JPS63233950A - 3-hydroxyalkanoic acid derivative and production thereof - Google Patents

3-hydroxyalkanoic acid derivative and production thereof

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Publication number
JPS63233950A
JPS63233950A JP63032337A JP3233788A JPS63233950A JP S63233950 A JPS63233950 A JP S63233950A JP 63032337 A JP63032337 A JP 63032337A JP 3233788 A JP3233788 A JP 3233788A JP S63233950 A JPS63233950 A JP S63233950A
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JP
Japan
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group
formula
hydroxy
alkyl group
compound
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Application number
JP63032337A
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Japanese (ja)
Inventor
Takeshi Nakai
武 中井
Fumiyuki Shirai
文幸 白井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
Original Assignee
Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
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Publication date
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Abstract

NEW MATERIAL:A compound shown by formula I [R<1> is hydroxyalkyl which may be protected; R<2> is alkyl; R<3> is R<1>, H or alkyltrisubstituted silyl; R<4> is (substituted)OH or (substituted)amino or a salt thereof. EXAMPLE:5-Benzyloxy-2-[1-tertiary butyldimethylsilyloxyethyl)-3-hydroxy-N-me thoxy-4-methylpentanamide. USE:An intermediate for producing an 1-alkylcarbapenem compound having strong antibacterial action on many pathogenic bacteria. PREPARATION:For example, a compound shown by formula II is reacted with a compound shown by formula III (R<4> is substituted OH; R<5> is OH-protecting group) to give a corresponding compound shown by formula I.

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は新規3−ヒドロキシアルカン酸誘導体および
その塩類、ならびにその製造法に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to novel 3-hydroxyalkanoic acid derivatives and salts thereof, and methods for producing the same.

きらに詳細には、この発明は抗菌剤の製造中間体として
有用な新規3−ヒドロキシアルカン酸誘導体およびその
塩類ならびにその製造法に関する。
More specifically, the present invention relates to novel 3-hydroxyalkanoic acid derivatives and salts thereof useful as intermediates for the production of antibacterial agents, and methods for producing the same.

すなわち、この発明の目的の1つは多くの病原菌に対し
て強い抗菌作用を有する1−(低級)アルキルカルバペ
ネム化合物製造のために有用な中間体である新規3−ヒ
ドロキシアルカン酸誘導体およびその塩類を提供するこ
とにある。
That is, one of the objects of the present invention is to develop novel 3-hydroxyalkanoic acid derivatives and their salts, which are useful intermediates for the production of 1-(lower) alkylcarbapenem compounds that have strong antibacterial effects against many pathogenic bacteria. It is about providing.

この発明のもう一つの目的は3−ヒドロキシアルカン酸
誘導体およびその塩類の製造法を提供することにある。
Another object of the present invention is to provide a method for producing 3-hydroxyalkanoic acid derivatives and salts thereof.

この発明の3−ヒドロキシアルカン酸誘導体は下記一般
式で示すことができる。
The 3-hydroxyalkanoic acid derivative of this invention can be represented by the following general formula.

[式中、R1は保護されたまたは保護されていないヒド
ロキシ(低級)アルキル基、R2は低級アルキル基、R
3は水素、低級アルキル基、保護されたもしくは保護さ
れていないヒドロキシ(低級)アルキル基、またはトリ
置換シリル基、R4はヒドロキシ基、置換されたヒドロ
キシ基、アミノ基または保護きれたアミノ基を意味する
]またはその塩類。
[wherein R1 is a protected or unprotected hydroxy (lower) alkyl group, R2 is a lower alkyl group, R
3 means hydrogen, a lower alkyl group, a protected or unprotected hydroxy (lower) alkyl group, or a trisubstituted silyl group, R4 means a hydroxy group, a substituted hydroxy group, an amino group or a protected amino group ] or its salts.

この発明の目的化合物(I)においては、化合物(I)
の2位、3位および4位ならびに2位の置換基に、不斉
炭素原子に基づく光学活性異性体のような立体異性体対
1個以上が存在することがあるが、そのような異性体も
この発明の範囲内に包含されるものとする。
In the object compound (I) of this invention, compound (I)
One or more pairs of stereoisomers such as optically active isomers based on asymmetric carbon atoms may exist in the 2-, 3-, and 4-positions and the substituent in the 2-position, but such isomers shall also be included within the scope of this invention.

しかしながら、この発明の目的化合物(I)中、下記化
学式(I′)で示される化合物が最も好ましく、この発
明においては化合物(I′)の製造が高立体選択的に進
行した。
However, among the target compounds (I) of this invention, the compound represented by the following chemical formula (I') is most preferred, and in this invention, the production of compound (I') proceeded with high stereoselectivity.

。2 (式中、R、R、RおよびR4は前と同じ意味)または
その塩類。
. 2 (wherein R, R, R and R4 have the same meanings as before) or salts thereof.

すなわち、この発明の特徴は主として上記式(■′)の
光学活性化合物およびさらにその新規製造法にある。
That is, the features of the present invention mainly reside in the optically active compound of the above formula (■') and a novel method for producing the same.

目的化合物(I)および(I′)の好適な塩類としては
、無機塩基塩、その例として、例えばナトリウム塩、カ
リウム塩等のアルカリ金属塩、例えばカルシウム塩、マ
グネシウム塩等のアルカリ土類金属塩、アンモニウム塩
、有機塩基塩、その例として、例えばトリエチルアミン
塩、ピリジン塩、ピッリン塩、エタノールアミン塩、ト
リエタノールアミン塩、ジシクロヘキシルアミン塩、N
、N’ −ジベンジルエチレンジアミン塩等の有機アミ
ン塩等のような常用の塩基との塩類が挙げられる。
Suitable salts of the target compounds (I) and (I') include inorganic base salts, such as alkali metal salts such as sodium salts and potassium salts, and alkaline earth metal salts such as calcium salts and magnesium salts. , ammonium salts, organic base salts, such as triethylamine salts, pyridine salts, pilin salts, ethanolamine salts, triethanolamine salts, dicyclohexylamine salts, N
, organic amine salts such as N'-dibenzylethylenediamine salts, and salts with commonly used bases.

カルバペネム系抗生物質の分野においては、1β−メチ
ルカルバペネム化合物(A)がより高い化学的安定性お
よび代謝安定性を有するということは間知であるが、1
位の立体化学の制御がこの系のカルバペネム化合物合成
の重要な課題である。
In the field of carbapenem antibiotics, it is well known that 1β-methylcarbapenem compound (A) has higher chemical and metabolic stability;
Control of positional stereochemistry is an important issue in the synthesis of carbapenem compounds using this system.

(式中、Rはカルバペネム系抗生物質の分野における周
知の基を意味する)。
(wherein R means a group well known in the field of carbapenem antibiotics).

1β−メチルカルバペネム化合物の合成の最近の研究に
おいては、下記アゼチジノン化合物(B)が1β−メチ
ルカルバペネム化合物の合成に使用される最も重要な中
間体の一つであると考えられてきた。
In recent research on the synthesis of 1β-methylcarbapenem compounds, the following azetidinone compound (B) has been considered to be one of the most important intermediates used in the synthesis of 1β-methylcarbapenem compounds.

上記アゼチジノン化合物(B)は、例えば、下記反応式
■により製造することができる。
The azetidinone compound (B) can be produced, for example, by the following reaction formula (2).

反応式I ■ (日本特許公開公報第61−275267号)しかしな
がら、この方法は下記のような幾つかの欠点を有する。
Reaction Formula I (Japanese Patent Publication No. 61-275267) However, this method has several drawbacks as described below.

い)特殊かつ危険な試薬、すなわち”Bu2BOTfを
使用する。
b) Uses a special and dangerous reagent, namely "Bu2BOTf."

(i)高価なキラル試薬、すなわち、 ゴ。(i) expensive chiral reagents, i.e. Go.

