JPS63281238A - Optical recording medium - Google Patents

Optical recording medium

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JPS63281238A
JPS63281238A JP62115746A JP11574687A JPS63281238A JP S63281238 A JPS63281238 A JP S63281238A JP 62115746 A JP62115746 A JP 62115746A JP 11574687 A JP11574687 A JP 11574687A JP S63281238 A JPS63281238 A JP S63281238A
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JP
Japan
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resin
recording medium
optical recording
weight
acrylate
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Pending
Application number
JP62115746A
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Japanese (ja)
Inventor
Shinichi Tachibana
立花 信一
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Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To obviate the degradation in C/N and recording sensitivity so that long-period reliability is obtd. by specifying the temp. at which the loss on heating of the cured matter of a resin starts at >=150 deg.C. CONSTITUTION:The volatility of a low mol. wt. material from the cured matter of the resin for a 2P method is evaluated by a thermogravimetric analysis (TG) and the resin compsn. is selected with the temp. at which the loss on heating of the cured matter starts as an index. Namely, a substrate is formed by using the cured matter of the resin for the 2P method having >=150 deg.C temp. at which the loss on heating starts and an optical recording medium is produced thereof. A change in the Curie temp. (Tc) of the magnetic recording layer after an environmental durability test is thereby eliminated and the degradation in the C/N and recording sensitivity is prevented.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、光ビームにより再生のみあるいは記録、再生
または記録、再生、消去を行うことが可能な光学的記録
媒体に関する。より詳しくは硬化型樹脂製の案内溝を有
する光重合法による光学的記録媒体の製造に際して使用
する硬化樹脂の材料に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Application Field] The present invention relates to an optical recording medium that can be read only or recorded, reproduced or recorded, reproduced, and erased using a light beam. More specifically, the present invention relates to a cured resin material used in the production of an optical recording medium using a photopolymerization method having a guide groove made of a cured resin.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来より、光学的記録媒体の基板材料としては、ガラス
、アクリル樹脂、ポリカーボネイト樹脂等が用いられて
いる。光学的記録媒体に、高密度な記録をするためには
、その基板上に光学的案内溝を形成する必要があり、そ
の方法として従来から2通りの方法が知られている。そ
の一つの方法は、案内溝の形状に対応する凹凸が刻設さ
れた金型を用いて射出成形することにより、基板の成形
と同時に案内溝を転写する方法である。
Conventionally, glass, acrylic resin, polycarbonate resin, etc. have been used as substrate materials for optical recording media. In order to perform high-density recording on an optical recording medium, it is necessary to form optical guide grooves on the substrate thereof, and two methods are conventionally known for this purpose. One method is to perform injection molding using a mold in which unevenness corresponding to the shape of the guide groove is carved, thereby transferring the guide groove at the same time as molding the substrate.

もう一つの方法は、まず、案内溝の形状に対応する凹凸
が刻設された型の上に紫外線硬化型樹脂等を塗布し、更
に、この樹脂上に基板を載置し、次いで、紫外線等を照
射することにより、樹脂を硬化させると共に、この樹脂
を基板に固着させて硬化型樹脂製の案内溝を形成する2
P法と呼ばれる方法である。
Another method is to first apply an ultraviolet curable resin or the like on a mold in which unevenness corresponding to the shape of the guide groove has been carved, and then place the substrate on this resin. By irradiating with
This method is called the P method.

前者の方法は量産性に優れているが、案内溝形状の転写
性が悪いという欠点がある上に、使用する基板材料とし
てプラスチ−2り、例えば、アクリル樹脂やポリカーボ
ネイト樹脂しか使えない点に問題がある。即ち、プラス
チック基板を用いた記録媒体では、プラスチック基板が
通気性を有する為に、水分や酸素等によって記録層が腐
食され、その記録特性が徐々に劣化する。従って、基板
材料としてプラスチックしか使用できないこの方法を採
用すると、長期間記録特性を維持し続けることが可能な
記録媒体を製造できないという問題があった。
The former method is excellent in mass production, but it has the disadvantage of poor transferability of the guide groove shape, and the problem is that only plastics, such as acrylic resin or polycarbonate resin, can be used as the substrate material. There is. That is, in a recording medium using a plastic substrate, since the plastic substrate has air permeability, the recording layer is corroded by moisture, oxygen, etc., and its recording characteristics gradually deteriorate. Therefore, if this method, in which only plastic can be used as the substrate material, is adopted, there is a problem in that it is not possible to manufacture a recording medium that can maintain recording characteristics for a long period of time.

