JPS63235943A - Device for evaporating and concentrating photograph processing waste liquid - Google Patents

Device for evaporating and concentrating photograph processing waste liquid

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JPS63235943A
JPS63235943A JP6943787A JP6943787A JPS63235943A JP S63235943 A JPS63235943 A JP S63235943A JP 6943787 A JP6943787 A JP 6943787A JP 6943787 A JP6943787 A JP 6943787A JP S63235943 A JPS63235943 A JP S63235943A
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waste liquid
liquid
photographic processing
evaporation
tank
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一博 小林
Shigeharu Koboshi
重治 小星
Nobutaka Goshima
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Masayuki Kurematsu
雅行 榑松
Naoki Takabayashi
高林 直樹
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Abstract

PURPOSE:To decrease a generated harmful or malodorous component by supplying continuously or intermittently a waste liquid in accordance with a signal of a means for detecting the waste liquid quantity in an evaporating oven. CONSTITUTION:When the waste liquid quantity in an evaporating oven 1 increases, and a liquid surface level in a communicating tube 4 increases, and a level is detected, for instance, >=3secs by a liquid surface level sensor 5, an operation of a bellows pump 28 stops and simultaneously a switch of a heating means 2 is turned on, and a heating evaporation is started. By the heating evaporation, the liquid quantity of a waste liquid in the evaporating oven 1 decreases, the liquid surface level in the communicating tube 4 falls, and when the level is not detected >=3secs by the liquid surface level sensor 5, a switch of the bellows pump 28 is turned on, and an operation for supplying a waste liquid in a waste liquid supply tank 26 into the evaporating oven 1 is repeated. In such a way, the waste liquid is always brought to a heating condensation in an optimum state, and a harmful or malodorous component generated by a photograph processing waste liquid can be suppressed small.

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) この発明は、写真用自動現像機による写真感光材料の現
像処理に伴い発生する廃液(以下、写真処理廃液ないし
廃液と略称)を蒸発処理する蒸発濃縮処理装置に関し、
特に、自動現像機内若しくは自動現像機の近傍に配置し
て処理するのに適した写真処理廃液の蒸発濃縮処理装置
に関する。
[Detailed Description of the Invention] (Industrial Application Field) The present invention is directed to evaporating waste liquid (hereinafter referred to as photographic processing waste liquid or waste liquid) generated during the processing of photographic light-sensitive materials by an automatic photographic processor. Regarding evaporation concentration processing equipment,
In particular, the present invention relates to an apparatus for evaporating and concentrating photographic processing waste liquid, which is suitable for processing by being placed in or near an automatic processor.

(発明の背景) 一般に、ハロゲン化銀写真感光材料の写真処理は、黒白
感光材料の場合には現像、定着、水洗等、カラー感光材
料の場合には発色現像、漂白定着(又は漂白、定着)、
水洗、安定化等の機能の1つ又は2つ以上を有する処理
液を用いた行程を組合せて行なわれている。
(Background of the Invention) In general, photographic processing of silver halide photographic materials includes development, fixing, washing, etc. in the case of black and white materials, and color development, bleach-fixing (or bleaching and fixing) in the case of color photographic materials. ,
A combination of processes using a treatment liquid having one or more functions such as water washing and stabilization is carried out.

そして、多量の感光材料を処理する写真処理においては
、処理によって消費された成分を補充し一方、処理によ
って処理液中に溶出或いは蒸発によって濃化する成分(
例えば現像液における臭化物イオン、定着液における銀
錯塩のような)を除去して処理液成分を一定に保つこと
によって処理液の性能を一定に維持する手段が採られて
おり、上記補充のために補充液が処理液に補充され、写
真処理における濃厚化成分の除去のために処理液の一部
が廃棄されている。
In photographic processing in which a large amount of light-sensitive material is processed, the components consumed during processing are replenished, while the components that are concentrated by elution or evaporation into the processing solution (
For example, methods are used to maintain the performance of the processing solution at a constant level by removing bromide ions in the developing solution and silver complex salts in the fixing solution and keeping the processing solution components constant. A replenisher is added to the processing solution, and a portion of the processing solution is discarded to remove thickening components in photographic processing.

近年、補充液は水洗の補充液である水洗水を含めて公害
上や経済的理由から補充の量を大幅に減少させたシステ
ムに変わりつつあるが、写真処理廃液は自動現像機の処
理槽から廃液管によって導かれ、水洗水の廃液や自動現
像機の冷却水等で稀釈されて下水道等に廃棄されている
In recent years, systems have been changing to systems in which the amount of replenishment fluid, including washing water, which is used as a replenishment fluid for washing, has been significantly reduced due to pollution and economic reasons, but photographic processing waste fluid is removed from the processing tank of automatic processors. It is led through a waste liquid pipe, diluted with waste liquid from washing water, cooling water from automatic processors, etc., and then disposed of in a sewer or the like.

しかしなから、近年の公害規制の強化により、水洗水や
冷却水の下水道や河川への廃棄は可能であるが、これら
以外の写真処理液[例えば、現像液、定着液、発色現像
液、漂白定着液(又は漂白液、定着液)、安定液等]の
廃棄は、実質的に不可能となっている。このため、各写
真処理業者は廃液を専門の廃液処理業者に回収料金を払
って回収してもらったり公害処理設備を設置したりして
いる。しかしながら、廃液処理業者に委託する方法は、
廃液を貯留しておくのにがなりのスペースが必要となる
し、またコスト的にも極めて高価であり、さらに公害処
理設備は初期投資(イニシャルコスト)が極めて大きく
、整備するのにがなり広大な場所を必要とする等の欠点
を有している。
However, due to stricter pollution regulations in recent years, it is possible to dispose of washing water and cooling water into sewers or rivers, but it is possible to dispose of washing water and cooling water into sewers and rivers, but it is not possible to dispose of washing water and cooling water into sewers or rivers, but it is possible to dispose of washing water and cooling water into sewers and rivers. It has become virtually impossible to dispose of fixing solutions (or bleaching solutions, fixing solutions), stabilizers, etc.]. For this reason, each photo processing company pays a collection fee to a specialized waste liquid processing company to collect the waste liquid, or installs pollution treatment equipment. However, the method of outsourcing to a waste liquid treatment company is
A large amount of space is required to store the waste liquid, and it is also extremely expensive.Furthermore, the initial investment (initial cost) of pollution treatment equipment is extremely large, and it takes a large area to set up. It has disadvantages such as requiring a large space.

さらに、具体的には、写真処理廃液の公害負荷を低減さ
せる公害処理方法としては、活性汚泥法(例えば、特公
昭51−12943号及び間開51−7952号等)、
蒸発法(特開昭49−89437号及び同56−339
98号等)、電解酸化法(特開昭48−84462号、
同49−119458号、特公昭53−43478号、
特開昭49−119457号等)、イオン交換法(特公
昭51−37704号、特開昭53−383号、特公昭
53−43271号等)、逆浸透法(特開昭50−22
463号等)、化学的処理法(特開昭49−84257
号、特公昭57−37396号、特開昭53−1215
2号、同49−58833号、同53−63763号、
特公昭57−37395号等)等が知られているが、こ
れらは未だ充分ではない。
Furthermore, specifically, as a pollution treatment method for reducing the pollution load of photographic processing waste liquid, activated sludge method (for example, Japanese Patent Publication No. 51-12943 and Japanese Patent Publication No. 51-7952, etc.);
Evaporation method (JP-A-49-89437 and JP-A-56-339)
No. 98, etc.), electrolytic oxidation method (JP-A-48-84462,
No. 49-119458, Special Publication No. 53-43478,
JP-A-49-119457, etc.), ion exchange method (JP-A-51-37704, JP-A-53-383, JP-A-53-43271, etc.), reverse osmosis method (JP-A-50-22)
No. 463, etc.), chemical treatment method (Japanese Patent Application Laid-Open No. 49-84257)
No., JP 57-37396, JP 53-1215
No. 2, No. 49-58833, No. 53-63763,
Japanese Patent Publication No. 57-37395, etc.) are known, but these are still not sufficient.

一方、水資源面からの制約、給排水コストの上昇、自動
現像機設備における簡易さと、自動現像機周辺の作業環
境上の点等から、近年、水洗に変わる安定化処理を用い
、自動現造機外に水洗の給排水のための配管を要しない
自動現像機(いわゆる無水洗自動現像機)による写真処
理が普及しつつある。このような処理では処理液の温度
コントロールするための冷却水も省略されたものが望ま
れている。このような実質的に水洗水や冷却水を用いな
い写真処理では自動現像機からの写真処理廃液がある場
合と比べて水によって稀釈されないためその公害負荷が
極めて大きく一方において廃液量が少ない特徴がある。
On the other hand, due to constraints from water resources, rising water supply and drainage costs, the simplicity of automatic processor equipment, and the work environment around automatic processors, in recent years stabilization treatments have been used instead of washing with water, and Photographic processing using automatic developing machines (so-called waterless automatic developing machines) that do not require piping for water supply and drainage is becoming popular. In such processing, it is desired that cooling water for controlling the temperature of the processing liquid can also be omitted. In this type of photographic processing, which does not substantially use rinsing water or cooling water, compared to the case where there is photographic processing waste liquid from automatic processors, the pollution load is extremely large because it is not diluted with water, and on the other hand, the amount of waste liquid is small. be.

従って、この廃液量が少ないことにより、給廃液用の機
外の配管を省略でき、それにより従来の自動現像機の欠
点と考えられる配管を設置するために設置後は移動が困
難であり、足下スペースが狭く、設置時の配管工事に多
大の費用を要し、温水供給圧のエネルギー費を要する等
の欠点が解消され、オフィスマシンとして使用できるま
でコンパクト化、簡易化が達成されるという極めて大き
い利点が発揮される。
Therefore, due to the small amount of waste liquid, it is possible to omit the piping outside the machine for supplying and waste liquid, which is considered to be a disadvantage of conventional automatic processors, as it is difficult to move after installation. The disadvantages such as the small space required, the high cost of piping work during installation, and the high energy cost of hot water supply pressure have been eliminated, and the machine has been made compact and simple enough to be used as an office machine. Benefits are demonstrated.

しかしながら、この反面、その廃液は極めて高い公害負
荷を有しており、河川はもとより下水道にさえ、その公
害規制に照してその廃棄は全く不可能となってきている
。さらにこのような写真処理(多量の流水を用いて、水
洗を行なわない処理)の廃液量は少ないとはいえ、例え
ば比較的小規模なカラー処理ラボも、1ト1に10J2
程度となる。
However, on the other hand, the waste liquid has an extremely high pollution load, and it has become completely impossible to dispose of it not only in rivers but also in sewers in view of pollution regulations. Furthermore, although the amount of waste liquid from this type of photographic processing (processing that uses a large amount of running water and does not involve washing with water) is small, for example, even a relatively small-scale color processing laboratory uses 10 J2 per ton of waste liquid.
It will be about.

従って、一般には廃液回収業者によって回収され、二次
及び三次処理され無害化されているが、回収費の高騰に
より廃液引き取り価格は年々高くなるばかりでなく、ミ
ニラボ等では回収効率は悪いため、なかなか回収に来て
もらうことができず、廃液が店に充満する等の問題を生
じている。
Therefore, waste liquid is generally collected by a waste liquid collection company and rendered harmless through secondary and tertiary processing.However, not only is the price of waste liquid collection increasing year by year due to rising collection costs, but collection efficiency is low in minilabs, etc., so it is difficult to do so. No one can come to collect the liquid, causing problems such as waste liquid filling the store.

一方、これらの問題を解決するために写真処理廃液の処
理をミニラボ等でも容易に行えることな目的として、写
真処理廃液を加熱して水分を蒸発乾固ないし固化するこ
とが研究されており、例えば、実開昭6O−70fll
 1号等に示されている。発明者等の研究では写真処理
廃液を蒸発処理した場合、亜硫酸ガス、硫化水素、アン
モニアガス等の有害ないし極めて悪臭性のガスが発生ず
る。これは写真処理液の定着液や漂白定着液としてよく
用いられるチオ硫酸アンモニウムや亜硫酸塩(アンモニ
ウム塩、ナトリウム塩又はカリウム塩)が高温のため分
解することによって発生することがわかった。更に蒸発
処理時には写真処理廃液中の水分等が蒸気となって気体
化することにより体積が膨張し、蒸発釜中の圧力が増大
する。このためこの圧力によって蒸発処理装置から前記
有害ないし悪臭性のガスが装置外部へもれ出してしまい
、作業環境上極めて好ましくないことが起こる。
On the other hand, in order to solve these problems, research has been conducted on heating the photographic processing waste liquid to evaporate the water to dryness or solidify it, with the aim of making it easier to process the photographic processing waste liquid even in minilabs. , Jitsukai Showa 6O-70flll
It is shown in No. 1 etc. According to research conducted by the inventors, when photographic processing waste liquid is evaporated, harmful or extremely malodorous gases such as sulfur dioxide gas, hydrogen sulfide, and ammonia gas are generated. It has been found that this is caused by the decomposition of ammonium thiosulfate and sulfites (ammonium salt, sodium salt, or potassium salt), which are commonly used as fixing solutions and bleach-fixing solutions in photographic processing solutions, due to high temperatures. Further, during the evaporation process, moisture and the like in the photographic processing waste liquid becomes vapor and gasifies, thereby expanding the volume and increasing the pressure in the evaporation pot. Therefore, this pressure causes the harmful or malodorous gases to leak out of the evaporation treatment apparatus to the outside of the apparatus, resulting in an extremely unfavorable working environment.

そこて、これらを解決するために実開昭60−708.
’I 1号には蒸発処理装置の排気管部に活性炭等の排
ガス処理部を設ける方法が開示されている。しかし、こ
の方法は写真処理廃液中の多量の水分による水蒸気によ
り、排ガス処理部で結露又は凝結し、ガス吸収処理剤を
水分が覆い、ガス吸収能力を瞬時に失わせてしまう重大
な欠点を有しており、未だ実用には供し得ないものであ
った。
Therefore, in order to solve these problems, Utility Model No. 60-708.
'I No. 1 discloses a method of providing an exhaust gas treatment section such as activated carbon in the exhaust pipe section of an evaporation treatment device. However, this method has the serious drawback that water vapor from a large amount of water in the photographic processing waste liquid condenses or condenses in the exhaust gas treatment section, covering the gas absorption processing agent and causing it to instantly lose its gas absorption ability. However, it has not yet been put to practical use.

これらの問題点を解決するために、この出願人等は写真
処理廃液を蒸発処理するに際し、蒸発によって生じる蒸
気を凝縮させる冷却凝縮手段を設け、さらに凝縮によフ
て生じる凝縮水を処理するとともに非凝縮成分について
も処理して外部へ放出する写真処理廃液の処理方法及び
装置について先に提案した。
In order to solve these problems, the present applicant et al. installed a cooling condensing means to condense the vapor generated by the evaporation when evaporating photographic processing waste liquid, and further treated the condensed water generated by the condensation. We have previously proposed a method and apparatus for treating photographic processing waste liquid that also processes non-condensed components and releases them to the outside.

しかしなから、上記提案によれば、次のような問題点が
あることを見い出した。すなわち、蒸発処理によって生
じる蒸気は冷却凝縮手段で凝縮されるが、冷却凝縮効率
が悪いと、凝縮されないで装置外部へ放出される蒸気の
比率が高くなり、たとえ活性炭で処理したとしても、悪
臭で有害なガスが装置外部へ放出される比率も高くなる
。さらに冷却凝縮手段によって凝縮された凝縮水も、た
とえ活性炭で処理したとしても、廃棄する時におフたり
、公害負荷が高くそのまま下水等に排出できない場合も
ある。
However, it has been discovered that the above proposal has the following problems. In other words, the vapor generated by the evaporation process is condensed by the cooling condensing means, but if the cooling condensation efficiency is poor, the proportion of vapor that is not condensed and is released to the outside of the device increases, resulting in a bad odor even if treated with activated carbon. The rate at which harmful gases are released to the outside of the device also increases. Further, even if the condensed water condensed by the cooling condensing means is treated with activated carbon, it may not be able to be discharged directly to the sewer or the like due to the high pollution load or water loss when discarded.

さらに、ミニラボでは店のスペースが極めて限られてお
り、写真処理液を処理することにより発生する悪臭が特
に問題となるばかりでなく、廃液処装置自体の設置スペ
ースが問題となる。また、装置の値段やランニングコス
トも重要な問題である従フて、写真処理廃液を、悪臭で
有害なガスを発生することなく処理できるコンパクトで
安価でかつランニングコストが低い処理装置が要望され
ている。
Furthermore, the space available in minilabs is extremely limited, and not only is the bad odor generated by processing photographic processing solutions a particular problem, but the installation space for the waste solution treatment equipment itself becomes a problem. In addition, the price and running cost of the equipment are important issues, so there is a need for a compact, inexpensive processing equipment that can process photographic processing waste without emitting foul-smelling and harmful gases and has low running costs. There is.

(発明の目的) この発明は一ヒ記従来の問題点に鑑みなされたものであ
り、この発明の第1目的は写真処理廃液によって発生す
る有害ないし悪臭成分が少ない写真処理廃液の蒸発濃縮
処理装置を提供することである。この発明の第2目的は
処理すべき廃液を確実に供給することが可能な写真処理
廃液の蒸発濃縮処理装置を提供することである。
(Object of the Invention) This invention has been made in view of the conventional problems mentioned above, and the first object of the present invention is to provide an evaporative concentration treatment apparatus for photographic processing waste liquid that has few harmful or malodorous components generated by the photographic processing waste liquid. The goal is to provide the following. A second object of the present invention is to provide an apparatus for evaporating and concentrating photographic processing waste liquid that can reliably supply waste liquid to be processed.

(問題点を解決するための手段) この発明の前記の問題点を解決するために、蒸発釜及び
加熱手段を有する写真処理廃液の蒸発濃縮処理装置にお
いて、前記蒸発釜中の廃液量を検出する手段の信号に従
い、連続又は断続的に廃液を蒸発釜中に供給する手段を
備えることを特徴とする。
(Means for Solving the Problems) In order to solve the above-mentioned problems of the present invention, in an evaporative concentration processing apparatus for photographic processing waste liquid having an evaporating pot and a heating means, the amount of waste liquid in the evaporating pot is detected. The present invention is characterized by comprising means for continuously or intermittently supplying waste liquid into the evaporator according to a signal from the means.

写真処理廃液を蒸発釜中に供給する方式として、蒸発釜
中に貯蔵できる量を一度に供給し蒸発濃縮の途中で蒸発
釜中に廃液を供給しない方式が考えられるが、この発明
者等は、蒸発釜中に廃液量を検出する手段を有し、この
検出する信号に仕上いしあがはいえきを蒸発釜中に連続
ないし断続的に供給する方式により、悪臭ガスや有害ガ
スの発生が少なく抑えられることを見い出した。
As a method for supplying photographic processing waste liquid into the evaporator, a method can be considered in which the amount that can be stored in the evaporator is supplied at one time, and the waste liquid is not supplied into the evaporator during evaporation and concentration. The evaporator has a means for detecting the amount of waste liquid, and the detected signal is used to continuously or intermittently supply finished liquid into the evaporator, thereby minimizing the generation of foul-smelling and harmful gases. I found out that it can be done.

