JPS63275134A - Basket for wafer - Google Patents

Basket for wafer

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Publication number
JPS63275134A
JPS63275134A JP62111980A JP11198087A JPS63275134A JP S63275134 A JPS63275134 A JP S63275134A JP 62111980 A JP62111980 A JP 62111980A JP 11198087 A JP11198087 A JP 11198087A JP S63275134 A JPS63275134 A JP S63275134A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
plate
wafer
gap
holding
operating rod
Prior art date
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Pending
Application number
JP62111980A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masabumi Fukumoto
福本 正文
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nissin Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Nissin Chemical Industry Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Nissin Chemical Industry Co Ltd filed Critical Nissin Chemical Industry Co Ltd
Priority to JP62111980A priority Critical patent/JPS63275134A/en
Publication of JPS63275134A publication Critical patent/JPS63275134A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To make it possible to change the gap of wafers to be ratained, by providing regulation members arranged on the respective neighboring retainers in the manner in which the gap of the respective retainers is charged by transferring a relative moving type retainer, and the retainers abut with each other. CONSTITUTION:When the gap between wafers 90 to be ratained is made small, each operating plate 30 is moved downward with respect to a frame member 10, to separate each operating rod 40 from a retaining rod 20. Then regulation members 62, 63 of each retaining plate 61 in an axial direction moving type retainer 60 are respectively inserted into a long hole 71a and a round hole 71d of each retaining plate 71 in a neighboring relative moving type retainer 70, and in the inside, each of the vertical planes 62a and each of the vertical planes 63a of the neighboring regulation members 62 and 63 abut. On the other hand, as to each of the regulation members 72 and 73 of each retaining plate 71 in the relative moving type retainer 70, each of the vertical planes 72a and each of the vertical planes 73a of regulation members 72 and 73 abut in the inside. Therefor, each of the opposing surfaces of the neighboring retaining plates 61 and 71 are in a state of close contact.

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、半導体の製造に用いられるシリコン等の多数
枚のウェーハを、所定の間隙をあけて保持するウェーハ
用バスケットに関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Industrial Application Field) The present invention relates to a wafer basket that holds a large number of silicon wafers or the like used in the manufacture of semiconductors at predetermined intervals.

(従来の技術) 半導体の製造に用いられるシリコン等のウェーハは、半
導体の製造過程において酸処理、洗浄処理等に供される
。酸処理、洗浄処理等の工程においては、多数枚のウェ
ーハを同時に処理するべく。
(Prior Art) Wafers of silicon or the like used in semiconductor manufacturing are subjected to acid treatment, cleaning treatment, etc. during the semiconductor manufacturing process. In processes such as acid treatment and cleaning treatment, a large number of wafers must be processed at the same time.

多数枚のウェーハを所定の間隙をあけて保持するウェー
ハ用バスケットが用いられる。
A wafer basket is used that holds a large number of wafers at predetermined intervals.

従来、ウェーハ用バスケットとしては、ウェーハを保持
する溝部が所定の間隙で配設されたものが用いられてお
り、各溝部内にウェーハを嵌合させて使用されている。
Conventionally, wafer baskets have been used in which grooves for holding wafers are arranged at predetermined intervals, and the wafers are fitted into each groove.

このようなウェーハ用ハスケソトでは、相隣する溝部間
の間隙が固定されているため、ウェーハ間の間隙を変更
することができず、その間隙は常時一定である。各処理
工程においては、各ウェーハ間の間隙を、その処理工程
に最も適した状態にしなければならないが、従来のウェ
ーハ用バスケットでは、各ウェーハは1間隙が一定とな
るように保持されるため、各処理工程において、その処
理工程に最適な状態にウェーハを保持し得るハスケソト
に、各ウェーハを入れ換えなければならない。
In such a wafer slotting machine, the gap between adjacent grooves is fixed, so the gap between the wafers cannot be changed, and the gap is always constant. In each processing step, the gap between each wafer must be set to the most suitable state for that processing step, but in conventional wafer baskets, each wafer is held with a constant gap of one. At each processing step, each wafer must be transferred to a holder capable of holding the wafer in optimal conditions for that processing step.