(i)原料化合物4−アセトキシアゼチジン−2−オン
は、例えば下記反応式■に示すような工程で製造される
が、その製造は少々困難でありかつ収率が比較的低い。
(i) The raw material compound 4-acetoxyazetidin-2-one is produced, for example, by a process shown in the following reaction formula (2), but its production is somewhat difficult and the yield is relatively low.

区裟達」− OOH C00CH3 COOCH3 [テトラヘドロン(Tetrahedron )、第3
9巻、第15号、2505−2513頁、1983年]
上記欠点(i>−(i)を考慮すると、反応式■および
■の上記方法は、1β−メチルカルバペネム化合物の工
業的合成法として満足し得るものではないと言える。
- OOH C00CH3 COOCH3 [Tetrahedron, 3rd
Volume 9, No. 15, pp. 2505-2513, 1983]
Considering the above drawback (i>-(i)), it can be said that the above-mentioned methods of reaction formulas (1) and (2) are not satisfactory as industrial synthesis methods for 1β-methylcarbapenem compounds.

この発明の発明者等は従来の方法よりきらに優れた方法
を提供することに成功したが、この発明は1β−メチル
カルバペネム化合物の工業的合成にも賽易に適用するこ
とができる。
Although the inventors of this invention have succeeded in providing a method that is significantly superior to conventional methods, this invention can also be easily applied to the industrial synthesis of 1β-methylcarbapenem compounds.

この発明に従って、1−(低級)アルキルカルバペネム
化合物の全合成に使用されうる目的化合物(I)、その
塩類およびアゼチジノン誘導体は、下記反応式で示され
る製造法によって製造することができる。
According to this invention, the target compound (I), its salts, and azetidinone derivatives that can be used in the total synthesis of 1-(lower) alkylcarbapenem compounds can be produced by the production method shown in the reaction formula below.

製造法I (]I) またはその塩類 聚盗皇1 (Ib) またはその塩類 (Ic) またはその塩類 製造法3 (Id) もしくはそのヒドロキシ 基における反応性誘導体 またはその塩類 またはその塩類 製j0礼工 [式中、R,RおよびRはそれぞれ前と同じ意味であり
、R1は保護されたヒドロキシく低級〉アルキル基、R
は置換されたヒドロキシ基、Rbはヒドロキシ基または
置換されたヒドロキシ基、R・4はアミン基または保護
されたアミン基、Rdは保護きれたアミン基、Rはヒド
ロキシ保護基、R6はアミド保護基、R7は低級アルキ
ル基、R8は水素またはトリ置換シリル基を意味する] 化合物(V)、(■)またはその塩類は、後記製造例に
記載した方法により、カルバペネム化合物製造のための
公知でありかつ有用で重要な中間体であるアゼチジノン
化合物に容易に変化させることができる。
Production method I (]I) or salts thereof Jutohuo 1 (Ib) or salts thereof (Ic) or salts thereof Production method 3 (Id) or reactive derivatives at the hydroxyl group or salts thereof or salts thereof [In the formula, R, R and R each have the same meaning as before, R1 is a protected hydroxyl lower alkyl group, R
is a substituted hydroxy group, Rb is a hydroxy group or a substituted hydroxy group, R.4 is an amine group or a protected amine group, Rd is a protected amine group, R is a hydroxy protecting group, R6 is an amide protecting group , R7 means a lower alkyl group, R8 means hydrogen or a trisubstituted silyl group] Compounds (V), (■) or salts thereof are known for producing carbapenem compounds by the method described in the production example below. It can also be easily converted into azetidinone compounds, which are useful and important intermediates.

この明細書の記載において、この発明の範囲内に包含さ
れる種々の定義の好適な例および説明を以下詳細に述べ
る。
In this specification, preferred examples and explanations of various definitions falling within the scope of this invention will be described in detail below.

「低級」とは、特に指示がなければ、炭素原子1〜6個
を意味するものとする。
"Lower" shall mean 1 to 6 carbon atoms unless otherwise specified.

好適なr保護されていないヒドロキシ(低級)アルキル
基」としては、ヒドロキシメチル、ヒドロキシエチル、
ヒドロキシプロピル、1−(ヒドロキシメチル)エチル
、1−ヒドロキシ−1−メチルエチル、ヒドロキシブチ
ル、ヒドロキシペンチル、ヒドロキシヘキシル等のよう
な、ヒドロキシ基を有する直鎖または分枝鎖低級アルキ
ル基が挙げられ、それらの中でさらに好ましい例として
はヒドロキシ(01〜C,)アルキル基、最も好ましい
ものとしてはR1のヒドロキシメチル基およびR3の1
−ヒドロキシエチル基が挙げられる。
Suitable r-unprotected hydroxy (lower) alkyl groups include hydroxymethyl, hydroxyethyl,
Mention may be made of straight or branched lower alkyl groups having a hydroxy group, such as hydroxypropyl, 1-(hydroxymethyl)ethyl, 1-hydroxy-1-methylethyl, hydroxybutyl, hydroxypentyl, hydroxyhexyl, etc. Among them, more preferred examples are hydroxy(01-C,)alkyl groups, most preferred are hydroxymethyl group for R1 and 1 for R3.
-hydroxyethyl group.

好適な「保護されたヒドロキシ(低級)アルキル基」と
はヒドロキシ基が、後記アミド保護基の説明で述べるア
シル基のような常用のヒドロキシ保護基;およびさらに
例えばベンジル、ベンズヒドリル、トリチル等のモノ−
またはジーまたはトリフェニル(低級)アルキル基等の
ようなアル(低級)アルキル基;例えばトリメチルシリ
ル、トリエチルシリル、イソプロピルジメチルシリル、
第三級ブチルジメチルシリル、ジイソプロピルメチルシ
リル、テキシルジメチルシリル等のトリ(低級)アルキ
ルシリル基、例えばトリフェニルシリル等のトリアリー
ルシリル基、例えばトリベンジルシリル等のトリアル(
低級)アルキルシリル基等のようなトリ置換シリル基等
によって保護された前記ヒドロキシ(低級)アルキル基
を意味する。
A suitable "protected hydroxy (lower) alkyl group" means a hydroxy group which is a conventional hydroxy protecting group such as the acyl group described below in the description of the amide protecting group;
or a(lower) alkyl group such as di- or triphenyl(lower) alkyl group; e.g. trimethylsilyl, triethylsilyl, isopropyldimethylsilyl,
Tri(lower)alkylsilyl groups such as tertiary butyldimethylsilyl, diisopropylmethylsilyl, thexyldimethylsilyl, triarylsilyl groups such as triphenylsilyl, trial(
It means the aforementioned hydroxy(lower) alkyl group protected by a trisubstituted silyl group such as a lower) alkylsilyl group.

このような意味における「保護されたヒドロキシ(低級
)アルキル基ヨのさらに好ましい例としては、(フェニ
ル(またはニトロフェニル)(01〜C4)アルコキシ
)カルボニルオキシ(C〜C)アルキルL  (フェニ
ル(01〜C)アルコキシ)(01〜C4)アルキル基
および(トリ(C1〜C4)アルキルシリルオキシ)(
01〜C4)アルキル基が挙げられ、最も好ましいもの
としてはRおよびR1のベンジルオキシメチル基、R3
の1−トリメチルシリルオキシエチル基、1−トリエチ
ルシリルオキシエチル基および1−第三級ブチルジメチ
ルシリルオキシエチル基が挙げられる。
A more preferable example of the protected hydroxy (lower) alkyl group in this sense is (phenyl (or nitrophenyl) (01-C4) alkoxy) carbonyloxy (C-C) alkyl L (phenyl (01 -C)alkoxy)(01-C4)alkyl group and (tri(C1-C4)alkylsilyloxy)(
01-C4) alkyl groups, most preferably R and R1 benzyloxymethyl groups, R3
1-trimethylsilyloxyethyl group, 1-triethylsilyloxyethyl group and 1-tert-butyldimethylsilyloxyethyl group.