一方、後者の方法は、案内溝形状の転写性が良いばかり
でなく、基板材料としてプラスチック以外にもガラスを
使用できる。従って、この方法によって案内溝を設けた
ガラス基板を使用すれば、長期間高い信頼性を示す記録
媒体が製造できる。
On the other hand, the latter method not only has good transferability of the guide groove shape, but also allows the use of glass instead of plastic as the substrate material. Therefore, by using a glass substrate provided with guide grooves by this method, it is possible to manufacture a recording medium that exhibits high reliability over a long period of time.

しかしながらzP法成形樹脂層上に記録層、保護層等を
形成させた光学的記録媒体は環境耐久試験(70℃、8
5%R,H,(関係湿度) 5000時間)放置後に記
録/再生特性の低下を生じ、実用上の問題が依然として
あった。特に記録層として磁気記録層を用いた場合、C
/Nが低下し、また記録レーザーパワーを初期に比べて
大きくしないと、十分なC/Nが得られないという記録
感度の低下等の問題があった。
However, optical recording media in which a recording layer, a protective layer, etc. are formed on a zP method molded resin layer are subject to environmental durability tests (70°C, 8°C).
After being left at 5% R, H (relative humidity) for 5000 hours, the recording/reproducing characteristics deteriorated, which still posed a practical problem. In particular, when a magnetic recording layer is used as the recording layer, C
There were problems such as a decrease in recording sensitivity, and a sufficient C/N could not be obtained unless the recording laser power was increased compared to the initial level.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

本発明は上記の問題点を解決すべくなされたもので、C
/Nの低下ならびに記録感度の低下がなく長期信頼性を
示す光学的記録媒体を製造するための樹脂硬化物を提供
することを目的とする。
The present invention was made to solve the above problems, and
An object of the present invention is to provide a cured resin material for producing an optical recording medium that exhibits long-term reliability without a decrease in /N or recording sensitivity.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

すなわち本発明は、基板上に硬化型樹脂製の案内溝を有
する光重合法により製造される光学的記録媒体において
、該樹脂の硬化物の加熱減量開始温度が150℃以上で
あることを特徴とする光学的記録媒体である。
That is, the present invention is an optical recording medium manufactured by a photopolymerization method having a guide groove made of a curable resin on a substrate, characterized in that a cured product of the resin has a heating loss start temperature of 150°C or higher. It is an optical recording medium.

本発明者らは光学的記録媒体の環境耐久試験後のC/N
、記録感度の低下の原因を分析・調査した結果、2P法
用樹脂硬化物中の未硬化上ツマー1光重合開始剤、その
分解生成物等の低分子量物の記録層への揮発、拡散であ
ることがわかった。上記2P法用樹脂としては、一般に
プレポリマー成分(A)、反応性希釈剤としてのモノマ
ー成分(B)、光重合開始剤成分(C)の混合組成より
なり、化合物(A)2、(B)の使用割合は(A) 5
〜95 : (B) 85〜5 (重量比)、(C)は
組成物に対して0.1〜10%重量比で用いられる。
The present inventors have determined that the C/N of optical recording media after environmental durability tests was
As a result of analyzing and investigating the cause of the decrease in recording sensitivity, we found that it was due to the volatilization and diffusion of low molecular weight substances such as the uncured Kamatsumar 1 photopolymerization initiator and its decomposition products into the recording layer in the cured resin for the 2P method. I found out something. The above resin for the 2P method generally consists of a mixed composition of a prepolymer component (A), a monomer component (B) as a reactive diluent, and a photopolymerization initiator component (C), and the compound (A) 2, (B ) is used (A) 5
-95: (B) 85-5 (weight ratio), (C) is used in a weight ratio of 0.1 to 10% with respect to the composition.