蒸発釜中の廃液量を検出する手段は液面レベルセンサで
あることが好ましいが、予め蒸発速度を測定することに
より、タイマーで蒸発釜への廃液の供給を制御してもよ
いが、濃縮が進むにつれて、蒸発速度が変化したり、液
組成によって異なるため、液面レベルセンサで、蒸発釜
中の廃液量を検出することが好ましい。
The means for detecting the amount of waste liquid in the evaporator is preferably a liquid level sensor, but by measuring the evaporation rate in advance, a timer may be used to control the supply of waste liquid to the evaporator. Since the evaporation rate changes as the evaporation progresses and varies depending on the liquid composition, it is preferable to detect the amount of waste liquid in the evaporator using a liquid level sensor.

液面ベルセンサと蒸発釜中へ廃液を供給する手段の作動
とは、液面レベルセンサが一定時間液面を検出すること
によって停止し、一定時間液面を検出しないことを開始
するように構成されていることが好ましい。すなわち、
蒸発釜中では、沸騰によって液面が常に変化するため、
かかる構成ななっていないと、頻繁に廃液を供給する手
段の0N10FFが繰り返され、故障の原因となる。
The operation of the liquid level bell sensor and the means for supplying waste liquid into the evaporator is configured such that the liquid level sensor stops detecting the liquid level for a certain period of time and starts not detecting the liquid level for a certain period of time. It is preferable that That is,
In the evaporator, the liquid level changes constantly due to boiling, so
If such a configuration is not adopted, the 0N10FF of the means for supplying waste liquid will be repeated frequently, causing a failure.

定時間とは蒸発釜の容量により異なるが、1秒以上10
分以内、好ましくは1秒以上1分以内である。また、好
ましい実施態様として、液面レベルセンサは蒸発釜の外
部に設けられた連通管中に設置される。この場合、沸騰
による液面の変化が小さいため好ましい。この場合、前
記したように液面レベルセンサが一定時間液面を検出し
ないことにより、廃液の供給が停止し、一定時間液面を
検出しないことにより開始する機能をさらに付加するこ
とにより、より故障が少なくなって好ましい。
The constant time varies depending on the capacity of the evaporator, but it is 1 second or more.
Within minutes, preferably between 1 second and 1 minute. Furthermore, in a preferred embodiment, the liquid level sensor is installed in a communication pipe provided outside the evaporation pot. This case is preferable because the change in liquid level due to boiling is small. In this case, as mentioned above, when the liquid level sensor does not detect the liquid level for a certain period of time, the supply of waste liquid stops, and by adding a function that starts when the liquid level sensor does not detect the liquid level for a certain period of time, it is possible to prevent the failure from occurring. It is preferable that the amount of

この発明において、廃液を蒸発釜中に連続または断続的
に供給する手段(以下廃液を蒸発釜中に供給する手段と
略す)とは、チューブポンプ、電磁定量ポンプ、プラン
ジャ一定量ポンプ、ベローズポンプ、ギヤーポンプ、マ
グネットポンプ、定量マグネットポンプ、スクリューポ
ンプ、ダイヤフラムポンプ等の定量ポンプや非定量ポン
プが用いられるが、特に定量ポンプか好ましく用いられ
る。
In this invention, the means for continuously or intermittently supplying waste liquid into the evaporator (hereinafter abbreviated as means for supplying waste liquid into the evaporator) includes a tube pump, an electromagnetic metering pump, a plunger fixed amount pump, a bellows pump, Metering pumps and non-metering pumps such as gear pumps, magnet pumps, metering magnet pumps, screw pumps, diaphragm pumps, etc. are used, and metering pumps are particularly preferably used.

自動現像機からオーバーフローした写真処理廃液は、そ
のまま直接この発明の処理装置の蒸発釜中に供給されて
も良い。この場合、写真処理廃液を蒸発釜中に供給する
手段とは、単にオーバーフローを蒸発釜中に導入する導
入管を示すが、この導入管には電磁弁等が設置されてい
ても良い。自動現像機からオーバーフローした写真処理
廃液は、一旦タンク(廃液タンク)に貯溜された後に蒸
発釜中に導入されることが好ましが、この廃液タンクが
蒸発釜上部に位置する場合、写真処理液を蒸発釜中に供
給する手段として、必ずしもボンブを使用する必要はな
く、この手段は単に廃液タンクから廃液を廃液釜中に導
入する導入管であっても良いし、この導入管には電磁弁
等が設置されていても良い。自動現像機からオーバーフ
ローした写真処理廃液を一旦廃液タンクに貯留する場合
、この廃液タンクは自動現像機からのオーバーフローを
貯留するタンク(第1オーバーフロータンク)であると
同時に、蒸発釜に供給する廃液を貯留するタンク(廃液
供給タンク)であっても良いし、 一旦オーハーフロー
をオーバーフロータンクに受け、一定量貯留した後、廃
液供給タンクにオーバーフローを移し換えてもよいが、
オーバーフロータンクと供給タンクが同一であることが
好ましい。この場合、オーバーフローを廃液タンクに貯
留したから蒸発釜中にこのタンクから廃液を供給しても
良いが、オーバーフローを廃液タンクに貯留した後、こ
の廃液タンクをこの発明の蒸発濃縮装置の近くないしは
蒸発濃縮処理装置の内部設置して、廃液供給タンクとし
て使用しても良い。廃液供給タンクはこの発明の蒸発濃
縮処理装置の内部に設置することがスペースを小さくす
ることかでき好ましい。廃液供給タンクをこの発明の蒸
発濃縮処理装置の内部に設置する場合、廃液供給タンク
は引き出し可能な架台上に設置されることが、作業性を
良くするために好ましい。
The photographic processing waste liquid overflowing from the automatic processor may be directly supplied as it is into the evaporation pot of the processing apparatus of the present invention. In this case, the means for supplying the photographic processing waste liquid into the evaporator simply refers to an introduction pipe for introducing the overflow into the evaporator, but this introduction pipe may be provided with a solenoid valve or the like. It is preferable that the photographic processing liquid overflowing from the automatic processor is once stored in a tank (waste liquid tank) and then introduced into the evaporator. However, if this waste liquid tank is located above the evaporator, the photographic processing liquid It is not necessarily necessary to use a bomb as a means for supplying waste liquid into the evaporation tank; this means may simply be an introduction pipe that introduces waste liquid from a waste liquid tank into the waste liquid tank, and this introduction pipe is equipped with a solenoid valve. etc. may be installed. When photographic processing waste liquid that overflows from an automatic processor is temporarily stored in a waste liquid tank, this waste liquid tank is a tank (first overflow tank) that stores the overflow from the automatic processor, and at the same time is used to store the waste liquid to be supplied to the evaporator. It may be a storage tank (waste liquid supply tank), or the overflow may be once received in an overflow tank and a certain amount stored, and then the overflow may be transferred to a waste liquid supply tank.
Preferably, the overflow tank and the supply tank are the same. In this case, since the overflow is stored in the waste liquid tank, the waste liquid may be supplied from this tank into the evaporator. It may be installed inside the concentration processing equipment and used as a waste liquid supply tank. It is preferable to install the waste liquid supply tank inside the evaporation concentration treatment apparatus of the present invention because the space can be reduced. When the waste liquid supply tank is installed inside the evaporation concentration processing apparatus of the present invention, it is preferable to install the waste liquid supply tank on a removable frame in order to improve workability.

廃液供給タンクには、液面レベルセンサや重量を検出す
る手段を設置し、廃液供給タンク中の廃液がなくなると
、廃液供給手段の作動や加熱手段の作動が停止するよう
に構成されていることが好ましい。
The waste liquid supply tank shall be equipped with a liquid level sensor and a means for detecting weight, and shall be constructed so that the operation of the waste liquid supply means and heating means will stop when the waste liquid in the waste liquid supply tank runs out. is preferred.

この発明において加熱手段とは、ニクロム線であっても
良いし、カートリッジヒーター、石英ヒーター、テフロ
ンヒーター、棒ヒーターやパネルヒーターのように加工
成型されたヒーターであっても良い。また加熱手段の別
の実施態様としては、上記したようなヒーターの1つ、
または複数をシリコンオイルのような高沸点溶媒、炭酸
マクネシウム、酸化マグネシウムやケイソウ上等の中に
設置したものであってもよく、これらを更にヂタン、5
US304や5TJS316等のステンレス及びカーホ
ンスチール等のブロックに埋め込んたものてあっても良
い。
In this invention, the heating means may be a nichrome wire, or may be a processed heater such as a cartridge heater, quartz heater, Teflon heater, rod heater, or panel heater. Another embodiment of the heating means is one of the heaters described above,
Alternatively, a plurality of them may be placed in a high boiling point solvent such as silicone oil, magnesium carbonate, magnesium oxide, diatom, etc.
It may be embedded in a block made of stainless steel such as US304 or 5TJS316 or carphone steel.

この発明では加熱手段の熱密度が略17゜2 kcal
/ cm2以下であることが好ましく、更に略8 、6
 kcal/ cm2以下であることが特に好ましい。
In this invention, the heat density of the heating means is approximately 17°2 kcal.
/cm2 or less, more preferably about 8,6
It is particularly preferable that it be below kcal/cm2.

この発明において加熱手段の熱密度とは、加熱手段の紛
然容量を加熱手段が廃液と接している面積で除した値で
あって、この発明においては熱密度を略17 、2 k
cal/cm2以下にすることにより、悪臭と有害なガ
スの発生を抑えると共に突沸を防ぐことができる。ずな
わち熱密度か略17.2 kcal/ cm2を越える
と加熱手段の加熱による廃液の蒸発速度が速く、加熱手
段表面への廃液の供給か間に合わないため、加熱手段表
面に蒸気の層ができる。このため加熱手段表面の極く近
傍で蒸気がスーパーヒートされて悪臭発生の原因となる
と共に、突沸の原因となると考えられる。
In this invention, the thermal density of the heating means is the value obtained by dividing the apparent capacity of the heating means by the area where the heating means is in contact with the waste liquid, and in this invention, the thermal density is approximately 17,2 k
By setting the temperature to below cal/cm2, it is possible to suppress the generation of bad odors and harmful gases, and to prevent bumping. In other words, when the heat density exceeds approximately 17.2 kcal/cm2, the evaporation rate of the waste liquid due to heating by the heating means is fast, and the waste liquid cannot be supplied to the surface of the heating means in time, so a layer of vapor is formed on the surface of the heating means. . For this reason, it is thought that the steam is superheated very close to the surface of the heating means, causing a bad odor and causing bumping.

この発明では、加熱手段の熱密度を略17゜2 kca
 l / cm2以下とし、更に蒸発釜内の廃液中に気
体を供給する手段を通して気体を供給することにより、
上記したような蒸気のスーパーヒートを更に効率よく防
くことができる。
In this invention, the heat density of the heating means is approximately 17°2 kca.
l/cm2 or less, and further by supplying gas through a means for supplying gas into the waste liquid in the evaporator,
Superheating of steam as described above can be prevented more efficiently.

また、この発明では、加熱手段の熱密度な略17 、2
 kcal/ cm2以下とし、更に蒸発釜中に写真処
理廃液の表面張力を略20〜65 dyne/ cmに
することができる化合物(以下消泡剤という)を供給す
る手段を有しており、この手段を介して蒸発釜中に消泡
剤を供給することにより、蒸気を冷却凝縮手段へ導入す
るための導入管から廃液が吹き出すという事故を防ぐこ
とができる。
Further, in this invention, the heat density of the heating means is approximately 17,2
kcal/cm2 or less, and further has a means for supplying a compound (hereinafter referred to as an antifoaming agent) capable of making the surface tension of the photographic processing waste liquid approximately 20 to 65 dyne/cm into the evaporating pot. By supplying an antifoaming agent into the evaporator via the evaporator, it is possible to prevent an accident in which waste liquid blows out from the introduction pipe for introducing the vapor into the cooling and condensing means.

更にこの発明の最も好ましい実施態様は、加熱手段の熱
密度を略17.2kcal/cm2以下とし、蒸発釜内
の廃液中に気体を供給する手段を通じて気体を供給する
と共に、蒸発釜中に消泡剤を供給する手段を通じて消泡
剤を供給することであり、これにより悪臭ガスや有毒ガ
スの発生と、突沸によって蒸発釜中の廃液が吹き出すと
いう事故を効果的に防ぐことができる。
Furthermore, in the most preferred embodiment of the present invention, the heat density of the heating means is approximately 17.2 kcal/cm2 or less, gas is supplied through the means for supplying gas into the waste liquid in the evaporator, and defoaming is carried out in the evaporator. By supplying the antifoaming agent through a means for supplying the antifoaming agent, it is possible to effectively prevent the generation of foul-smelling gases and toxic gases, as well as accidents in which the waste liquid in the evaporator is blown out due to bumping.

加熱手段は蒸発釜中の廃液の中に設置してもよいが、こ
の発明の効果をより高めると共に、加熱手段の表面に写
真処理廃液がこげ付くことによって起こる熱効率の低下
や腐食をさけるために、蒸発釜の外部に設けて蒸発釜の
壁を通じて蒸発釜中の廃液を加熱することが好ましい。
The heating means may be installed in the waste liquid in the evaporator, but in order to further enhance the effect of the present invention and to avoid a decrease in thermal efficiency and corrosion caused by the photographic processing waste liquid sticking to the surface of the heating means. , it is preferable to provide it outside the evaporator and heat the waste liquid in the evaporator through the wall of the evaporator.

この場合、加熱手段の熱密度とは、加熱手段の紛然容量
を加熱手段が蒸発釜の壁を介して廃液と接している面積
で除した値でありで、この値が略17. 2kcal/
C[[12以下であれば良い。
In this case, the thermal density of the heating means is the value obtained by dividing the apparent capacity of the heating means by the area where the heating means is in contact with the waste liquid through the wall of the evaporating pot, and this value is approximately 17. 2kcal/
C[[It is sufficient if it is 12 or less.

加熱下段が蒸発釜内の廃液中に設置される構造である場
合、加熱手段は写真処理廃液を濃縮ないし乾固させる過
程で、写真処理廃液がその表面にこげ付いた状態に固着
して熱効率が著しく低下したり、腐食が生じたりするこ
とを防ぐため、加熱手段の表面に、例えば、テフロン加
工(例えばフッ素樹脂のコーティング)のような固着防
止加工が施されていることが好ましい。
If the heating lower stage is installed in the waste liquid in the evaporator, the heating means will be used during the process of concentrating or drying the photographic processing waste liquid, causing the photographic processing waste liquid to stick to the surface and reduce thermal efficiency. In order to prevent significant deterioration or corrosion, it is preferable that the surface of the heating means is subjected to an anti-adhesion treatment such as Teflon treatment (for example, fluororesin coating).

フッ素樹脂のコーティング以外のテフロン加工手段とし
ては、例えば、バインダータイプ、メッキタイプ、オイ
ル混入タイプ、加熱処理タイプ、常温湿布タイプが挙げ
られる。
Examples of Teflon processing methods other than fluororesin coating include binder type, plating type, oil mixed type, heat treatment type, and room temperature compress type.

加熱手段の設置位置は、蒸発釜の廃液を加熱てきる位置
であれば、釜上部、中部及び下部のいずれの位置であっ
ても良いが、特願昭60−259001号及び特願昭6
1−288328号に記載されたように、蒸発釜中の写
真処理廃液の上方部を加熱するように加熱手段を設置し
、加熱手段近傍における写真処理廃液と写真処理廃液の
底部における温度に差が生じるようにすることが好まし
く、この温度差が5℃以上になるように加熱手段を設置
することが、この発明の効果をより高くするために好ま
しい。
The heating means may be installed at any position at the top, middle, or bottom of the evaporation pot as long as it can heat the waste liquid in the evaporation pot.
As described in No. 1-288328, a heating means is installed to heat the upper part of the photographic processing waste liquid in the evaporator, and a temperature difference between the photographic processing waste liquid near the heating means and the bottom part of the photographic processing waste liquid is created. Preferably, the heating means is installed so that this temperature difference is 5° C. or more, in order to further enhance the effects of the present invention.

この発明における蒸発釜は、いかなる形態であってもよ
く、立方体、円柱、四角柱をはじめとする多角柱、円錐
、四角錐をはじめとする多角錐やこれらのうちのいくつ
かを組み合わせたものであっても良いが、加熱手段近傍
と底部における写真処理廃液の温度差が大きくなるよう
に縦長であることが好ましく、ざらに突沸による餌記し
たような吹き出し事故を最大限少なくするために、蒸全
釜中の廃液表面から上の空間をできるたけ広くした方か
好ましい。
The evaporation pot in this invention may be in any form, including a cube, cylinder, polygonal prism including square prism, cone, polygonal pyramid including square pyramid, or a combination of some of these. However, it is preferable that the evaporator be vertically long so that the temperature difference between the photographic processing waste liquid near the heating means and the bottom is large. It is preferable to make the space above the surface of the waste liquid in all the pots as wide as possible.

また、蒸発釜の材質としては、耐熱性ガラス、チタン、
ステンレス、カーボンスチール、「複合材料技術集成J
  (1976年、産業技術センター刊、p213〜2
19)、「新材料1984J  (1984年、東しリ
サーチセンター刊、p287〜315)、[複合材料J
  (1984年、東大出版会刊)に記載されている前
桟繊維等の、耐熱性の材質であればいかなる素材であっ
てもよいが、安全性や耐腐食性の点からステンレス(好
ましくは5US304や5US316、特に好ましくは
5O5316)やチタンが好ましい。
In addition, the materials for the evaporation pot include heat-resistant glass, titanium,
Stainless Steel, Carbon Steel, Composite Materials Technology Collection J
(1976, published by Industrial Technology Center, p.213-2
19), “New Materials 1984J (1984, published by Toshi Research Center, p. 287-315), [Composite Materials J
(1984, published by the University of Tokyo Publishing) Any heat-resistant material may be used, such as the front crosspiece fiber described in and 5US316, particularly preferably 5O5316) and titanium.

蒸発釜はまた、前記した例えばテフロン加工のような固
着防止加工が施されていることが好ましい。
The evaporating pot is also preferably treated with anti-sticking treatment such as the Teflon treatment described above.

この発明の処理装置は、l釜内部の廃液中に気体を供給
する手段を有することが好ましいか、この発明に関わる
気体とは、空気、窒素ガス、炭酸ガス、酸素ガス、フロ
ンガス等気体であれぽいがなるものを用いても良いが、
経済的理由及び安全性の面から空気が好ましく用いられ
る。
It is preferable that the processing apparatus of this invention has a means for supplying gas to the waste liquid inside the pot. You can also use the one that makes the difference, but
Air is preferably used for economical and safety reasons.

上記気体を供給する手段としては、上記気体を封入した
ボンベに圧力弁や電磁弁を設置したものでありでも良い
し、上記気体が空気の場合、コンプレッサー、エアーポ
ンプ、ベローズ式エアーポンプが好ましく用いられる。
The means for supplying the gas may be a cylinder filled with the gas and equipped with a pressure valve or a solenoid valve, or if the gas is air, a compressor, an air pump, or a bellows air pump is preferably used. It will be done.

