ましい範囲としては0.1〜20重量部であ
る。
The coating of the present invention is typically formed from a composition of components used in the following proportions. In all of these, the organosilicon compound is used in a solid content range of 0.5 to 500 parts by weight per 100 parts by weight of the polymer. If the amount of the organosilicon compound is less than 0.5 parts by weight, the coating solvent will penetrate and attack the substrate during formation of the recording layer. 50 again
If the amount is more than 0 parts by weight, unevenness will occur in the coating, making it difficult to form a recording layer. More preferably, it is 10 to 400 parts by weight. Moreover, when using a chelate compound for aluminum, it is preferable to use it within the range of 0.05 to 30 parts by weight. If it is less than 0.05 parts by weight, solvent resistance and adhesion may be insufficient, and if it is more than 30 parts by weight, the transparency of the film may be insufficient. A more preferable range is 0.1 to 20 parts by weight.

本発明の被膜には前)ホした成分の他にざらに添加剤、
各種改質剤などを含有させることも可能である。
In addition to the ingredients mentioned above, the coating of the present invention also contains additives,
It is also possible to contain various modifiers.

添加剤としては、表面平滑性を改良する目的で各種の界
面活性剤が使用可能であり、実例としてはシリコーン系
化合物、フッ素系界面活性剤、有機界面活性剤などが使
用できる。ざらに改質剤としてはエチルシリケート、n
−プロピルシリケート、1−プロピルシリケート、n−
ブチルシリケート、i−ブチルシリケート、t−ブチル
シリケートなどの4官能シラン化合物も添加することが
可能である。
As additives, various surfactants can be used for the purpose of improving surface smoothness, and examples include silicone compounds, fluorine surfactants, and organic surfactants. As a rough modifier, ethyl silicate, n
-propyl silicate, 1-propyl silicate, n-
It is also possible to add tetrafunctional silane compounds such as butyl silicate, i-butyl silicate, t-butyl silicate.

また他の改質剤として添加可能なものは各種エポキシ樹
脂、メラミン樹脂、アミド樹脂などがある。
Other modifiers that can be added include various epoxy resins, melamine resins, and amide resins.

本発明の被膜の膜厚は、通常は0.005μm〜0.1
μmの範囲で好ましく適用される。0゜005μm未満
では、充分な耐溶剤性が得られない傾向にあり、逆に0
.1μmより厚くなると、基板に形成されたグループが
埋められる危険性が大きいため、トラッキング信号を太
きくifることが困難となる。なお、グループのない基
板においては、10μmまでの膜厚が好ましく適用され
る。
The film thickness of the film of the present invention is usually 0.005 μm to 0.1 μm.
It is preferably applied in the μm range. If the diameter is less than 0.005 μm, sufficient solvent resistance tends to not be obtained;
.. If it is thicker than 1 μm, there is a great risk that the groups formed on the substrate will be buried, making it difficult to make the tracking signal thicker. Note that for a substrate without groups, a film thickness of up to 10 μm is preferably applied.

本発明の被膜は有機ケイ素化合物の他にポリマーを使用
しているため十分な可どう性を有しており、急激な温度
変化あるいは、衝撃によって容易に亀裂が入るものでは
ない。
Since the coating of the present invention uses a polymer in addition to an organosilicon compound, it has sufficient flexibility and does not easily crack due to sudden temperature changes or impacts.

本発明の製造方法において使用されるポリマーおよび有
機ケイ素化合物などを溶解する溶媒としては、樹脂製の
基板を侵さない溶媒であればよいが、アルコール類、セ
ロソルブ類、ジメチルスルホキシド、水などが挙げられ
る。これらの溶媒は単独のみならず2種以上混合して用
いることも可能である。またコーティング法としては例
えばハケ塗り、浸漬塗り、スピンコーティング、流し塗
り、スプレー塗装、ロール塗装、カーテン70−塗装な
どの公知の方法を用いることが可能である。
The solvent for dissolving the polymer, organosilicon compound, etc. used in the production method of the present invention may be any solvent that does not attack the resin substrate, and examples thereof include alcohols, cellosolves, dimethyl sulfoxide, water, etc. . These solvents can be used not only alone but also in combination of two or more. Further, as a coating method, it is possible to use known methods such as brush coating, dip coating, spin coating, flow coating, spray coating, roll coating, curtain 70-coating, and the like.

また本発明に使用できる基体は、光記録媒体に通常使用
される、アクリル基板、ポリカーボネート基板、エポキ
シ樹脂基板などのプラスチック基体である。
Substrates that can be used in the present invention are plastic substrates, such as acrylic substrates, polycarbonate substrates, and epoxy resin substrates, which are commonly used for optical recording media.

