JPS63286420A - 半導体封止用エポキシ樹脂組成物 - Google Patents
半導体封止用エポキシ樹脂組成物Info
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- JPS63286420A JPS63286420A JP12282287A JP12282287A JPS63286420A JP S63286420 A JPS63286420 A JP S63286420A JP 12282287 A JP12282287 A JP 12282287A JP 12282287 A JP12282287 A JP 12282287A JP S63286420 A JPS63286420 A JP S63286420A
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Landscapes
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- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概要〕
ノボラック型エポキシ樹脂を基材樹脂とするエポキシ樹
脂組成物において、必須成分である可撓性付与剤がブタ
ジェン系可撓性付与剤と環式脂肪族エポキシ樹脂との混
合物からなると共に、添加する無機質充填材の内の1〜
30重量%が粒径1μ−以下の細粒からなる封止用樹脂
組成物。
脂組成物において、必須成分である可撓性付与剤がブタ
ジェン系可撓性付与剤と環式脂肪族エポキシ樹脂との混
合物からなると共に、添加する無機質充填材の内の1〜
30重量%が粒径1μ−以下の細粒からなる封止用樹脂
組成物。
本発明は半導体封止用エポキシ樹脂組成物に係り、特に
耐湿性を低下することなく応力低減を実現したエポキシ
樹脂組成物に関する。
耐湿性を低下することなく応力低減を実現したエポキシ
樹脂組成物に関する。
IC,LSIなどの半導体素子を初めとし、コンデンサ
、インダクタンスなどの回路部品の外装として高信顛性
が必要な用途に対しては当初ハーメチックシールパッケ
ージが使用されていたが、素子に対するパッシベーショ
ン技術の向上と封止樹脂の改良とによって殆どの分野に
亙って安価で且つ量産性に優れている樹脂封止パッケー
ジが使用されるようになった。
、インダクタンスなどの回路部品の外装として高信顛性
が必要な用途に対しては当初ハーメチックシールパッケ
ージが使用されていたが、素子に対するパッシベーショ
ン技術の向上と封止樹脂の改良とによって殆どの分野に
亙って安価で且つ量産性に優れている樹脂封止パッケー
ジが使用されるようになった。
さて、樹脂封止を行う回路部品のうち半導体部品はシリ
コン(Si)などの半導体基板上にパターン形成されて
いる配線パターンの最少線幅が1μm程度と狭く、且つ
微少2間隔を隔て一複雑にパターン形成が行われており
、また半導体素子の電気的特性が湿気や不純物イオンに
より敏感に影響するので樹脂封止は最も問題が大きい。
コン(Si)などの半導体基板上にパターン形成されて
いる配線パターンの最少線幅が1μm程度と狭く、且つ
微少2間隔を隔て一複雑にパターン形成が行われており
、また半導体素子の電気的特性が湿気や不純物イオンに
より敏感に影響するので樹脂封止は最も問題が大きい。
本発明は応力や湿度の影響が著しい半導体封止用エポキ
シ樹脂組成物の改良に関するものである。
シ樹脂組成物の改良に関するものである。
IC,LSIなどの半導体素子はこれを構成する単位素
子の小形化とパターンの微細化によって集積化が進みV
LS Iが実用化されている。
子の小形化とパターンの微細化によって集積化が進みV
LS Iが実用化されている。
こ−で、大部分の集積回路はSi基板上に形成されてお
り、この上に形成される二酸化硅素(Si(h)や窒化
硅素(5iJn)からなるバッシベーシッン膜(不動態
膜)を介して直接に封止樹脂が接しているので次のよう
な問題が発生している。
り、この上に形成される二酸化硅素(Si(h)や窒化
硅素(5iJn)からなるバッシベーシッン膜(不動態
膜)を介して直接に封止樹脂が接しているので次のよう
な問題が発生している。
■ 応力によるIC回路の破壊と劣化。
■ 浸透する湿度や不純物イオンによる半導体素子の劣
化。
化。
■ 使用中に半導体素子が発生する熱による封止樹脂の
劣化。
劣化。
こ−でエポキシ樹脂は耐熱性や耐湿性に優れていること
がら封止用樹脂として用いられているが、最も必要なこ
とは樹脂自体を低応力化してIC回路の破壊や劣化を防
ぐことである。
がら封止用樹脂として用いられているが、最も必要なこ
とは樹脂自体を低応力化してIC回路の破壊や劣化を防