エアーポンプによって空気を廃液釜中に導入する場合、
空気は処理装置内部の空気であっても良いし、処理装置
外部の空気であっても良い。また例えば廃液を貯留する
廃液貯留槽内の空気であっても良い。最も好ましい実施
態様は、この発明の処理装置が、蒸発した蒸気を冷却凝
縮する手段を有している場合、空気が冷却凝縮する手段
によって凝縮された凝縮水を貯留する凝縮水貯留!(溜
液タンク)内の空気であることである。この場合、凝縮
水から発生する悪臭ガスや有毒ガス、冷却凝縮手段によ
って凝縮しなかった蒸気に含まれる悪臭ガスや有毒ガス
を再び蒸発釜に送ることができるので、悪臭ガスや有毒
ガスの蒸発濃縮処理装置からのリークを防ぐことができ
る。
When introducing air into the waste tank using an air pump,
The air may be the air inside the processing device or the air outside the processing device. Alternatively, the air may be, for example, the air inside a waste liquid storage tank that stores waste liquid. In the most preferred embodiment, when the processing apparatus of the present invention has a means for cooling and condensing the evaporated steam, a condensed water storage is provided in which condensed water condensed by the means for cooling and condensing air is stored! It is the air inside the (reservoir tank). In this case, the malodorous gases and toxic gases generated from the condensed water and the malodorous gases and toxic gases contained in the steam that was not condensed by the cooling and condensing means can be sent back to the evaporator, so the malodorous gases and toxic gases can be evaporated and concentrated. It is possible to prevent leaks from the processing equipment.

この発明の蒸発濃縮処理装置は蒸発釜中に、写真処理廃
液の表面張力を略20〜60 dyne/ cmにする
ことができる化合物を供給する手段を有することが好ま
しい。この化合物は、表面張力を略25〜60 dyn
e/ cmにすることができる化合物であることが特に
好ましい。この化合物は、例えばオルガノシロキサンや
高級アルコールの如きいわゆる消泡剤や界面活性剤であ
る。この化合物を蒸発釜中に供給する手段としては、チ
ューブポンプ、電磁定量ポンプ、プランジャ一定量ポン
プ、ベローズポンプ、ギヤーポンプ、マグネットポンプ
、定量マグネットポンプ、スクリューポンプ、ダイヤフ
ラムポンプ等の定量ポンプや非定量ポンプが用いられる
が、特に定量ポンプが好ましく用いられる。
The evaporation concentration processing apparatus of the present invention preferably has means for supplying a compound capable of adjusting the surface tension of the photographic processing waste liquid to approximately 20 to 60 dyne/cm into the evaporation pot. This compound has a surface tension of approximately 25-60 dyn
Particular preference is given to compounds that can be adjusted to e/cm. This compound is, for example, a so-called antifoaming agent or surfactant such as an organosiloxane or a higher alcohol. Means for supplying this compound into the evaporator include metering pumps and non-metering pumps such as tube pumps, electromagnetic metering pumps, plunger constant rate pumps, bellows pumps, gear pumps, magnet pumps, metering magnet pumps, screw pumps, and diaphragm pumps. is used, but a metering pump is particularly preferably used.

この発明の蒸発濃縮処理装置は、写真処理廃液の表面張
力を略20〜65dyne/cmにすることがてきる化
合物を供給する手段が、写真処理廃液を蒸発釜中に供給
する手段であることが好ましく、この場合、写真処理廃
液の表面張力を略20〜65 dyne/ cmにする
ことができる化合物は、写真処理廃液に予め含有させる
In the evaporation concentration processing apparatus of the present invention, the means for supplying a compound capable of adjusting the surface tension of the photographic processing waste liquid to approximately 20 to 65 dyne/cm is a means for supplying the photographic processing waste liquid into the evaporator. Preferably, in this case, a compound capable of making the surface tension of the photographic processing waste liquid approximately 20 to 65 dyne/cm is included in advance in the photographic processing waste liquid.

この発明の廃液濃縮処理装置は、蒸発した蒸気を冷却凝
縮する手段を有することが好ましい。冷却凝縮する手段
にはあらゆる種類の熱交換手段を採用でき、 (1)シェルアンドチューブ型(多管型、套管型) (2)二重背型 (3)コイル型 (4)らせん型 (5)プレート型 (6)フィンチューブ型 (7)トロンポーン型 (8)空冷型 のいずれの構成てあってもよい。
It is preferable that the waste liquid concentration treatment apparatus of the present invention has means for cooling and condensing the evaporated vapor. All kinds of heat exchange means can be used for cooling and condensing. (1) Shell and tube type (multi-tube type, jacket type) (2) Double back type (3) Coil type (4) Spiral type ( It may have any of the following configurations: 5) plate type, (6) fin tube type, (7) trombone type, and (8) air cooling type.

熱交換型リボイラー技術を用いることもてき、(1)垂
直サーモサイフオン型 (2)水平サーモサイフオン型 (3)溢流管束型(ケトル型) (4)強制循環型 (5)内挿型 等を採用してもよい。
Heat exchange reboiler technology can also be used: (1) Vertical thermosiphon type (2) Horizontal thermosiphon type (3) Overflow tube bundle type (kettle type) (4) Forced circulation type (5) Interpolation type etc. may be adopted.

さらに、コンデンサー形式の熱交換技術を採用してもよ
く、 (1)ダイレクトコンデンサー形式 (2)塔内成形式 (3)塔頂部設置式 (4)分離形式 等のいずれであフてもよい。
Furthermore, a condenser type heat exchange technology may be adopted, and any of (1) direct condenser type, (2) in-column type, (3) column top type, (4) separation type, etc. may be used.

また、クーラーを用いることも可能であり、クーラーの
形式も任意である。
Moreover, it is also possible to use a cooler, and the type of cooler is also arbitrary.

空冷式熱交換器の採用も有利であり、 (1)押込通風式 (2)吹込通風式 のいずれてあってもよい。Adopting an air-cooled heat exchanger is also advantageous, (1) Push-in ventilation type (2) Blowing ventilation type It may be any of the following.

好ましい実施態様は、この冷却凝縮する手段が蒸発した
蒸気を排出する蒸気排出管に放熱板(空冷用ファン)を
設置した放熱板装置として構成されており、この放熱板
上に水を供給する手段を有していることである。この場
合、水は、シャワードに放熱板装置の上から放熱板上に
供給されることが好ましい。水は、例えば、水道水の蛇
口から必要に応じてバルブや電磁弁を介して放熱板」二
に供給されてもよく、この場合水を供給する手段とは、
水道の蛇口、水の供給管等を示すが、好ましくはため水
て、前記したような種々の定量ポンプや非定量ポンプを
介して放熱板トに供給されることが好ましく、特に、好
ましくは放熱板装置の下部に設けられたため水タンクの
水が、ポンプを介して放熱板上にシャワー状に供給され
て再び下部のため水タンクにたまるという具合に、ため
水が循環するように構成されていることである。この場
合、ため水タンクには液面レベルセンサを設置し、液面
レベルか一定以下になりだ時、信号を発信すれば、ため
水がなくなったことを知ることができ、再び水を供給す
るのが良い。
In a preferred embodiment, the means for cooling and condensing is configured as a heat sink device in which a heat sink (air cooling fan) is installed in a steam exhaust pipe for discharging evaporated steam, and means for supplying water onto the heat sink. It is to have the following. In this case, water is preferably showered onto the heat sink from above the heat sink device. For example, water may be supplied to the heat sink from a tap water tap via a valve or a solenoid valve as necessary; in this case, the means for supplying water is
Water faucets, water supply pipes, etc. are shown, but water is preferably stored and supplied to the heat sink via the various metering pumps or non-metering pumps as described above, and particularly preferably a heat sink. The water in the water tank installed at the bottom of the plate device is supplied to the heat sink through the pump in a shower-like manner, and then collected in the water tank at the bottom, so that the water is circulated. It is that you are. In this case, by installing a liquid level sensor in the reservoir water tank and sending out a signal when the liquid level drops below a certain level, you will be able to know that the reservoir water has run out and supply water again. It's good.

冷却凝縮する手段か蒸発した蒸気を排出する蒸気排出管
に放熱板(空冷用ファン)を設置した放熱板装置として
構成されており、この放熱板上に水を供給する手段を有
している場合、同時に空冷用の扇風機を有していること
が好ましいが、特に、この場合、空冷用の扇風機は空気
が放熱板装置を通って、この発明の蒸発濃縮処理装置外
へ放出されるように設置されていることが、この発明の
蒸発濃縮処理装置内の電装部ての凝結を防ぐことができ
るため好ましい。
If it is configured as a heat sink device with a heat sink (air cooling fan) installed on a steam exhaust pipe that discharges evaporated steam or means for cooling and condensing, and has a means for supplying water onto the heat sink. At the same time, it is preferable to have an air-cooling fan, and in particular, in this case, the air-cooling fan is installed so that the air passes through the heat sink device and is discharged to the outside of the evaporation concentration processing device of the present invention. It is preferable to do so because it is possible to prevent condensation in the electrical components in the evaporation concentration processing apparatus of the present invention.

蒸発した蒸気を冷却濃縮することによって得られた凝縮
水は、凝縮水を貯留する糟(溜液タンク)中に貯留され
るが、この溜液タンクはこの発明の蒸発濃縮装置の内部
に設置することがスペースを小さくてき好ましく、この
場合、溜液タンクは引き出し可能な架台上に設置される
ことが作業性を良くするため好ましい。
The condensed water obtained by cooling and concentrating the evaporated steam is stored in a tank for storing the condensed water, and this concentrated liquid tank is installed inside the evaporation concentrator of the present invention. This is preferable because it saves space, and in this case, it is preferable that the accumulated liquid tank is installed on a drawable pedestal to improve workability.

この発明の蒸発濃縮処理装置は蒸発釜中にアルカリ剤を
供給する手段を有することが好ましい。
It is preferable that the evaporation concentration treatment apparatus of the present invention has means for supplying an alkaline agent into the evaporation pot.

この場合、蒸発釜中の廃液のpHか低下することによっ
ておこる廃液の硫化を防ぐことにより、悪臭ガスや有毒
ガスの発生を防止する。
In this case, the generation of foul-smelling gas and toxic gas is prevented by preventing sulfurization of the waste liquid, which occurs due to a decrease in the pH of the waste liquid in the evaporator.

アルカリ剤として、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム
、水酸化カルシウムのようなアルカリ金属又はアルカリ
土類金属の水酸化物、炭酸塩、ケイ酸塩、リン酸塩及び
よう酸塩等を挙げることができる。アルカリ剤は、アル
カリ剤を水に溶解したアルカリ剤水溶液のストックタン
クから前述したような各種の定量ないし非定量ポンプを
介して蒸発釜に供給してもよいが、好ましくは、アルカ
リ剤を予め廃液供給タンク中の廃液に添加し、廃液を供
給する供給手段を介して蒸発釜中に供給することが好ま
しい。この場合、アルカリ剤を供給する手段は廃液供給
手段を兼ねている。
Examples of alkaline agents include alkali metal or alkaline earth metal hydroxides such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, calcium hydroxide, carbonates, silicates, phosphates, and iorates. . The alkaline agent may be supplied to the evaporation pot from a stock tank of an aqueous alkaline solution prepared by dissolving the alkaline agent in water via various metering or non-metering pumps as described above, but preferably, the alkaline agent is supplied to the evaporator in advance. Preferably, it is added to the waste liquid in the supply tank and fed into the evaporator via a feed means that supplies the waste liquid. In this case, the means for supplying the alkaline agent also serves as the means for supplying waste liquid.

この発明の蒸発濃縮処理装置は蒸発した蒸気を冷却凝縮
する手段を有していることが、悪臭ガスや有害ガスの発
生を防1]二できるため好ましいか、これによって得ら
れた凝縮水な(1)凝縮水に対し下記(A)〜(J)か
ら遷ばれる少なくとも1つの2次処理を行なうこと、即
ち、(A)活+1炭処理、(B)紫外線照射処理、(C
)逆浸透処理、(D)酸化剤処理、(E)電解酸化処理
、(F)エアレーション処理、(G)電気透析処理、(
H)再蒸溜処理、(1)イオン交換樹脂処理、(J)p
H調整を行なうこと、(2)凝縮水を写真処理液の溶解
水として用いることである。
It is preferable that the evaporation concentration treatment apparatus of the present invention has a means for cooling and condensing the evaporated vapor because it can prevent the generation of foul-smelling gases and harmful gases. 1) Performing at least one secondary treatment on the condensed water from the following (A) to (J), namely (A) activated + 1 carbon treatment, (B) ultraviolet irradiation treatment, (C
) reverse osmosis treatment, (D) oxidizing agent treatment, (E) electrolytic oxidation treatment, (F) aeration treatment, (G) electrodialysis treatment, (
H) Re-distillation treatment, (1) Ion exchange resin treatment, (J) p
(2) use the condensed water as dissolving water for the photographic processing solution;

この発明の前記活性炭処理に用いる活性炭は、ベンジル
アルコール、アンモニウム化合物、イオウ化合物の少な
くとも1つの物質に吸着能力のあるいかなる活性炭でも
よい。
The activated carbon used in the activated carbon treatment of the present invention may be any activated carbon capable of adsorbing at least one of benzyl alcohol, ammonium compounds, and sulfur compounds.

この発明において、原料及び活性化の方法のいかんを問
わず、また粉末、粒状いずれの活性炭でも使用でき、好
ましくは粒状活性炭であり、特に好ましくは椰子殻活性
炭と分子櫛能を持つ活性炭である。ここで、分子櫛能を
持つ活性炭とはスリット状の細孔を持つものであり、そ
の細孔の大きさは6A以上、幅15八以上が望ましい。
In this invention, any raw material or activation method can be used, and either powder or granular activated carbon can be used, preferably granular activated carbon, particularly preferably coconut shell activated carbon and activated carbon with molecular combing ability. Here, the activated carbon having molecular combing ability has slit-like pores, and the pores preferably have a size of 6A or more and a width of 158 or more.

かかる分子櫛能な持つ活性炭については、特開昭58−
14831号公報の記載内容を参照することができる。
Activated carbon having such molecular combing ability is described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 1983-
The contents described in Publication No. 14831 can be referred to.

この発明の写真処理廃液の凝縮水な吸着処理する際に用
いる吸着性物質としては、前記活性炭の他、次のような
物質を用いることができる。
In addition to the above-mentioned activated carbon, the following substances can be used as adsorbent substances used in the adsorption treatment of condensed water of photographic processing waste liquid according to the present invention.

(1)粘土物質 (2)ポリアミド系高分子化合物 (3)ポリウレタン系高分子化合物 (4)フェノール樹脂 (5)エポキシ樹脂 (6)ヒドラジド基を有する高分子化合物(7)ポリテ
トラフルオロエチレンを有する高分子化合物 (8)1価又は多価アルコールメタクル酸モノエステル
−多価アルコールメタクリル酸 (9)ポリエステル共重合体 これら(1)〜(9)の物質の詳細については、特願昭
59−124839号(特に第62〜66頁)の記載内
容を参照てきる。
(1) Clay material (2) Polyamide polymer compound (3) Polyurethane polymer compound (4) Phenol resin (5) Epoxy resin (6) Polymer compound having hydrazide group (7) Containing polytetrafluoroethylene High molecular compound (8) Monohydric or polyhydric alcohol methacrylic acid monoester-polyhydric alcohol methacrylic acid (9) Polyester copolymer For details of these substances (1) to (9), please refer to the patent application filed in 1983- Reference may be made to the contents of No. 124839 (particularly pages 62 to 66).

この発明の写真処理廃液の凝縮水の紫外線照射処理で使
用される紫外線照射装置やハロゲンランプ等によって得
ることができるが特に限定されるものではない。この紫
外線ランプ等の出力は、出力5W〜1にWのものが知ら
れているが、これに限定されるものではない。また、こ
の発明において紫外線ランプから、190nm〜400
nmの範囲をはずれる波長の電磁波及び光が発生し、写
真処理液から得られた凝縮水に照射されてもよい。また
、赤外線等の併用を行なってもよい。
Although it can be obtained using an ultraviolet irradiation device or a halogen lamp used in the ultraviolet irradiation treatment of condensed water of photographic processing waste liquid of the present invention, it is not particularly limited. The output of this ultraviolet lamp, etc. is known to be 5 W to 1 W, but it is not limited to this. In addition, in this invention, from an ultraviolet lamp, 190 nm to 400 nm
Electromagnetic radiation and light with wavelengths outside the nanometer range may be generated and irradiated with condensed water obtained from photographic processing solutions. Further, infrared rays or the like may be used in combination.

この発明に用いられる紫外線ランプ等は、2重管とする
こともできる。
The ultraviolet lamp etc. used in this invention can also be made into a double tube.

この発明において、紫外線照射するとは、紫外線ランプ
等を用いて写真処理廃液から得られた凝縮水に紫外線照
射することを意味し、これらの紫外線照射はこの凝縮水
に対して連続的に行なわれてもよいし、必要に応じて間
欠的に行なわれてもよい。
In this invention, irradiating ultraviolet rays means irradiating condensed water obtained from photographic processing waste with ultraviolet rays using an ultraviolet lamp or the like, and these irradiating ultraviolet rays are continuously performed on this condensed water. Alternatively, it may be performed intermittently as necessary.

また、前記の逆浸透処理においては、各種の逆浸透膜、
逆浸透膜を用いた脱塩・濃縮方法及び装置が制限なく利
用できる。逆浸透膜としては、酢酸セルロース、芳香族
ポリアミド、ポリビニルアルコール、ポリサルフォンが
好ましく、特に酢酸セルロースが好ましく用いられる。
In addition, in the above-mentioned reverse osmosis treatment, various reverse osmosis membranes,
Desalination/concentration methods and equipment using reverse osmosis membranes can be used without restriction. As the reverse osmosis membrane, cellulose acetate, aromatic polyamide, polyvinyl alcohol, and polysulfone are preferable, and cellulose acetate is particularly preferably used.

逆浸透装置は、40 Kg/ cm2〜55 kg/ 
cm2の圧力で運転されることが、分離性能、処理能力
の点から好ましい。
Reverse osmosis equipment has a capacity of 40 Kg/cm2 to 55 kg/
It is preferable to operate at a pressure of cm2 from the viewpoint of separation performance and throughput.

この発明に用いる酸化剤処理に使用する酸化剤は、金属
、非金属の酸化物、酸化物酸素酸及びその塩、過酸化物
、有機の酸素を含む化合物等がこれに属する。酸化物と
して過酸化窒素NOx 、無水クロム酸CrO3、二酸
化セレン5ea2、二酸化マンガンMnO,,、二酸化
鉛PbO2、四酸化オスミウム0804、酸化銀へg2
0、酸化銅CuO、酸化水銀11go等が挙げられる。
The oxidizing agents used in the oxidizing agent treatment used in this invention include metals, nonmetal oxides, oxide oxygen acids and their salts, peroxides, organic oxygen-containing compounds, and the like. Oxides include nitrogen peroxide NOx, chromic anhydride CrO3, selenium dioxide 5ea2, manganese dioxide MnO,..., lead dioxide PbO2, osmium tetroxide 0804, silver oxide g2
0, copper oxide CuO, mercury oxide 11go, and the like.