R7の好適な「低級アルキル基」は炭素原子1〜5個を
意味するものとする。
A suitable "lower alkyl group" for R7 shall mean 1 to 5 carbon atoms.

好適な「低級アルキル基、としては、メチル、エチル、
プロピル、イソプロピル、ブチル、第三級ブチル、ペン
チル、ヘキシル等の直鎖または分枝鎖アルキル基が挙げ
られ、それらの中でさらに好ましい例としては01〜C
4アルキル基が挙げられ、最も好ましいものとしては、
R2およびR7のメチル基、およびR3のエチル基が挙
げられる。
Suitable lower alkyl groups include methyl, ethyl,
Straight chain or branched chain alkyl groups such as propyl, isopropyl, butyl, tertiary butyl, pentyl, hexyl, etc. are mentioned, and among them, more preferred examples include 01-C
4 alkyl groups, most preferably,
Examples include methyl groups for R2 and R7, and ethyl groups for R3.

好適な「トリ置換シリル基、としては前記保護されたヒ
ドロキシ(低級)アルキル基の説明で述べたものと同じ
ものが挙げられ、それらの中でさらに好ましいものとし
てはトリ(01〜C4)アルキルシリル基、最も好まし
いものとしてはトリメチルシリル基が挙げられる。
Suitable tri-substituted silyl groups include the same groups as mentioned above for the protected hydroxy (lower) alkyl group, and more preferred among them are tri-(01-C4) alkylsilyl groups. The most preferred group is trimethylsilyl group.

好適な「置換されたヒドロキシ基」としては、例えばメ
トキシ、エトキシ、プロポキシ、インプロポキシ、ブト
キシ、インブトキシ、第三級ブトキシ、ペンチルオキシ
、ヘキシルオキシ等の低級アルコキシ基が挙げられ、こ
れらは適当な置換基を少なくとも1個有していてもよく
、例えばアセトキシメトキシ、プロピオニルオキシメト
キシ、ブチリルオキシメトキシ、バレリルオキシメトキ
シ、ピバロイルオキジメトキシ、ヘキサノイルオキシメ
トキシ、1−(または2−)アセトキシエトキシ、1−
(または2−または3−)アセトキシプロポキシ、1−
(または2−または3−または4−)アセトキシブトキ
シ、1−(または2−)プロピオニルオキシエトキシ、
1−(または2−または3−)プロピオニルオキジプロ
ポキシ、1−(または2〉−ブチリルオキシエトキシ、
1−(または2−)イソブチリルオキシエトキシ、1−
(または2−)ピバロイルオキシエトキシ、1−(また
は2−)ヘキサノイルオキシエトキシ、イソブチリルオ
キシメトキシ、2−エチルブチリルオキシメトキシ、3
.3−ジメチルブチリルオキシメトキシ、1−(または
2−)ペンタノイルオキシエトキシ等の低級プルカッイ
ルオキシ(低級)アルコキシ基、例えば2−メシルエト
キシ等の低級アルカンスルホニル(低級)アルフキシ基
、例えば2−ヨードエトキシ、2,2.2−トリクロロ
エトキシ等のモノ(またはジまたはトリ)ハロ(低級)
アルコキシ基、例えばメトキシカルボニルオキシメトキ
シ、エトキシカルボニルオキジメトキシ、プロポキシカ
ルボニルオキシメトキシ、第三級ブトキシカルボニルオ
キシメトキシ、2−メトキシカルボニルオキシエトキシ
、1−エトキシカルボニルオキシエトキシ プロポキシカルボニルオキシエトキシ等の低級アルコキ
シカルボニルオキシ(低級)アルコキシ基、フタリジリ
デン(低級)アルコキシ基、または例えば(5−メチル
−2−オキソ−1.3−ジオキソ−ルー4−イル)メト
キシ、(5−エチル−2−オキソ−1,3−ジオキソ−
ルー4−イル)メトキシ、(5−プロピル−2−オキソ
−1、3−ジオキソ−ルー4−イル)エトキシ等の[5
−(低級)アルキル−2−才キソー1.3−ジオキソ−
ルー4−イルコ(低級)アルコキシ基;例えばビニルオ
キシ、アリルオキシ等の低級アルケニルオキシ基;例え
ばエチニルオキシ、プロピニルオキシ等の低級アルキニ
ルオキシ基;例えばベンジルオキシ、4−メトキンベン
ジルオキシ、4−ニトロベンジルオキシ、フェネチルオ
キシ、トリチルオキシ、ベンズヒドリルオキシ、ビス(
メトキシフェニル)メトキシ、3.4−ジメトキシベン
ジルオキシ、4−ヒドロキシ−3,5−ジ第三級ブチル
ベンジルオキシ等の、適当な置換基を少なくとも1個有
していてもよいアル(低級)アルコキシ基;例えばフェ
ノキシ、4−クロロフェノキシ、トリルオキシ、第三級
ブチルフェノキシ、キシリルオキシ、メシチルオキシ、
クメニルオキシ等の、適当な置換基少なくとも1個を有
していてもよいアリールオキシ基;フタリジルオキシ基
等がその例として挙げられる。
Suitable "substituted hydroxy groups" include, for example, lower alkoxy groups such as methoxy, ethoxy, propoxy, impropoxy, butoxy, imbutoxy, tertiary butoxy, pentyloxy, hexyloxy, etc. It may have at least one substituent, such as acetoxymethoxy, propionyloxymethoxy, butyryloxymethoxy, valeryloxymethoxy, pivaloyloxymethoxy, hexanoyloxymethoxy, 1-(or 2-)acetoxy ethoxy, 1-
(or 2- or 3-)acetoxypropoxy, 1-
(or 2- or 3- or 4-)acetoxybutoxy, 1-(or 2-)propionyloxyethoxy,
1-(or 2-or 3-)propionyloxypropoxy, 1-(or 2>-butyryloxyethoxy,
1-(or 2-)isobutyryloxyethoxy, 1-
(or 2-)pivaloyloxyethoxy, 1-(or 2-)hexanoyloxyethoxy, isobutyryloxymethoxy, 2-ethylbutyryloxymethoxy, 3
.. Lower plucyloxy (lower) alkoxy groups such as 3-dimethylbutyryloxymethoxy, 1-(or 2-)pentanoyloxyethoxy, lower alkanesulfonyl (lower) alkoxy groups such as 2-mesylethoxy, e.g. - Mono (or di or tri) halo (lower) such as iodoethoxy, 2,2,2-trichloroethoxy, etc.
Alkoxy groups, such as lower alkoxycarbonyloxy such as methoxycarbonyloxymethoxy, ethoxycarbonyloxydimethoxy, propoxycarbonyloxymethoxy, tertiary butoxycarbonyloxymethoxy, 2-methoxycarbonyloxyethoxy, 1-ethoxycarbonyloxyethoxypropoxycarbonyloxyethoxy (lower) alkoxy group, phthalidylidene (lower) alkoxy group, or for example (5-methyl-2-oxo-1,3-dioxo-4-yl)methoxy, (5-ethyl-2-oxo-1,3- Dioxo
[5-4-yl)methoxy, (5-propyl-2-oxo-1,3-dioxo-4-yl)ethoxy, etc.
-(lower)alkyl-2-dioxo-1,3-dioxo-
-4-ylco(lower)alkoxy group; lower alkenyloxy group such as vinyloxy, allyloxy; lower alkynyloxy group such as ethynyloxy, propynyloxy; e.g. benzyloxy, 4-methquinbenzyloxy, 4-nitrobenzyloxy , phenethyloxy, trityloxy, benzhydryloxy, bis(
Al (lower) alkoxy which may have at least one suitable substituent such as methoxyphenyl)methoxy, 3,4-dimethoxybenzyloxy, 4-hydroxy-3,5-ditertiary butylbenzyloxy, etc. Groups; for example, phenoxy, 4-chlorophenoxy, tolyloxy, tert-butylphenoxy, xylyloxy, mesityloxy,
Examples thereof include an aryloxy group which may have at least one suitable substituent such as cumenyloxy; a phthalidyloxy group, and the like.

