JPS63280687A - 受容体シート - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は、熱転写プリントに関し、特に供与体シート
とともに用いるための熱転写プリント用受容体シートに
関する。

（ｂ）　　故避立ｉ量 現在用いられている熱転写プリン）　（ＴＴＰ）技術は
、一般に、組合わされた供与体シートからの像形成媒体
の熱転写による受容体シート上の像の生成を含む。供与
体シートは、典型的には、通常はワックスおよび／また
は高分子樹脂バインダーを含む、インク媒体中に配合さ
れた昇華性染料を含む転写層がコートされた、紙、合成
紙、または高分子フィルム材料からなる支持基材を含む
。

組合わされた受容体シートは、通常、その表面上に染料
受容性の高分子受容層を有する、同様な材料の支持基材
を含む、それぞれの転写層および受容層が接触配置され
た供与体シートおよび受容体シートを含むアセンブリー
が、例えばテレビジョン信号の如き情報信号から引き出
された図柄領域において選択的に加熱されると、染料が
供与体シートから受容体シートの染料受容性層に転写さ
れて、そこに特定の図柄の単色像を形成する。異なる単
色染料を用いてプロセスを繰り返すことより、受容体シ
ート上にフルカラー像が生成される。

加熱アセンブリーからの像形成シートの剥離を促進する
ために、転写層および受容層の少なくとも一方は、シリ
コーン油の如き離型剤といっしょにされる。

ＴＴＰシステムの商業的な成功は、特に、十分な濃度、
コントラストおよび鮮明度を有する像の発現による。像
の光学濃度は、従って、重要な基準である。しかし、転
写プロセスの間ともに溶融状態にある、転写層の受容層
への粘着を防止するのが好ましいけれども、離型剤の存
在は、あいにく染料の受容層へのマイグレーションを制
限し、これによって得られる像の光学濃度が減少される
ことがある。不十分な光学濃度の問題は、実質的に架橋
された離型剤が存在する場合に、特に重要である。

鮮鋭な像を発現させるために、必要な強い局所加熱がレ
ーザービーム像形成を含む種々の技術により通用され得
るけれども、通常の、広く用いられている、熱プリント
技術は、例えば、各ドツトが独立の加熱要素（所望なら
ば電子的にコントロールされたもの）により表されるよ
うなドントマトリフクス装置の熱プリントヘッドを含む
。そのような接触プリントヘッドに付随する問題は、加
熱され、軟化されたアセンブリー上の各要素の圧力によ
り生ずる受容体シートの変形である。この変形は、受容
体シートの表面光沢の減少として現れ、初期に平滑で光
沢のある表面を有する受容体シート、即ち高品質の芸術
品の製造に必要とされる種類の受容体シートにおいて特
に顕著である。

圧力変形に伴う他の問題は、像の影響が受容体シートの
裏面、即ち、基材の受容体層から遠い側の自由表面上に
認められるような、「裏抜け」の現象である。

（Ｃ）　　逆米肢血 種々の受容体シートが、ＴＴＰプロセスに用いるために
提案されている。例えば、ＥＰ−Ａ−０１３３０１２は
、基材とその上の像受容層を有し、シリコーン油の如き
染料透過性の剥離剤が像受容層中にまたは像受容層の少
なくとも一部の上の剥離層として存在する、熱転写可能
なシートを開示している。基材中に用いられる材料は、
コンデンサー紙、グラシンペーパー、羊皮紙、または高
いサイズ度を有する紙またはプラスチックフィルム（ポ
リエチレンテレフタレートを含む）の柔軟な薄いシート
を含む、但し、例示した基材材料は、主として、プロピ
レンポリマーに基づくと思われる合成紙である。基材の
厚さは、通常、３〜５０ミクロン（μｍ）のオーダーで
ある。像受容層はエステル、ウレタン、アミド、尿素ま
たは高い極性の結合を有する樹脂に基づくものであって
もよい。