(発明が解決しようとする問題点) 本発明は上記従来の問題点を解決するものであり、その
目的は、保持されるウェーハの間隙を変更し得るウェー
ハ用バスケットを提供することにある。
(Problems to be Solved by the Invention) The present invention solves the above-mentioned conventional problems, and its purpose is to provide a wafer basket that can change the gap between the wafers held therein.

(問題点を解決するための手段) 本発明は、半導体の製造に用いられる多数枚のウェーハ
を所定の間隙をあけて保持するウェーハ用バスケットで
あり、半導体の製造に用いられる多数枚のウェーハを所
定の間隙をあけて保持するウェーハ用バスケットであり
、フレーム部材に固定された支持ロッドと、該支持ロッ
ドに対して接離可能に配設された操作ロッドと、該操作
ロッドの移動に伴い前記支持ロッドの軸方向へのみ移動
するべく配設されており、それぞれにウェーハが保持さ
れる複数枚の軸方向移動型保持具も、前記操作ロッドの
移動に伴って該操作ロッドと共に移動すると共に、該操
作ロッドの軸方向へ移動するべく、相隣する前記軸方向
移動型保持具の間にそれぞれが配設されており、それぞ
れにウェーハが保持される複数枚の相対移動型保持具と
、前記相対移動型保持具の移動により、相隣する各保持
具の間隙を変更するべく相互に当接し得るように。
(Means for Solving the Problems) The present invention is a wafer basket that holds a large number of wafers used in semiconductor manufacturing with a predetermined gap between them. The wafer basket is held with a predetermined gap, and includes a support rod fixed to a frame member, an operation rod disposed so as to be able to approach and separate from the support rod, and as the operation rod moves, the A plurality of axially movable holders arranged to move only in the axial direction of the support rod and each holding a wafer also move together with the operating rod as the operating rod moves; a plurality of relatively movable holders each holding a wafer, each of which is disposed between adjacent axially movable holders to move in the axial direction of the operating rod; By moving the relative movement type holders, adjacent holders can come into contact with each other to change the gap between them.

相隣する各保持具にそれぞれ配設された規制部材とを有
してなり、そのことにより上記目的が達成 ゛される。
The above-mentioned object is achieved by having a regulating member disposed on each adjacent holder, respectively.

(実施例) 以下に本発明を実施例について説明する。(Example) The present invention will be described below with reference to Examples.

本発明のウェーハ用バスケットは、第1図〜第3図に示
すように上面および下面が開放されたフレーム部材10
を有する。該フレーム部材10の長手方向各端部に位置
する側板11および11の上部間には1幅方向に所定の
間隙をあけて、一対の支持ロッド20および20が架設
されている。各支持ロッド20の端部は、各側板11に
それぞれ固定されている。
As shown in FIGS. 1 to 3, the wafer basket of the present invention includes a frame member 10 whose upper and lower surfaces are open.
has. A pair of support rods 20 and 20 are installed between the upper parts of the side plates 11 and 11 located at each longitudinal end of the frame member 10 with a predetermined gap in one width direction. An end of each support rod 20 is fixed to each side plate 11, respectively.

各側板11の外側面には、それぞれ取手12および12
が配設されている。
A handle 12 and 12 are provided on the outer surface of each side plate 11, respectively.
is installed.

フレーム部材10内には、各側板11に沿って一対の操
作板30および30が配設されている。各操作板30は
、第4図に示すように、各支持ロット20に対して上下
方向への移動可能となるように、各支持ロフト20が挿
通する一対の長孔31および31を有する。また、後述
の左右各一対の押ばね80.80.・・・が貫通ずる長
孔32.32.・・・も形成されている。
Inside the frame member 10, a pair of operation plates 30 and 30 are arranged along each side plate 11. As shown in FIG. 4, each operation plate 30 has a pair of long holes 31 and 31 through which each support loft 20 is inserted so that it can move vertically relative to each support lot 20. Also, a pair of left and right push springs 80, 80, which will be described later. . . passes through the elongated hole 32.32. ... is also formed.