(A)成分としては、ペンタエリスリトールトリアクリ
レート、ジペンタエリスリトールへキサアクリレートな
どの多価アルコールまたはポリエーテルポリオールの7
クリレートで特に3官能以上のポリオールポリアクリレ
ート、あるいはポリオールをエポキシドやラクトンで変
性した変性ポリオールのポリアクリレートまたは多価フ
ェノールであるビスフェノールAやビスフェノールSに
エポキシドを付加させた変性ジオールのジアクリレート
などの変性ポリオールポリアクリレート、あるいは多価
アルコール、多塩基醸またはその無水物およびアクリル
酸の縮合テロメル化により製造されるポリエステルアク
リレート、あるいはポリエーテルポリオール、ポリエス
テルポリオールなどのポリオールとポリイソシアネート
とヒドロキシ基をもつアクリレートとを反応させたウレ
タンアクリレート、あるいはエポキシ化合物にアクリル
酸または末端カルボキシル基を有するアクリレートを付
加反応させて得られるオリゴマーであるエポキシアクリ
レート、あるいはビスフェールAジグリシジルエーテル
型、ノボラックポリグリシジルエーテル型の樹脂、エポ
キシ化油脂、エポキシ化ポリブタジェン、脂肪酸変性エ
ポキシ樹脂などが挙げられる。
Component (A) includes polyhydric alcohols such as pentaerythritol triacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate, or polyether polyols.
Modifications such as acrylates, especially trifunctional or higher polyol polyacrylates, polyacrylates of modified polyols made by modifying polyols with epoxides or lactones, or diacrylates of modified diols made by adding epoxides to polyhydric phenols bisphenol A and bisphenol S. Polyol polyacrylate, or polyester acrylate produced by condensation telomerization of polyhydric alcohol, polybasic alcohol or its anhydride, and acrylic acid, or polyol such as polyether polyol, polyester polyol, polyisocyanate, and acrylate having a hydroxyl group. or epoxy acrylate, which is an oligomer obtained by adding acrylic acid or an acrylate having a terminal carboxyl group to an epoxy compound, or bisphenol A diglycidyl ether type or novolac polyglycidyl ether type resin, Examples include epoxidized fats and oils, epoxidized polybutadiene, and fatty acid-modified epoxy resins.

(B)成分としては、多価アルコールのアクリル酸エス
テルが用いられ、単官能性アクリル系モノマーとしては
シクロヘキシルアクリレート、ベンジルアクリレート、
カルピトールアクリレート、2−エチルへキシルアクリ
レート、ラウリルアクリレート、2−ヒドロキシエチル
アクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、
グリシジルアクリレート、ジシクロペンタジェンエトキ
シモノ(メタ)アクリレート、インボルニル(メタ)ア
クリレート、水素化ジシクロペンタジェンモノ(メタ)
アクリレート等が挙げられる。多官能性アクリル系モノ
マーとしては、エチレングリコールジアクリレート、ジ
エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリ
コールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアク
リレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、
ブチレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリ
コールジアクリレート、1,4−ブタンジオールジアク
リレート、1.4−ヘキサンジオールジアクリレート、
1.8−ヘキサンジオールジアクリレート、ペンタエリ
スリトールジアクリレート等のジアクリレート類、ペン
タエリスリトールトリアクリレート、トリメチロールプ
ロパントリアクリレート等のトリアクリレート類が挙げ
られる。アリル系の多官能性モノマーとしては、ジアリ
ルフタレート、ジアリルイソフタレート、ジアリルクロ
レンデート、ジアリルアジペート、ジアリルグリコレー
ト、トリアリルシアヌレート、ジエチレングリコールビ
スアリルカーボネート等が挙げられる。
As component (B), an acrylic ester of a polyhydric alcohol is used, and as a monofunctional acrylic monomer, cyclohexyl acrylate, benzyl acrylate,
Carpitol acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, lauryl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate,
Glycidyl acrylate, dicyclopentadiene ethoxy mono(meth)acrylate, inbornyl(meth)acrylate, hydrogenated dicyclopentadiene mono(meth)acrylate
Examples include acrylate. Examples of polyfunctional acrylic monomers include ethylene glycol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, polyethylene glycol diacrylate, polypropylene glycol diacrylate,
Butylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, 1,4-butanediol diacrylate, 1,4-hexanediol diacrylate,
Examples include diacrylates such as 1.8-hexanediol diacrylate and pentaerythritol diacrylate, and triacrylates such as pentaerythritol triacrylate and trimethylolpropane triacrylate. Examples of the allyl polyfunctional monomer include diallyl phthalate, diallyl isophthalate, diallyl chlorendate, diallyl adipate, diallyl glycolate, triallyl cyanurate, diethylene glycol bisallyl carbonate, and the like.