酸素酸としては熱濃硫酸H2SO4,亜硝酸HNO2、
硝酸HNO3等が挙げられる。塩としては、次亜塩素酸
ナトリウムNavel 、さらし粉Ca0CI2、重ク
ロム酸カリウム1(2CrO,、クロム酸カリウムに2
Cr204、過マンガン酸カリウムKMnO4,塩素酸
カリウムKCLO3,過塩素酸カリウムKClO4等が
挙げられる。過酸化物としては過酸化水素I+ 202
、過酸化ナトリウムNa2O2、過酸化ベンゾイル(C
6115COO) 2等が代表的なものである。2種以
上の原子価をとり得る物質、例えば、3価の鉄イオンF
C″+、2価の銅イオンCI」2+、四酢酸鉛Pb(C
Il+GO□)4等も挙げられる。その他フェントン試
薬(Fe+++H2O2)、脱水素触媒(PL 、 S
e、  Zn)等も酸化剤として用いることかできる。
Oxygen acids include hot concentrated sulfuric acid H2SO4, nitrous acid HNO2,
Examples include nitric acid HNO3. Salts include sodium hypochlorite Navel, bleaching powder Ca0CI2, potassium dichromate 1 (2CrO), potassium chromate and 2
Examples include Cr204, potassium permanganate KMnO4, potassium chlorate KCLO3, potassium perchlorate KClO4, and the like. As a peroxide, hydrogen peroxide I+ 202
, sodium peroxide Na2O2, benzoyl peroxide (C
6115COO) 2nd grade is typical. Substances that can have two or more valences, such as trivalent iron ion F
C''+, divalent copper ion CI''2+, lead tetraacetate Pb (C
Il+GO□)4 etc. can also be mentioned. Other Fenton reagent (Fe+++H2O2), dehydrogenation catalyst (PL, S
Zn), etc. can also be used as oxidizing agents.

この発明に用いる電解酸化処理とは、電解によって陽極
で物質を酸化する方法であり、陽イオンの陽電荷の増加
、陰イオンの陰電荷の減小、陰イオンの重合、原子団中
の酸素原子の増加及び水素原子の減少にいずれの方式の
ものでもよく、かかる電解酸化が酸化剤による酸化に比
べてすぐれている点は、非常に強い酸化が行ないつると
いうこと、副生成物が少ないということである。
The electrolytic oxidation treatment used in this invention is a method of oxidizing a substance at an anode by electrolysis, which increases the positive charge of cations, decreases the negative charge of anions, polymerizes anions, and oxygen atoms in atomic groups. Any method can be used to increase hydrogen atoms and reduce hydrogen atoms.The advantages of electrolytic oxidation compared to oxidation using an oxidizing agent are that it performs very strong oxidation and produces fewer by-products. It is.

この発明に用いるエアレーション処理とは、写真処理廃
液の凝縮水中にエアーを送風することによって酸化促進
することてあり、ディストリビュータ等を用いてエアー
泡をより細がくすることが好ましく、これによってバブ
リング効果の向上を図り、有機溶媒等の除去効率を高め
ることができる。
The aeration process used in this invention is to promote oxidation by blowing air into the condensed water of photographic processing waste, and it is preferable to use a distributor or the like to make the air bubbles thinner, thereby reducing the bubbling effect. It is possible to improve the removal efficiency of organic solvents and the like.

この発明に用いる電気透析処理とは、電気透析槽の陰極
と陽極の間か隔膜で仕切られ、仕切られ3ま た部屋に写真処理廃液の凝縮水を入れ電極に直流を通じ
ることである。
The electrodialysis treatment used in this invention involves placing condensed water of photographic processing waste in a partitioned room with a diaphragm between the cathode and anode of an electrodialysis tank and passing a direct current to the electrodes.

好ましくは隔膜かイオン交換膜であることであり、更に
好ましくは陰極と陽極の間が陰イオン交換膜と陽イオン
交換膜とにより仕切られて、陰極室、複数の濃縮室(陰
極側が陰イオン交換膜、陽極側が陽イオン交換膜で仕切
られた室)、複数の脱塩室(陰極側が陽イオン交換膜、
陽極側が陰イオン交換膜で仕切られた部屋)及び陽極室
とからなることである。写真処理廃液の凝縮水は好まし
くは脱塩室へ入れるが濃縮室へ入れることも好ましいこ
とである。濃縮室、陰極室に入れる電解室溶液は別に限
定されるものではなく、例えば亜硫酸ナトリウム、硫酸
ナトリウム、塩化ナトリウム、硫酸カリウム、チオ硫酸
ナトリウム等の0゜1〜0.2Nの溶液を好ましく用い
ることができる。このとき、定着能を有する処理液(漂
白定着又は定着液)又はその廃液を濃縮室、陽極室に入
れる電解質溶液として用いること、電解室を必要とせず
、非常に好ましい。
Preferably, it is a diaphragm or an ion exchange membrane, and more preferably, the cathode and anode are partitioned by an anion exchange membrane and a cation exchange membrane, and a cathode chamber and a plurality of concentration chambers (the cathode side is an anion exchange membrane) are used. membrane, a chamber partitioned by a cation exchange membrane on the anode side), multiple desalination chambers (a chamber partitioned with a cation exchange membrane on the cathode side,
The anode side consists of a room separated by an anion exchange membrane) and an anode room. The condensed water of the photographic processing waste is preferably introduced into the desalination chamber, but it is also preferred that it is introduced into the concentration chamber. The electrolytic chamber solution to be placed in the concentration chamber and the cathode chamber is not particularly limited, and for example, 0°1 to 0.2N solutions such as sodium sulfite, sodium sulfate, sodium chloride, potassium sulfate, and sodium thiosulfate are preferably used. Can be done. At this time, it is very preferable to use a processing solution (bleach-fix or fixer) having a fixing ability or its waste solution as an electrolyte solution to be introduced into the concentration chamber and the anode chamber, since no electrolytic chamber is required.

この発明に用いる際蒸留処理とは、写真処理廃液から得
られる濃縮液に対して蒸留処理することをいい、いわゆ
る精留操作の1つである。回分蒸留(単蒸留、回分精留
を含む)でも連続蒸留でもよく、連続精留に対する連続
平衡蒸留法も採用できる。再蒸留処理によって純水(人
以外の留分の著しく少ないもの)を得ることは写真処理
液に有効に水分を供給できる。また、共沸蒸留及び抽出
蒸留において適当な分離剤を用いることが有利である。
The term "distillation treatment" used in the present invention refers to distillation treatment of a concentrated liquid obtained from photographic processing waste liquid, and is one of the so-called rectification operations. Batch distillation (including simple distillation and batch rectification) or continuous distillation may be used, and a continuous equilibrium distillation method for continuous rectification can also be adopted. Obtaining pure water (with significantly less non-human fractions) by redistillation can effectively supply water to photographic processing solutions. It is also advantageous to use suitable separation agents in azeotropic and extractive distillations.

この発明においては、いわゆる水蒸気蒸留によっても2
次処理効果が得られる。なお、操作圧においても高圧蒸
留、常圧蒸留、真空蒸留及び分子蒸留及び分子−蒸留の
いずれであってもよい。
In this invention, 2
Post-processing effects can be obtained. Note that the operating pressure may be any of high pressure distillation, normal pressure distillation, vacuum distillation, molecular distillation, and molecular-distillation.

この発明に用いるイオン交換樹脂処理とは、各種のイオ
ン交換樹脂と写真処理廃液とを接触させることによって
行なうことができ、イオン交換樹脂としては三次元に重
縮合した高分子基体に官能基を結合したもので、陽イオ
ン交換樹脂と陰イオン交換樹脂、キレート樹脂、吸着樹
脂等がある。
The ion exchange resin treatment used in this invention can be carried out by bringing various ion exchange resins into contact with photographic processing waste liquid, and the ion exchange resin is a three-dimensionally polycondensed polymer base with functional groups bonded to it. These include cation exchange resins, anion exchange resins, chelate resins, adsorption resins, etc.

この発明に好ましく用いられるイオン交換樹脂の化学構
造例や用法については、特願昭59−124639号(
特に第54〜57頁)の記載内容を参照できる。
For examples of the chemical structure and usage of the ion exchange resin preferably used in this invention, please refer to Japanese Patent Application No. 124639/1983 (
In particular, the contents of pages 54 to 57 can be referred to.

この発明に用いるpH調整処理とは、最も一般的にはp
H調整剤を添加して、凝縮水のpHを中性付近に調整す
ることであり、凝縮水のpHによって酸ないしはアルカ
リを添加する。通常アンモニアを含有するため、凝縮水
はアルカリ性を示し、酸、例えば硫酸、塩酸、リン酸、
ホウ酸、スルファミノ酸等の無機酸や酢酸、シュウ酸、
クエン酸、マロン酸、酒石酸等のカルボン酸、エチレン
ジアミン四酢酸、ニトリロ三酢酸等のアミノポリカルボ
ン酸の他、硫酸水素ナトリウム、硫酸アンモニウム等の
酸性の塩が用いられる。
The pH adjustment treatment used in this invention is most commonly p
The pH of the condensed water is adjusted to around neutrality by adding an H regulator, and an acid or alkali is added depending on the pH of the condensed water. Because it usually contains ammonia, condensed water is alkaline and contains acids such as sulfuric acid, hydrochloric acid, phosphoric acid,
Inorganic acids such as boric acid, sulfamino acid, acetic acid, oxalic acid,
In addition to carboxylic acids such as citric acid, malonic acid, and tartaric acid, and aminopolycarboxylic acids such as ethylenediaminetetraacetic acid and nitrilotriacetic acid, acidic salts such as sodium hydrogen sulfate and ammonium sulfate are used.

この発明では更に冷却凝縮手段によって、凝縮しなかっ
た一部の蒸気は、外気と連通したガス処理カラムを通し
て外部に排出されることが望ましい。これは蒸発処理時
に写真処理廃液のわずかな分解により、有毒カスが蒸気
化し、外部へもれ出したり、あるいは蒸発釜か加圧状態
となり、イレ1゜ガスがもれ易くなってしまうことを防
止できる。
In the present invention, it is further preferable that a portion of the vapor that is not condensed by the cooling condensing means is discharged to the outside through a gas treatment column that communicates with the outside air. This prevents poisonous residue from vaporizing and leaking to the outside due to slight decomposition of photographic processing waste during evaporation processing, or from pressurizing the evaporator and causing gas to leak easily. can.

更に、この処理装置を停止した際には蒸発釜内部の加熱
によって膨張している蒸気ないしガスが収縮するため減
圧状態となってしまい、完全密閉な状態では蒸発釜が負
荷のために破損することもあり得る。これらを防止する
ことが、このカス処理カラムにより、外部から外気を導
入されることによって可能ならしめられる。ガス処理カ
ラム内には、例えば活性炭、ゼオライト等の吸着剤又は
脱臭剤を用いてもよい。これら吸着剤又は脱臭剤は気体
の流通性が必要とされるため、粒状のものが好ましく、
粒子径が0.3mm〜15mmの範囲のものが挙げられ
、0.8mm〜6mmの範囲の粒子径を有する吸着剤又
は脱臭剤が特に好ましい。
Furthermore, when this processing equipment is stopped, the steam or gas expanded by heating inside the evaporator will contract, resulting in a reduced pressure state, and if the evaporator is completely sealed, the evaporator may be damaged due to the load. It is also possible. These can be prevented by introducing outside air from the outside through this scum treatment column. Adsorbents or deodorizers, such as activated carbon or zeolites, may be used in the gas treatment column. Since these adsorbents or deodorizers require gas flowability, they are preferably granular.
Those having a particle size in the range of 0.3 mm to 15 mm are mentioned, and adsorbents or deodorizers having a particle size in the range of 0.8 mm to 6 mm are particularly preferable.

これらの脱臭剤又は吸着剤は例えば布や紙等に予め詰め
られて成型されたものを、ガス処理カラム中に設置する
ようにすれば、交換の際の手間が少なく好ましい。
It is preferable that these deodorizing agents or adsorbents be pre-packed and molded into cloth or paper, for example, and placed in the gas treatment column, as this will save time and effort during replacement.

この発明では、蒸発濃縮後の濃縮液を、蒸発釜中から排
出するか、例えば耐熱性、耐薬品性の袋を蒸発釜に設け
、処理後に袋と −緒に濃縮液を取り出してもよいし、
例えばこの発明の蒸発濃縮処理装置か特願昭60−25
9001 号及び特願昭6]−288328号に記載さ
れた蒸発濃縮処理装置である場合、回転スクリューポン
プを利用する装置や、蒸発釜底部からナルブを介して濃
縮液を例えば耐熱性、耐 薬品性の袋に取り出すことが
てきる。耐熱性、耐薬品性の袋としては、例えば炭素繊
維、アラミド1a維、テフロン樹脂ia紺、麻、ガラス
繊維、ポリエヂレンフォーム、ポリプロピレンフオーム
等か好ましい。
In this invention, the concentrated liquid after evaporation and concentration may be discharged from the evaporating pot, or, for example, a heat-resistant and chemical-resistant bag may be provided in the evaporating pot, and the concentrated liquid may be taken out together with the bag after processing. ,
For example, the evaporation concentration processing apparatus of this invention, patent application 1986-25
In the case of the evaporation concentration treatment apparatus described in No. 9001 and Japanese Patent Application No. 1983-288328, the apparatus uses a rotary screw pump, or the concentrated liquid is passed from the bottom of the evaporation pot through a Narubu to a heat-resistant, chemical-resistant, etc. You can take it out into a bag. As the heat-resistant and chemical-resistant bag, for example, carbon fiber, aramid 1a fiber, Teflon resin IA navy blue, hemp, glass fiber, polyethylene foam, polypropylene foam, etc. are preferable.

この発明では、写真処理廃液の濃縮液を担体に吸収させ
て固形化処理した後回収することが好ましい。
In the present invention, it is preferable that the concentrated solution of photographic processing waste is absorbed into a carrier and solidified before being recovered.

′この担体として吸液性樹脂や固化剤が考えられる。こ
の発明に用いられる担体は、写真処理廃液の濃縮液を吸
収できるものて、この吸液済に吸液性担体を持って波型
れしないものが好ましく、いわゆる吸液性樹脂が好まし
く用いられる。
'A liquid-absorbing resin or a solidifying agent can be considered as this carrier. The carrier used in the present invention is preferably one that can absorb the concentrated liquid of photographic processing waste, and that does not corrugate when the liquid is absorbed by the liquid-absorbing carrier, and so-called liquid-absorbing resins are preferably used.

この吸液性樹脂としては、例えば以下に挙げるものをイ
吏用することかできる。
As this liquid-absorbing resin, for example, the following can be used.

種f′多糖類、海藻多糖類、樹脂多糖類、果実多糖類、
根茎多糖類。
Seed f′ polysaccharide, seaweed polysaccharide, resin polysaccharide, fruit polysaccharide,
Rhizome polysaccharides.

更に、またサンサンガム、サンフロー、ガードラン、サ
クシノグルカン、シソフィンラン、プルラン、サクシノ
グルカン、シソフィラン、プルラン、ゼラチン、カゼイ
ン、アルブミン、シェラツク等。
Furthermore, sunsan gum, sunflow, gardlan, succinoglucan, sysophyllan, pullulan, succinoglucan, sysophyllan, pullulan, gelatin, casein, albumin, shellac, etc.

澱粉誘導体、グアーガム、ローカストビーンガムの誘導
体、セルロース有導体、アルギン酸誘導体、ビニル系化
合物、アクリル系化合物。
Starch derivatives, guar gum, locust bean gum derivatives, cellulose conductors, alginic acid derivatives, vinyl compounds, acrylic compounds.

その他、ポリエチレンオキサイド等。Others, such as polyethylene oxide.

次に、この発明に用いられている高吸収液性樹脂の好ま
しい例を挙げる。
Next, preferred examples of the superabsorbent liquid resin used in the present invention will be listed.

(A)グラフト化澱粉系 (A−1)澱粉−アクリロニトリルグラフト重合体 (A−2)#紛−アクリル酸グラフト重合体上記(A−
1)は特開昭49−43395号及び米国特許第4,1
34,863号に記載の方法によって製造することがで
き、上記(A−2)は特公昭53−41i199号に記
載の方法によって製造することがてきる。
(A) Grafted starch system (A-1) Starch-acrylonitrile graft polymer (A-2) #Powder-acrylic acid graft polymer Above (A-
1) is disclosed in Japanese Patent Application Laid-open No. 49-43395 and U.S. Patent No. 4,1
34,863, and the above (A-2) can be produced by the method described in Japanese Patent Publication No. 53-41i199.

(B)アクリル酸系 (B−1)ポリアクリル酸ソーダ系 (B−2)ビニルアルコール−アクリル酸共重合体 上記(B=2)は自然乾燥及び又は強制乾燥で繰り返し
使用することもできる。
(B) Acrylic acid type (B-1) Sodium polyacrylate type (B-2) Vinyl alcohol-acrylic acid copolymer The above (B=2) can be used repeatedly by natural drying and/or forced drying.

(C)下記(I)又は(II)で示される構造式を持っ
た繰り返し単位を有する重合体、更に好ましくは(I)
及び/又は(TI)を10〜70重量%を有し、他のエ
チレン系飽和単量体と共重合してなる重合体。
(C) A polymer having a repeating unit having the structural formula shown below (I) or (II), more preferably (I)
and/or a polymer containing 10 to 70% by weight of (TI) and copolymerized with other ethylene-based saturated monomers.

(I)   R (II ) R ■ 一+CI+、、 −G + 一0ZR・−5!3 上記式において、Rは水素原子、メチル基又はハロゲン
原子であり、Zはオキシ基又はイミノ基てあり、nは0
又は1てあり、R1は、1〜6個の炭素原fを有するア
ルキレン基(置換アルキレン基を含む)、5〜6個の炭
素原rを有するシクロアルキレン基又はアリーレン基、
アリーレンアルキレン基もしくはアリーレンビスアルキ
レン基であり、ここで、前記アルキレン部分は1〜6個
の炭素原子を有しかつ前記アリーレン部分(置換されて
いてもよい)は6〜10個の炭素原子を有し、そして例
えば ONR5 →1lcR’、  −叶、  −(、=N、  −C=
0゜又は  −c−o−シ (式中Rは1〜4個の炭素原子を有するアルキル基であ
る)のような親水性極性基で置換されたアリーレンを含
み、R2、R3及びR4は各々水素原子もしくは1〜6
個の炭素原子を有するアルキル基であり、又はNと一緒
になって、任意に硫黄又は酸素原子を含有することもで
きる複素環基を形成し、Mは水素原子、可溶性カチオン
又は6個以下の炭素原子をもったアルキル基を有する第
4アンモニウムカチオンを包含するアンモニウム基であ
り、モしてXは、酸アニオンである。
(I) R (II) R ■ 1+CI+,, -G + 10ZR・-5!3 In the above formula, R is a hydrogen atom, a methyl group or a halogen atom, and Z is an oxy group or an imino group, n is 0
or 1, and R1 is an alkylene group (including substituted alkylene groups) having 1 to 6 carbon atoms f, a cycloalkylene group or arylene group having 5 to 6 carbon atoms r,
an arylene alkylene group or an arylene bisalkylene group, where the alkylene moiety has 1 to 6 carbon atoms and the arylene moiety (optionally substituted) has 6 to 10 carbon atoms. and, for example, ONR5 →1lcR', -Yo, -(,=N, -C=
arylene substituted with a hydrophilic polar group such as 0° or -c-o-, where R is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and R2, R3 and R4 are each hydrogen atom or 1-6
is an alkyl group having up to 6 carbon atoms, or together with N forms a heterocyclic group which may optionally contain sulfur or oxygen atoms, M is a hydrogen atom, a soluble cation or up to 6 carbon atoms; It is an ammonium group including a quaternary ammonium cation having an alkyl group having a carbon atom, and X is an acid anion.