各操作板30の下部間には、一対の操作ロッド40およ
び40が架設されている。各操作ロッド40は。
A pair of operation rods 40 and 40 are installed between the lower portions of each operation plate 30. Each operating rod 40.

操作板30に形成された各長孔31の下方にそれぞれの
端部が固設されており、従って、各支持ロッド20とは
その下方位置にて平行になっている。
Each end portion is fixedly provided below each elongated hole 31 formed in the operation plate 30, and is therefore parallel to each support rod 20 at its lower position.

各操作板30は、フレーム部材10内に固設された支持
ロッド20に、その各長孔31がそれぞれ係合されてい
るため、フレーム部材10に対して上下方向への移動可
能になっている。そして、各操作板30がフレーム部材
10に対して上方へ移動されることにより、各操作板3
0間に架設された各操作ロット40は、上方の支持ロッ
ド20に接近するべく平行移動し1反対に操作板30が
フレーム部材10に対して下方へ移動されることにより
、各操作ロッド40は支持ロット20に対して離隔する
べく平行移動される。
Each operation plate 30 is movable in the vertical direction with respect to the frame member 10 because its respective elongated holes 31 are respectively engaged with support rods 20 fixedly installed within the frame member 10. . Then, each operation plate 30 is moved upward relative to the frame member 10, so that each operation plate 30 is moved upward relative to the frame member 10.
Each operating rod 40 installed between 0 and 0 moves in parallel to approach the upper support rod 20, and conversely, the operating plate 30 is moved downward relative to the frame member 10, so that each operating rod 40 The support rod 20 is translated away from the support rod 20 .

フレーム部材10内の幅方向各側部に位置し、上下にそ
れぞれ対をなす支持ロッド20および操作ロッド40に
は1円盤上のウェーハ90を保持するための複数の軸方
向移動型保持具60.60.・・・および相対移動型保
持具?0.70.・・・がそれぞれ交互に係合されてい
る。各軸方向移動型保持具60は1例えば一対の保持板
61および61を有する。各保持板61Lよ。
A plurality of axially movable holders 60 for holding one disk of wafers 90 are located on each side of the frame member 10 in the width direction, and are arranged in pairs on the upper and lower sides of the support rods 20 and the operation rods 40, respectively. 60. ...and a relative displacement type holder? 0.70. ... are engaged with each other alternately. Each axially movable retainer 60 has one, for example, a pair of retainer plates 61 and 61. Each holding plate 61L.

上下に対をなす支持ロッド20および操作ロッド40に
上部および下部がそれぞれ軸方向への摺動可能に係合さ
れている。各軸方向移動型保持具60における各保持板
61は、第3図および第5図に示すように、上部に、支
持ロッド20が軸方向へのみの摺動可能に挿通ずる透孔
61aを有し、下部に操作ロッド40が挿通する長孔6
1bを有する。該長孔61bは上下方向に延びており、
操作ロッド40は該長孔61’b内を上下方向に移動し
得る。従って、操作ロッド40が支持ロッド20に接近
するべく繰作されても、該操作ロッド40は、該長孔6
1b内を上方へ移動し、保持板61は上下方向へ移動す
るおそれがない。
The upper and lower parts are respectively engaged with the supporting rod 20 and the operating rod 40, which form an upper and lower pair, so as to be slidable in the axial direction. As shown in FIGS. 3 and 5, each holding plate 61 in each axially movable holder 60 has a through hole 61a in the upper part, through which the support rod 20 is slidably inserted only in the axial direction. and a long hole 6 at the bottom through which the operating rod 40 is inserted.
1b. The long hole 61b extends in the vertical direction,
The operating rod 40 can move in the vertical direction within the elongated hole 61'b. Therefore, even if the operating rod 40 is moved closer to the support rod 20, the operating rod 40 is
1b, and there is no fear that the holding plate 61 will move in the vertical direction.

各保持板61の上部における透孔61aの下方には。Below the through hole 61a in the upper part of each holding plate 61.