「置換されたヒドロキシ基」のびらに好ましい例として
は、01〜C4アルフキシ基、最も好ましいものとして
はメトキシ基およびエトキシ基が挙げられる。
Preferred examples of the "substituted hydroxy group" include 01-C4 alkoxy groups, most preferably methoxy and ethoxy groups.

このような意味における「置換されたヒドロキシ基」は
隣接1カルボニル(co−)Jと結合して、いわゆるエ
ステル化されたカルボキシ基を形成することができる。
A "substituted hydroxy group" in this sense can be combined with an adjacent carbonyl (co-)J to form a so-called esterified carboxy group.

好適な1ヒドロキシ保護基」とは、前記保護されたヒド
ロキシ(低級)アルキル基の説明で述べたような常用の
ヒドロキシ保護基を意味し、それらの中でさらに好まし
い例としてはトリ(C1〜C4)アルキルシリル基が挙
げられ、最も好ましいものとしてはトリメチルシリル基
およびトリエチルシリル基が挙げられる。
"Suitable 1-hydroxy protecting group" refers to commonly used hydroxy protecting groups such as those mentioned in the explanation of the protected hydroxy (lower) alkyl group, among which more preferred examples include tri(C1-C4 ) alkylsilyl groups, most preferably trimethylsilyl groups and triethylsilyl groups.

好適な「保護きれたアミノ基」としては、例えばメトキ
シ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ
、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ等の低級アルコキシ
基、例えばベンジルオキシ、フェネチルオキシ、トリチ
ルオキシ、ベンズヒドリルオキシ等のアル(低級)アル
コキシ基等のような常用のアミノ保護基で置換きれたア
ミン基が挙げられ、さらに好ましい保護基としてはC 
−C アルコキシ基およびフェニル(01〜C4)アル
コキシ基、最も好ましいものとしてはメトキシ基および
ベンジルオキシ基が挙げられる。
Suitable "protected amino groups" include lower alkoxy groups such as methoxy, ethoxy, propoxy, isopropoxy, butoxy, pentyloxy, hexyloxy, etc., such as benzyloxy, phenethyloxy, trityloxy, benzhydryloxy, etc. Examples include amine groups substituted with commonly used amino protecting groups such as Al (lower) alkoxy groups, and more preferred protecting groups include C
-C alkoxy groups and phenyl(01-C4) alkoxy groups, most preferably methoxy and benzyloxy groups.

好適な「アミド保護基」としては、例えばメトキシ、エ
トキシ、プロポキシ、インプロポキシ、ブトキシ、ペン
チルオキシ、ヘキシルオキシ等の低級アルコキシ基;例
えばベンジルオキシ、フェネチルオキシ、トリチルオキ
シ、ベンズヒドリルオキシ等のアル(低級)アルコキシ
基;カルボン酸、次酸、スルホン酸およびカルバミン酸
から誘導されたカルバモイル基、脂肪族アシル基、芳香
族アシル基、複素環アシル基および芳香族基または複素
環基で置換された脂肪族アシル基等の常用のアミド保護
基が挙げられる。
Suitable "amide protecting groups" include, for example, lower alkoxy groups such as methoxy, ethoxy, propoxy, impropoxy, butoxy, pentyloxy, and hexyloxy; (lower) alkoxy group; substituted with carbamoyl, aliphatic acyl, aromatic acyl, heterocyclic acyl, and aromatic or heterocyclic groups derived from carboxylic acids, hypoacids, sulfonic acids, and carbamic acids Commonly used amide protecting groups such as aliphatic acyl groups may be mentioned.

脂肪族アシル基としては飽和または不飽和、非環式また
は環式アシル基、例えばホルミル、アセチル、プロピオ
ニル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、イソバレリ
ル、ピバロイル、ヘキサノイル等の低級アルカノイル基
のようなアルカノイル基、例えばメシル、エチルスルホ
ニル、プロピルスルホニル、イソプロピルスルホニル、
ブチルスルホニル、インブチルスルホニル、ベンチルス
ルホニル、ヘキシルスルホニル等の低級アルキルスルホ
ニル基のようなアルキルスルホニル基、例えばメチル力
ルバモイノ呟エチルカルバモイルのN−アルキルカルバ
モイル基、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボ
ニル、プロポキシカルボニル、ブトキシカルボ二ノ呟第
三級ブトキシカルボニル等の低級アルフキジカルボニル
基のようなアルコキシカルボニル基、例えばアクリロイ
ル、メタクリロイル、クロトノイル等の低級アルケノイ
ル基のようなアルケノイル基、例えばシクロプロパンカ
ルボニル、シクロベンクンカルボニル、シクロヘキサン
カルボニル等のシクロ(低級)アルカンカルボニル基の
ようなシクロアルカンカルボニル基等がその例として挙
げられる。
Aliphatic acyl groups include saturated or unsaturated, acyclic or cyclic acyl groups, such as lower alkanoyl groups such as formyl, acetyl, propionyl, butyryl, isobutyryl, valeryl, isovaleryl, pivaloyl, hexanoyl, etc., e.g. mesyl, ethylsulfonyl, propylsulfonyl, isopropylsulfonyl,
Alkylsulfonyl groups such as lower alkylsulfonyl groups such as butylsulfonyl, imbutylsulfonyl, benzylsulfonyl, hexylsulfonyl, etc., N-alkylcarbamoyl groups such as methylcarbamoyl, ethylcarbamoyl, etc., such as methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, propoxycarbonyl, Alkoxycarbonyl groups such as lower alkoxycarbonyl groups such as butoxycarbonyl, tertiary butoxycarbonyl, alkenoyl groups such as lower alkenoyl groups such as acryloyl, methacryloyl, crotonoyl, etc., such as cyclopropanecarbonyl, cyclobencunecarbonyl, Examples include cycloalkanecarbonyl groups such as cyclo(lower)alkanecarbonyl groups such as cyclohexanecarbonyl.

芳香族アシル基としては、例えばベンゾイル、トルオイ
ノ呟キシロイル等のアロイル基、例えばN−フェニルカ
ルバモイル、N−トリルカルバモイル、N−ナフチルカ
ルバモイル等のN−アリールカルバモイル基、例えばベ
ンゼンスルホニル、トシル等のアレーンスルホニル基等
が挙げられる。
Examples of the aromatic acyl group include aroyl groups such as benzoyl and toluoylcarbamoyl, N-arylcarbamoyl groups such as N-phenylcarbamoyl, N-tolylcarbamoyl, and N-naphthylcarbamoyl, and arenesulfonyl groups such as benzenesulfonyl and tosyl. Examples include groups.

複素環アシル基としては、例えばフロイル、テノイル、
ニコチノイル、インニッチノイル、チアゾリルカルボニ
ル、チアジアゾリルカルボニル、テトラゾリルカルボニ
ル等の複素環カルボニル基等が挙げられる。
Examples of the heterocyclic acyl group include furoyl, thenoyl,
Examples include heterocyclic carbonyl groups such as nicotinoyl, innicinoyl, thiazolylcarbonyl, thiadiazolylcarbonyl, and tetrazolylcarbonyl.

芳香族基で置換された脂肪族アシル基としては、イ列え
ばフェニルアセチル、フェニルプロピオニル、フェニル
ヘキサノイル等のフェニル(低級)アルカノイル基のよ
うなアラルカッイル基、例えばベンジルオキシカルボニ
ル、フェネチルオキシカルボニル等のフェニル(低級)
アルコキシカルボニル基のようなアラルフキジカルボニ
ル基、例えばフェノキシアセチル、フェノキシプロピオ
ニル等のフェノキシ(低級)アルカノイル基のようなア
リールオキジアルカノイル基等が挙げられる。
Examples of aliphatic acyl groups substituted with aromatic groups include aralkayl groups such as phenyl (lower) alkanoyl groups such as phenylacetyl, phenylpropionyl, and phenylhexanoyl, such as benzyloxycarbonyl, phenethyloxycarbonyl, etc. Phenyl (lower)
Examples thereof include aralkyl carbonyl groups such as alkoxycarbonyl groups, and aryloxydialkanoyl groups such as phenoxy (lower) alkanoyl groups such as phenoxyacetyl and phenoxypropionyl.