さらに、基体表面がプラズマ処理されていれば基板表面
と被膜との接着性が向上しより好ましい結果を与える。
Furthermore, if the substrate surface is plasma-treated, the adhesion between the substrate surface and the coating will be improved, giving more favorable results.

[実施例] 以下、本発明を具体的な実施例によって説明する。[Example] The present invention will be explained below using specific examples.

実施例1 (1)γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン加
水分解物の調製 回転子を備えた反応器中にγ−グリシドキシプロピルト
リメトキシシラン236qを仕込み、液温を10’Cに
保ち、マグネチツクスターラーで撹拌しながら0.(1
1規定塩酸水溶液54CIを徐々に滴下する。滴下終了
後冷却をやめて、γ−グリシドキシプロピル1〜リメト
キシシラン加水分解物を得た。
Example 1 (1) Preparation of γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane hydrolyzate 236q of γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane was charged into a reactor equipped with a rotor, and the liquid temperature was maintained at 10'C. , while stirring with a magnetic stirrer. (1
54 CI of 1N hydrochloric acid aqueous solution was gradually added dropwise. After the dropwise addition was completed, cooling was stopped to obtain a hydrolyzate of γ-glycidoxypropyl 1-rimethoxysilane.

(2)  塗布液の調整 ヒドロキシプロピルセルロース12.50をメタノール
964.5CIに攪拌溶解した後、前記γ−グリシドキ
シプロピルトリメトキシシラン加水分解物21.70と
アルミニウムアセチルアセトナート0.130を加え、
十分攪拌混合して塗布液とした。
(2) Preparation of coating solution After stirring and dissolving 12.50% of hydroxypropyl cellulose in 964.5CI of methanol, 21.70% of the γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane hydrolyzate and 0.130% of aluminum acetylacetonate were added. ,
The mixture was thoroughly stirred and mixed to prepare a coating solution.

(3)  塗布およびキュア 前項塗布液を用い、ポリカーボネート基板上にスピンコ
ード法(1St −1500rpm / 10Sec 
(3) Coating and curing Using the coating solution described above, spin code method (1St - 1500rpm / 10Sec
.

2nd−3ooorpm /20sec )で塗布し、
90℃で4時間加熱キュアを行なった。
2nd-3ooorpm/20sec),
Heat curing was performed at 90°C for 4 hours.

(4〉  試験結果 塗布したポリカーボネート基板は次の試験を行なった。(4) Test results The coated polycarbonate substrate was subjected to the following tests.

結果を第1表に示す。The results are shown in Table 1.

■耐溶剤性試験 ジメヂルホルムアミド、1,2−ジクロロエタン酢酸エ
チル、ピリジンの各溶剤を塗膜上に落として基板の溶解
あるいは白化が起きるかどうか目視で観察した。
(2) Solvent Resistance Test Solvents dimethylformamide, 1,2-dichloroethaneethyl acetate, and pyridine were dropped onto the coating film, and it was visually observed whether the substrate dissolved or whitened.

◎外観 肉眼観察で透明度、塗布むらの有無などを調べた。◎Appearance Transparency, presence of uneven coating, etc. were examined with the naked eye.

O基板への色素の溶解拡散性試験 被膜の上にシ、アニン色素(日本感光色素製品、NK−
2(114,2,0wt%、1,2−ジクロロエタン溶
ts)の記録媒体をスピンコード法で被膜を形成した時
の基板と被膜の状態を目視で観察した。
Dye dissolution and diffusion test film on O substrate
2 (114,2,0 wt%, dissolved in 1,2-dichloroethane) on a recording medium using a spin code method, and the state of the substrate and the coating was visually observed.

実施例2 (1)  塗布液の調整 アセチルセルロース12.5gをエチレングリコール七
ツメチルエーテル919.9CIに攪拌溶解した後、実
施例1のγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン
加水分解物65.1qとアルミニウムアセチルアセトナ
ート2.50を加え、十分攪拌混合して塗布液とした。
Example 2 (1) Preparation of coating solution After stirring and dissolving 12.5 g of acetyl cellulose in 919.9 CI of ethylene glycol methyl ether, 65.1 q of the γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane hydrolyzate of Example 1 was added. 2.50% of aluminum acetylacetonate was added and thoroughly stirred and mixed to prepare a coating solution.

(2)塗布およびキュア 前項塗布液を用い、実施例1に準じて塗布し、120℃
で1時間加熱キュアを行なった。
(2) Coating and curing Using the coating solution described above, apply according to Example 1, and cure at 120°C.
Heat curing was performed for 1 hour.

(3)  試験結果 実施例1に準じて試験を行なった。結果を@1表に示す
(3) Test results Tests were conducted according to Example 1. The results are shown in Table @1.