それぞれが連通状態となるように、丸孔61Cおよび6
1dが上下方向に並設されている。また、各保持板61
の下部における長孔61bの上方には、該長孔61bに
連通ずる丸孔61eが開設されている。
The round holes 61C and 6 are connected so that they are in communication with each other.
1d are arranged in parallel in the vertical direction. In addition, each holding plate 61
A round hole 61e communicating with the elongated hole 61b is opened above the elongated hole 61b in the lower part of the hole.

上下方向に対をなす丸孔61cおよび61dにおける上
方の丸孔61Cには、規制部材62が嵌合されており、
また、該保持板61の下部に配設された丸孔61eにも
同様の形状をした規制部材63が嵌合されている。各規
制部材62は2例えば、保持板61の各面からそれぞれ
等しい長さだけ円柱状部材を突出させて固定したもので
ある。該規制部材62の各端面の上部は、略鉛直状態と
なった鉛直面62aとなっており、下部は、下方になる
につれて保持板61に接近するように傾斜したテーパ面
62bとなっている。他方の規制部材63も、保持板6
1の各面からそれぞれ等しい長さだけ突出しており、各
端面の上部が鉛直面63a、下部が同様のテーパ面63
bとなっている。
A regulating member 62 is fitted into the upper round hole 61C of the vertically paired round holes 61c and 61d.
Further, a regulating member 63 having a similar shape is fitted into a round hole 61e provided at the lower part of the holding plate 61. Each regulating member 62 is, for example, a cylindrical member fixed by protruding from each side of the holding plate 61 by an equal length. The upper part of each end face of the regulating member 62 is a substantially vertical vertical surface 62a, and the lower part is a tapered surface 62b that slopes downward toward the holding plate 61. The other regulating member 63 also
The upper part of each end face is a vertical face 63a, and the lower part is a similar tapered face 63.
b.

対をなす各保持板61の相対向する側面には、その上面
から中程下方寄りの位置まで係合溝61fがそれぞれ形
成されており、相対向する係合a61fおよび61fに
1円盤状のウェーハ90の各側部が保持される。
Engagement grooves 61f are formed on opposing side surfaces of each of the pair of holding plates 61 from the upper surface to a mid-lower position, and one disc-shaped wafer is formed in the opposing engagements a61f and 61f. Each side of 90 is retained.

各相対移動型保持具70も、同様に一対の保持板71お
よび71を有し、各保持板71は上下に対をなす支持ロ
ッド20および操作ロッド40に、その上部および下部
がそれぞれ係合されている。そして各保持板71は第3
図および第5図に示すように7上部に、支持ロッド20
が挿通する長孔71aを有し、下部に操作ロッド40が
軸方向へのみの摺動可能に挿通ずる透孔71bを有する
。該長孔71aは上下方向に延びており、支持ロッド2
0は、該長孔71a内を上下方向へ移動し得る。従って
、操作ロッド40が。
Each relative movement type holder 70 similarly has a pair of holding plates 71 and 71, and each holding plate 71 has its upper and lower portions engaged with the upper and lower pairs of support rods 20 and operating rods 40, respectively. ing. And each holding plate 71 has a third
As shown in FIG. 7 and FIG.
It has a long hole 71a through which the operating rod 40 is inserted, and a through hole 71b through which the operating rod 40 is inserted slidably only in the axial direction. The long hole 71a extends in the vertical direction, and the support rod 2
0 can move in the vertical direction within the elongated hole 71a. Therefore, the operating rod 40.

支持ロッド20に接近するべく操作されると、支持ロッ
ド20は各長孔71a内を移動するため、各保持板71
は操作ロッド40と共に上下方向へ移動される。
When operated to approach the support rod 20, the support rod 20 moves within each elongated hole 71a, so each holding plate 71
is moved in the vertical direction together with the operating rod 40.

相対移動型保持具70の各保持板71の上部における長
孔71aの下方には、該長孔71aに連通する丸孔71
cが開設されている。また、該保持板7エの下部におけ
る透孔71bの上方には、それぞれが連通状態となるよ
うに上下方向に並設された丸孔71dおよび71eが開
設されている。
Below the elongated hole 71a in the upper part of each holding plate 71 of the relative movement type holder 70, there is a round hole 71 communicating with the elongated hole 71a.
c has been established. Further, above the through hole 71b in the lower part of the holding plate 7e, round holes 71d and 71e are provided vertically in parallel so as to communicate with each other.