関連するヨーロッパ特許出願ＢＰ−Ａ−０１３３０１１
は、受容性層の露出表面が、それぞれ、（ａ）−１００
〜２０℃のガラス転移温度を有し、極性基を有する合成
樹脂および（ｂ１４０℃またはそれ以上のガラス転移温
度を有する合成樹脂を含む第１の領域と第２の領域とを
含むことを除き、同様の基材および像形成層材料に基づ
く熱転写可能なシートを開示している。受容性層は基材
層とともに用いる場合には３〜５０μｍの厚さを有し、
または独立に用いられる場合には６０〜２００μｍの厚
さを有する。

前述したように、商業的に利用可能なＴＴＰ受容体シー
トに伴う問題は、発現した像の不十分な濃度およびコン
トラスト、像形成されたシートの光沢の減少、および像
のシートの裏面への裏抜けを含む。

今や、我々は、前述した欠点を克服しまたは実質的に除
去する、ＴＴＰプロセスに用いるための受容体シートを
見出したのである。２ 衾貝久瓜要 従って、本発明は適合し得る供与体シートとともに用い
るための熱転写プリント用受容体シートを提供し、この
受容体シートは、少なくとも一方の表面上に供与体シー
トから熱転写された染料を受容するための染料受容性の
受容層を含み、ａ）基材は合成熱可塑性ポリマーの分子
配向フィルムを含み、 ｂ）少なくとも１の受容層が染料受容性の、本質的に結
晶質の合成熱可塑性ポリマーを含む。

本発明は、また、適合し得る供与体シートとともに用い
るための熱転写プリント用受容体シートの製造方法を提
供し、この方法は、支持基材を形成し、その少なくとも
一方の表面上に供与体シートから熱転写された染料を受
容するための染料受容性の受容層を与えることを含み、 ａ）基材は合成熱可塑性ポリマーの分子配向フィルムを
含み、 ｂ）少なくとも１の受容層が染料受容性の、本質的に結
晶質の合成熱可塑性ポリマーを含む。

溌訓少好まル専ｆｌ（刀先叫 本発明の説明において、下記の用語は次のような意味を
有するものと理解されたい。

シート：単一の個々のシートだけでな（、複数の個々の
シートにさらに分けることのできる連続ウェブまたはリ
ボン状の構造体をも含む。

適合し得る：供与体シートに関し、供与体シートが熱の
影響下に、これと接触されている受容体シートの受容層
中にマイグレーションすることができ、像を形成するこ
とのできる染料で含浸されていることを意味する。

不透明：受容体シートの基材が実質的に可視光に不透過
性であることを意味する。

ボイドを有する：受容体シートの基材が離散した閉じた
気泡の少なくとも一部を含む気泡構造を含むということ
を示す。

フィルム；支持体の介在なしに独立に存在することので
きる自己支持性構造体である。

本発明に係る受容体シートの基材は、熱可塑性のフィル
ム形成性高分子材料からなるものであってよい。適当な
材料は、エチレン、プロピレンまたはブテン−１の如き
ｌ−オレフィンのコポリマーまたはホモポリマー、ポリ
アミド、ポリカーボネートおよび特に１種またはそれ以
上のジカルボン酸またはそれらの低級アルキル（炭素原
子６　（ｍまで）ジエステル、例えば、テレフタル酸、
イソフタル酸、フタル酸、２．５−１２．６−または２
．７−ナフタレンジカルボン酸、コハク酸、セバシン酸
、アジピン酸、アゼライン酸、４，４′〜ジフエニルジ
カルン酸、ヘキサヒドロテレフタル酸またはｌ、２−ビ
スーＰ−カルボキシフェノキシエタン（所望ならばビバ
ル酸の如きモノカルボン酸とともに）と１種またはそれ
以上のグリコール、例えば、エチレングリコール、１，
３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、ネオ
ペンチルグリコールおよび１．４−シクロヘキサンジメ
タツールとの縮合によって得られる合成線状ポリエステ
ルを含む。ポリエチレンテレフタレートフィルム、特に
、例えば、英国特許８３８７０８に記載されたようにし
て、２つの互いに直角の方向に、典型的には７０〜１２
５℃の温度において、順次に延伸することにより二軸延
伸され、好ましくは、典型的には１５０〜２５０℃の範
囲の温度においてヒートセットされたようなフィルムが
特に好ましい。