実施例3 実施例1のポリカーボネート基板を以下に示す方法でプ
ラズマ処理を施して用いた以外は、すべて実施例1と同
様に行なった。結果を第1表に示す。
Example 3 Everything was carried out in the same manner as in Example 1, except that the polycarbonate substrate of Example 1 was subjected to plasma treatment by the method shown below. The results are shown in Table 1.

ガ  ス二M素 ガス流量:100CC/分 出   力;50W 処理時間:5分 実施例4 実施例1の塗布液の調整でアルミニウムアセチルアセト
ナートを除いた以外は、すべて実施例1と同様に行なっ
た。結果を第1表に示す。
Gas diM gas flow rate: 100 CC/min Output: 50 W Processing time: 5 minutes Example 4 All procedures were performed in the same manner as in Example 1 except that aluminum acetylacetonate was removed from the preparation of the coating solution in Example 1. Ta. The results are shown in Table 1.

比較例1 ヒドロキシプロピルセルロース25.0CIをメタノー
ル975.0CIに攪拌溶解して塗15液を調整した以
外はすべて実施例1と同様に行なった。
Comparative Example 1 The same procedure as in Example 1 was carried out except that 25.0 CI of hydroxypropyl cellulose was stirred and dissolved in 975.0 CI of methanol to prepare coating liquid 15.

結果を第1表に示す。The results are shown in Table 1.

比較例2 被膜を塗布しないポリカーボネート基板について行なっ
た。その結果を第1表に示す。
Comparative Example 2 A test was carried out on a polycarbonate substrate to which no film was applied. The results are shown in Table 1.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本発明の光記録用基板を用いれば溶剤によって樹脂製基
体が侵されず、かつ可撓性に優れ、また色素が拡散する
ことなく記録層を形成することができる。
By using the optical recording substrate of the present invention, the resin substrate is not attacked by solvents, has excellent flexibility, and a recording layer can be formed without dye diffusion.

また本発明の光記録用基板の製造方法は、基体への被膜
形成がコーティングによって簡単にできるため、生産性
に優れる。
Further, the method for manufacturing an optical recording substrate of the present invention has excellent productivity because a film can be easily formed on the substrate by coating.