そして、長孔71aに連通ずる丸孔71cには、規制部
材72が嵌合されている。該規制部材72は、前記軸方
向移動型保持具60における保持板61に配設された規
制部材62とは上下方向を反転させた形状をしており、
各端面の下部に鉛直面72a、上部にテーパ面72bを
有する。また、各保持板70の下部の対をなす丸孔71
’dおよび71eの下方の丸孔71eにも同様の形状の
規制部材73が嵌合されており。
A regulating member 72 is fitted into a round hole 71c that communicates with the elongated hole 71a. The regulating member 72 has a shape that is vertically reversed from that of the regulating member 62 disposed on the retaining plate 61 of the axially movable holder 60,
Each end face has a vertical surface 72a at the bottom and a tapered surface 72b at the top. Also, a pair of round holes 71 at the bottom of each holding plate 70
A regulating member 73 having a similar shape is also fitted into the round hole 71e below 'd and 71e.

各端面の下部に鉛直面73a、上部にテーパ面73bを
有する。
Each end face has a vertical surface 73a at the bottom and a tapered surface 73b at the top.

対をなす各保持板71の相対向する側面には、前記軸方
向移動型保持具60における保持板61の係合溝61f
と同様の係合溝71fが形成されており、相対向する係
合溝71fおよび71fに円盤状のウェーハ90の各側
部が保持される。
Engagement grooves 61f of the retaining plates 61 in the axially movable retainer 60 are provided on opposing sides of each of the pair of retaining plates 71.
Engagement grooves 71f similar to the above are formed, and each side of the disc-shaped wafer 90 is held in the opposing engagement grooves 71f and 71f.

このように、軸方向移動型保持具60における各保持板
61と、相対移動型保持具70における各保持板71と
は、一方の支持ロッド20およびその下方の操作ロッド
40に、それぞれ交互に係合されている。
In this way, each of the holding plates 61 in the axially moving type holder 60 and each of the holding plates 71 in the relatively moving type holder 70 is alternately engaged with one of the support rods 20 and the operating rod 40 below it. are combined.

そして、操作ロッド40を支持ロッド20から離隔させ
ると、軸方向移動型保持具60における各保持板61の
上方の規制部材62は、相隣する相対移動型保持具70
における各保持板71の上部に形成された長孔71aの
下部に係合し得るように対向され、相対移動型保持具7
0における保持板71の上方の規制部材72は、軸方向
移動型保持具60における保持板61の規制部材62下
方の丸孔61dに係合し得るように対向される。
Then, when the operating rod 40 is separated from the support rod 20, the regulating member 62 above each retaining plate 61 in the axially movable holder 60 is moved away from the adjacent relative movable holder 70.
The relatively movable holders 7 are opposed to each other so as to be able to engage with the lower part of the elongated hole 71a formed in the upper part of each holding plate 71.
The regulating member 72 above the holding plate 71 at 0 is opposed so as to be able to engage with the round hole 61d below the regulating member 62 of the holding plate 61 in the axially movable holder 60.

同様に、軸方向移動型保持具60における下方の規制部
材63は、相隣する相対移動型保持具70における下方
の規制部材73の上方の丸孔71eに係合し得るように
対向され、相対移動型保持具70における保持板71の
下方の規制部材73は、相隣する軸方向移動型保持具6
0における保持板6Iの長孔61bの上部に係合し得る
ように対向される。
Similarly, the lower regulating member 63 in the axially movable holder 60 is opposed to the upper round hole 71e of the lower regulating member 73 in the adjacent relatively movable holder 70, and The regulating member 73 below the holding plate 71 in the movable holder 70 is connected to the adjacent axially movable holder 70.
They face each other so as to be able to engage with the upper part of the elongated hole 61b of the holding plate 6I at 0.