ぐことである。
すなわち、Si基板の熱膨張係数が2.8 Xl0−6
/にであるのに対しエポキシ樹脂の熱膨張係数は1.8
X 10− ’/にと異なっており、IC集積回路は使
用中に発生するジュール熱により数10°Cの発熱があ
る。
/にであるのに対しエポキシ樹脂の熱膨張係数は1.8
X 10− ’/にと異なっており、IC集積回路は使
用中に発生するジュール熱により数10°Cの発熱があ
る。
そのため、使用に当たっては室温との温度サイクルが繰
り返されるため導体配線の変形や切断が起こって故障し
、またパッシベーションクラックを生じて耐湿性を低下
させると云う問題がある。
り返されるため導体配線の変形や切断が起こって故障し
、またパッシベーションクラックを生じて耐湿性を低下
させると云う問題がある。
また、熱膨張係数の違いにより樹脂パッケージ自体にク
ラックを生ずることもある。
ラックを生ずることもある。
これらのことから半導体素子に加わる応力を低減するこ
とが必要である。
とが必要である。
さて、半導体素子が封止樹脂から受ける応力(σ)は、
σ#K・α・E−Tg ・・・ (1)但し
、 K ・・・比例定数 α ・・・封止樹脂の熱膨張係数 E ・・・封止樹脂の弾性率 Tg ・・・封止樹脂のガラス転移温度で近似される
。
、 K ・・・比例定数 α ・・・封止樹脂の熱膨張係数 E ・・・封止樹脂の弾性率 Tg ・・・封止樹脂のガラス転移温度で近似される
。
こ−で、’rgを下げると応力は減るもの〜、架橋密度
が減少するために耐湿性、耐熱性や機械的性質の低下を
来たして好ましくない。
が減少するために耐湿性、耐熱性や機械的性質の低下を
来たして好ましくない。
そこで、αとEの改良により低応力化する次のような方
法が行われてきた。
法が行われてきた。
熱膨張係数減少方法:
無機質充填材を添加すると樹脂の熱膨張係数を下げるこ
とができる。
とができる。
然し、多量に添加すると熱膨張係数は低下するもの一1
弾性率も増大するので応力σは殆ど変化しない。
弾性率も増大するので応力σは殆ど変化しない。
また、添加量が多すぎると樹脂の溶融温度が上昇し、ボ
ンディングワイヤの変形、断線を生じ易く、また成形に
当たって樹脂が金型の隅々まで届かず、未充填部を生じ
易いなど成形性が著しく低下すると云う問題を生ずる。
ンディングワイヤの変形、断線を生じ易く、また成形に
当たって樹脂が金型の隅々まで届かず、未充填部を生じ
易いなど成形性が著しく低下すると云う問題を生ずる。
弾性率減少方法:
可撓性付与剤を添加すると弾性率を低減することができ
る。
る。
然し、可撓性付与剤の種類によってはガラス転移温度の
低下を来たし易く、ガラス転移温度を低下させずに弾性
率を低下できる可撓性付与剤としてシリコーン系とブタ
ジェン系が知られている。
低下を来たし易く、ガラス転移温度を低下させずに弾性
率を低下できる可撓性付与剤としてシリコーン系とブタ
ジェン系が知られている。
然し、シリコーン系を多量に添加すると成形体が捺印用
インクをはじき易(なる。
インクをはじき易(なる。
また、ブタジェン系を多量に添加すると可撓性付与剤で
成形体から滲みだしを生じ(ブリードアウト)金型を汚
すと云う問題がある。
成形体から滲みだしを生じ(ブリードアウト)金型を汚
すと云う問題がある。
これらのことから充分に応力を減らすことは困難であっ
た。
た。
以上記したように低応力化する方法として熱膨張係数α
を減少する方法と弾性率Eを減少する方法とがあり、前
者は無機質充填材の添加により、また後者は可撓性付与
剤の添加により成る程度まで応力σを低減することがで
きるが、充分な値にまで低減できないことが問題である
。
を減少する方法と弾性率Eを減少する方法とがあり、前
者は無機質充填材の添加により、また後者は可撓性付与
剤の添加により成る程度まで応力σを低減することがで
きるが、充分な値にまで低減できないことが問題である
。
上記の問題はノボラック型エポキシ樹脂を基材樹脂とし
、これに可撓性付与剤、硬化剤、硬化促進剤、カップリ
ング剤および無機質充填材を必須成分として構成するエ
ポキシ樹脂組成物において、基材樹脂100重量部に対
し、可撓性付与剤がブタジェン系可撓性付与剤1〜25
重量部と環式脂肪族エポキシ樹脂1〜25重量部との混
合物からなると共に、全組成物の50〜85重量%を占
める無機質充填材の内の1〜30重量%が粒径1u11
以下の細粒からなる半導体封止用エポキシ樹脂組成物の
使用により解決することができる。
、これに可撓性付与剤、硬化剤、硬化促進剤、カップリ
ング剤および無機質充填材を必須成分として構成するエ
ポキシ樹脂組成物において、基材樹脂100重量部に対
し、可撓性付与剤がブタジェン系可撓性付与剤1〜25
重量部と環式脂肪族エポキシ樹脂1〜25重量部との混