Claims (12)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)樹脂製の基体上に、ポリマーと有機ケイ素化合物
とから得られる被膜を積層してなることを特徴とする光
記録用基板。
(1) An optical recording substrate characterized by being formed by laminating a coating made of a polymer and an organosilicon compound on a resin substrate.
(2)ポリマーが、水素結合性の官能基を有するポリマ
ーであることを特徴とする特許請求の範囲第(1)項記
載の光記録用基板。
(2) The optical recording substrate according to claim (1), wherein the polymer is a polymer having a hydrogen-bonding functional group.
(3)水素結合性の官能基を有するポリマーが、ポリビ
ニルアルコール、ポリビニルピリジン、ポリビニルピロ
リドン、ヒドロキシエチルセルロース、アセチルセルロ
ース、メチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロー
スおよびヒドロキシブチルセルロースから選ばれる一種
以上であることを特徴とする特許請求の範囲第(2)項
記載の光記録用基板。
(3) The polymer having a hydrogen-bonding functional group is one or more selected from polyvinyl alcohol, polyvinylpyridine, polyvinylpyrrolidone, hydroxyethylcellulose, acetylcellulose, methylcellulose, hydroxypropylcellulose, and hydroxybutylcellulose. An optical recording substrate according to claim (2).
(4)有機ケイ素化合物が、ポリマー100重量部に対
して0.5〜500重量部の割合で含有されることを特
徴とする特許請求の範囲第(1)項記載の光記録用基板
(4) The optical recording substrate according to claim (1), wherein the organosilicon compound is contained in a proportion of 0.5 to 500 parts by weight per 100 parts by weight of the polymer.
(5)有機ケイ素化合物が、下記一般式(A)で表わさ
れる化合物であることを特徴とする特許請求の範囲第(
1)項記載の光記録用基板。 R^1R^2_aSi(OR^3)_3_−_a(A) (式中、R^1は炭素数1〜10の有機基、R^2は、
炭素数1〜6のアルキル基、またはハロゲン化アルキル
基、R^3は炭素数1〜8のアルキル基、アルコキシア
ルキル基またはアシル基である。aは0または1である
。)
(5) The organosilicon compound is a compound represented by the following general formula (A),
1) The optical recording substrate described in item 1). R^1R^2_aSi(OR^3)_3_-_a(A) (wherein, R^1 is an organic group having 1 to 10 carbon atoms, R^2 is,
R^3 is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or a halogenated alkyl group, and R^3 is an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alkoxyalkyl group, or an acyl group. a is 0 or 1. )
(6)有機ケイ素化合物が、下記一般式(A)で表わさ
れる化合物の加水分解物であることを特徴とする特許請
求の範囲第(1)項記載の光記録用基板。 R^1R^2_aSi(OR^3)_3_−_a(A) (式中、R^1は炭素数1〜10の有機基、R^2は、
炭素数1〜6のアルキル基、またはハロゲン化アルキル
基、R^3は炭素数1〜8のアルキル基、アルコキシア
ルキル基またはアシル基である。aは0または1である
。)
(6) The optical recording substrate according to claim (1), wherein the organosilicon compound is a hydrolyzate of a compound represented by the following general formula (A). R^1R^2_aSi(OR^3)_3_-_a(A) (wherein, R^1 is an organic group having 1 to 10 carbon atoms, R^2 is,
R^3 is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or a halogenated alkyl group, and R^3 is an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alkoxyalkyl group, or an acyl group. a is 0 or 1. )
(7)樹脂製の基体上に、脂肪族低級アルコール、セロ
ソルブ類、水から選ばれる少なくとも一種を溶媒とした
ポリマーと有機ケイ素化合物との溶液をコーティングす
ることを特徴とする光記録用基板の製造方法。
(7) Production of an optical recording substrate characterized by coating a resin substrate with a solution of a polymer and an organosilicon compound using at least one selected from aliphatic lower alcohols, cellosolves, and water as a solvent. Method.
(8)ポリマーが、水素結合性の官能基を有するポリマ
ーであることを特徴とする特許請求の範囲第(7)項記
載の光記録用基板の製造方法。
(8) The method for producing an optical recording substrate according to claim (7), wherein the polymer is a polymer having a hydrogen-bonding functional group.
(9)水素結合性の官能基を有するポリマーが、ポリビ
ニルアルコール、ポリビニルピリジン、ポリビニルピロ
リドン、ヒドロキシエチルセルロース、アセチルセルロ
ース、メチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロー
スおよびヒドロキシブチルセルロースから選ばれる一種
以上であることを特徴とする特許請求の範囲第(8)項
記載の光記録用基板の製造方法。
(9) The polymer having a hydrogen-bonding functional group is one or more selected from polyvinyl alcohol, polyvinylpyridine, polyvinylpyrrolidone, hydroxyethylcellulose, acetylcellulose, methylcellulose, hydroxypropylcellulose, and hydroxybutylcellulose. A method for manufacturing an optical recording substrate according to claim (8).
(10)有機ケイ素化合物が、ポリマー100重量部に
対して0.5〜500重量部の割合で含有されているこ
とを特徴とする特許請求の範囲第(7)項記載の光記録
用基板の製造方法。
(10) The optical recording substrate according to claim (7), wherein the organosilicon compound is contained in a proportion of 0.5 to 500 parts by weight per 100 parts by weight of the polymer. Production method.
(11)有機ケイ素化合物が、下記一般式(A)で表わ
される化合物であることを特徴とする特許請求の範囲第
(7)項記載の光記録用基板の製造方法。 R^1R^2_aSi(OR^3)_3_−_a(A) (式中、R^1は炭素数1〜10の有機基、R^2は、
炭素数1〜6のアルキル基、またはハロゲン化アルキル
基、R^3は炭素数1〜8のアルキル基、アルコキシア
ルキル基またはアシル基である。aは0または1である
。)
(11) The method for producing an optical recording substrate according to claim (7), wherein the organosilicon compound is a compound represented by the following general formula (A). R^1R^2_aSi(OR^3)_3_-_a(A) (wherein, R^1 is an organic group having 1 to 10 carbon atoms, R^2 is,
R^3 is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or a halogenated alkyl group, and R^3 is an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alkoxyalkyl group, or an acyl group. a is 0 or 1. )
(12)有機ケイ素化合物が、下記一般式(A)で表わ
される化合物の加水分解物であることを特徴とする特許
請求の範囲第(7)項記載の光記録用基板の製造方法。 R^1R^2_aSi(OR^3)_3_−_a(A) (式中、R^1は炭素数1〜10の有機基、R^2は、
炭素数1〜6のアルキル基、またはハロゲン化アルキル
基、R^3は炭素数1〜8のアルキル基、アルコキシア
ルキル基またはアシル基である。aは0または1である
。)
(12) The method for producing an optical recording substrate according to claim (7), wherein the organosilicon compound is a hydrolyzate of a compound represented by the following general formula (A). R^1R^2_aSi(OR^3)_3_-_a(A) (wherein, R^1 is an organic group having 1 to 10 carbon atoms, R^2 is,
R^3 is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or a halogenated alkyl group, and R^3 is an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alkoxyalkyl group, or an acyl group. a is 0 or 1. )
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0412539A2 (en) * 1989-08-11 1991-02-13 Hitachi Maxell Ltd. Thermal recording medium

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