このようにして、軸方向移動型保持具60と相対移動型
保持具70とが、交互に所定の数量だけ並設され、フレ
ーム部材10の長手方向の各側板11および11とは、
軸方向移動型保持具60がそれぞれ対向するように配設
される。そして、一方の側板11と。
In this way, the axially movable holders 60 and the relatively movable holders 70 are arranged in parallel in a predetermined quantity alternately, and each side plate 11 in the longitudinal direction of the frame member 10 is
The axially movable holders 60 are arranged to face each other. And one side plate 11.

該側板11と対向する軸方向移動型保持具60における
各保持板61との間には、各保持具61を他方の側板1
1に向かって押圧する上下一対の押ばね80および80
が左右各側部にそれぞれ介装されている。各押ばね80
は、操作板30に形成された各長孔32(第4図参照)
をそれぞれ貫通して、側板11の内側面に係止されてい
る。
Between the side plate 11 and each retaining plate 61 of the axially movable retainer 60 facing the side plate 11, each retainer 61 is connected to the other side plate 1.
A pair of upper and lower pressing springs 80 and 80 that presses toward 1
are installed on each side of the left and right sides. Each push spring 80
are each elongated hole 32 formed in the operation plate 30 (see FIG. 4).
They are fixed to the inner surface of the side plate 11 by penetrating through them respectively.

このような構成の本発明のウェーハ用バスケットは、保
持すべきウェーハ90の間隙を小さくする場合には、各
操作板30をフレーム部材IOに対して下方へ移動させ
、各操作ロッド40を支持ロッド20から離隔させる。
In the wafer basket of the present invention having such a configuration, in order to reduce the gap between the wafers 90 to be held, each operation plate 30 is moved downward relative to the frame member IO, and each operation rod 40 is connected to the support rod. Separate from 20.

これにより、押ばね80の付勢力と相俟って、軸方向移
動型保持具60における各係止板6Iの規制部材62お
よび63伴、第6図に示すように、相隣する相対移動型
保持具70における各保持板71の長孔71aおよび丸
孔71dにそれぞれ内嵌され、その内部にて、相隣する
規制部材62および63の鉛直面62a同士および63
a同士が当接した状態になる。他方、相対移動型保持具
70における各保持板71の各規制部材72および73
は、相隣する各軸方向移動型保持具60における各保持
板61の丸孔61dおよび長孔61bにそれぞれ内嵌さ
れ、その内部にて相隣する規制部材72および73の鉛
直面72a同士および73a同士が当接する。その結果
、相隣する各保持板61および710対向面同士が密着
した状態となる。このような状態で、対をなす各保持板
61の係合溝61f、および対をなす各保持板71の係
合溝7Iに円盤状のウェーハ90が挿入されて保持され
る。
As a result, together with the biasing force of the push spring 80, the regulating members 62 and 63 of each locking plate 6I in the axially movable holder 60, as shown in FIG. Each holding plate 71 in the holding fixture 70 is fitted into the long hole 71a and round hole 71d, and inside the holding plate 71, the vertical surfaces 62a of the adjacent regulating members 62 and 63 and 63
A is brought into contact with each other. On the other hand, each regulating member 72 and 73 of each holding plate 71 in the relative movement type holder 70
are fitted into the round holes 61d and elongated holes 61b of each holding plate 61 in each adjacent axially movable holder 60, and inside the vertical surfaces 72a of the adjacent regulating members 72 and 73 and 73a come into contact with each other. As a result, the opposing surfaces of the adjacent holding plates 61 and 710 are in close contact with each other. In this state, the disc-shaped wafer 90 is inserted into the engagement groove 61f of each pair of holding plates 61 and the engagement groove 7I of each pair of holding plate 71 and held.

これに対し、相隣するウェーハ90同士の間隙を大きく
する必要がある場合には、各操作板30を。
On the other hand, if it is necessary to increase the gap between adjacent wafers 90, each operation plate 30 is

フレーム部材10に対して上方へ移動させる。これによ
り、各操作ロッド40は支持部材20に接近するべく平
行移動する。このとき、軸方向移動型保持具60の各係
止板61は、各操作ロッド40が長孔61b内を上方へ
移動するだけであるため、上方へは移動せず、相対移動
型保持具70の各係止板71のみが。
It is moved upward relative to the frame member 10. As a result, each operating rod 40 moves in parallel to approach the support member 20. At this time, each locking plate 61 of the axially movable holder 60 does not move upward because each operating rod 40 only moves upward within the elongated hole 61b, and the relative movable holder 70 does not move upward. Only each locking plate 71 is.