合物からなると共に、全組成物の50〜85重量%を占
める無機質充填材の内の1〜30重量%が粒径1u11
以下の細粒からなる半導体封止用エポキシ樹脂組成物の
使用により解決することができる。
本発明は可撓性付与剤の改良により弾性率Eを低減し、
また無機質充填材の構成を工夫することにより添加量を
増し、これにより熱膨張係数を減らすことにより応力σ
を減少するものであり、また同時に作業性を向上するも
のである。
また無機質充填材の構成を工夫することにより添加量を
増し、これにより熱膨張係数を減らすことにより応力σ
を減少するものであり、また同時に作業性を向上するも
のである。
すなわち、弾性率Eの低減法として本発明においては可
撓性付与剤として従来使用されているブタジェン系可撓
性付与剤に環式エポキシ樹脂とを併用する。
撓性付与剤として従来使用されているブタジェン系可撓
性付与剤に環式エポキシ樹脂とを併用する。
ブタジェン系可撓性付与剤は可撓性付与機能が高いので
少量の添加でも応力が低減し、また離型性も向上すると
云う利点があるが、エポキシ樹脂との相溶性が悪いので
エポキシ樹脂100部に対して25部以上加えると滲み
だし、金型汚染が著しくなると云う問題がある。
少量の添加でも応力が低減し、また離型性も向上すると
云う利点があるが、エポキシ樹脂との相溶性が悪いので
エポキシ樹脂100部に対して25部以上加えると滲み
だし、金型汚染が著しくなると云う問題がある。
また、環式脂肪族エポキシ樹脂は可撓性に優れているが
液状のため作業性の点から単独では使用することはでき
ない。
液状のため作業性の点から単独では使用することはでき
ない。
そこで、発明者等は研究の結果、両者を併用することに
より上記の問題を解決するもので、ブタジェン系可撓性
付与剤については滲みだしくブリードアウト)しない程
度の量、すなわちエポキシ樹脂100部に対し25部以
下を添加し、一方環式脂肪族エボキシ樹脂については作
業性を低下させない程度の量、すなわちエポキシ100
部に対して25部以下を添加することにより可撓性付与
剤がブリードアウトすると云う問題を起こすことなく応
力を効果的に低減するものである。
より上記の問題を解決するもので、ブタジェン系可撓性
付与剤については滲みだしくブリードアウト)しない程
度の量、すなわちエポキシ樹脂100部に対し25部以
下を添加し、一方環式脂肪族エボキシ樹脂については作
業性を低下させない程度の量、すなわちエポキシ100
部に対して25部以下を添加することにより可撓性付与
剤がブリードアウトすると云う問題を起こすことなく応
力を効果的に低減するものである。
こ−で、ブタジェン系可撓性付与剤の種類は特に限定さ
れないが、イオン性不純物の少ないものであることが必
要である。
れないが、イオン性不純物の少ないものであることが必
要である。
次に、無機質充填材の添加量は組成物全体の50〜85
重置%の範囲内にあることが必要で、この理由は無機質
充填材の添加量が50重量%より少ないと熱伝導性や機
械特性が低下するばかりか、パリの流出があり、作業性
が著しく低下する。
重置%の範囲内にあることが必要で、この理由は無機質
充填材の添加量が50重量%より少ないと熱伝導性や機
械特性が低下するばかりか、パリの流出があり、作業性
が著しく低下する。
一方、85重量%以上に添加すると成形の際の流れ性が
低下することからボンディングワイヤの変形や断線を生
じ易いからである。
低下することからボンディングワイヤの変形や断線を生
じ易いからである。
ニーで、本発明は無機質充填材の1〜30重量%を粒径
が1μ鋼以下のものを使用するもので、これにより、成
形に際して流動性を増し、またパリの発生を抑えるもの
であり、1μ−以下のもの一含量が1重量%以下である
とパリの発生が著しくなり、また30重量%を増すと組
成物が溶融したときの流動性が著しく悪くなる。
が1μ鋼以下のものを使用するもので、これにより、成
形に際して流動性を増し、またパリの発生を抑えるもの
であり、1μ−以下のもの一含量が1重量%以下である
とパリの発生が著しくなり、また30重量%を増すと組
成物が溶融したときの流動性が著しく悪くなる。
本発明は基材としてノボラック型エポキシ樹脂特に耐湿
性、耐熱性および機械的強度の点からタレゾールノボラ
ック型のものを使用し、これに上記の可撓性付与剤、無
機質充填材以外に従来と同様に硬化剤、硬化促進剤、カ
ップリング剤、離型剤、難燃剤、顔料などを加えて組成
物を形成するものである。
性、耐熱性および機械的強度の点からタレゾールノボラ
ック型のものを使用し、これに上記の可撓性付与剤、無
機質充填材以外に従来と同様に硬化剤、硬化促進剤、カ
ップリング剤、離型剤、難燃剤、顔料などを加えて組成