本発明に係る受容体シートのためのフィルム基材は一軸
延伸されていてもよいけれども、フィルムの平面内の互
いに直角な２つの方向に延伸することにより二軸延伸さ
れていて一１十分な機械的および物理的特性の組合わせ
を達成するのが好ましい、フィルムの形成は、延伸され
たポリマーフィルムを製造するための当業者に公知のプ
ロセス、例えば、チューブラ−またはフラットフィルム
プロセスにより行うことができる。

チューブラ−プロセスにおいては、熱可塑性ポリマーチ
ューブを押出し、これを次いで惣冷し、再加熱し、次い
で内部ガス圧力によって膨張させて、横方向の延伸をな
さしめ、長さ方向の延伸を生じるような速度で引き取る
ことによって行うことができる。

好ましいフラットフィルムプロセスにおいては、フィル
ム形成性ポリマーは、スロット台から押し出され、冷却
されたキャスティングドラム上で急速に冷却されて、ポ
リマーが非晶質状態で急冷されるようにする。次いで、
急冷された押出し物をポリマーのガラス転移温度より高
い温度において少なくとも１つの方向に延伸することに
より延伸が行われる。平坦な急冷された押出し物をまず
１つの方向、通常は長手方向、即ちフィルム延伸機の前
進方向に延伸し、次いで横方向に延伸することにより逐
次延伸を行うこともできる。押出し物の前進延伸は、回
転する１対のロール上または２対のニップロール間で行
われるのがよく、横方向延伸は、次いで、テンター装置
で行われる。延伸は、フィルム形成性ポリマーの性質に
よって決められる程度に行われる。例えば、ポリエステ
ルは通常、配向されたポリエステルフィルムの寸法がそ
の延伸方向のもとの寸法の２．５〜４．５倍であるよう
に延伸される。

延伸されたフィルムは、寸法的に拘束された状態で、フ
ィルム形成性ポリマーのガラス転移温度よりも高く、但
しその融点よりも低い温度においてヒートセットして、
ポリマーの結晶化を起こさせることにより、寸法的に安
定化されるのがよい。

本発明の好ましい態様においては、受容体シートは不透
明な基材を含む。不透明度は、特に、フィルムの厚さお
よびフィラーの含有量によって決まるけれども、不透明
基材フィルムは、好ましくは、０．７５〜１．７５、特
に１．２〜１．５の透過光学濃度（Ｓａｋｕｒａ　Ｄｅ
ｎｓｉｔｏｍｅｔｅｒ；　ｔｙｐｅ　ＰＤＡ　６５；透
過モード）を示すのが好ましいであろう。

受容体シート基材は、フィルム形成性合成ポリマー中に
有効量の不透明剤を配合することにより不透明にされる
のがよい。しかしなから、本発明のさらに好ましい態様
においては、後に規定するように不透明基材はボイドを
有する。従って、ポリマー中に、有効量の、不透明なボ
イドを有する基材構造を与えることのできる剤を配合す
るのが好ましい。適当なボイド生成剤（これはまた不透
明を与える）は、非相容性の樹脂、フィラー、粒状の無
機フィラーまたは２種またはそれ以上そのようなフィラ
ーの混合物を含む。

「非相容性樹脂」なる語は、フィルムの押出しおよび形
成の間に与えられる最も高い温度において、熔融しない
かまたは実質的にポリマーと混和しない樹脂を意味する
。そのような樹脂は、ポリエステルフィルム中への配合
に対してはポリアミドおよびオレフィンポリマー、特に
分子中に６個までの炭素原子を含むモノアルファオレフ
ィンのホモ−またはコーポリマーを含み、ポリオレフィ
ンフィルム中への配向に対しては後述する種類のポリエ
ステルを含む。