(B)成分はこれらの一種または二種以上の混合系でも
よい。
Component (B) may be one type or a mixture of two or more of these.

(C)成分としては公知のどのような光重合開始剤でも
使用できるが、配合後の貯蔵安定性のよいものが望まし
い0例えば、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインブ
チルエーテルなどのベンゾインアルキルエーテル系、2
.2−ジェトキシアセトフェノン、4−フェノキシ−2
,2゛−ジクロロアセトフェノンなどのアセトフェノン
系、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオフェノン、4
°−イソプロピル−2−ヒドロキシ−2−メチルプロピ
オフェノンなどのプロピオフェノン系、ベンジルメチル
ケタール、1−ヒドロキシシクロへキシルフェニルケト
ン及び2−エチルアンスラキノン、2−クロルアンスラ
キノンなどのアンスラキノン系、2,4−ジメチルチオ
キサントン、ミヒラーケトンなどのチオキサントン系な
どが挙げられる。これらは1種または2種以上を任意の
割合で混合して用いられる。
Any known photopolymerization initiator can be used as component (C), but those with good storage stability after blending are preferred. For example, benzoin alkyl ethers such as benzoin ethyl ether and benzoin butyl ether,
.. 2-jetoxyacetophenone, 4-phenoxy-2
, 2-dichloroacetophenone and other acetophenones, 2-hydroxy-2-methylpropiophenone, 4
Propiophenones such as °-isopropyl-2-hydroxy-2-methylpropiophenone, benzylmethyl ketal, 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, and anthraquinones such as 2-ethylanthraquinone and 2-chloroanthraquinone , 2,4-dimethylthioxanthone, Michler's ketone, and other thioxanthone types. These may be used alone or in a mixture of two or more in any proportion.

前記2P法用樹脂硬化物中に残留または含まれる低分子
量物としては、2P法用樹脂組成物中の七ツマー成分(
B)、光重合開始剤(C)、およびその分解生成物とし
てベンズアルデヒド、アセトアルデヒド等のアルデヒド
類、ヘキシルフェニルケトン、アセトン等のケトン類、
ベンジルアルコール、メタノール等のアルコール類など
がある。特に記録層としテTbCo、 GdTbFe、
 TbFeCo、GdTbFeCo等の非晶質磁気記録
層を用い、保護層としY−SiN、 SiOx、 Zn
S 、 SiC等の一種あるいは二種の組み合わせの積
層膜を2P法用樹脂層上に真空蒸着、スパタリング等で
形成した光磁気記録媒体の場合、前記低分子量物の記録
層への揮発、拡散により、磁気記録層のキューリ一温度
(Tc )が15〜20℃上昇し、これによりC/N、
記録感度の低下を招く、従って、樹脂硬化物より揮発、
拡散する低分子量物が全くないかまたは少ない硬化物を
用いれば前記問題を解決できる。
The low molecular weight substances remaining or contained in the cured resin composition for the 2P method include the 7-mer component in the resin composition for the 2P method (
B), a photopolymerization initiator (C), and its decomposition products such as aldehydes such as benzaldehyde and acetaldehyde, ketones such as hexylphenyl ketone and acetone,
Examples include alcohols such as benzyl alcohol and methanol. In particular, as a recording layer, TbCo, GdTbFe,
Using an amorphous magnetic recording layer such as TbFeCo or GdTbFeCo, Y-SiN, SiOx, or Zn as a protective layer.
In the case of a magneto-optical recording medium in which a laminated film of one or a combination of two of S, SiC, etc. is formed on a 2P method resin layer by vacuum evaporation, sputtering, etc., the low-molecular-weight substances volatilize and diffuse into the recording layer. , the Curie temperature (Tc) of the magnetic recording layer increases by 15 to 20°C, which causes C/N,
This results in a decrease in recording sensitivity, and therefore evaporates from the cured resin.
The above problem can be solved by using a cured product in which there are no or few low molecular weight substances that diffuse.