物を形成するものである。
実施例として無機質充填材として粒径1μ−以下の含量
が10重量%のシリカ(龍森■製2番号VL−002)
を使用し、また環式脂肪族エポキシ樹脂とブタジェン系
可撓性付与剤との組み合わせを変えて封止用樹脂組成物
をつくり、ニーダで充分に混練した後、篩により8メツ
シユ以下の粉末とし、これを2 ton/cs”の圧力
を加えて径35mm+のタブレットとし、これを175
°C+60Kg/cm”、 2分の条件でトランスファ
成形した後に175°C,8時間のアーフタキュアを行
い、得られた試験片について、次のような特性評価試験
を行った。
が10重量%のシリカ(龍森■製2番号VL−002)
を使用し、また環式脂肪族エポキシ樹脂とブタジェン系
可撓性付与剤との組み合わせを変えて封止用樹脂組成物
をつくり、ニーダで充分に混練した後、篩により8メツ
シユ以下の粉末とし、これを2 ton/cs”の圧力
を加えて径35mm+のタブレットとし、これを175
°C+60Kg/cm”、 2分の条件でトランスファ
成形した後に175°C,8時間のアーフタキュアを行
い、得られた試験片について、次のような特性評価試験
を行った。
曲げ弾性率 : JIS K 6911 による。
吸水率 :プレッシャ・クツ力・テスト(121°
C92気圧、相対湿度100%、168時間)による試
験片の重量増加。
C92気圧、相対湿度100%、168時間)による試
験片の重量増加。
収縮応力 :収縮応力測定法(特願昭6O−2502
58)による。
58)による。
捺印性 :目視による。
表面汚れ :目視による。
ここで使用した環式脂肪族エポキシ樹脂、ブタジェン系
可撓性付与剤と比較のために用いたシリコーン系可撓性
付与剤の名称と仮称は次のようである。
可撓性付与剤と比較のために用いたシリコーン系可撓性
付与剤の名称と仮称は次のようである。
環式脂肪族エポキシ樹脂:
1、エポキシエチル、3.4.エポキシシクロヘキサン
(添加剤Aと仮称) 3.4.エポキシ6メチルシクロへキシルカルホキシー
ト(添加剤Bと仮称) ブタジェン系可撓性付与剤: ブタジェン−アクリロニトリル共重合体(添加剤Cと仮
称)平均分子量3500 (宇部興産■ 品名Hyca
r CTBN−1008USP) シリコーン系可撓性付与剤: シリコーン(添加剤りと仮称)(東し シリコーン■
品名5H6018) 次に、実験に使用した基材樹脂と構成剤の品名と添加量
は5実施例とも共通で次のようである。
(添加剤Aと仮称) 3.4.エポキシ6メチルシクロへキシルカルホキシー
ト(添加剤Bと仮称) ブタジェン系可撓性付与剤: ブタジェン−アクリロニトリル共重合体(添加剤Cと仮
称)平均分子量3500 (宇部興産■ 品名Hyca
r CTBN−1008USP) シリコーン系可撓性付与剤: シリコーン(添加剤りと仮称)(東し シリコーン■
品名5H6018) 次に、実験に使用した基材樹脂と構成剤の品名と添加量
は5実施例とも共通で次のようである。
エポキシ樹脂:クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(
エポキシ当量200.軟化点72°C5日本化薬歌■E
OCN−1025) ・・・・・・100部硬化剤:
フェノールノボラック(水酸基当1103、軟化点93
°C) ・・・・・・60部硬化促進剤ニト
リフェニールホスフィン(ケイ・アイ化成■PP−36
0) ・・・・・・2部充填材ニジリカ(龍森■v
t、−002)・・・72重量%カップリング剤:3−
グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(チッソ■S
−510)・・・・・・4.5部 離型剤、エステルワックス(ヘキストジャパン■ ヘキ
ストワックスE)・・・1.5部難燃剤:臭素化エポキ
シ樹脂 ・・・・・・10部難燃助剤:三酸化アンチモ
ン ・・パ・−・5部顔料 :カーボンブラック ・
・・・・・1.5部充填剤ニジリカ(龍森■VL−00
2)・・・72重量%次に、可撓性付与剤の組み合わせ
と添加量(部)は次のようにした。
エポキシ当量200.軟化点72°C5日本化薬歌■E
OCN−1025) ・・・・・・100部硬化剤:
フェノールノボラック(水酸基当1103、軟化点93
°C) ・・・・・・60部硬化促進剤ニト
リフェニールホスフィン(ケイ・アイ化成■PP−36
0) ・・・・・・2部充填材ニジリカ(龍森■v
t、−002)・・・72重量%カップリング剤:3−
グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(チッソ■S
−510)・・・・・・4.5部 離型剤、エステルワックス(ヘキストジャパン■ ヘキ
ストワックスE)・・・1.5部難燃剤:臭素化エポキ