不透明な、ボイドを有する基材を生成させるために適す
る特定の無機フィラーは、通常の無機ピグメントおよび
フィラー、特にアルミナ、シリカおよびチタニアの如き
金属または半金属酸化物、およびカルシウムおよびバリ
ウムの炭酸塩および硫酸塩の如きアルカリ土類金属塩を
含む、硫酸バリウムは特に好ましいフィラーであり、こ
れはまたボイド形成剤としても機能する。

適当なフィラーは均質であってよく、単一のフィラー材
料または化合物、例えば、二酸化チタンまたは硫酸カリ
ウムだけから本質的になる。あるいは、フィラーの少な
くとも一部が均質であってよく、大部分のフィラー材料
が追加の変成用成分といっしょにされている０例えば、
大部分のフィラー粒子は表面変成剤、例えば、ピグメン
ト、ソープ、界面活性剤カップリング剤またはフィラー
の基材ポリマーとの相容度を促進するかまたは変えるた
めの他の変成剤で処理されていてもよい。

十分な透明度、ボイド、および白変を有する基材の製造
は、フィラーが微粉砕されており、その平均粒度が望ま
しくは０．１〜１０ｕｍであり、但し数で９９．９％の
粒子の実際の粒度が３０μｍを超えないことを必要とす
る。好ましくは、フィラーは０．１〜１．０μｍ、特に
好ましくは０．２〜０．７５μｍの平均粒度を有する。

粒度が低下すると基材の光沢が改善される。

粒度は、電子顕微鏡、クルターカウンターまたは沈降分
析により測定することができ、平均粒度は選ばれた粒度
より小さい粒子の百分率を表す累積度数曲線をプロット
することにより測定することができる。

この発明に係るフィルム支持体中に配合されたフィラー
粒子は３０ｃｒｍを超える実際の粒度を持たないのが好
ましい。そのような粒度を超える粒子は当業者に知られ
ているふるい分はプロセスによって除くことができる。

しかしなから、ふるい分は操作は、全体として常に、選
ばれた粒度よりも大きい粒子のすべてを除去することを
可能にするわけではない。従って、実際には、数で９９
．９％の粒子の粒度が３０μｍを超えないものであるべ
きである。最も好ましくは、粒子の９９．９％の粒度が
２０μｍを超えない。

ポリマー基材中への不透明／ボイド形成剤の配合は、通
宝の技術、例えば、ポリマーが誘導される七ツマー反応
体と混合することにより、またはフィルムの形成前に粒
子状またはチップ状のポリマーとトライブレンドするこ
とにより行うことができる。

基材ポリマー中に配合されるフィラー、特に硫酸バリウ
ムの量は、ポリマーの重量に対して５重量％より少なく
なく、あるいは５０重量％を超えるべきではない。フィ
ラーの濃度が基材ポリマーの重量に対して約８〜３０重
−９％、特に１５〜２０重量％である場合に、特に十分
なレベルの透明度および光沢が達成される。

一般には、比較的少量の他の添加剤がフィルム基材中に
必要により配合されていてもよい。例えば、２５％まで
の量のチャイナクレイがボイド形成を促進するために配
合されていてもよ（，１５００ｐｐｍまでの量の光学的
増白剤が白変を向上させるために配合されていてもよく
、１０ｐｐｍまでの量の染料が色を変えるために配合さ
れていてもよい、これらの濃度は、基材ポリマーの重量
に対する重量％である。

基材の厚さは、受容体シートの予定された通用によって
変わるけれども、一般には２５０μｍを超えず、好まし
くは５０〜１９０μｍ、特に１４５〜１８０μｍの範囲
内にあろう。