Rのハロゲン置換基は臭素又は塩素であることができ、
R1の1〜6個の炭素原子を有するアルキレン基はヒド
ロキシル基で置換されていてのよいく、R1のアリーレ
ンアルキレン基はフェニレンメチレン基、フェニレンエ
チレン基、フェニレンボロピレン基及びフェニレンブチ
レン基を含有し、モしてR1のアリーレンビスアルキル
基はフェニレンジメチレン基を含有する。
The halogen substituent of R can be bromine or chlorine;
The alkylene group having 1 to 6 carbon atoms in R1 may be substituted with a hydroxyl group, and the arylene alkylene group in R1 includes a phenylenemethylene group, a phenyleneethylene group, a phenyleneboropyrene group, and a phenylenebutylene group. , and the arylenebisalkyl group of R1 contains a phenylene dimethylene group.

Mの可溶性カチオンにはナトリウム及びカリウムがある
Soluble cations of M include sodium and potassium.

R2、R3及びR4、そしてこれらが結合した O N原子から形成される複素環基にはピリジニウム、イミ
ダゾリウム、オキサシリウム、チアゾリウム及びモルホ
リウムがある。
Heterocyclic groups formed from R2, R3 and R4 and the O N atoms to which they are attached include pyridinium, imidazolium, oxacillium, thiazolium and morpholium.

Xの酸アニオンには、塩化物、臭化物、酢酸塩、p−ト
ルエンスルホン酸塩、メタンスルホン酸塩、エタンスル
ホン酸塩、メチル硫酸塩、エチル硫酸塩及び過塩素酸塩
がある。
Acid anions of X include chloride, bromide, acetate, p-toluenesulfonate, methanesulfonate, ethanesulfonate, methylsulfate, ethylsulfate, and perchlorate.

前記一般式(I)の単量体及び/又は前記一般式(II
 )の単量体と共重合させるエチレン系不飽和単重体は
、好ましくは架橋結合可能な基を有する1種類もしくは
それ以上の単量体、例えば2−ヒドロキシエチルメタク
リレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート及び活性
メチレン基含有単量体からなる。このタイプの重合され
た共重合性エチレン系不飽和単量体は、例えば、米国特
許第3,459,790号、同第3,488.7011
1号、同第3,554,987号、同第3,658,8
78号、同第3,929,482号及び同第3,939
,130号に記載されている。
The monomer of the general formula (I) and/or the monomer of the general formula (II)
) The ethylenically unsaturated monomer to be copolymerized with the monomer of Consists of methylene group-containing monomers. Polymerized copolymerizable ethylenically unsaturated monomers of this type are described, for example, in U.S. Pat.
No. 1, No. 3,554,987, No. 3,658,8
No. 78, No. 3,929,482 and No. 3,939
, No. 130.

上記において使用するのに好ましい重合体は、10〜7
0重量%の、以下に列挙する1種類もしくはそれ以」二
の単量体から誘導されるか又はこれらの縁り返し単位を
有する: 2−アミノエチルメタクリレートヒトロクロリト、 N−(2−メタクリロイルオキシエチル)−N、N、N
−1リメチルアンモニウムクロリド、 N−(2−メタクリロイルオキシエチル)−N、N、N
−トリメチルアンモニウムメトサルフェート、ナトリウ
ム2−メタクリロイルオキシエチル−1スルホネート、 及び 2− (N、N−ジメチルアミノ)エチルメタクリレー
トヒドロクロリド。
Preferred polymers for use in the above are 10 to 7
Derived from or containing 0% by weight of one or more monomers listed below: 2-aminoethyl methacrylate hydrochloride, N-(2-methacryloyl (oxyethyl)-N, N, N
-1-trimethylammonium chloride, N-(2-methacryloyloxyethyl)-N, N, N
-trimethylammonium methosulfate, sodium 2-methacryloyloxyethyl-1 sulfonate, and 2-(N,N-dimethylamino)ethyl methacrylate hydrochloride.

前記構造式(1)に一致する酸イ」加塩は、それを塩基
て中和した場合、遊離アミンに転化することかできる。
An acid salt corresponding to the above structural formula (1) can be converted to the free amine when it is neutralized with a base.

上記重合体は、常法に従って、適当な単量体を水溶液中
で重合反応させることによフて調製することがてきる。
The above polymer can be prepared by polymerizing appropriate monomers in an aqueous solution according to a conventional method.

前記構造式(I)の単量体は、アール、エッチ、ヨーカ
ム(、R、It 、 Yocum )及びイー。
The monomers of the structural formula (I) include R, It, Yocum and E.

ビー、ニクイスト(IE 、 B 、 Nyqist)
編、“°ファンクシaナル モノマーズ(Functi
onalMonomers) 、マイセル デツカ−(
MarcelDekker) 、 Inc 、、  N
ew York (+974)及び米国特許第2.78
0.604号に記載の手法によって調製することができ
る。前記構造式(II )の単量体は、米国特許第3,
024,22]号及び同第3,506,707号に記載
の手法によって調製することができる。
B, Nyqist (IE, B, Nyqist)
ed., “°Functial Monomers (Functi
onalMonomers), Meisel Detsuka (
Marcel Dekker), Inc., N
ew York (+974) and U.S. Patent No. 2.78
It can be prepared by the method described in No. 0.604. The monomer of structural formula (II) is disclosed in U.S. Pat.
No. 024,22] and No. 3,506,707.

場合によって、この重合体は、(a)アミン基を有する
重合体をアルキル化剤で4級化するか、さもなければ、
(b)アミンをそのアミンとの反応性をもった基、例え
ば活性ハロゲン基を有する重合体と反応させることによ
って調製することができる。このような技法はこの技術
分野において公知であり、そして米国特許第3,488
,706号及び同第3,709,890号及びカナダ特
許第801.958号に記載されている。
Optionally, the polymer is prepared by (a) quaternizing the polymer having amine groups with an alkylating agent or otherwise;
(b) Can be prepared by reacting an amine with a polymer having a group reactive with the amine, such as an active halogen group. Such techniques are known in the art and are described in U.S. Pat. No. 3,488.
, 706 and 3,709,890 and Canadian Patent No. 801.958.

以上に挙げた樹脂は市販品として人手できる。The resins listed above can be manufactured manually as commercially available products.

この市販品としては、例えばスミカゲルN−100,ス
ミカゲル5P−520,スミカゲル5−50、スミカゲ
ルNP−1020、スミカゲルF−03、スミカゲルF
−51、スミカゲルF−75、スミカゲルR−30(以
上トレードネーム、住友化学工業社製)、サンウェット
1M−300,サンウエツトIM−1000(以上トレ
ードネーム、三洋化成社製)、アクアキープ10S+1
− r’  (トレードネーム、製鉄化学社製)、ラン
シールF(1−レードネーム、日本エクスラン社製)等
が挙げられる。
Examples of commercially available products include Sumikagel N-100, Sumikagel 5P-520, Sumikagel 5-50, Sumikagel NP-1020, Sumikagel F-03, and Sumikagel F.
-51, Sumikagel F-75, Sumikagel R-30 (trade name, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.), Sunwet 1M-300, Sunwet IM-1000 (trade name, manufactured by Sanyo Chemical Co., Ltd.), Aqua Keep 10S+1
-r' (trade name, manufactured by Tetsutsu Kagaku Co., Ltd.), Lanseal F (1-Rade Name, manufactured by Nippon Exlan Co., Ltd.), and the like.

この発明の好ましく用いる吸液性樹脂は、その形状か液
を吸収し易いものが好ましく、粉末状ないし直径0.旧
〜3mm程度の粒状のものが取扱いのうえで有利に用い
ることができる。
The liquid-absorbing resin preferably used in the present invention preferably has a shape that easily absorbs liquid, and is powdery or has a diameter of 0.5 mm. A granular material with a diameter of about 3 mm can be advantageously used for handling.

また、この発明に用いる担体として用いられる固化剤は
、写真処理廃液の濃縮液を固化できるものであればよく
、その際化学反応を伴なってもよいし、伴なわなくても
よい。この発明の固化剤としては、例えばCaO、Ca
(OH)2、C11CO3、シリカゲル、塩化カルシウ
ム、酸化アルミニウム、硫酸カルシウム、酸化マグネシ
ウム、酸化バリウム、粒状ソーダ石灰、五酸化ニリン等
が好ましく用いられる。
Further, the solidifying agent used as a carrier in the present invention may be any agent as long as it can solidify a concentrated solution of photographic processing waste, and it may or may not involve a chemical reaction. As the solidifying agent of this invention, for example, CaO, Ca
(OH)2, C11CO3, silica gel, calcium chloride, aluminum oxide, calcium sulfate, magnesium oxide, barium oxide, granular soda lime, niline pentoxide, and the like are preferably used.

この発明の蒸発濃縮処理装置は例えば蒸発した蒸気を排
出する蒸気排出室が詰まることによって蒸発釜が加圧さ
れ、爆発を起こすような事故を防ぐため、ラブチャーデ
ィスクを有していることが好ましい。ラブチャーディス
クは例えば蒸発釜と廃液供給タンクを連通させ、この連
通管を途中をポリエチレン等の加圧によって破壊される
ことができるシートによって遮断するように構成される
。この発明の蒸発濃縮処理装置は、蒸発釜中に温度セン
サを有していることが好ましい。温度センサがある 定
態上の温度、例えば120℃以上の温度を検出すると、
加熱手段がOFFとなるように構成することにより、空
だきを防止することができる。
It is preferable that the evaporation concentration processing apparatus of the present invention has a lubrication disk in order to prevent an accident in which, for example, the vapor discharge chamber for discharging evaporated vapor becomes clogged and the evaporation pot is pressurized and causes an explosion. . The loveture disk is configured, for example, to communicate the evaporation pot and the waste liquid supply tank, and to interrupt this communication pipe in the middle with a sheet such as polyethylene that can be destroyed by pressurization. It is preferable that the evaporation concentration processing apparatus of the present invention has a temperature sensor in the evaporation pot. There is a temperature sensor.When a steady temperature is detected, for example 120℃ or higher,
By configuring the heating means to be turned off, dry cooking can be prevented.

この発明の蒸発濃縮処理装置は、装置に設けられたドア
か、蒸発釜内部の温度や処理装置内の温度がある一定以
下(例えば50℃以下)とならないと開放できないよう
に構成されていたり、開放しようとする警告信号を発す
るように構成されることが好ましい。
The evaporation concentration processing device of the present invention is configured such that it cannot be opened unless the door provided in the device, the temperature inside the evaporation pot, or the temperature inside the processing device falls below a certain level (for example, 50° C. or below), Preferably, it is arranged to issue a warning signal of an attempt to open.

この発明の蒸発濃縮処理装置で廃液を処理する場合、種
々の感光材料を処理する処理ライン毎に別々に、例えば
カラー処理廃液とカラーベーパー処理廃液を別々に処理
してもよいし、混合したものを処理してもよい。また、
同じ処理ラインであっても各種の廃液を個別に処理して
もよいし、複数ないし全部の廃液を混合したものを処理
してもよい。
When waste liquid is processed by the evaporation concentration processing apparatus of the present invention, the waste liquid may be processed separately for each processing line that processes various photosensitive materials, for example, the color processing waste liquid and the color vapor processing waste liquid may be processed separately, or they may be mixed. may be processed. Also,
Even in the same treatment line, various waste liquids may be processed individually, or a mixture of a plurality of waste liquids or all waste liquids may be processed.

この発明の廃液濃縮処理装置において、蒸発釜中を減圧
する手段を有することは、蒸発釜中の温度を低下させる
ことができるため、悪臭ガスや有毒ガスの発生が少なく
好ましい。
In the waste liquid concentration treatment apparatus of the present invention, it is preferable to have a means for reducing the pressure in the evaporator because the temperature in the evaporator can be lowered and less malodorous gas or toxic gas is generated.

また、同じ処理ラインであフても、各種の廃液を個別に
処理してもよいし複数ないし全部の廃液を混合したもの
を処理してもよい。
Further, even if the same treatment line is used, various waste liquids may be treated individually, or a mixture of plural or all waste liquids may be treated.

次に、この発明による処理を行うことができる写真処理
廃液の代表例について詳述する。但し、以下には処理さ
れる写真材料がカラー用である場合の写真処理液につい
て主に述べるか、写真処理廃液はこれら写真処理液を用
いてハロゲン化銀カラー写真材料を処理する際に出るオ
ーバーフロー液がほとんどである。
Next, typical examples of photographic processing waste liquid that can be processed according to the present invention will be described in detail. However, below we will mainly discuss the photographic processing solutions when the photographic materials to be processed are color ones, or the photographic processing waste fluids will be referred to as the overflow generated when processing silver halide color photographic materials using these photographic processing solutions. Most of it is liquid.

発色現像液は発色現像処理行程(カラー色画像を形成す
る行程てあり、具体的には発色現像主薬の酸化体とカラ
ーカプラーとのカップリング反応によってカラー色画像
を形成する行程)に用いる処理液であり、従って、発色
現像処理行程においては通常発色現像液中に発色現像主
薬を含有させることが必要であるが、カラー写真材料中
に発色現像主薬を内蔵させ、発色現像主薬を含有させた
発色現像液又はアルカリ液(アクチベーター液)て処理
することも含まれる。発色現像液に含まれる発色現像主
薬は芳香族第1級アミン発色現像主薬であり、アミノフ
ェノール計及びp−フエニレシナミンアミン系を誘導体
が含まれる。
A color developing solution is a processing solution used in a color development process (a process for forming a color image, specifically a process for forming a color image by a coupling reaction between an oxidized color developing agent and a color coupler). Therefore, in the color development process, it is usually necessary to include a color developing agent in the color developing solution, but color developing agents are incorporated in the color photographic material. It also includes processing with a developer or alkaline solution (activator solution). The color developing agent contained in the color developing solution is an aromatic primary amine color developing agent, and includes derivatives of aminophenol and p-phenyrecinamine amine.

」二記アミノフェノール系現像剤としては例えば、0−
アミノフェノール、P−アミノフェノール、5−アミノ
−2−オキシ−トルエン、2−アミノ−3−オキシ−ト
ルエン、2−オキシ−3−アミノ−1,4−ジメチル−
ベンゼンが含まれる。
” Examples of aminophenol-based developers include 0-
Aminophenol, P-aminophenol, 5-amino-2-oxy-toluene, 2-amino-3-oxy-toluene, 2-oxy-3-amino-1,4-dimethyl-
Contains benzene.

発色現像液は、現像液に通常用いられるアルカリ剤を含
むことがあり、更に種々の添加剤、例えばペンシルアル
コール、ハロゲン化アルカリ金属あるいは現像調節剤、
保恒剤を含有することもある。更に、各種消泡剤や界面
活性剤を、またメタノール、ジメチルポルムアミドまた
はジメチルスルホキシド等の有機溶剤等を適宜含有する
こともある。
The color developing solution may contain an alkaline agent commonly used in developing solutions, and may also contain various additives such as pencil alcohol, alkali metal halides, or development regulators.
May also contain preservatives. Furthermore, various antifoaming agents and surfactants, as well as organic solvents such as methanol, dimethylpolamide or dimethyl sulfoxide, may be appropriately contained.

また、発色現像液には必要に応じて酸化防止剤が含有さ
れてもよい。更に発色現像液中には、金属イオン封鎖剤
として、種々なるキレート剤が併用されてもよい。
Further, the color developing solution may contain an antioxidant, if necessary. Furthermore, various chelating agents may be used in combination as metal ion sequestering agents in the color developing solution.

漂白定着液は漂白定着行程(現像によって生成した金属
銀を酸化してハロゲン化銀に代え、次いで水溶性の錯体
を形成すると共に発色剤の未発色部を発色させる行程)
に用いられる処理液であり、漂白定着液に使用される漂
白剤はその種類を問わない。
The bleach-fixing solution is used in the bleach-fixing process (a process in which metallic silver produced by development is oxidized and replaced with silver halide, then a water-soluble complex is formed and the uncolored areas of the color former are colored).
It is a processing solution used in the bleach-fixing solution, and the bleaching agent used in the bleach-fixing solution does not matter.

なお、漂白定着液には各種pH緩衝剤を単独あるいは2
種以上組合わせて含有することがある。
In addition, various pH buffers may be added to the bleach-fix solution, either alone or in combination.
It may contain more than one species in combination.

さらにまた、各種の蛍光増白剤や消泡剤あるいは界面活
性剤を含有することがある。また重亜硫酸付加物等の保
恒剤、アミノポリカルボン酸等の有機キレート化剤ある
いはニトロアルコール、硝酸類等の安定剤、有機溶媒等
を適宜含有することもある。更には、漂白定着液は、特
開昭46−280号、特開昭45−8506号、同46
−556号、ベルギー特許第770,910号、特公昭
45−8836号、同53−9854号、特開昭54−
71634号及び同49−42349号等に記載されて
いる種々の漂白促進剤を添加することがある。
Furthermore, it may contain various optical brighteners, antifoaming agents, or surfactants. It may also contain a preservative such as a bisulfite adduct, an organic chelating agent such as an aminopolycarboxylic acid, a stabilizer such as nitro alcohol or nitric acid, an organic solvent, etc. as appropriate. Furthermore, the bleach-fix solution is disclosed in Japanese Patent Application Laid-open Nos. 46-280, 45-8506, and 46
-556, Belgian Patent No. 770,910, Japanese Patent Publication No. 45-8836, Japanese Patent Publication No. 53-9854, Japanese Patent Publication No. 1983-
Various bleaching accelerators such as those described in No. 71634 and No. 49-42349 may be added.

この発明において水洗代替安定化処理と組合せる機能の
処理と処理廃液量が少なくて熱交換による効果が大きく
好ましい。
In this invention, it is preferable that the treatment function is combined with the water washing alternative stabilization treatment, and the amount of treated waste liquid is small and the effect of heat exchange is large.