複素環基で置換された脂肪族アシル基としては、例えば
チェニルアセチル、イミダゾリルアセチル、フリルアセ
チル、テトラゾリルアセチル、チアゾリルアセチル、チ
アジアゾリルアセチル、チェニルプロピオニル、チアジ
アゾリルプロピ才二ル等の複素環(低級)アルカノイル
基のような複素環アルカノイル基等が挙げられる。
Examples of the aliphatic acyl group substituted with a heterocyclic group include thhenylacetyl, imidazolylacetyl, furylacetyl, tetrazolylacetyl, thiazolyl acetyl, thiadiazolylacetyl, thenylpropionyl, thiadiazolylpropylene Examples include heterocyclic alkanoyl groups such as heterocyclic (lower) alkanoyl groups such as

これらのアシル基はさらに、例えばメチル、エチル、プ
ロピル、イソプロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル等
の低級アルキル基、例えば塩素、臭素、沃素、フッ素の
ようなハロゲン、例えばメトキシ、エトキシ、プロポキ
シ、インプロポキシ、ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキ
シルオキシ等の低級アルコキシ基、例えばメチルチオ、
エチルチオ、プロピルチオ、イソプロピルチオ、ブチル
チオ、ペンチルチオ、ヘキシルチオ等の低級アルキルチ
オ基、ニトロ基等のような適当な置換基1個以上で置換
されていてもよく、そのような置換基を有する好ましい
アシル基としては、例えばクロロアセチル、ブロモアセ
チル、ジクロロアセチル、トリフルオロアセチル等のモ
ノ(またはジまたはトリ)ハロアルカノイル基、例えば
クロロメトキシカルボニル ル、2,2.2−トリクロロエトキシカルボニル等のモ
ノ(またはジまたはトリ)ハロアルコキシカルホニル基
、例えばニトロベンジルオキシカルボニル、クロロベン
ジルオキシカルボニル、メトキシベンジルオキシカルボ
ニル等のニトロ(またはハロまたは低級アルコキシ)ア
ラルコキシカルボニル基、例えばフルオロメチルスルホ
ニJL−,ジフルオロメチルスルホニル、トリフルオロ
メチルスルホニル、トリクロロメチルスルホニル等のモ
ノ(またはジまたはトリ)ハロ低級アルキルスルホニル
基等が挙げられる。
These acyl groups may further include lower alkyl groups such as methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, pentyl, hexyl, halogens such as chlorine, bromine, iodine, fluorine, methoxy, ethoxy, propoxy, impropoxy, Lower alkoxy groups such as butoxy, pentyloxy, hexyloxy, e.g. methylthio,
It may be substituted with one or more suitable substituents such as a lower alkylthio group such as ethylthio, propylthio, isopropylthio, butylthio, pentylthio, hexylthio, etc., a nitro group, etc. Preferred acyl groups having such substituents include is a mono(or di- or tri)haloalkanoyl group such as chloroacetyl, bromoacetyl, dichloroacetyl, trifluoroacetyl, mono(or di- or tri)haloalkanoyl group such as chloromethoxycarbonyl, 2,2.2-trichloroethoxycarbonyl, etc. tri)haloalkoxycarbonyl groups, such as nitrobenzyloxycarbonyl, chlorobenzyloxycarbonyl, methoxybenzyloxycarbonyl, nitro (or halo or lower alkoxy) aralkoxycarbonyl groups, such as fluoromethylsulfonyJL-, difluoromethyl Examples include mono(or di- or tri)halo-lower alkylsulfonyl groups such as sulfonyl, trifluoromethylsulfonyl, and trichloromethylsulfonyl.

このような意味における1アミド保護基」のきらに好ま
しい例としてはC1〜C4アルコキシ基およびフェニル
(01〜C4)アルコキシ基が挙げられ、最も好ましい
ものとしてはメトキシ基およびベンジルオキシ基が挙げ
られる。
Preferred examples of the "1-amide protecting group" in this sense include a C1-C4 alkoxy group and a phenyl(01-C4) alkoxy group, and most preferred examples include a methoxy group and a benzyloxy group.

目的化合物(I)、それから誘導されるアゼチジノン化
合物およびそれらの塩類の製造法を以下詳細に説明する
The method for producing the target compound (I), the azetidinone compound derived therefrom, and the salts thereof will be explained in detail below.

(1)製造法1 化合物(Ia)またはその塩類は、化合物(I[)を化
合物(I[I)またはその塩類と反応させることにより
製造することができる。
(1) Production method 1 Compound (Ia) or a salt thereof can be produced by reacting compound (I[) with compound (I[I) or a salt thereof.

化合物(Ia)および(I[[)の好適な塩類としては
、化合物(I)について掲げたような塩基との塩類が挙
げられる。
Suitable salts of compounds (Ia) and (I[[) include salts with bases such as those listed for compound (I).

化合物(I[[)は、例えばジャーナル・オブ・オルガ
ニック・ケミストリー(J、 Org、 Chem、 
)第45巻、237頁、1980年またはシンセチック
・コミュニケーション(5ynth、 Commun、
 )第3巻、67頁、1973年に記載されている周知
の方法を若干修正した方法により製造することができる
Compound (I[[) is published, for example, in the Journal of Organic Chemistry (J, Org, Chem,
) Volume 45, p. 237, 1980 or Synthetic Communication (5ynth, Commun,
), Vol. 3, p. 67, 1973, by a slightly modified method.

この反応においては、(Ia)の3.4−アンチ化合物
が、とりわけR3が低級アルキル基、トリ置換シリル基
または光学活性の保護されたヒドロキシ(低級)アルキ
ル基であ場合には、主として製造される。
In this reaction, the 3,4-anti compound of (Ia) is mainly produced, especially when R3 is a lower alkyl group, a trisubstituted silyl group or an optically active protected hydroxy (lower) alkyl group. Ru.

この反応で化合物(Ia)を高立体選択的に得るために
は、正確な量のルイス酸の存在下、好ましくは化合物(
II)に対して当量の存在下に行うのが好ましい。
In order to obtain compound (Ia) with high stereoselectivity in this reaction, compound (Ia) is preferably obtained in the presence of an accurate amount of Lewis acid.
Preferably, this is carried out in the presence of an equivalent amount to II).

ルイス酸の好適な例としては、例えば塩化アルミニウム
、臭化アルミニウム等のアルミニウムハロゲン化物、例
えば三塩化ホウ素、三フッ化ホウ素、三フッ化ホウ素エ
ーテル付加物等のトリハロゲン化ホウ素、例えば塩化亜
鉛、臭化亜鉛等のハロゲン化亜鉛、例えば塩化第二スズ
等のハロゲン化第二スズ、例えば塩化チタン(IV>等
のハロゲン化チタン、例えばチタン(IV)インプロポ
キシド等のチタン(低級)アルコキシド等、またはそれ
らの混合物が挙げられる。
Suitable examples of Lewis acids include aluminum halides such as aluminum chloride and aluminum bromide, boron trihalides such as boron trichloride, boron trifluoride, and boron trifluoride ether adducts, such as zinc chloride, Zinc halides such as zinc bromide, stannic halides such as stannic chloride, titanium halides such as titanium chloride (IV), titanium (lower) alkoxides such as titanium (IV) impropoxide, etc. , or a mixture thereof.