前述した種類の基材を有する受容体シートは多くの利点
を与える。これらの利点は、（１）高品質の芸術品の濃
度、コントラストおよび感覚を有するプリントの製造に
必須である白変および透明度、（２）プリントヘッドと
の接触に伴う表面の変形および像の裏抜けに対する改良
された耐性につながる曲げ剛性度および戻り剛性度、お
よび（３）寸法安定性および耐カール性を与える熱的お
よび化学的安定度を含む。

前述した種類のボイドを有する基材の表面に対して直接
的にＴＴＰを行う場合、発現された像の光学濃度は低く
なりがちであり、得られるプリントの品質は一般に劣る
ものである。従って、基材の少なくとも一方の表面上に
受容層が必要となり、この受容層は、（１）供与体シー
トから熱転写された染料に対する高い受容性、（２）許
容可焼な光沢のプリントの製造を確実にするための熱プ
リントへ。

ドとの接触による表面変形に対する耐性、および（３）
安定な像を与える能力を示すのが望ましい。

上記の基準を満足する受容層は本質的に結晶質の、染料
受容性の合成熱可塑性ポリマーを含む。

受容層の厚さは、広い範囲で変えることができるけれど
も、一般には５０μｍを超えないであろう。受容層の乾
燥厚さは、特に特定の受容ポリマー中に発現される像の
光学濃度を支配し、好ましくは０．５〜２５μｍの範囲
内にある。特に、受容層の厚さを、前述した種類の透明
／ボイドを有するポリマー基材とともに、注意深＜０．
５〜１０μｍの範囲内にコントロールすることにより、
表面変形に対する耐性の驚くべき程に顕著な改善が、転
写された像の光学濃度をそれほど損なうことなしに、達
成されるということが見出された。

受容層中に用いられ、基材層に対する十分な接着性を与
える結晶質染料受容性ポリマーは、結晶質ポリエステル
樹脂、特に１種またはそれ以上のテレフタル酸、イソフ
タル酸およびヘキサヒドロテレフタル酸の如き二塩基性
芳香族カルボン酸と１種また゛はそれ以上のエチレング
リコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコ
ールおよびネオペンチルグリコールの如きグリコールか
ら誘導されたコポリエステル樹脂を含むのが適当である
。結晶状態において十分な染料受容性および変形抵抗を
有する典型的なコポリエステルは、エチレンテレフタレ
ートとエチレンイソフタレートとの、特に５０〜９０モ
ル％のエチレンテレフタレートと対応する５０〜１０モ
ル％のエチレンイソフタレートのモル比におけるコポリ
エステルである。好ましいコポリエステルは６５〜８５
モル％のエチレンテレフタレートと３５〜１５モル％の
エチレンイソフタレート、特に約８２モル％のエチレン
テレフタレートと約１８モル％のエチレンイソフタレー
トとのコポリエステルを含む。

基材層上での結晶質受容層の形成は、通常の技術、例え
ば、予備形成された基材層上への結晶質ポリマーのキャ
スティングにより行うことができる。しかしなから、複
合シート（基材および受容層）の形成は、それぞれのフ
ィルム形成性層の多重オリフィスダイの独立のオリフィ
スから同時に押出し、次いでまだ溶融している層をいっ
しょにすること、または好ましくはそれぞれのポリマー
の熔融流れをまずダイマニホールドにつながる溝内でい
っしょにし、次いでこれらをいっしょに相互に混合する
ことなく流線型流れの条件下にダイオリフイスから押し
出して複合シートを製造する単一溝同時押出しをするこ
とのいずれかによる、同時押し出しにより行われるのが
よい。

同時押出しシートは、基材の分子配向をさせるために延
伸され、好ましくは前述したようにしてヒートセントさ
れる。一般に、基材層の延伸のために通用される条件は
、受容ポリマーの結晶化を生せしめるであろう。従って
、受容ポリマーの結晶融点より低い温度において寸法的
な拘束下にヒートセットし、複合体を冷却せしめて受容
ポリマーが本質的に結晶質であるようにするのが好まし
い。ポリエステル基材およびコポリエステル受容層を含
む受容体シートのヒートセットは、実質的に結晶質の受
容層を与えるためには１７５〜２００℃の範囲内の温度
で行われるのがよい。