安定液にはカラー画像を安定化させる機能の処理と水洗
ムラ等の汚染を防止する水切り浴的機能の安定液もある
。他にはカラー画像を着色する着色調整液や、帯電防止
剤を含んだ帯電防止液もこれらの安定液に含まれる。安
定液には前浴から漂白定着成分が持ち込まれるときには
、これらを中和化、脱塩及び不活性化し色素の保存性を
劣化させない工夫がされる。
There are also stabilizers that have the function of stabilizing color images and those that have a draining bath function that prevents contamination such as uneven washing. These stabilizers also include coloring adjustment liquids for coloring color images and antistatic liquids containing antistatic agents. When bleach-fixing components are brought into the stabilizing solution from the pre-bath, measures are taken to neutralize, desalt and inactivate them so as not to deteriorate the shelf life of the dye.

このような安定液に含まれる成分としては鉄イオンとの
キレート安定度定数が6以上(特に好ましきは8以上)
であるキレート剤がある。これらのキレート剤は、有機
カルボン酸キレート剤、有機リン酸キレート剤、ポリヒ
ドロキシ化合物、無機リン酸キレート剤等があり、この
発明の効果のために特に好ましくはジエチレントリアミ
ン五酢酸、1−ヒドロキシエチリデン−1,1−ジホス
ホン酸やこれらの塩である。これらの化合物は一般に安
定液1kについて約0.1g〜10gの濃度、更に好ま
しくは、安定液1立について約0゜5g〜5gの濃度で
使用される。
The components contained in such a stabilizing solution include those having a chelate stability constant of 6 or more (especially preferably 8 or more) with iron ions.
There are chelating agents that are These chelating agents include organic carboxylic acid chelating agents, organic phosphoric acid chelating agents, polyhydroxy compounds, inorganic phosphoric acid chelating agents, etc., and particularly preferred for the effects of this invention are diethylenetriaminepentaacetic acid and 1-hydroxyethylidene- These are 1,1-diphosphonic acid and salts thereof. These compounds are generally used in concentrations of about 0.1 g to 10 g per liter of stabilizer, more preferably about 0.5 g to 5 g per liter of stabilizer.

安定液に添加される化合物としては、アンモニラム化合
物がある。これらは各種の無機化合物のアンモニウム塩
によって供給されるか、具体的には水酸化アンモニウム
、臭化アンモニウム、炭酸アンモニウム、塩化アンモニ
ウム、次亜リン酸アンモニウム、リン酸アンモニウム、
亜リン酸アンモニウム、フッ化アンモニウム、酸性フッ
化アンモニウム、フルオロホウ酸アンモニウム、と酸ア
ンモニウム、炭酸水素アンモニウム、フッ化水素アンモ
ニウム、硫酸水素アンモニウム、硫酸アンモニウム、ヨ
ウ化アンモニウム、硝酸アンモニウム、五ホウ酸アンモ
ニウム、酢酸アンモニウム、アジピン酸アンモニウム、
ラウリルトリカルボン酸アンモニウム、安息香酸アンモ
ニウム、カルバミン酸アンモニウム、クエン酸アンモニ
ウム、ジエチルジチオカルバミン酸アンモニウム、ギ酸
アンモニウム、リンゴ酸水素アンモニウム、シュウ酸水
素アンモニウム、フタル酸水素アンモニウム、酒石酸水
素アンモニウム、乳酸アンモニウム、リンゴ酸アンモニ
ウム、マレイン酸アンモニウム、シュウ酸アンモニウム
、フタル酸アンモニラム、ピクリン酸アンモニウム、ピ
ロリジンジチオカルバミン酸アンモニウム、サルチル酸
アンモニウム、コハク酸アンモニウム、スルファニル酸
アンモニウム、酒石酸アンモニウム、チオグリコール酸
アンモニウム、2,4.6−ドリニトロフエノールアン
モニウム等である。これらのアンモニウム化合物の添加
量は安定液1!当り0゜05〜100gの範囲で用いら
れる。
Compounds added to the stabilizing solution include ammonium compounds. These are supplied by ammonium salts of various inorganic compounds, specifically ammonium hydroxide, ammonium bromide, ammonium carbonate, ammonium chloride, ammonium hypophosphite, ammonium phosphate,
Ammonium phosphite, ammonium fluoride, acidic ammonium fluoride, ammonium fluoroborate, ammonium phosphate, ammonium bicarbonate, ammonium hydrogen fluoride, ammonium hydrogen sulfate, ammonium sulfate, ammonium iodide, ammonium nitrate, ammonium pentaborate, ammonium acetate , ammonium adipate,
Ammonium lauryltricarboxylate, ammonium benzoate, ammonium carbamate, ammonium citrate, ammonium diethyldithiocarbamate, ammonium formate, ammonium hydrogen malate, ammonium hydrogen oxalate, ammonium hydrogen phthalate, ammonium hydrogen tartrate, ammonium lactate, ammonium malate , ammonium maleate, ammonium oxalate, ammonium phthalate, ammonium picrate, ammonium pyrrolidine dithiocarbamate, ammonium salicylate, ammonium succinate, ammonium sulfanilate, ammonium tartrate, ammonium thioglycolate, 2,4.6-dolinitro Such as phenolammonium. The amount of these ammonium compounds added is 1 for the stabilizer! It is used in a range of 0.05 to 100 g per serving.

安定液に添加される化合物としては、pH調整剤、5−
クロロ−2−メチル−4−イソチアゾリン−3−オン、
2−才クチル−4−インチアゾリン−3−オン、1−2
−ヘンツインチアソリン=3−オンの他特顆間59−1
46325号(第26〜30頁)記載の防ハイ剤、水溶
性金属塩等の保恒剤、エチレングリコール、ポリエチレ
ングリコール、ポリビニルピロリドン(PVP K−1
5、ルビスコールに−17等)等の分散剤、ホルマリン
等の硬膜剤、蛍光増白剤等が挙げられる。
Compounds added to the stabilizing solution include pH adjusters, 5-
chloro-2-methyl-4-isothiazolin-3-one,
2-year-old cutyl-4-inthiazolin-3-one, 1-2
- Henzin thiasoline = 3-one and other special intercondylar 59-1
46325 (pages 26 to 30), preservatives such as water-soluble metal salts, ethylene glycol, polyethylene glycol, polyvinylpyrrolidone (PVP K-1
Examples include dispersants such as 5. Rubiscol and -17), hardeners such as formalin, and fluorescent brighteners.

とりわけ、この発明においては、前記防パイ剤を含有し
た水洗代替安定液を用いる際に蒸発処理装置内にタール
の発生が少ないため特に好ましく用いられる。
In particular, in the present invention, when using the water washing substitute stabilizing liquid containing the anti-spill agent, it is particularly preferably used because less tar is generated in the evaporation treatment apparatus.

処理される感光材料がネガ用である場合、このネガ用安
定液には写真画像保存性改良のため、アルデヒド誘導体
が添加されることがある。
When the photographic material to be processed is for negative use, an aldehyde derivative may be added to the negative stabilizer in order to improve the storage stability of photographic images.

前記ネガ用安定液には必要に応じて各種の添加剤、例え
ば、水滴ムラ防止材、pH調整剤、硬膜剤、有機溶媒、
調湿剤、その他色調剤等処理効果を改善、拡張するだめ
の添加剤が加えられることがある。
The stabilizer for negatives may contain various additives as necessary, such as a water droplet unevenness preventive agent, a pH adjuster, a hardening agent, an organic solvent,
Additives may be added to improve or extend the processing effect, such as humidity control agents and other color toning agents.

この発明における水洗代替安定液を用いて行なう安定化
処理とは通常の多量の流水を使用して写真感光材料中に
付着あるいは浸透した前段階の処理液を洗い流す処理で
はなく、安定液中に写真感光材料の単位面積当りわずか
30mn/m2〜9000m It 7m2、より好ま
しくは6omfL/m2〜3000m It 7m2補
充をすることによって上記と同等以上の作用を有するも
のであり、具体的には特開昭511−134636 弓
に記載のような画像安定化処理をさす。
In this invention, the stabilization treatment performed using a water-washing substitute stabilizing solution is not a process in which a large amount of normal running water is used to wash away the processing solution from the previous stage that has adhered to or penetrated into the photographic light-sensitive material. By replenishing only 30 mn/m2 to 9,000 m It 7 m2 per unit area of the photosensitive material, more preferably 6 omfL/m2 to 3,000 m It 7 m2, it has an effect equivalent to or better than the above, and specifically, JP-A No. 511 -134636 Refers to image stabilization processing as described in Bow.

従って、この発明に係る水洗代替安定液を使用した場合
には従来のように水洗のための自動現像機の外部へ給υ
r管の設備を必要としない。
Therefore, when using the water washing alternative stabilizer according to the present invention, it is necessary to supply it to the outside of the automatic developing machine for water washing as in the conventional
Does not require r pipe equipment.

またカラーベーパー用発色現像液や安定液でスチルベン
系蛍光増白剤を用いることがある。
In addition, stilbene-based optical brighteners are sometimes used in color developing solutions and stabilizers for color vapors.

前記発色現像液の廃液に含まれる成分は、前記各種成分
ないし添加剤及び処理される写真材料から溶出し蓄積す
る成分等である。
The components contained in the waste liquid of the color developing solution include the various components or additives mentioned above, and components that are eluted and accumulated from the photographic material being processed.

前記漂白定着液及び安定液の廃液に含まれる成分は、前
記各種成分ないし添加剤及び処理される写真材料から溶
出し蓄積する成分等である。
The components contained in the waste liquid of the bleach-fix solution and stabilizer include the various components or additives mentioned above, and components that are eluted and accumulated from the photographic material being processed.

この発明の蒸発濃縮処理装置において、廃液が写真処理
廃液てあり、チオ硫酸塩、亜硫酸塩、アンモニウム塩を
多量に含有する場合に有効であり、特に有機酸第2鉄錯
塩及びチオ硫酸塩を含有する場合極めて有効である。
The evaporation concentration processing apparatus of the present invention is effective when the waste liquid is a photographic processing waste liquid and contains a large amount of thiosulfate, sulfite, or ammonium salt, and is particularly effective when it contains a large amount of organic acid ferric complex salt and thiosulfate. It is extremely effective when

この発明の好ましい適用例としては自動現像機による写
真感光材料の現像処理に伴ない発生する写真処理廃液を
自動現像機内もしくはその近傍にて処理を行なうのに適
している。ここで、自動現像機及び写真処理廃液につい
て説明する。
A preferred application of the present invention is to treat photographic processing waste liquid generated during the development of photographic light-sensitive materials using an automatic processor in or near the automatic processor. Here, automatic processors and photographic processing waste liquid will be explained.

自動現像機 第1図において自動現像機は符号100で指示されてお
り、図示のものはロール状の写真感光材料Fを、発色現
像槽CD、漂白定着槽BF、安定化処理槽sbに連続的
に案内して写真処理し、乾燥り後、巻き取る方式のもの
である。101は補充液タンクでありセンサ102によ
り写真感光材料Fの写真処理量を検知し、その検出情報
に従い制御装置103により各処理槽に補充液の補充が
行われる。
Automatic processor In FIG. 1, the automatic processor is designated by the reference numeral 100, and the one shown in the figure continuously passes a roll of photographic material F into a color development tank CD, a bleach-fix tank BF, and a stabilization processing tank sb. This method involves guiding the film through the process, photo-processing it, and winding it up after drying. Reference numeral 101 denotes a replenisher tank, and a sensor 102 detects the photographic processing amount of the photosensitive material F, and a control device 103 replenishes each processing tank with replenisher according to the detected information.

各写真処理槽に対し補充液の補充が行われるとオーバー
フロー廃液として処理槽から排出され、ストックタンク
104に集められる。オーバーフローした写真処理廃液
をストックタンク104に移ず手段としては、案内管を
通して自然落下させるのが簡易の方法である。ポンプ等
より強制移送する場合もあり得る。
When each photographic processing tank is replenished with the replenisher, it is discharged from the processing tank as an overflow waste liquid and collected in the stock tank 104. A simple way to prevent the overflowing photographic processing waste from being transferred to the stock tank 104 is to allow it to fall naturally through a guide pipe. There may also be cases where it is forcibly transferred using a pump or the like.

また上記した如く、各写真処理槽CD、BF、sbに写
真処理廃液中の成分に相違が有るが、この発明において
は、全ての写真処理廃液を混合し一括処理することが好
ましい。
Further, as described above, although there are differences in the components of the photographic processing waste liquid in each of the photographic processing tanks CD, BF, and sb, in the present invention, it is preferable to mix all the photographic processing waste liquids and process them all at once.

(実7ih例) 第2図はこの発明の写真処理廃液の蒸発11Alir6
処理装置をさらに具体的に示す概略構成図、第3図はそ
の具体的な配置を示す構成図である。
(Actual 7ih example) Figure 2 shows the evaporation 11Alir6 of photographic processing waste liquid of this invention.
FIG. 3 is a schematic configuration diagram showing the processing device in more detail, and FIG. 3 is a configuration diagram showing its specific arrangement.

図において符号1は蒸発釜で、直径が大きい円柱状の上
部1aと、直径が小さい円柱状の下部1bとから構成さ
れ、下部1bの」ニガには加熱手段2が設けられ、下方
にはボールバルブ3が設けられている。ボールバルブ3
のやや」二から上部1aと連通する連通管4が出ており
、途中には液面レベルセンサ5が設けられている。蒸発
釜1の下部1bの下にはスラッジ受け6か設けられ、そ
の内部にはポリプロピレン製バッグ7が0リング8によ
って固定されている。
In the figure, reference numeral 1 denotes an evaporation pot, which is composed of a cylindrical upper part 1a with a large diameter and a cylindrical lower part 1b with a small diameter. A valve 3 is provided. ball valve 3
A communication pipe 4 that communicates with the upper part 1a comes out from the top part 2, and a liquid level sensor 5 is provided in the middle. A sludge receiver 6 is provided under the lower part 1b of the evaporator 1, and a polypropylene bag 7 is fixed therein by an O-ring 8.

蒸発釜1の上部1aには、蒸気υ[山背9が設けられて
おり、この蒸気排出管9は熱交換器10及び冷却凝縮手
段11を通)て、溜液導入管12に接続される。冷却凝
縮手段11では、蒸気排出管9に多数の冷却用放熱板1
3(一部を省略して記載)が設けられ、さらに液面レベ
ルセンサ14か設けられている。冷却凝縮手段11の下
部には、冷却水導入管15が設けられ、冷却水循環ポン
プ16を介して、多数の小孔が穿設されたシャワーパイ
プ17に接続している。
The upper part 1a of the evaporating pot 1 is provided with a steam υ [mountain 9, and this steam exhaust pipe 9 is connected to a distilled liquid inlet pipe 12 through a heat exchanger 10 and a cooling condensing means 11). . In the cooling condensing means 11, a large number of cooling heat sinks 1 are installed in the steam exhaust pipe 9.
3 (described with some parts omitted), and a liquid level sensor 14 is also provided. A cooling water introduction pipe 15 is provided at the bottom of the cooling condensing means 11, and is connected via a cooling water circulation pump 16 to a shower pipe 17 having a large number of small holes.

冷却凝縮手段11内の空気は、空冷用扇風機18によっ
て、処理装置外へ放出される。溜液導入管12は、溜液
タンク19内に接続するが、このタンク内部には活性炭
カートリッジ20が設けられ、内部には紙袋でパックさ
れた活性炭21が収納されている。さらに、溜液タンク
19の外にも、活性炭カートリッジ22が設けられ、内
部には紙袋でパックされた活性炭23が収納されている
。溜液タンク19にはまた、空気導入管24が設けられ
、エアーポンプ25を介して蒸発釜1の廃液中に設置さ
れている。26は廃液供給タンクで、廃液導入管27が
設けられ、ベローズポンプ28、熱交換器10を介して
蒸発釜上部1aに接続されている。廃液供給タンク26
にはさらに液面レベル計29が設けられている。廃液供
給タンク26及び溜液タンク19は第3図に示すように
取手がついた引き出し可能な架台30」二に設置されて
いる。
The air in the cooling condensing means 11 is discharged to the outside of the processing device by an air cooling fan 18. The accumulated liquid inlet pipe 12 is connected to the accumulated liquid tank 19, and an activated carbon cartridge 20 is provided inside this tank, and activated carbon 21 packed in a paper bag is stored inside the tank. Furthermore, an activated carbon cartridge 22 is provided outside the reservoir tank 19, and activated carbon 23 packed in a paper bag is stored inside. The accumulated liquid tank 19 is also provided with an air introduction pipe 24, which is installed in the waste liquid of the evaporation pot 1 via an air pump 25. Reference numeral 26 denotes a waste liquid supply tank, which is provided with a waste liquid introduction pipe 27 and is connected to the evaporator upper part 1a via a bellows pump 28 and a heat exchanger 10. Waste liquid supply tank 26
Further, a liquid level gauge 29 is provided. The waste liquid supply tank 26 and the accumulated liquid tank 19 are installed on a removable pedestal 30'' with a handle, as shown in FIG.

蒸発釜1の」一部1aには案内管31が更に設けられ、
プランジャーディスク32を介して廃液供給タンク26
に接続され、この蒸発釜1の」二部1aにはまた温度セ
ンサ33が設けられている。
A guide pipe 31 is further provided in a part 1a of the evaporating pot 1,
Waste liquid supply tank 26 via plunger disk 32
A temperature sensor 33 is also provided in the second part 1a of the evaporating pot 1.

次に、この装置を用いて加熱、蒸発処理するプロセスの
概略を説明する。
Next, an outline of the heating and evaporation process using this apparatus will be explained.

自動現像機からのオーバーフロー液約201を貯溜した
廃液供給タンク26は、蒸発濃縮処理装置まで運ばれ、
引き出された架台30上に設置され、廃液導入管27及
び液面レベル計29が接続される。架台30上には更に
、それぞれ紙袋でパックされた活性炭21.23を詰め
た活性炭カートリッジ20.22をPめ設けた溜7夜タ
ンク19を設置し、溜液専人tt’(12及び空気導入
管24を接続した後、蒸発濃縮処理装置内に納められる
The waste liquid supply tank 26, which stores about 201 overflow liquid from the automatic developing machine, is transported to the evaporation concentration processing device.
It is installed on the pulled-out pedestal 30, and the waste liquid introduction pipe 27 and liquid level meter 29 are connected to it. Furthermore, on the pedestal 30, a tank 19 is installed, which is equipped with activated carbon cartridges 20 and 22 filled with activated carbon 21 and 23 each packed in a paper bag. After connecting the tube 24, it is placed in the evaporation concentration processing apparatus.