この反応はジエチルエーテル、トルエン、ベンゼン、ク
ロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン等のよう
な反応に悪影響を及ぼさない常用の溶媒中、またはそれ
らの混合物中で行うことができる。
This reaction can be carried out in conventional solvents that do not adversely affect the reaction, such as diethyl ether, toluene, benzene, chloroform, dichloromethane, dichloroethane, etc., or mixtures thereof.

この反応の反応温度は特に限定されないが、通常は冷却
下ないし加温下に反応が行われる。
The reaction temperature for this reaction is not particularly limited, but the reaction is usually carried out under cooling or heating.

R3がトリ置換シリル基である場合には、トリ置換シリ
ル基は例えばフッ化カリウム等のアルカリ金属フッ化物
による処理で下記反応式のように容易に脱離することが
できる。
When R3 is a tri-substituted silyl group, the tri-substituted silyl group can be easily eliminated, for example, by treatment with an alkali metal fluoride such as potassium fluoride as shown in the reaction formula below.

(Ie)          (If)またはその塩類
      またはその塩類(式中、R,RおよびR4
はそれぞれ前と同じ意味であり、R3はトリ置換シリル
基を意味する)。
(Ie) (If) or its salts or its salts (wherein R, R and R4
each has the same meaning as before, and R3 means a trisubstituted silyl group).

化合物(Ie)および(If)の好適な塩類としては、
化合物(I)の塩類と同じものが挙げられる。
Suitable salts of compounds (Ie) and (If) include:
The same salts as compound (I) can be mentioned.

この反応は水、例えばメタノール、エタノール、プロパ
ツール等のアルコール、ジオキサン、アセトニトリル、
クロロホルム、ジクロロメタン、ヘキサメチルホスホラ
ミド、ジクロロエタン、テトラヒドロフラン、酢酸エチ
ル、ジメチルスルホキシド、N、N−ジメチルホルムア
ミド、ピリジン等のような反応に悪影響を及ぼさない慣
用の溶媒中、またはそれらの混合物中で行うことができ
る。
This reaction involves water, alcohols such as methanol, ethanol, propatool, dioxane, acetonitrile,
in a customary solvent that does not adversely affect the reaction, such as chloroform, dichloromethane, hexamethylphosphoramide, dichloroethane, tetrahydrofuran, ethyl acetate, dimethyl sulfoxide, N,N-dimethylformamide, pyridine, etc., or in a mixture thereof. Can be done.

この反応の反応温度は特に限定されないが、通常は冷却
下ないし加温下に反応が行われる。
The reaction temperature for this reaction is not particularly limited, but the reaction is usually carried out under cooling or heating.

R3が保護されたまたは保護されていないヒドロキシ(
低級)アルキル基である場合には、塩化チタン(IV)
とチタン(It/)インプロポキシドとを混合(モル比
3:1)することにより調製した三塩化インプロポキシ
チタン(■)、[TiC130CH(CH3)2]を使
用するのが好ましい。
R3 is a protected or unprotected hydroxy (
(lower) alkyl group, titanium(IV) chloride
It is preferable to use titanium trichloride (■), [TiC130CH(CH3)2], prepared by mixing (mol ratio 3:1) with titanium (It/)impropoxide.

またさらに、R3が保護された1−ヒドロキシ(低級)
アルキル基である場合には、化合物(Ia)を高立体選
択的に得るために、光学活性(IR)−1−ヒドロキシ
(低級)アルキル基を使用するのが好ましい。
Furthermore, R3 is protected 1-hydroxy (lower)
In the case of an alkyl group, it is preferable to use an optically active (IR)-1-hydroxy (lower) alkyl group in order to obtain compound (Ia) with high stereoselectivity.

R3が保護されたヒドロキシ(低級)アルキル基である
場合には、ヒドロキシ保護基は目的化合物(■8)中で
脱離されることもあるが、生成するヒドロキン(低級)
アルキル基は後記実施例に示すように常法により容易に
保護されうる。
When R3 is a protected hydroxy (lower) alkyl group, the hydroxy protecting group may be eliminated in the target compound (■8), but the resulting hydroquine (lower)
Alkyl groups can be easily protected by conventional methods as shown in the Examples below.

(2)製造法2 化合物(Ic)またはその塩類は、化合物(Ib)また
はその塩類を化合物(IV)もしくはその反応性誘導体
またはその塩類と反応させることにより製造することが
できる。
(2) Production method 2 Compound (Ic) or a salt thereof can be produced by reacting compound (Ib) or a salt thereof with compound (IV) or a reactive derivative thereof or a salt thereof.

化合物(Ib)および(Ic)の好適な塩類としては、
化合物(I)の塩類と同じ塩類が挙げられる。
Suitable salts of compounds (Ib) and (Ic) include:
The same salts as those of compound (I) can be mentioned.

化合物(IV)の好適な塩類としては、例えば塩酸塩、
臭化水素酸塩、硫酸塩、燐酸塩等の無機酸付加塩、例え
ばギ酸塩、酢酸塩、トリフルオロ酢酸塩、マレイン酸塩
、酒石酸塩、メタンスルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸
塩、トルエンスルホン酸塩等の有機酸付加塩等が挙げら
れる。
Suitable salts of compound (IV) include, for example, hydrochloride,
Inorganic acid addition salts such as hydrobromides, sulfates, phosphates, such as formates, acetates, trifluoroacetates, maleates, tartrates, methanesulfonates, benzenesulfonates, toluenesulfonic acids Examples include organic acid addition salts such as salts.

Rbがヒドロキシ基である化合物(Ib)は、化合物(
Ia)を常法により加水分解することにより製造するこ
とができる。
Compound (Ib) in which Rb is a hydroxy group is a compound (
It can be produced by hydrolyzing Ia) in a conventional manner.

化合物(IV)の好適な反応性誘導体は、5ynth。A preferred reactive derivative of compound (IV) is 5ynth.

Commun、第12巻、989頁、1982年に記載
されている方法と同様な方法で、化合物(II/)また
はその塩類をトリ(低級)アルキルアルミニウムと反応
させることにより製造することができる。
It can be produced by reacting compound (II/) or a salt thereof with a tri(lower)alkylaluminum in a manner similar to that described in Common, Vol. 12, p. 989, 1982.

R6がヒドロキシ基である場合には、化合物(Ib)の
化合物(IV)またはその塩類との反応は、イ列えばN
、N’−ジエチルカルボジイミド、N。
When R6 is a hydroxy group, the reaction of compound (Ib) with compound (IV) or a salt thereof can be performed using, for example, N
, N'-diethylcarbodiimide, N.

N′−ジイソプロピルカルボジイミド、N、N’−ンシ
クロヘキシルカルボジイミド、N−シクロヘキシル−N
′−モルホリノエチルカルホシイミド、8−シクロへキ
シル−N’−(4−ジエチルアミノシクロへキシル)カ
ルボジイミド、N−エチル−N’ −(3−ジメチルア
ミノプロピルボジイミド、その塩酸塩等のカルボジイミ
ドまたは水溶性カルボジイミド化合物: N,N’ −
カルボニルジイミダゾール、N,N’ −カルボニルビ
ス(2−メチルイミダゾール);例えばペンタメチレン
ケテンイミン−N−シクロヘキシルイミン、ジフェニル
ケテン−N−シクロヘキシルイミン等のケテンイミン化
合物;エトキシアセチレン;1−アルフキシー1−クロ
ロエチレン;ポリ燐酸エチル;ポリ燐酸イソプロピル;
トリフェニルホスフィンと四塩化炭素またはジアゼンジ
力ルポキシレートとの組合わせ;2−エチル−7−ヒド
ロキシベンズインキサゾリウム塩;2−エチル−5−(
m−スルホフェニル)イソキサゾリウムヒドロキシド分
子内塩;1−(p−クロロベンゼンスルホニルオキシ)
−6−クロロ−IH−ベンゾトリアゾール、N.N−ジ
メチルホルムアミドと塩化チオニル、ホスゲン、オキシ
塩化燐等との反応によって調製したいわゆるビルスマイ
ヤー試薬等のような慣用の縮合剤の存在下に行うのが好
ましい。
N'-diisopropylcarbodiimide, N,N'-cyclohexylcarbodiimide, N-cyclohexyl-N
'-morpholinoethylcarfosiimide, 8-cyclohexyl-N'-(4-diethylaminocyclohexyl)carbodiimide, N-ethyl-N'-(3-dimethylaminopropylbodiimide, its hydrochloride, etc.) or Water-soluble carbodiimide compound: N,N'-
Carbonyldiimidazole, N,N'-carbonylbis(2-methylimidazole); Ketenimine compounds such as pentamethyleneketeneimine-N-cyclohexylimine, diphenylketene-N-cyclohexylimine; Ethoxyacetylene; 1-alfoxy-1-chloro Ethylene; Ethyl polyphosphate; Isopropyl polyphosphate;
Combination of triphenylphosphine and carbon tetrachloride or diazendirupoxylate; 2-ethyl-7-hydroxybenziinxazolium salt; 2-ethyl-5-(
m-sulfophenyl) isoxazolium hydroxide inner salt; 1-(p-chlorobenzenesulfonyloxy)
-6-chloro-IH-benzotriazole, N. Preferably it is carried out in the presence of a conventional condensing agent such as the so-called Vilsmeier reagent prepared by the reaction of N-dimethylformamide with thionyl chloride, phosgene, phosphorus oxychloride and the like.