本発明の好ましい態様においては、受容体シートは紫外
線安定剤の配合により紫外線（ＵＶ）耐性とされる。安
定剤が受容体シートの層のいずれかに存在することがあ
るけれども、これは好ましくは受容層中に存在する。安
定剤は、独立の添加剤を含んでいてもよく、あるいは、
好ましくは、受容ポリマーの鎖中の共重合された残基で
あってよい。特に、受容ポリマーがポリエステルである
場合、ポリマー鎖は芳香族カルボニル安定剤の共重合さ
れたエステル化残基を含むのがよい、そのようなエステ
ル化残基は、適当には、ヨーロッパ特許公開ＥＰ−Ａ−
３１２０２に記載されているようなジ（ヒドロキシ）ク
マリンの残基、ＥＰ−Ａ−３１２０３に開示されている
ような２−ヒドロキシージ（ヒドロキシアルコキシ）ベ
ンゾフェノンの残基、ＥＰ−Ａ−６６８６に開示されて
いるようなビス（ヒドロキシアルコキシ）キサント−９
−オンの残基、および特に好ましくは、ＥＰ−Ａ−７６
５８２に開示されているようなヒドロキシ−ビス（ヒド
ロキシアルコキシ）−キサント−９−オンの残基を含む
。−ヒ記安定剤中のアルコキシ機は、通常１〜１０、好
ましくは２〜４（１？ｉｌの炭素原子を含む。例えば、
このアルコキシ基はエトキシ基である。エステル化残基
の含有量は１Ｉｌｖ１合計受容ポリマーの重量の０．０
１〜３０％、好ましくは０．０５〜１０％である。特に
好ましい残基はｌ−ヒドロキシ−３，６−ビス（ヒドロ
キシアルコキシ）キサント−９−オンの残基である。

離型剤は供与体シートから転写された染料を透過させ得
るものでなければならず、オルガノポリシロキサン樹脂
を含むのが適当であり、好ましい樹脂はダウコーニング
社から商標５ＹＬ−ＯＦＦ２２として得られるものであ
る。

離型剤は、その約５０重量％までの量で受容ポリエステ
ル中にブレンドされるか、または適当な溶剤または分散
媒中でその露出表面に適用され、次いで、例えば、１０
０〜１６０℃、好ましくは１００〜１２０℃の温度にお
いて乾燥されて、約５μｍまで、好ましくは０．０２５
〜２．０μｍの乾燥厚さを有する硬化剥離層を与える。

所望ならば、離型剤は、さらに、剤の広がりを促進し・
供与体シートから転写された染料に対する透過性を向上
させるための界面活性剤を含んでいてもよい。

と記の種類の離型剤は、優れた光学的特性を有し、表面
欠陥および欠点がな（、種々の染料に対する透過性を有
する受容体シートを生成し、多重の連続的な離型特性を
与え、これによって受容体シートは異なる単色染料によ
って順次に像形成されてフルカラー像を与えることがで
きる。

本発明を添付の図面を参照しなからさらに説明する。特
に第４図を参照するに、Ｔ　’ｒ　Ｐプロセスは供与体
シートおよび受容体シートを、それぞれの転写層７およ
び剥離層４と接触させて組み合わせることにより行われ
る。複数のプリント要素１０（それらの１つのみが示さ
れている）を含む電気的に活性化された熱プリントへラ
ド９が、次いで、供与体シートの保護層と接触される。

プリントヘッドに電気を通じると、選ばれた個々のプリ
ント要素１０が熱（なり、これによって転写層の下にあ
る領域から染料が染料透過性の剥離層４から受容層３中
に昇華させられ、そこで加熱された要素の像１１を形成
する。供与体シートから分離された、得られた像形成受
容体シートを第５図に示す。