そこで2P法用樹脂硬化物からの低分子量物の揮発性を
熱重量分析(以下TGと略称する)によって評価し、硬
化物の加熱減量開始温度を指標として樹脂組成を選択す
ることにより上記問題を解決した。
Therefore, the above problem was solved by evaluating the volatility of low molecular weight substances from the cured resin product for the 2P method by thermogravimetric analysis (hereinafter abbreviated as TG) and selecting the resin composition using the temperature at which heating loss of the cured product starts as an index. Settled.

すなわちTG分析において、樹脂硬化物中より低分子量
物の揮発があれば重量減少として現われることから、加
熱減量開始温度により樹脂からの低分子量物の揮発性を
評価できる。加熱減量開始温度以下では低分子量物の揮
発性が全くないかまたは少ないのでこの温度が高いこと
が望ましい。
That is, in the TG analysis, if there is volatilization of a lower molecular weight substance than in the cured resin material, it will appear as a weight loss, so the volatility of the lower molecular weight substance from the resin can be evaluated based on the heating weight loss start temperature. It is desirable that this temperature be high, since low molecular weight substances have no or little volatility below the heating loss start temperature.

本発明者らは樹脂硬化物の加熱減量開始温度とC/N、
記録感度の関係を鋭意研究した結果、この望ましい加熱
減量開始温度の下限はおよそ 150℃であることを見
出した。従って加熱減量開始温度が150℃以上の2P
法用樹脂硬化物を用いて基板を作成し光学的記録媒体を
製造することにより、環境耐久試験後の磁気記録層のT
cの変化をなくし、C/Nおよび記録感度の低下を防止
することができる0本発明方法は特に光磁気記録媒体を
製造する場合に有効である。
The present inventors determined the heating loss start temperature and C/N of the cured resin,
As a result of intensive research into the relationship between recording sensitivity, it has been found that the lower limit of the desired heating loss initiation temperature is approximately 150°C. Therefore, 2P whose heating loss start temperature is 150℃ or higher
By creating a substrate using a cured resin and manufacturing an optical recording medium, the T of the magnetic recording layer after an environmental durability test is
The method of the present invention, which can eliminate changes in c and prevent deterioration of C/N and recording sensitivity, is particularly effective in manufacturing magneto-optical recording media.

〔実施例〕〔Example〕

(実施例、1) 2P法用樹脂として、(A)エポキシアクリレート〔エ
ビコー) 112B(シェル石油化学社製)ビスフェー
ル型エポキシ樹脂をアクリル酸でエステル化して得られ
た樹脂360重量部、(B)トリメチロールプロパント
リアクリレートCTMPTA(日本化薬味製)〕37重
量部、(C)イルガキュア 184〔メルク■製〕3重
量部の混合物を用いた。この樹脂硬化物のTG分析によ
る加熱減量開始温度は180℃であった。上記樹脂を用
いて、直径130I、厚さ11〕mのドーナツ状青色ガ
ラス基板に光重合成形を行なった。これに真空蒸着法に
より1200AのSiOの保護層を成膜し、更にスパタ
リング法により層厚1000Aの非晶質GdTbFeC
oの磁気記録層を成膜した0次に前記の保護層と同様に
層厚2000人のSiOの保護層を成膜した。最後にホ
ットメルト系接着剤からなる接着層により前記の基板と
同様なガラス基板を各層が対向するように貼り合わせて
光学的記録媒体を作成した。2F樹脂硬化物の加熱減量
開始温度の測定は下記の方法にしたがって評価した。(
以下の実施例、比較例においても同じ、) 加熱減量開始温度:熱分析装置(TG−DSC)セイコ
ー電子工業■製を用いて、重量減少の始まる温度を加熱
減量開始温度とした。
(Example 1) As a resin for the 2P method, (A) 360 parts by weight of a resin obtained by esterifying an epoxy acrylate (Ebicor) 112B (manufactured by Shell Petrochemicals) bisphael type epoxy resin with acrylic acid, (B ) A mixture of 37 parts by weight of trimethylolpropane triacrylate CTMPTA (manufactured by Nippon Kaji) and 3 parts by weight of (C) Irgacure 184 (manufactured by Merck ■) was used. The temperature at which heating loss started was 180° C. according to TG analysis of this cured resin. Using the above resin, photopolymerization molding was performed on a donut-shaped blue glass substrate with a diameter of 130 I and a thickness of 11] m. A protective layer of SiO with a thickness of 1200A was formed on this by vacuum evaporation method, and amorphous GdTbFeC layer with a thickness of 1000A was further formed by sputtering method.
Next, a protective layer of SiO with a thickness of 2,000 yen was formed in the same manner as the protective layer described above. Finally, glass substrates similar to those described above were bonded together using an adhesive layer made of a hot-melt adhesive so that each layer faced each other, thereby producing an optical recording medium. The heating loss start temperature of the cured 2F resin was evaluated in accordance with the following method. (
The same applies to the following Examples and Comparative Examples.) Heating loss start temperature: Using a thermal analyzer (TG-DSC) manufactured by Seiko Electronics Co., Ltd., the temperature at which weight loss began was defined as the heating loss start temperature.