この反応は通常、水、ジオヤサン、アセトニトリル、ク
ロロホルム、ジクロロメタン、トルエン、ヘキサメチル
ホスホラミド、ジクロロエタン、テトラヒドロフラン、
ヘキサン、酢酸エチル、ジメチルスルホキシド、N,N
−ジメチルホルムアミド、ピリジン等のような反応に悪
影響を及ぼさない常用の溶媒中、またはそれらの混合物
中で行われる。
This reaction typically involves water, dioyasane, acetonitrile, chloroform, dichloromethane, toluene, hexamethylphosphoramide, dichloroethane, tetrahydrofuran,
hexane, ethyl acetate, dimethyl sulfoxide, N,N
- carried out in customary solvents that do not adversely affect the reaction, such as dimethylformamide, pyridine, etc., or in mixtures thereof.

この反応の反応温度は特に限定されないが、通常は冷却
下ないし加温下に反応が行われる。
The reaction temperature for this reaction is not particularly limited, but the reaction is usually carried out under cooling or heating.

(3)1激迭ユ 化合物(V)またはその塩類は、化合物(Id)もしく
はそのヒドロキシ基における反応性誘導体またはその塩
類を環化することにより製造することができる。
(3) Compound (V) or a salt thereof can be produced by cyclizing compound (Id) or a reactive derivative thereof at a hydroxy group or a salt thereof.

化合物(Id>および(V)の好適な塩類としては、化
合物(1>の塩類と同じものが挙げられる。
Suitable salts for compounds (Id> and (V)) include the same salts as for compound (1>).

化合物(Id)のヒドロキシ基における反応性誘導体の
好適な例としては、例えばクロリド、プロミド、ヨーダ
イト等のハロゲン化物、例えばメタンスルホネート、ベ
ンゼンスルホネート、トルエンスルホネート等のスルホ
ネート化合物などの慣用のものが挙げられ、好ましくは
スルホネート化合物が、特に好ましくは、メタンスルホ
ネートが挙げられる。
Suitable examples of reactive derivatives at the hydroxy group of compound (Id) include conventional ones such as halides such as chloride, bromide and iodite, and sulfonate compounds such as methanesulfonate, benzenesulfonate and toluenesulfonate. , preferably sulfonate compounds, particularly preferably methanesulfonate.

この反応は例えばトリフェニルホスフィン等のトリアリ
ールホスフィンまたは例えば亜燐酸トリフェニル等の亜
燐酸トリアリールと、例えばアゾジカルボン酸ジメチル
、アゾジカルボン酸ジエチル等、好ましくはアゾジカル
ボン酸ジメチルのようなアゾジカルボン酸ジ(低級)ア
ルキルとの組合わせ等のような適当な縮合剤の存在下に
行うことができる。
This reaction is carried out with a triarylphosphine such as triphenylphosphine or a triaryl phosphite such as triphenyl phosphite with an azodicarboxylic acid such as dimethyl azodicarboxylate, diethyl azodicarboxylate, etc., preferably dimethyl azodicarboxylate. This can be carried out in the presence of a suitable condensing agent, such as in combination with di(lower) alkyl.

化合物(Id)のヒドロキシ基における反応性誘導体が
用いられる時は、この反応は例えば水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物、例えば水酸
化マグネシウム、水酸化カルシウム等のアルカリ土類金
属水酸化物、例えば水素化ナトリウム、水素化カリウム
等のアルカリ金属水素化物、例えば水素化カルシウム等
のアルカリ土類金属水素化物、例えばナトリウムメトキ
シド、ナトリウムエトキシド、カリウム第三級ブトキシ
ド等のアルカリ金属アルコキシド、例えば炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩、例えば炭酸
マグネシウム、炭酸カルシウム等のアルカリ土類金属炭
酸塩、例えば炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等
のアルカリ金属炭酸水素塩等の塩基の存在下に行うこと
ができる。
When a reactive derivative at the hydroxy group of compound (Id) is used, this reaction can be carried out using e.g. sodium hydroxide,
Alkali metal hydroxides such as potassium hydroxide, alkaline earth metal hydroxides such as magnesium hydroxide and calcium hydroxide, alkali metal hydrides such as sodium hydride and potassium hydride, e.g. calcium hydride, etc. Alkaline earth metal hydrides, alkali metal alkoxides such as sodium methoxide, sodium ethoxide, potassium tert-butoxide, alkali metal carbonates such as sodium carbonate, potassium carbonate, alkaline earths such as magnesium carbonate, calcium carbonate, etc. It can be carried out in the presence of a base such as a similar metal carbonate, for example an alkali metal hydrogen carbonate such as sodium hydrogen carbonate or potassium hydrogen carbonate.

この反応は通常、例えばメタノール、エタノール等のア
ルコール、ジオキサン、アセトニトリル、クロロホルム
、ジクロロメタン、ベンゼン、トルエン、ヘキサメチル
ホスホラミド、ジクロロエタン、テトラヒドロフラン、
酢酸エチル、ジメチルスルホキシド、N、N−ジメチル
ホルムアミド、ピリジン等のような反応に悪影響を及ぼ
きない慣用の溶媒中、またはそれらの混合液中で行われ
る。
This reaction is usually carried out using alcohols such as methanol and ethanol, dioxane, acetonitrile, chloroform, dichloromethane, benzene, toluene, hexamethylphosphoramide, dichloroethane, tetrahydrofuran, etc.
The reaction is carried out in a conventional solvent that does not adversely affect the reaction, such as ethyl acetate, dimethylsulfoxide, N,N-dimethylformamide, pyridine, etc., or a mixture thereof.

反応温度は特に限定されないが、通常は冷却下ないし加
温下に反応が行われる。
Although the reaction temperature is not particularly limited, the reaction is usually carried out under cooling or heating.

この反応においては、化合物(Id)のヒドロキシ基で
置換された3位の炭素原子の立体配置は、化合物(V)
では反転する。
In this reaction, the configuration of the carbon atom at the 3-position substituted with the hydroxy group of compound (Id) is the same as that of compound (V).
Now let's reverse it.

R3が保護されたヒドロキシ(低級)アルキル基である
場合には、ヒドロキシ保護基は目的化合物(v〉におい
ては脱離することもあり、生成したヒドロキシ(低級)
アルキル基は後記実施例に示すように常法により容易に
保護することができる。
When R3 is a protected hydroxy (lower) alkyl group, the hydroxy protecting group may be eliminated in the target compound (v), and the generated hydroxy (lower)
Alkyl groups can be easily protected by conventional methods as shown in Examples below.