供与体シートを受容体シートに対して前進させ、このプ
ロセスを繰り返すことにより、所望の形の多色像が受容
層中に生成される。

下記の例を参照しなから本発明をさらに説明する。

例」− 受容体シートを製造するために、ポリマーの重量に対し
て１８重醗％の、０．７μｍの平均粒度を有する微細割
された粒状硫酸バリウムフィラーを含むポリエチレンテ
レフタレートを含む第１のポリマーおよび８２モル％の
エチレンテレフタレートと１８モル％のエチレンイソフ
タレートからなる未充填コポリエステルを含む第２のポ
リマーの別々の流れを別々の押出し機から単一溝同時押
出しアセンブリーに供給し、フィルム形成用グイかろ水
冷された回転急冷ドラム上に押し出して、非晶質キャス
ト複合押出し体を得た。キャスト押出し体を約８０℃の
温度に加熱し、次いで３．２：１の前進延伸比において
長手方向に延伸した。長手方向に延伸されたフィルムを
、次いで、約８６℃の温度に加熱し、３．４：１の延伸
比においてテンターで横方向に延伸した。延伸したフィ
ルムを、最後に、テンター中で寸法的に拘束しなから、
約１８５℃の温度でヒートセットした。

得られたシートは、一方の表面上に約７μｍの厚さのイ
ソフタレート−テレフタレートコポリマーの受容層を有
する、約１５０μｍの厚さの充填ポリエチレンテレフタ
レートの、不透明なボイドを有する一次層を含んでいた
。用いられたヒートセ−／　ト温度のために、この受容
層は、本質的に結晶質のものであった。

この受容体シートのプリント特性を、その一方の表面上
に約２μｍの厚さの、セルロース系樹脂バインダー中に
マゼンタ染料を含む転写層を有する、約６μｍの厚さの
二軸延伸ポリエチレンテレフタレート基材を含む供与体
シートを用いて確認した。

それぞれの転写層および受容層が接触されている供与体
シートと受容体シートとのサンプルを含むサンドインチ
を、熱転写プリント機のゴムで被覆されたドラム上に置
き、６　／　ｍ　ｍの線密度で間隔を置かれた画素の直
線的な列を含むプリントヘッドと接触させた。図柄情報
信号に従って画素を約３５０℃の温度（供給電力０．３
２Ｗ／画素）に、１０ミリ秒（ｍｓ）の間選択的に加熱
すると１．マゼンタ染料が供与体シートの転写層から転
写されて、受容体シートの受容層中に加熱された画素に
対応する像を形成した。

転写シートを受容体シートから剥離後、受容体シート上
のバンド像、緑色のフィルターを用いて反射モードで操
作されている、５ａｋｕｒａ　Ｄｅｎｓｉｔｏｗｅｔｅ
ｒ、　ｔｙｐｅ　ＰＤＡ　６５を用いて確認した。イン
ク付けされた像の測定された反射光学濃度（ＲＯＤ）は
２．３であった。

同一の条件下に像形成した場合、硫酸バリウム充填ポリ
エチレンテレフタレートポリマーの単一層を含む（叩ち
コポリエステルの同時押出し層を持たない）受容体シー
トは、１．４の測定ＲＯＤを有する像を形成した。

透過光鏡検法により像形成複合シートの断面を検査する
と、約１．３５μｍの深さの凹みが加熱された画素によ
って受容層の表面中に生じた、即ち１．３５の表面変形
を生じたことがわかった。

伊ｊ−２ これは本発明に従わない比較例である。

例１の操作を繰り返したが、但しヒートセット操作をは
るかに高い温度（２２５℃）において行い、受容層を本
質的に非晶質とした。

例１に述べたようにして試験した時に、得られたマゼン
タ像の観察されたＲＯＤは２．５２であり、像形成シー
トの表面変形は約２．７であった。

桝↓ 例１の操作を繰り返した。但し、結晶質受容層は４μｍ
の厚さを有し、１００：８８：１２のモル比のテレフタ
ル酸、エチレングリコールおよびジエチレングリコール
から誘導されたポリエステルを含んでいた。