〔実施例、2〕 2P法用樹脂として(A)ポリエステルアクリレート〔
ヘキサヒドロ無水フタル酸(tモル)とトリメチロール
プロパン(2モル)とアクリル酸との反応によって得ら
れる〕40重量部、(B)  トリアリルシアヌレート
20重量部、トリメチロールプロパントリアクリレート
(TMPTA(日本化薬味酸)〕37重量部、(C)イ
ルガキュア1843重量部の混合物を用いる以外は実施
例、lと同様にして光学的記録媒体を作成した。該樹脂
硬化物の加熱減量開始温度は160℃であった。
[Example 2] (A) Polyester acrylate as resin for 2P method [
obtained by the reaction of hexahydrophthalic anhydride (t mol), trimethylolpropane (2 mol) and acrylic acid] 40 parts by weight, (B) 20 parts by weight triallyl cyanurate, trimethylolpropane triacrylate (TMPTA (Japan) An optical recording medium was prepared in the same manner as in Example 1 except that a mixture of 37 parts by weight of (C) Irgacure and 1843 parts by weight of Irgacure (C) was used.The heating loss start temperature of the cured resin was 160°C. Met.

〔実施例、3〕 2P法用樹脂として(A)ウレタンアクリレート〔アロ
ニックスト1200X(東亜合成化学工業■製つレタン
アクリレート)〕BO重量部、(B)トリメチロールプ
ロパントリアクリレート(TMPTA(日本化薬味製)
〕37重量部、(C)イルガキュア1843重量部の混
合物を用いる以外は実施例。
[Example 3] As a resin for the 2P method, (A) urethane acrylate [Aronixt 1200X (Tsurethane acrylate manufactured by Toagosei Chemical Co., Ltd.)] parts by weight of BO, (B) trimethylolpropane triacrylate (TMPTA (manufactured by Nippon Kagami Co., Ltd.)) )
] Example except that a mixture of 37 parts by weight and (C) Irgacure 1843 parts by weight was used.

lと同様にして光学的記録媒体を作成した。該樹脂硬化
物の加熱減量開始温度は180℃であった。
An optical recording medium was prepared in the same manner as in Example 1. The heating loss start temperature of the cured resin was 180°C.

〔実施例、4〕 2P法用樹脂として(A)エポキシアクリレート(R−
130(日本化薬味製)〕770重量部(B)水素化ジ
シクロペンタジェンモノアクリレート(FA−513A
(日立化成■製))27重量部、(C)イルガキュア1
843重量部の混合物を用いる以外は、実施例61と同
様にして、光学的記録媒体を作成した。該樹脂硬化物の
加熱減量開始温度は200℃であった。
[Example 4] (A) Epoxy acrylate (R-
130 (Nippon Kajimi Co., Ltd.)] 770 parts by weight (B) Hydrogenated dicyclopentadiene monoacrylate (FA-513A)
(manufactured by Hitachi Chemical)) 27 parts by weight, (C) Irgacure 1
An optical recording medium was prepared in the same manner as in Example 61 except that 843 parts by weight of the mixture was used. The heating loss start temperature of the cured resin was 200°C.