次いで、蒸発釜1の下部1bの下のスラッジ受け6内に
、ポリプロピレン製バック7を設置し、2つのOリング
8によって、蒸発釜1の下部1bに固定する。次に、冷
却凝縮手段11内に水を供給した後、スイッチをONす
ると、エアーポンプ25が作動し、溜液タンク19内の
空気が空気導入管24を介して蒸発釜1内に導入される
が空気排出管9の先端は蒸発釜1の外部に設けられた加
熱手段2よりもさらに下の位置にある。次いで、空冷用
扇風機18、冷却水循環ポンプ16の順に作動し、ため
水が冷却水導入管15を通ってシャワーパイプ17か、
冷却凝縮手段11内に納められた蒸気排出管9の放熱板
13上に供給され、再び冷却凝縮手段11の下部にたま
るという具合に循環する。
Next, a polypropylene bag 7 is installed in the sludge receiver 6 under the lower part 1b of the evaporator 1 and fixed to the lower part 1b of the evaporator 1 with two O-rings 8. Next, after supplying water into the cooling and condensing means 11, when the switch is turned on, the air pump 25 is activated, and the air in the accumulated liquid tank 19 is introduced into the evaporation pot 1 through the air introduction pipe 24. However, the tip of the air exhaust pipe 9 is located further below the heating means 2 provided outside the evaporator 1. Next, the air cooling fan 18 and the cooling water circulation pump 16 operate in this order, and the stored water passes through the cooling water introduction pipe 15 to the shower pipe 17.
The steam is supplied onto the heat radiating plate 13 of the steam exhaust pipe 9 housed in the cooling and condensing means 11, and is circulated again, collecting at the lower part of the cooling and condensing means 11.

そして、ベローズポンプ28が作動し、廃液供給タンク
26内の廃液が廃液導入管27を通って、熱交換手段1
0を通過した後、蒸発釜1内に送られる。蒸発釜1中の
廃液量が増加し、連通管4内の液面レベルが増加し、液
面レベルセンサ5によって液面が例えば3秒間以上検知
されると、へローズポンプ28の作動が停止し、同時に
加熱手段2のスイッチが入り、加熱蒸発が開始される。
Then, the bellows pump 28 is activated, and the waste liquid in the waste liquid supply tank 26 passes through the waste liquid introduction pipe 27, and the heat exchange means 1
After passing through zero, it is sent into the evaporator 1. When the amount of waste liquid in the evaporation pot 1 increases, the liquid level in the communication pipe 4 increases, and the liquid level is detected by the liquid level sensor 5 for, for example, 3 seconds or more, the operation of the hero's pump 28 is stopped. At the same time, the heating means 2 is turned on and heating evaporation is started.

加熱蒸発によって蒸発釜1中の廃液の液量が減少し、連
通管4内の液面レベルか低下し、液面レベルセンサ5に
よって液面が3秒間以上検知されなくなると、再びベロ
ーズポンプ28のスイッチが入り、廃液供給タンク26
内の廃液が蒸発釜1中に供給されるという動作が縁り返
される。蒸発した蒸気は、蒸気排出管9を通り、熱交換
器10内で廃液と熱交換した後、冷却凝縮手段11を通
って凝縮され、凝縮水が溜液導入管12を通り、溜液タ
ンク19内に入り、活性炭カートリッジ20内の活性炭
21を通過した後溜液タンク19内に貯溜される。
When the amount of waste liquid in the evaporator 1 decreases due to heating and evaporation, and the liquid level in the communication pipe 4 drops, and the liquid level is no longer detected by the liquid level sensor 5 for more than 3 seconds, the bellows pump 28 is turned off again. The switch is turned on and the waste liquid supply tank 26
The operation of supplying the waste liquid in the evaporator tank 1 into the evaporator tank 1 is repeated. The evaporated steam passes through the steam exhaust pipe 9 and exchanges heat with the waste liquid in the heat exchanger 10, and then passes through the cooling condensing means 11 and is condensed. After passing through the activated carbon 21 in the activated carbon cartridge 20, it is stored in the reservoir tank 19.

廃液供給タンク26内の廃液がなくなったことか、液面
レベルセンサ29によって検知されると、ベローズポン
プ28の作動が停止し、加熱手段2のスイッチがOFF
となり、2時間後に冷却水循環ポンプ16、空冷用扇風
機18が停止し、ランプが点灯するとともに、ブザーが
鴫って蒸発濃縮処理が完了したことを知らせるとともに
、エアーポンプ25が停止する。ここで、ボールパル3
を開けて、蒸発釜1中のスラッジをポリプロピレン製バ
ッグ7中に落下させた後、0リング8を外して取り出す
When the liquid level sensor 29 detects that the waste liquid in the waste liquid supply tank 26 has run out, the operation of the bellows pump 28 is stopped and the switch of the heating means 2 is turned OFF.
After two hours, the cooling water circulation pump 16 and the air cooling fan 18 stop, the lamp lights up, the buzzer goes off to notify that the evaporation and concentration process is completed, and the air pump 25 stops. Here, ball pal 3
The bag is opened and the sludge in the evaporating pot 1 is dropped into a polypropylene bag 7, and then the O-ring 8 is removed and taken out.

なお、蒸発濃縮過程中で、冷却凝縮手段11中のため水
がなくなったことが、液面レベルセンサ14によって検
知されると、ランプが点灯するとともにブザーが鴫って
、ため水がなくなったことを知らせる。
In addition, during the evaporation concentration process, when the liquid level sensor 14 detects that the water in the cooling condensing means 11 has run out, the lamp lights up and the buzzer goes off, indicating that the stored water has run out. Let me know.

また、蒸発濃縮過程中で、何らかの理由で蒸発釜1中の
液面か異常に低下し、空だきによって蒸発釜1中の温度
が120℃に上昇したことを、温度センサ33が検知す
ると、ランプが点灯し、警告ブザーが鳴るとともに、加
熱手段のスイッチが  OFFになり以後、前記したよ
うな一連の動作によって蒸発濃縮処理が中断する。
Further, during the evaporation and concentration process, if the temperature sensor 33 detects that the liquid level in the evaporating pot 1 has dropped abnormally for some reason and the temperature in the evaporating pot 1 has risen to 120°C due to dry heating, the lamp lights up, a warning buzzer sounds, and the heating means is turned off. From then on, the evaporation concentration process is interrupted by the series of operations described above.

第4図は第2図及び第3図に示される加熱手段2の断面
図である。即ち、チタン製の蒸発釜1の壁34の周囲に
5US304製のヒータブロック36が設けられ、この
ヒータブロック36にはカートリッジヒータ35が4本
埋め込まれている。また、ヒータブロック36の周面は
、断熱剤37が設けられている。
FIG. 4 is a sectional view of the heating means 2 shown in FIGS. 2 and 3. That is, a heater block 36 made of 5US304 is provided around the wall 34 of the evaporation pot 1 made of titanium, and four cartridge heaters 35 are embedded in this heater block 36. Further, a heat insulating agent 37 is provided on the circumferential surface of the heater block 36 .

第5図乃至第8図は、この発明の液面レベルセンサの種
々の具体例を示す図である。
5 to 8 are diagrams showing various specific examples of the liquid level sensor of the present invention.

第5図では加熱手段2の下方の蒸発釜下部1bから連通
管4が蒸発釜1の壁に対して略45度の角度で上方に伸
び、この連通管4の途中に液面レベルセンサ5が設けら
れている。
In FIG. 5, a communication pipe 4 extends upward from the lower part 1b of the evaporation pot below the heating means 2 at an angle of about 45 degrees to the wall of the evaporation pot 1, and a liquid level sensor 5 is installed in the middle of the communication pipe 4. It is provided.

第6図では液面レベルセンサ5が直接蒸発釜1の上部1
a中に設置され、一方の端子は蒸発釜1の上部1aの壁
にアースされている。
In FIG. 6, the liquid level sensor 5 directly
one terminal is grounded to the wall of the upper part 1a of the evaporator 1.

第7図では液面レベルセンサ5の下部が浮き子38にな
っており、液面レベルセンサ5の上部には磁石39が設
けられ、液面が上昇することにより磁石39の設置部が
上昇するとスイッチがOFFとなる。
In FIG. 7, the lower part of the liquid level sensor 5 is a float 38, and the upper part of the liquid level sensor 5 is provided with a magnet 39, and when the liquid level rises, the installation part of the magnet 39 rises. The switch turns OFF.

第8図では、同様に液面レベルセンサ5の下部1bかイ
1き−j’−38になっており、液面か」1昇すると、
液面レベルセンサ5の上部が赤外線放出管40から放出
される赤外線を遮断してスイッチがOFFとなる。
In FIG. 8, similarly, the lower part 1b of the liquid level sensor 5 is 1-j'-38, and when the liquid level rises by 1,
The upper part of the liquid level sensor 5 blocks the infrared rays emitted from the infrared emitting tube 40, and the switch is turned off.

[実験例] 市販のカラー写真用ペーパーを絵焼き後、次の処理行程
と処理液を使用して連続処理を行った。
[Experimental Example] After printing a commercially available color photographic paper, continuous processing was performed using the following processing steps and processing solution.

基準処理工程 (1)発色現像  38℃     3分(2)漂白定
着  38℃     1分30秒(3)安定化処理 
25℃〜35℃  3分(4)乾燥   75℃〜10
0℃ 約2分処理液組成 [発色現像タンク液] ベンジルアルコール        15mftエチレ
ングリコール        15+nJ2亜硫酸カリ
ウム          2.0g臭化カリウム   
         163g塩化ナトリウム     
     0.2g炭酸カリウム          
 24.0g3−メチル−4−アミノ−N−エチル −N−(β−メタンスルホンアミドエチル)アニリン硫
酸塩          4.5g蛍光増白剤(4,4
’ −ジアミノスチルベンジスルホン酸誘導体)   
    1.0gヒドロキシルアミン硫酸塩     
3.0g1−ヒドロキシエヂリンデンー1.1−ニホス
ホン酸           0.4gヒドロキシエチ
ルイミノジ酢酸   5.0g塩化マグネシウム・6水
塩     0.7g1.2−ジヒドロキシベンゼン−
3,5−ジスルホン酸−二ナトリウム塩  0.2g水
を加えてIILとし、水酸化カリウムと硫酸でpH10
,20とする。
Standard processing steps (1) Color development 38℃ 3 minutes (2) Bleach fixing 38℃ 1 minute 30 seconds (3) Stabilization treatment
25℃~35℃ 3 minutes (4) Drying 75℃~10
0°C for about 2 minutes Processing liquid composition [Color developing tank liquid] Benzyl alcohol 15mft Ethylene glycol 15+nJ2 Potassium sulfite 2.0g Potassium bromide
163g sodium chloride
0.2g potassium carbonate
24.0g 3-Methyl-4-amino-N-ethyl-N-(β-methanesulfonamidoethyl)aniline sulfate 4.5g Optical brightener (4,4
'-diaminostilbendisulfonic acid derivative)
1.0g hydroxylamine sulfate
3.0g 1-hydroxyedilindene-1,1-niphosphonic acid 0.4g hydroxyethyliminodiacetic acid 5.0g magnesium chloride hexahydrate 0.7g 1.2-dihydroxybenzene-
3,5-disulfonic acid disodium salt 0.2g water was added to make IIL, and the pH was adjusted to 10 with potassium hydroxide and sulfuric acid.
, 20.

[発色現像補充液] ベンジルアルコール        20mj2エチレ
ングリコール        20mM亜硫酸カリウム
          3,0g炭酸カリウム     
      24.0gヒドロキシアミン硫酸塩   
   4.0g3−メチル−4−アミノ−N−エチル −N−(β−メタンスルホナミドエヂル)アニリン硫酸
塩          6.0g蛍光増白剤(4,4°
−ジアミノスチルベンジスルホン酸誘導体)     
 2.5g1−ヒドロキシエヂリンデンー1.1−ニホ
スホン酸           0.5gヒドロキシエ
チルイミノジ酢酸   5、Og塩化マグニシウム・6
水塩     0.8g1.2−ジヒドロキシベンゼン
−3,5−ジスルホン酸−二ナトリウム塩  0.3g
水を加えて1にとし、水酸化カリウムと硫酸でpH10
,70とする。
[Color developer replenisher] Benzyl alcohol 20mj2 ethylene glycol 20mM potassium sulfite 3.0g potassium carbonate
24.0g hydroxyamine sulfate
4.0 g 3-Methyl-4-amino-N-ethyl-N-(β-methanesulfonamide edyl) aniline sulfate 6.0 g Optical brightener (4,4°
-diaminostilbendisulfonic acid derivative)
2.5g 1-hydroxyedilindene-1,1-niphosphonic acid 0.5g hydroxyethyliminodiacetic acid 5, Og magnesium chloride 6
Water salt 0.8g1.2-dihydroxybenzene-3,5-disulfonic acid disodium salt 0.3g
Add water to bring it to 1, then add potassium hydroxide and sulfuric acid to pH 10.
,70.

[漂白定着タンク液] エチレンジアミンテトラ酢酸第2鉄 アンモニウム2水塩       60.0gエチレン
ジアミンテトラ酢酸    3.0gチオ硫酸アンモニ
ウム (70%溶液)          100.mu亜硫
酸アンモニウム (40%溶液)          27.5mu水を
加えて全量を1℃とし、炭酸カリウムまたは氷酢酸てp
H7,1に調整する。
[Bleach-fix tank solution] Ethylenediaminetetraacetic acid ferric ammonium dihydrate 60.0g Ethylenediaminetetraacetic acid 3.0g Ammonium thiosulfate (70% solution) 100. Add 27.5mu of ammonium sulfite (40% solution) to bring the total volume to 1°C, and dilute with potassium carbonate or glacial acetic acid.
Adjust to H7.1.

[漂白定着補充液A] エチレンジアミンテトラ酢酸第2鉄 アンモニウム2水塩      260.0g炭酸カリ
ウム           42.0g水を加えて全f
f1lIlとする。
[Bleach-fix replenisher A] Ferric ammonium ethylenediaminetetraacetate dihydrate 260.0g Potassium carbonate 42.0g Add water to make a total
Let it be f1lIl.

この溶液のpHは酢酸又はアンモニア水を用いて6.7
±0.1とする。
The pH of this solution was adjusted to 6.7 using acetic acid or aqueous ammonia.
Set to ±0.1.

[漂白定着補充液Bコ チオ硫酸アンモニウム    500.0m、e(70
%溶液) 亜硫酸アンモニウム     250.0mf!。
[Bleach-fix replenisher B ammonium cothiosulfate 500.0m, e (70
% solution) Ammonium sulfite 250.0mf! .

(40%溶液) エチレンシアミンテトラ酢酸   17.0g氷酢酸 
           85.0m、e水を加えて全量
1にとする。
(40% solution) Ethylenecyaminetetraacetic acid 17.0g Glacial acetic acid
85.0m, add water to make total volume 1.

この溶液はpHは酢酸又はアンモニア水を用いて5.3
±0.1である。
This solution has a pH of 5.3 using acetic acid or aqueous ammonia.
It is ±0.1.

[水洗代替安定タンク液及び補充液] エチレングリコール        1.0g2−メチ
ル−4−インチアゾリン−3−オン         
     0.20g1−ヒドロキシエチリデン−1,
1 −ニホスホン酸(60%水溶液   1.0gアンモニ
ア水(水酸化アンモニウム 25%水溶液)           2.0g水でl
!とし、50%硫酸でpH7,0とする。
[Water washing alternative stable tank liquid and replenisher] Ethylene glycol 1.0g 2-methyl-4-inthiazolin-3-one
0.20g 1-hydroxyethylidene-1,
1-niphosphonic acid (60% aqueous solution 1.0g ammonia water (ammonium hydroxide 25% aqueous solution) 2.0g in water
! and adjust the pH to 7.0 with 50% sulfuric acid.

自動現像機に上記の発色現像タンク液、漂白定着タンク
液及び安定タンク液を満たし、前記市販のカラー写真ベ
ーパー試料を処理しながら3分間隔毎に一ト記した発色
現像補充液と漂白定着補充液A、Bと安定補充液をベロ
ーズポンプを通じて補充しながらランニングテストを行
った。補充量はカラーペーパーtrn2当りそれぞれ発
色現像タンクへの補充量として190mJ1、漂白定着
タンクへの補充量として漂白定着補充液A、B各々50
m!、安定化槽への補充量として水洗代替安定補充液を
250rnJ2補充した。なお、自動現像機の安定化槽
は試料の流れの方向に第1糟〜第3糟となる安定槽とし
、最終積から補充を行い、最終積からのオーバーフロー
液をその前段の糟へ流入させ、さらにこのオーバーフロ
ー液をまたその前段の糟に流入させる多槽向流方式とし
た。
Fill an automatic processor with the color developer tank solution, bleach-fix tank solution, and stabilization tank solution, and add the color developer replenisher and bleach-fix replenisher at intervals of 3 minutes while processing the commercially available color photographic vapor sample. A running test was conducted while replenishing solutions A, B and stable replenisher through the bellows pump. The amount of replenishment is 190 mJ1 per color paper trn2 to the color developing tank, and 50 mJ1 each of bleach-fixing replenisher A and B to the bleach-fixing tank.
m! , 250 rnJ2 of a water washing alternative stabilizing replenisher was replenished to the stabilizing tank. In addition, the stabilizing tank of the automatic developing machine has the first to third tanks in the direction of the flow of the sample, and replenishment is performed from the final stack, and the overflow liquid from the final stack is allowed to flow into the previous stage. Furthermore, a multi-tank countercurrent system was adopted in which this overflow liquid also flows into the rice mill at the previous stage.

水洗代替安定液の総補充量が安定タンク容量の3倍とな
るまで連続処理を行った。
Continuous processing was performed until the total amount of replenishment of the water washing alternative stabilizing solution became three times the capacity of the stabilizing tank.

たたし、写真処理廃液中には予め炭酸カリウム400g
を溶解させ、溜液タンク中には硫酸水素ナトリウム50
0gを投入した。また、加熱手段の熱密度路4 kca
l/cm2とし、写真処理廃液中にはPめ炭酸カリウム
400gを溶解させ、溜液タンク中には硫酸水素ナトリ
ウム500gを投入した。また、写真処理廃液中には消
泡剤FSアンチフオーム025(ダウコーニング社製)
を予め写真処理廃液中に4g添加した。廃液を20℃を
処理し、冷却した後、蒸発釜下部のポールバルブを開き
、蒸発釜内部のスラッジを取り出したところ、1.2に
あった。
400g of potassium carbonate was added to the photographic processing waste liquid in advance.
and 50% sodium hydrogen sulfate in the distillate tank.
0g was added. In addition, the heat density path of the heating means 4 kca
1/cm2, 400 g of potassium carbonate was dissolved in the photographic processing waste liquid, and 500 g of sodium hydrogen sulfate was put into the reservoir tank. In addition, the antifoaming agent FS Antiform 025 (manufactured by Dow Corning) is contained in the photographic processing waste liquid.
4g of was added in advance to the photographic processing waste solution. After the waste liquid was treated at 20°C and cooled, the pole valve at the bottom of the evaporator was opened and the sludge inside the evaporator was taken out, and it was found to be 1.2.