像形成シートの表面変形は約０．５５であった。

−剥土 例２（比較例）の操作を繰り返した。但し、非晶質受容
層は３μｍの厚さを有していた。

像形成シートの表面変形は約０．５５であった。

圧丈し公位微 前述したように、本発明に係る受容体シートは独立にま
たは組合わせにおいて下記の好ましい特徴を示す。

１、基材は合成熱可塑性ポリマーの分子配向フィルムを
含み、熱可塑性受容層は本質的に結晶質である。

２、基材は不透明である。

３、基材はボイドを有する。

４、基材は有効量の、非相容性の樹脂フィラーまたは粒
状のｙ機フィラーを含むボイド形成剤を含む。

５、無機フィラーの平均粒度は０．１〜１０．０μｍで
あり、数で９９．９％の粒子の実際の粒度は３０μｍを
超えない。

６、　フィラーは硫酸バリウムを含む。

７、受容層の厚さは０．５〜５．０である。

８、受容層はコポリエステルを含む。

９、受容層はエチレンテレフタレートとエチレンイソフ
タレートとのコポリマーを含む。

ｔＯ，ａ型剤は受容層といっしょにされている。

１１、　　受容体シートは、分子配向された熱可塑性ポ
リマーフィルム基材を形成し、その表面上に、染料受容
性の、本質的に結晶質の合成熱可塑性ポリマー受容層を
与えることにより製造される。

１２、　　有効量の不透明剤が基材中に配合される。

１３、有効量の、鼻相容性樹脂フィラーまたは粒状無機
フィラーを含むボイド形成剤が、ボイドを有する基材を
形成するために配合される。

１４、受容体シートは、基材および染料受容性ポリマー
を同時押出しして複合シートを形成し、次いで複合シー
トを延伸して少なくとも基材ポリマーの分子配向を行わ
せることにより形成される。

１５、延伸シートが、寸法的な拘束下に染料受容性ポリ
マーの結晶融点より低い温度でヒートセットされる。

【図面の簡単な説明】

第１図は一方の表面上に離型剤を配合した染料受容性受
容層３を有する高分子支持基材２を含むＴＴＰ受容体シ
ート１の一部の模式図である。 第２図は独立の剥離層４を含む受容体シートの同様な模
式図である。 第３図は一方の表面上に樹脂バインダー中に昇華性染料
を含む転写層７を有し、他方の表面（裏面）上に高分子
保護Ｍ８を有する高分子基材６を含む適合し得るＴＴＰ
供与体シートの部分模式図である。 第４図はＴＴＰプロセスの模式図である。 第５図は像形成受容体シートの模式図である。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、少なくとも一方の表面上に供与体シートから熱転写
   された染料を受容するための染料受容性の受容層を含む
   、適合し得る供与体シートとともに用いるための熱転写
   プリント用受容体シートであって、 ａ）基材が合成熱可塑性ポリマーの分子配向フィルムを
   含むこと、および ｂ）少なくとも１の受容層が染料受容性の、本質的に結
   晶質の合成熱可塑性ポリマーを含むこと、を特徴とする
   受容体シート。 ２、支持基材を形成し、その少なくとも一方の表面上に
   供与体シートから熱転写された染料を受容するための染
   料受容性の受容層を与えることを含む、適合し得る供与
   体シートとともに用いるための熱転写プリント用受容体
   シートの製造方法であって、 ａ）基材が合成熱可塑性ポリマーの分子配向フィルムを
   含むこと、および ｂ）少なくとも１の受容層が染料受容性の、本質的に結
   晶質の合成熱可塑性ポリマーを含むこと、を特徴とする
   方法。