操作ロッド40と共に上方へ移動する。そして、相対移
動型70の各係止板71が上方へ移動することにより、
その規制部材72および73の各テーパ面72bおよび
73bが、相隣する軸方向移動型保持具60の各係止板
61における各規制部材62および63のテーパ面62
bおよび63bに沿って移動し、相隣する各保持板71
および61は、各押ばね80の付勢力に抗して相互に離
隔するべく軸方向へ移動する。そして。
It moves upward together with the operating rod 40. Then, by moving each locking plate 71 of the relative displacement mold 70 upward,
The tapered surfaces 72b and 73b of the regulating members 72 and 73 correspond to the tapered surfaces 62b and 73b of the regulating members 62 and 63 on each locking plate 61 of the adjacent axially movable holder 60.
b and 63b, each adjacent holding plate 71
and 61 move in the axial direction against the biasing force of each push spring 80 to separate from each other. and.

相隣する各保持板61および71の上部の規制部材62
および72は、その各鉛直面62aおよび72a同士が
密着し、また下部の規制部材63および73は、その各
鉛直面62aおよび72a同士が密着する。その結果、
各保持板61および71の対向面からそれぞれ突出した
規制部材62および72の各鉛直面62aおよび72a
と、規制部材63および73の各鉛直面63aおよび7
3a同士が当接した状態となり、各保持板61および7
1は、所定長離隔した状態とされる。従って。
Regulation member 62 on the upper part of each adjacent holding plate 61 and 71
and 72 have their respective vertical surfaces 62a and 72a in close contact with each other, and the lower regulating members 63 and 73 have their respective vertical surfaces 62a and 72a in close contact with each other. the result,
Vertical surfaces 62a and 72a of regulating members 62 and 72 protruding from opposing surfaces of holding plates 61 and 71, respectively
and the vertical surfaces 63a and 7 of the regulating members 63 and 73.
3a are in contact with each other, and each holding plate 61 and 7
1 are separated by a predetermined length. Therefore.

各保持具60および70に保持されたウェーハ90は相
隣するもの同士が所定の間隙とされる。
The wafers 90 held by the holders 60 and 70 have a predetermined gap between adjacent wafers 90 .

このようなウェーハ用バスケットは、すべての部材をフ
ッ素樹脂にて成形することにより、もしくはフッ素樹脂
にてライニングすることにより。
This kind of wafer basket is made by molding all the parts with fluororesin or by lining it with fluororesin.

耐薬品性が著しく向上し、半導体製造用ウェーへの各処
理工程に用いて好適である。
It has significantly improved chemical resistance and is suitable for use in various processing steps for semiconductor manufacturing wafers.

なお、上記実施例では、各規制部材62.63および7
2.73の一方の端面に鉛直面を1か所形成し。
In addition, in the above embodiment, each of the regulating members 62, 63 and 7
2. Form one vertical surface on one end face of 73.

その鉛直面に、相隣する規制部材が当接しない状態と規
制部材の鉛直面同士が当接する状態として。
A state in which adjacent regulating members do not come into contact with the vertical surface, and a state in which the vertical surfaces of the regulating members come into contact with each other.

相隣する保持板の間隙を2段階に切換えるようにしたが
1本発明は、このような実施例に限定されず、軸方向移
動型保持具60もしくは相対移動型保持具70のいずれ
かの保持板に装着すべき規制部材を1例えば、第7図に
示すように、鉛直面が2か所形成された形状とすれば、
それぞれの鉛直面に。
Although the gap between adjacent holding plates is switched in two stages, the present invention is not limited to such an embodiment, and the present invention is not limited to this embodiment, and the present invention is not limited to this embodiment. For example, if the regulating member to be attached to the plate has a shape with two vertical surfaces as shown in FIG.
on each vertical plane.