〔実施例、5〕 2P法樹脂として(A)ポリウレタンアクリレート(N
KエステルU−108−A(新中村化学工業■製)2官
能〕30重量部、下記式(I)で示される(B)ネオペ
ンチルグリコール変性トリメチロールプロパンジアクリ
レート〔カヤラッドR−f104(日本化薬味製)〕7
70重量の混合物に対して、(C)光重合開始剤〔イル
ガキュア184(日本チバガイギー■製)〕を0.5重
量%混合した硬化性樹脂組成物を用いる以外は実施例、
lと同様にして光学的記録媒体を作成した。該樹脂硬化
物の加熱減量開始温度は200℃であった。
[Example 5] (A) polyurethane acrylate (N
30 parts by weight of K ester U-108-A (manufactured by Shin Nakamura Chemical Industry ■) difunctional, (B) neopentyl glycol-modified trimethylolpropane diacrylate represented by the following formula (I) [Kayarad R-f104 (manufactured by Nippon Chemical Co., Ltd.)] Made by condiments)〕7
Examples except that a curable resin composition in which 0.5% by weight of (C) photopolymerization initiator [Irgacure 184 (manufactured by Nippon Ciba Geigy ■)] was mixed with 70% by weight of the mixture was used.
An optical recording medium was prepared in the same manner as in Example 1. The heating loss start temperature of the cured resin was 200°C.

(I) 〔実施例、6〕 2P法樹脂として(A)ポリウレタンアクリt、−) 
(C−9504(+−トマー社製)2官能) 30重量
部、〔実施例、5〕式(I)で示される(B)ネオペン
チルグリコール変性トリメチロールプロパンジアクリレ
ート〔カヤラッドR−804(日本化薬味製)〕440
部およびジシクロペンタニルアクリレート(FA−51
3A(日立化成■製)〕30部の混合物に対して、(C
)光重合開始剤〔イルガキュア184(日本チバガイギ
ー■製))0.5重量%を配合した混合物を用いる以外
は実施例、lと同様にして光学的記録媒体を作成した。
(I) [Example 6] As 2P method resin (A) Polyurethane acrylic t, -)
(C-9504 (manufactured by Tomer) bifunctional) 30 parts by weight, [Example 5] (B) neopentyl glycol-modified trimethylolpropane diacrylate represented by formula (I) [Kayarad R-804 (Japan) Made by Kanyakumi)〕440
and dicyclopentanyl acrylate (FA-51
3A (manufactured by Hitachi Chemical)] to a mixture of 30 parts (C
) An optical recording medium was prepared in the same manner as in Example 1 except that a mixture containing 0.5% by weight of a photopolymerization initiator (Irgacure 184 (manufactured by Nippon Ciba Geigy)) was used.

該樹脂硬化物の加熱減量開始温度は180℃であった。The heating loss start temperature of the cured resin was 180°C.

〔比較例、1〕 2P法用樹脂として(A) PETA (ペンタエリス
リトールトリアクリレートとペンタエリスリトールテト
ラアクリレートの混合物(大阪有機化学工業■製)〕4
5重量部、(B)ネオペンチルグリコールジアクリレー
) (NPGOA(日本化薬輛製)〕55重量部、(C
)ダロキュア1173 (メルク■製〕5重量部の混合
物を用いる以外は実施例、lと同様にして光学的記録媒
体を作成した。該樹脂硬化物の加熱減量開始温度は80
℃であった。
[Comparative Example, 1] As resin for 2P method (A) PETA (mixture of pentaerythritol triacrylate and pentaerythritol tetraacrylate (manufactured by Osaka Organic Chemical Industry ■)] 4
5 parts by weight, (B) neopentyl glycol diacrylate) (NPGOA (manufactured by Nippon Kayaku)) 55 parts by weight, (C
) Darocur 1173 (manufactured by Merck ■) An optical recording medium was prepared in the same manner as in Example 1 except that 5 parts by weight of the mixture was used.The heating loss start temperature of the cured resin was 80.
It was ℃.