シ樹脂 ・・・・・・10部難燃助剤:三酸化アンチモ
ン ・・パ・−・5部顔料 :カーボンブラック ・
・・・・・1.5部充填剤ニジリカ(龍森■VL−00
2)・・・72重量%次に、可撓性付与剤の組み合わせ
と添加量(部)は次のようにした。
第1表
添付の図はこの結果を示すものである。
注 充填材以外の数値の単位は総て重量部この結果から
、本発明を実施した実施例1と2は曲げ弾性率と収縮応
力が比較例に較べて優れており、また作業性が良い。
、本発明を実施した実施例1と2は曲げ弾性率と収縮応
力が比較例に較べて優れており、また作業性が良い。
一方、可撓性付与剤として環式脂肪族エポキシ樹脂のみ
を用いたものは作業性が悪く、またシリコーン樹脂を用
いたものは捺印性が劣っている。
を用いたものは作業性が悪く、またシリコーン樹脂を用
いたものは捺印性が劣っている。
以上のように実施例は比較例に較べて他の特性を損なう
ことなく低応力化を実現できることが判る。
ことなく低応力化を実現できることが判る。
本発明によれば、可撓性付与剤としてブタジェン系可撓
性付与剤に環式脂肪族エポキシ樹脂を併用することによ
り耐湿性を低下することなく応力を低減することが可能
となる。
性付与剤に環式脂肪族エポキシ樹脂を併用することによ
り耐湿性を低下することなく応力を低減することが可能
となる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ノボラック型エポキシ樹脂を基材樹脂とし、これに可撓
性付与剤、硬化剤、硬化促進剤、カップリング剤および
無機質充填材を必須成分として構成するエポキシ樹脂組
成物において、 基材樹脂100重量部に対し、可撓性付与剤がブタジエ
ン系可撓性付与剤1〜25重量部と環式脂肪族エポキシ
樹脂1〜25重量部との混合物からなると共に、全組成
物の50〜85重量%を占める無機質充填材の内の1〜
30重量%が粒径1μm以下の細粒からなることを特徴
とする半導体封止用エポキシ樹脂組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12282287A JPS63286420A (ja) | 1987-05-20 | 1987-05-20 | 半導体封止用エポキシ樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12282287A JPS63286420A (ja) | 1987-05-20 | 1987-05-20 | 半導体封止用エポキシ樹脂組成物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63286420A true JPS63286420A (ja) | 1988-11-24 |
Family
ID=14845493
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP12282287A Pending JPS63286420A (ja) | 1987-05-20 | 1987-05-20 | 半導体封止用エポキシ樹脂組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63286420A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7629398B2 (en) * | 2005-03-16 | 2009-12-08 | Sumitomo Bakelite Company Limited | Composition of epoxy resin, phenol resin and (epoxy resin-) CTBN |
-
1987
- 1987-05-20 JP JP12282287A patent/JPS63286420A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7629398B2 (en) * | 2005-03-16 | 2009-12-08 | Sumitomo Bakelite Company Limited | Composition of epoxy resin, phenol resin and (epoxy resin-) CTBN |
US7977412B2 (en) | 2005-03-16 | 2011-07-12 | Sumitomo Bakelite Company, Ltd. | Epoxy resin composition and semiconductor device |
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