相隣する保持板に配設された規制部材の鉛直面が当接し
た状態とそれぞれの規制部材における鉛直面が当接しな
い状態との3段階に、相隣する保持板の間隙を調整し得
る。
The gap between adjacent retaining plates can be adjusted in three stages: a state in which the vertical surfaces of regulating members disposed on adjacent retaining plates are in contact with each other, and a state in which the vertical surfaces of each regulating member are not in contact with each other. .

(発明の効果) 本発明のウェーハ用バスケットは、このように保持され
る複数枚のウェーハの間隙を容易に変更し得る。
(Effects of the Invention) The wafer basket of the present invention allows the gap between the plurality of wafers held in this manner to be easily changed.

4、 ヌ  の  ゛な云゛l 第1図は本発明のウェーハ用バスケットの縦断面図、第
2図はその平面図、第3図はその横断面図、第4図は第
1図のIf−IV線における断面図。
4. Figure 1 is a vertical cross-sectional view of the wafer basket of the present invention, Figure 2 is a plan view thereof, Figure 3 is a cross-sectional view thereof, and Figure 4 is the If of Figure 1. - A cross-sectional view along the IV line.

第5図は保持板の説明のための斜視図、第6図は保持板
を密着された状態のウェーハ用バスケットの縦断面図、
第7図は規制部材の別の例の説明図である。
FIG. 5 is a perspective view for explaining the holding plate, and FIG. 6 is a longitudinal cross-sectional view of the wafer basket with the holding plate tightly attached.
FIG. 7 is an explanatory diagram of another example of the regulating member.

10・・・フレーム部材、20・・・支持ロッド、30
・・・操作板、40・・・操作ロッド、60・・・軸方
向移動型保持具。
10... Frame member, 20... Support rod, 30
... Operation plate, 40 ... Operation rod, 60 ... Axial direction movable holder.

61・・・保持板、 62.63・・・規制部材、70
・・・相対移動型保持具、71・・・保持板、 72.
73・・・規制部材。
61... Holding plate, 62.63... Regulating member, 70
...relative movement type holder, 71...retention plate, 72.
73...Regulation member.

以上that's all

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、半導体の製造に用いられる多数枚のウェーハを所定
の間隙をあけて保持するウェーハ用バスケットであり、 フレーム部材に固定された支持ロッドと、 該支持ロッドに対して接離可能に配設された操作ロッド
と、 該操作ロッドの移動に伴い前記支持ロッドの軸方向への
み移動するべく配設されており、それぞれにウェーハが
保持される複数枚の軸方向移動型保持具と、 前記操作ロッドの移動に伴って該操作ロッドと共に移動
すると共に、該操作ロッドの軸方向へ移動するべく、相
隣する前記軸方向移動型保持具の間にそれぞれが配設さ
れており、それぞれにウェーハが保持される複数枚の相
対移動型保持具と、前記相対移動型保持具の移動により
、相隣する各保持具の間隙を変更するべく相互に当接し
得るように、相隣する各保持具にそれぞれ配設された規
制部材と、 を有するウェーハ用バスケット。
[Claims] 1. A wafer basket that holds a large number of wafers used in the manufacture of semiconductors at a predetermined interval, and includes a support rod fixed to a frame member, and a support rod connected to the support rod. an operating rod that is arranged to be removable; and a plurality of axially movable holders that are arranged to move only in the axial direction of the support rod as the operating rod moves, each holding a wafer. and each is disposed between adjacent axially movable holders to move together with the operating rod as the operating rod moves, and also to move in the axial direction of the operating rod. , a plurality of relatively movable holders each holding a wafer; and a plurality of relatively movable holders each holding a wafer; A wafer basket comprising: a regulating member disposed on each holder;
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007112463A (en) * 2005-10-19 2007-05-10 Dainippon Printing Co Ltd Substrate storing body
WO2013170849A1 (en) * 2012-05-15 2013-11-21 Jonas & Redmann Automationstechnik Gmbh Device for changing distances between individual substrates
CN104810313A (en) * 2015-05-06 2015-07-29 常州银河电器有限公司 Transfer tool for semiconductor member packaging process

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