〔比較例、2〕 2P法用樹脂として(A)エポキシアクリレート〔ビス
コート#540(大阪有機化学工業■製)〕880重量
部(B) 1.8−ヘキサンジオールジアクリレートC
HDDA(日本化薬■製)〕116重量部(C)ダロキ
ュア11734重量部の混合物を用いる以外は実施例、
lと同様にして光学的記録媒体を作成した。該樹脂硬化
物の加熱減量開始温度は60℃であった・ 実施例、l、実施例、2、実施例、3、実施例、4、実
施例、5、実施例、6、比較例、l、比較例、2により
作成した光学的記録媒体の環境耐久試験(70℃、85
%R,H,)前後のC/N、記録感度の測定の結果を表
−1、表−2に示した。
[Comparative Example, 2] As a resin for 2P method (A) 880 parts by weight of epoxy acrylate [Viscoat #540 (manufactured by Osaka Organic Chemical Industry ■)] (B) 1.8-hexanediol diacrylate C
Example except that a mixture of HDDA (manufactured by Nippon Kayaku ■)] 116 parts by weight (C) and Darocure 11,734 parts by weight was used.
An optical recording medium was prepared in the same manner as in Example 1. The heating loss start temperature of the cured resin was 60°C. Example 1 Example 2 Example 3 Example 4 Example 5 Example 6 Comparative Example 1 Environmental durability test (70°C, 85°C) of the optical recording medium prepared according to Comparative Example 2
The results of measurement of C/N and recording sensitivity before and after %R, H, ) are shown in Tables 1 and 2.

C/N、記録感度の測定とも、光磁気情報記録再生装置
を用い3 MHzの信号を記録再生して測定した。
Both C/N and recording sensitivity were measured by recording and reproducing a 3 MHz signal using a magneto-optical information recording and reproducing device.

記録感度の測定はC/N 40dB以上を得るための記
録/再生レーザーパワーを測定した。即ち記録感度低下
はC/N 40dB以上を得るための記録/再生レーザ
ーパワーが初期に比べて大となることを意味する。
The recording sensitivity was measured by measuring the recording/reproducing laser power to obtain a C/N of 40 dB or more. That is, the decrease in recording sensitivity means that the recording/reproducing laser power to obtain a C/N of 40 dB or more becomes larger than the initial level.

表−1、表−2をみると明らかなように硬化物の加熱減
量開始温度が150℃以上となるようなzP法用樹脂を
用いて光学的記録媒体を作成することにより、環境耐久
試験後のC/Nの低下が少なく、また記録/再生レーザ
ーパワーにも変化がなく、即ち記録感度の低下がなく優
れた光学的記録媒体を得ることができる。
As is clear from Tables 1 and 2, by creating an optical recording medium using a resin for the zP method whose heating loss onset temperature of the cured product is 150°C or higher, after the environmental durability test It is possible to obtain an excellent optical recording medium with little decrease in C/N and no change in recording/reproducing laser power, that is, no decrease in recording sensitivity.

表−1環境耐久試験(C/N測定) 表−2環境耐久試験(記録感度測定) 〔発明の効果〕 本発明により、光重合による樹脂硬化物の加熱減量開始
温度が150℃以上となる2P法用樹脂を用いて光学的
記録媒体用基板を作成することによって、長期信頼性を
示す光学的記録媒体を製造することが可能となる。
Table-1 Environmental durability test (C/N measurement) Table-2 Environmental durability test (recording sensitivity measurement) [Effects of the invention] According to the present invention, the 2P whose heating loss start temperature of the cured resin by photopolymerization is 150°C or higher By creating a substrate for an optical recording medium using a commercial grade resin, it becomes possible to manufacture an optical recording medium that exhibits long-term reliability.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1、基板上に硬化型樹脂製の案内溝を有する光重合法に
より製造される光学的記録媒体において、該樹脂の硬化
物の加熱減量開始温度が150℃以上であることを特徴
とする光学的記録媒体。
1. An optical recording medium manufactured by a photopolymerization method having a guide groove made of a curable resin on a substrate, characterized in that a cured product of the resin has a heating loss initiation temperature of 150°C or higher. recoding media.
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