次に、この発明以外の蒸発濃縮処理装置を準備し、同様
に写真処理廃液を処理した。この蒸発濃縮処理装置は、
第2図乃至第4図に示されるようなこの発明の廃液濃縮
処理装置と基本的な構造は同じであるが、ベローズポン
プは液面レベルセンサ5が、液面を検出するか、しない
かによってそれぞれ作動のON及びOFFがおこるよう
には構成されておらず、蒸発釜中に20ffiの廃液が
供給された時に、液面レベルセンサ5によって液面が検
出されて、ベローズポンプの作動が停止するように構成
されているが、その後の蒸発の進行を伴う液面レベルの
低下によって作動することはない。また、この発明以外
の蒸発濃縮処理装置は20立の廃液が1.2立に濃縮さ
れる時間を予め測定によって求め、この時間が経過した
時に蒸発濃縮処理か停止するようにタイマーが設定しで
ある。
Next, an evaporation concentration processing apparatus other than this invention was prepared, and the photographic processing waste liquid was processed in the same manner. This evaporation concentration processing equipment is
Although the basic structure is the same as that of the waste liquid concentration treatment apparatus of the present invention as shown in FIGS. The bellows pump is not configured to turn ON and OFF, and when 20ffi of waste liquid is supplied into the evaporator, the liquid level is detected by the liquid level sensor 5 and the bellows pump stops operating. However, it does not operate due to a subsequent drop in the liquid level that accompanies the progress of evaporation. In addition, in the evaporation concentration treatment apparatus other than the present invention, the time required for 20 liters of waste liquid to be concentrated to 1.2 liters is measured in advance, and a timer is set to stop the evaporation concentration treatment when this time has elapsed. be.

上記2種類の処理を行なった時に蒸発濃縮処理装置から
発生する臭気を観察し、その結果を表1に示した。
The odor generated from the evaporation and concentration treatment equipment was observed when the above two types of treatments were performed, and the results are shown in Table 1.

表  1 表1に用いた臭気の評価を示す記号は、以下の評価を意
味している。
Table 1 The symbols indicating odor evaluation used in Table 1 mean the following evaluations.

D・悪臭がひどい A:全く悪臭がしない 表1から明らかなように、この発明の蒸発濃縮処理装置
を使用し実験Notでは、臭気は全くないが、比較の上
記濃縮処理装置を使用した実験NO2では、臭気(特に
メルカプト臭気)がひどい。
D. Bad odor A: No bad odor at all As is clear from Table 1, there was no odor at all in Experiment No. 2 using the evaporation concentration treatment device of this invention, but in Experiment No. 2 using the above-mentioned concentration treatment device for comparison. The odor (especially the mercapto odor) is terrible.

次に、この発明の実験装置におて液面レベルセンサ5を
蒸発釜内部に設けらところ、液面のハツチングがやや大
きくなった(実験N03)。
Next, when the liquid level sensor 5 was installed inside the evaporation pot in the experimental apparatus of the present invention, the hatching of the liquid level became somewhat large (Experiment No. 03).

ついて、液面レベルセンサ5を外部に設けたまま、液面
を検知するか、しないかによって直ちにベローズポンプ
の作動がそれぞれOFF及びONするように代えたとこ
ろ、はぼ同様の液面ハンチングを示したく実験N04)
Therefore, when the liquid level sensor 5 was installed externally and the bellows pump was changed to turn off and on immediately depending on whether or not the liquid level was detected, the same liquid level hunting occurred. Taku experiment N04)
.

さらに、実験NO4で、液面レベルセンサ5を蒸発釜内
部に設けたところ(実験N05)、液面のハンチングが
更に拡大した。また、これら実験NO3〜実験NO4の
過程で、蒸発濃縮処理装置から発生ずる臭気を観察し、
結果を表2に示した。
Furthermore, in Experiment No. 4, when the liquid level sensor 5 was installed inside the evaporation pot (Experiment No. 05), hunting in the liquid level was further enlarged. In addition, during the process of these experiments No. 3 to No. 4, we observed the odor coming from the evaporation concentration processing equipment.
The results are shown in Table 2.

表  2 表2に用いた臭気の評価を示す記号は、以下の評価を意
味している。
Table 2 The symbols indicating odor evaluation used in Table 2 mean the following evaluations.

C:やや悪臭がする B:かすかに悪臭がするが、よくかいでみないとわから
ない程度 表2から明らかのように、いずれも前記実験面レベルセ
ンサ、11は冷却凝縮手段、19は溜NOIより悪い結
果となった。
C: There is a slight bad odor B: There is a slight bad odor, but it cannot be noticed unless you smell it carefully.As is clear from Table 2, all of them are from the above-mentioned test surface level sensor, 11 is the cooling condensing means, and 19 is from the NOI reservoir. The result was bad.

(発明の効果) 上記したように、この発明は蒸発釜中の廃液量を検出す
る手段の信号に従い、連続または断続的に廃液を蒸発釜
中に供給する手段を備えたから、蒸発釜内の廃液残量に
応じて、処理すべき廃液を確実に供給することが可能で
ある。しかも処理されるべき廃液が常に設定量の状態で
加熱凝縮処理することができるから、常に最適な状態て
廃液を加熱凝縮処理され、写真処理廃液によって発生す
る有害ないし悪臭成分を少なく抑えることができる。
(Effects of the Invention) As described above, the present invention includes a means for continuously or intermittently supplying waste liquid into the evaporator according to a signal from the means for detecting the amount of waste liquid in the evaporator. It is possible to reliably supply the waste liquid to be treated depending on the remaining amount. Moreover, since the waste liquid to be processed can always be heated and condensed at a set amount, the waste liquid is always heated and condensed in the optimal condition, and harmful or malodorous components generated by photographic processing waste liquid can be kept to a minimum. .

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は自動現像機の概略図、第2図はこの発明の一実
施例を示す概略構成図、第3図はその具体的な配置を示
す構成図、第4図は第2図及び第3図に示される加熱手
段の断面図、第5図乃至第8図はこの発明の液面レベル
センサの種々の具体例を示す図である。 図面中符号1は蒸発釜、2は加熱手段、5は液特 許 
出 願 人 小西六写真工業株式会社第1図 第5図 第7図 第8 図 手続補正書 昭和63年6月24日 特許庁長官 吉 1)文 毅 殿 1 事件の表示 昭和62年特許願第069437号 2 発明の名称 写真処理廃液の蒸発濃縮処理装置 3 補正をする者 事件との関係  特許出願人 住所 東京都新宿区西新宿1丁目26番2号氏名 (1
27)コニカ株式会社 4 代理人〒151 住所 東京都渋谷区代々木2丁目23番1号(1)明細
書第2頁第17行の「行程」を「工程」と訂正する。 (2)同書第5頁第5行の「自動現造機」を「自動現像
機」と訂正する。 (3)同書第9頁第6行の「処装置」を「処理装置」と
訂正する。 (4)同書第9頁第7行乃至第8行の「である」を「で
ある。」と訂正する。 (5)同書第10頁第11行乃至第12行の「仕上いし
あがはいえき」を「基づいて廃液」と訂正する。 (6)同書第11頁第2行の「液面ベルセンサ」を「液
面レヘルセンサ」と訂正する。 (7)同書第11頁第3行の「作動とは」を「作動は」
と訂正する。 (8)同書第11頁第7行の「構成な」を「構成に」と
訂正する。 (9)同書第11頁第8行に「いないと、」を[いない
と、沸騰により液面が上下するためかりに蒸発釜中の液
面が上下しても廃液が供給されず空炊きを起こしやすい
上に」と訂正する。 (10)同書v−12頁第18行の「好ましが」を「好
ましいか」と訂正する。 (11)同書第13頁第15行の「貯留したから」を「
貯留してから」と訂正する。 (12)同書第13頁第18行乃至第19行の「内部設
置して」を「内部に設置して」と訂正する。 (13)同書第14頁第12行乃至第14行の「カート
リッジヒーター、・・・・・・されたヒーター」を「カ
ートリッジヒータ、石英ヒータ、テフロンヒータ、棒ヒ
ータやパネルヒータのように加工成型されたヒータ」と
訂正する。 (14)同書第14頁第16行の「ヒーター」を「ヒー
タ」と訂正する。 (15)同書第15頁第4行、第5行、第10行、第1
3行及び第20行のr Kca l / cm2 Jを
r Kcal/ c m2J と訂正する。 (16)同省第16頁第5行及び第13行のrKcal
/cm2 Jを「にcal/cmJと訂正する。 (17)同書第17頁第8行乃至第9行のrKcal/
c+n2jをr Kcal/ c rn’ 」と訂正す
る。 (18)同書第32頁第19行の「用いること」を「用
いると」と訂正する。 (19)同書第36頁第6行の「ナルブ」を「パルプ」
と訂正する。 (20)同書第36頁第7行の「耐 薬品性」を「耐薬
品性」と訂正する。 (21)同書第40頁第12行乃至第13行の「いての
よいく、」を「いてもよく、」と訂正する。 (22)同書第42頁第16行の’(1)Jをr(I)
」と訂正する。 (23)同書第45頁第10行の「連通管を」を「連通
管の」と訂正する。 (24)同書第46頁第20行の「行う」を「行なう」
と訂正する。 (25)同書第47頁第7行、第8行、第10行及び第
11行の「行程」を「工程」と訂正する。 (26)同書第47頁第18行の「アミノフェノール計
」を「アミノフェノール系」と訂正する。 (27)同書第48頁第18行の「行程」を「工程」と
訂正する。 (28)同書第49頁第1行の「行程」を「工程」と訂
正する。 (29)同書第50頁第9行乃至第10行の「好ましき
は」を「好ましくは」と訂正する。 (30)同書第55頁第11行及び第12行の「行われ
る」を「行なわれる」と訂正する。 (31)同書第57頁第20行乃至第58頁第1行の「
液面レベル計29」を[液面レベルセンサ29」と訂正
する。 (32)同書第58頁第11行の「約201」を「約2
0℃」と訂正する。 (33)同書第58頁第14行の「液面レベル計29」
を「液面レベルセンサ29」と訂正する。 (34)同書第59頁第8行の「空気排出管9」を「蒸
気排出管9」と訂正する。 (35)同書第59頁第18行の「熱交換手段10」を
「熱交換器10」と訂正する。 (36)同書第61頁第3行乃至第4行の「ボールハル
3」をrポールバルブ3」と訂正する。 (37)同書第63頁第7行の「行程」を「工程」と訂
正する。 (38)同書第63頁第7行の「行った」を「行なフた
」と訂正する。 (39)同書第65頁第9行の「マグネシウム」を「マ
グネシウム」と訂正する。 (40)同書第66頁第12行のr500.Omk」を
r250.0mft」と訂正する。 (41)同書第66頁第14行のr250.0m℃」を
r25.0m1l」と訂正する。 (42)同書第67頁第6行の「(60%水溶液」を「
(60%水溶液)」と訂正する。 (43)同書第67頁第15行の「行った」を「行なっ
た」と訂正する。 (44)同書第68頁第2行乃至第3行の「行い」を「
行ない」と訂正する。 (45)同書第68頁第8行の「行った」を「行なった
」と訂正する。 (46)同書第70頁第16行の「設けらところ」を「
設けたところ」と訂正する。 (47)同書第70頁第16行乃至第17行の「ハツチ
ング」を「ハンチング」と訂正する。 (48)図面中第2図を別紙の通り訂正する。 以上
FIG. 1 is a schematic diagram of an automatic developing machine, FIG. 2 is a schematic configuration diagram showing an embodiment of the invention, FIG. 3 is a configuration diagram showing its specific arrangement, and FIG. 4 is a diagram of FIGS. A sectional view of the heating means shown in FIG. 3, and FIGS. 5 to 8 are diagrams showing various specific examples of the liquid level sensor of the present invention. In the drawing, numeral 1 is an evaporation pot, 2 is a heating means, and 5 is a liquid patent.
Applicant: Konishiroku Photo Industry Co., Ltd. Figure 1 Figure 5 Figure 7 Figure 8 Figure Proceedings Amendment Statement June 24, 1988 Director General of the Patent Office Yoshi 1) Takeshi Moon 1 Indication of the Case 1988 Patent Application No. No. 069437 No. 2 Name of the invention Evaporative concentration treatment device for photographic processing waste liquid 3 Relationship with the case of the person making the amendment Patent applicant address 1-26-2 Nishi-Shinjuku, Shinjuku-ku, Tokyo Name (1)
27) Konica Co., Ltd. 4 Agent 151 Address 2-23-1 Yoyogi, Shibuya-ku, Tokyo (1) Correct "process" in line 17 of page 2 of the specification to "process." (2) In the same book, page 5, line 5, "automatic processing machine" is corrected to "automatic processing machine." (3) "Processing device" on page 9, line 6 of the same book is corrected to "processing device." (4) In the same book, page 9, lines 7 and 8, "is" is corrected to "is." (5) In the same book, page 10, lines 11 and 12, the phrase ``finishing is done'' is corrected to ``based on waste liquid.'' (6) "Liquid level bell sensor" in the second line of page 11 of the same book is corrected to "liquid level level sensor." (7) "What is operation" in the third line of page 11 of the same book is changed to "operation is"
I am corrected. (8) In the same book, page 11, line 7, "composition" is corrected to "composition". (9) In the 8th line of page 11 of the same book, there is a phrase "If not," [If not, the liquid level will rise and fall due to boiling, so even if the liquid level in the evaporator rises and falls, no waste liquid will be supplied, causing dry cooking. It's easy," he corrected. (10) In the same book, page v-12, line 18, "preferably" is corrected to "preferably". (11) In the same book, page 13, line 15, “because I stored it” was replaced with “
After storing it,” he corrected. (12) In the same book, page 13, lines 18 to 19, "installed inside" is corrected to "installed inside." (13) In the same book, page 14, lines 12 to 14, ``cartridge heater, . corrected. (14) "Heater" on page 14, line 16 of the same book is corrected to "heater." (15) Ibid., page 15, lines 4, 5, 10, 1
Correct r Kcal/cm2 J in the 3rd and 20th lines to r Kcal/cm2J. (16) rKcal on page 16, lines 5 and 13 of the same ministry
/cm2 J is corrected as ``nical/cmJ. (17) rKcal/ in the same book, page 17, lines 8 to 9.
Correct c+n2j to r Kcal/c rn'. (18) In the same book, page 32, line 19, "to use" is corrected to "to use." (19) “Narbu” in the same book, page 36, line 6, is “pulp”
I am corrected. (20) In the same book, page 36, line 7, "chemical resistance" is corrected to "chemical resistance." (21) In the same book, page 40, lines 12 and 13, ``Te no yoiku,'' is corrected to ``Imo yoiku,''. (22) Same book, page 42, line 16' (1) J to r(I)
” he corrected. (23) In the same book, page 45, line 10, "communicating tube" is corrected to "communicating tube". (24) “Do” in line 20 of page 46 of the same book is “do”
I am corrected. (25) In the same book, page 47, lines 7, 8, 10, and 11, "process" is corrected to "process." (26) In the same book, page 47, line 18, "aminophenol meter" is corrected to "aminophenol type." (27) In the same book, page 48, line 18, "process" is corrected to "process." (28) "Process" in the first line of page 49 of the same book is corrected to "process." (29) "Preferably" in lines 9 and 10 of page 50 of the same book is corrected to "preferably." (30) In the same book, page 55, lines 11 and 12, ``to be done'' is corrected to ``to be done''. (31) From page 57, line 20 to page 58, line 1 of the same book, “
"Liquid level meter 29" is corrected to "Liquid level sensor 29". (32) In the same book, page 58, line 11, “approximately 201” was replaced with “approximately 201”
0°C,” he corrected. (33) “Liquid level meter 29” in the same book, page 58, line 14
is corrected to "liquid level sensor 29". (34) "Air exhaust pipe 9" in line 8 of page 59 of the same book is corrected to "steam exhaust pipe 9." (35) "Heat exchange means 10" on page 59, line 18 of the same book is corrected to "heat exchanger 10." (36) In the same book, page 61, lines 3 and 4, ``Ball Hull 3'' is corrected to ``R Pole Valve 3''. (37) In the same book, page 63, line 7, "process" is corrected to "process." (38) In the same book, page 63, line 7, ``gone'' is corrected to ``gyona futa.'' (39) "Magnesium" on page 65, line 9 of the same book is corrected to "magnesium." (40) r500 on page 66, line 12 of the same book. Correct "Omk" to "r250.0mft". (41) In the same book, page 66, line 14, "r250.0m℃" is corrected to "r25.0m1l". (42) In the same book, page 67, line 6, "(60% aqueous solution") is replaced with "
(60% aqueous solution)”. (43) In the same book, page 67, line 15, ``I went'' is corrected to ``I did.'' (44) In the same book, page 68, lines 2 and 3, “deed” is changed to “
I am corrected. (45) In the same book, page 68, line 8, ``I went'' is corrected to ``I did.'' (46) In the same book, page 70, line 16, “set up” is changed to “
"It was set up," he corrected. (47) "Hatching" in lines 16 and 17 of page 70 of the same book is corrected to "hunting." (48) Figure 2 of the drawings will be corrected as shown in the attached sheet. that's all

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)蒸発釜及び加熱手段を有する写真処理廃液の蒸発
濃縮処理装置において、前記蒸発釜中の廃液量を検出す
る手段の信号に従い、連続又は断続的に廃液を蒸発釜中
に供給する手段を備えることを特徴とする写真処理廃液
の蒸発濃縮処理装置。
(1) In an apparatus for evaporating and concentrating photographic processing waste having an evaporating pot and heating means, means for continuously or intermittently supplying waste liquid into the evaporating pot according to a signal from a means for detecting the amount of waste liquid in the evaporating pot. An apparatus for evaporating and concentrating photographic processing waste liquid, comprising:
(2)前記蒸発釜中の廃液量を検出する手段が、液面レ
ベルセンサであることを特徴とする特許請求の範囲第1
項記載の写真処理廃液の蒸発濃縮処理装置。
(2) Claim 1, wherein the means for detecting the amount of waste liquid in the evaporating pot is a liquid level sensor.
An evaporative concentration treatment device for photographic processing waste liquid as described in 2.
(3)前記廃液を蒸発釜中に供給する手段の作動が、前
記液面レベルセンサが一定時間液面を検出することによ
って停止し、一定時間液面を検出しないことによって開
始することを特徴とする特許請求の範囲第2項記載の写
真処理廃液の蒸発濃縮処理装置。
(3) The operation of the means for supplying the waste liquid into the evaporator is stopped when the liquid level sensor detects the liquid level for a certain period of time, and starts when the liquid level sensor does not detect the liquid level for a certain period of time. An apparatus for evaporating and concentrating photographic processing waste liquid according to claim 2.
(4)前記液面レベルセンサが、蒸発釜の外部に設けら
れた連通管中に設置されていることを特徴とする特許請
求の範囲第2項または第3項に記載の写真処理廃液の蒸
発濃縮処理装置。
(4) Evaporation of photographic processing waste liquid according to claim 2 or 3, wherein the liquid level sensor is installed in a communication pipe provided outside the evaporation pot. Concentration processing equipment.
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DE8888302493T DE3872012T2 (en) 1987-03-24 1988-03-22 METHOD FOR THE TREATMENT OF WASTEWATER FROM PHOTOPROCESSES BY MEANS OF VAPORIZATION BY EVAPORATION.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPS59186682A (en) * 1983-04-06 1984-10-23 Mitsubishi Heavy Ind Ltd Evaporating device for waste liquid

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