(4)魁aS配土 化合物(■)またはその塩類は、化合物(Va)を化合
物(Vl)と反応させることにより製造することができ
る。
(4) The aS compound (■) or its salts can be produced by reacting the compound (Va) with the compound (Vl).

化合物(■)の好適な塩類としては化合物(I)の塩類
と同じものが挙げられる。
Suitable salts for compound (■) include the same salts as for compound (I).

反応は、例を挙げると、例えばn−ブチルリチウム等の
低級アルキルアルカリ金属と例えばジイソプロピルアミ
ン等のジ(低級)アルキルアミン;例えばリチウムビス
(トリメチルシリル)アミド等のアルカリ金属ビス[ト
リ(低級)アルキルシリルコアミド等から製造した例え
ばリチウムジイソプロピルアミド等のアルカリ金属ジ(
低級)アルキルアミドのような有機塩基の存在下に行う
ことができる。
The reaction can be carried out, for example, with a lower alkyl alkali metal such as n-butyllithium and a di(lower) alkyl amine such as diisopropylamine; For example, alkali metal di(
This can be carried out in the presence of an organic base such as a lower) alkylamide.

この反応は通常、ジオキサン、クロロホルム、ジクロロ
メタン、ヘキサン、ヘキサメチルホスホラミド、ジクロ
ロエタン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ベ
ンゼン、トルエン、N、N−ジメチルホルムアミド、ピ
リジン等のような反応に悪影響を及ぼさない慣用の溶媒
中、またはそれらの混合物中で行われる。
This reaction is usually carried out using conventional solvents that do not adversely affect the reaction, such as dioxane, chloroform, dichloromethane, hexane, hexamethylphosphoramide, dichloroethane, tetrahydrofuran, diethyl ether, benzene, toluene, N,N-dimethylformamide, pyridine, etc. or in a mixture thereof.

反応温度は特に限定されないが、通常は冷却下ないし加
温下に反応が行われる。
Although the reaction temperature is not particularly limited, the reaction is usually carried out under cooling or heating.

この反応はまた例えば二塩化ビス(シクロペンタジェニ
ル)ジルコニウム等のビス(シクロペンタジェニル)ジ
ルコニウムジハロゲン化物のようなジルコニウム化合物
の存在下に行うこともできる。
This reaction can also be carried out in the presence of a zirconium compound, such as a bis(cyclopentadienyl)zirconium dihalide, such as bis(cyclopentadienyl)zirconium dichloride.

R8がトリ置換シリル基である場合には、化合物(■a
)またはその塩類のトリ置換シリル基は、例えばカリウ
ム第三級ブトキシド等の塩基による処理によって完全な
立体特異性をもって隣接炭素原子のヒドロキシ基に容易
に転位して下記反応式にホスようにQ−シリルエーテル
化合物(■b)を生成する。
When R8 is a trisubstituted silyl group, the compound (■a
) or its salts can be easily rearranged to the hydroxyl group of the adjacent carbon atom with complete stereospecificity by treatment with a base such as potassium tert-butoxide, resulting in Q- A silyl ether compound (■b) is produced.

(■a) またはその塩類 (式中、R、R、RおよびR7はそれぞれ前と同じ意味
であり、R8はトリ置換シリル基を意味する) 化合物(■a)の好適な塩類としては、化合物(I)の
塩類と同じものが挙げられる。
(■a) or a salt thereof (in the formula, R, R, R, and R7 each have the same meaning as before, and R8 means a trisubstituted silyl group). Suitable salts of compound (■a) include the compound The same salts as (I) can be mentioned.

上記製造法工ないし4で得られた化合物は、例えば、抽
出、沈殿、分画クロマトグラフィー、分別結晶、再結晶
等の常法により単離、精製することができ、また所望に
応じて常法により適当な塩類に変化きせることができる
The compounds obtained in the above production methods 4 to 4 can be isolated and purified by conventional methods such as extraction, precipitation, fractional chromatography, fractional crystallization, and recrystallization. It can be converted into appropriate salts by

この発明の化合物(I)、とりわけ光学活性化合物(I
′)は、上記の公知の重要な中間体となるアゼチジノン
化合物(B)製造のための有用な中間体であり、またさ
らにこの発明の製造法はそのような光学活性化合物の製
造にも役立つものである。
Compounds (I) of this invention, especially optically active compounds (I)
') is a useful intermediate for the production of azetidinone compound (B), which is the known important intermediate mentioned above, and the production method of the present invention is also useful for the production of such optically active compounds. It is.

以下この発明を実施例に従ってきらに詳細に説明する。The present invention will be explained in detail below according to examples.

大m(Ml二U (S)−3−ベンジルオキシ−2−メチルプロパナール
(1,0g)のジクロロメタン(20m11 )溶液に
、塩化チタン(IV)の1.0Mジクロロメタン溶液(
6,2mQ )を−70°Cで滴下する。−70°Cで
30分間攪拌後、この溶液にトリメチルシリルケテン雪
エデルトリメチルシリルアセクール(1,57g)を同
温で加える。1時間攪拌後、反応を塩化アンモニウム飽
和水溶液で停止せしめ、ジクロロメタンで2回抽出する
。有機層を合わせてIN塩酸で2回、炭酸水素ナトリウ
ム飽和水溶液、水および食塩水で順次洗浄し、硫酸マグ
ネシウムで乾燥後、溶媒を留去して、(3S、4S)−
5−ベンジルオキシ−3−ヒドロキシ−4−メチル−2
−トリメチルシリルペンクン酸エチルを粗生成物として
得る。上記で得られる化合物の20%水性メタノール溶
液(50mQ )およびフッ化カリウム(0,98g)
を室温で24時間攪拌する0反応混合物を減圧濃縮して
ジクロロメタンで抽出する。抽出液を合わせて水洗し、
硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮する。残渣の油状
物をシリカゲルを使用するクロマトグラフィー−付し、
ヘキサン/酢酸エチル(5:1−3:1)で溶出して、
(3R,4S )−5−ベンジルオキシ−3−ヒドロキ
シ−4−メチルペンタン酸エチル(L、01g)および
(3R145)−5−ベンジルオキシ−3−ヒドロキシ
−4−メチルペンタン酸メチル(0,47g)を得る。
To a solution of large m(Ml2U)-3-benzyloxy-2-methylpropanal (1.0 g) in dichloromethane (20 m11) is added a 1.0 M solution of titanium(IV) chloride in dichloromethane (
6.2 mQ) was added dropwise at -70°C. After stirring at −70° C. for 30 minutes, trimethylsilylketene snow edeltrimethylsilyl acecool (1.57 g) was added to the solution at the same temperature. After stirring for 1 hour, the reaction is quenched with saturated aqueous ammonium chloride solution and extracted twice with dichloromethane. The organic layers were combined and washed twice with IN hydrochloric acid, successively with a saturated aqueous solution of sodium bicarbonate, water, and brine, dried over magnesium sulfate, and the solvent was distilled off to give (3S,4S)-
5-benzyloxy-3-hydroxy-4-methyl-2
-Ethyl trimethylsilylpencunate is obtained as a crude product. 20% aqueous methanol solution (50 mQ ) of the compound obtained above and potassium fluoride (0,98 g)
The reaction mixture was stirred at room temperature for 24 hours, concentrated under reduced pressure, and extracted with dichloromethane. Combine the extracts and wash with water,
After drying with magnesium sulfate, concentrate under reduced pressure. The residual oil was chromatographed on silica gel,
Elute with hexane/ethyl acetate (5:1-3:1),
(3R,4S)-5-Benzyloxy-3-hydroxy-4-methylpentanoate (L, 01 g) and (3R145)-5-benzyloxy-3-hydroxy-4-methylpentanoate (0,47 g) ).

NMR(CDC13,S ) ’ 0.93 (3H1
d、J=5.8Hz)、1.23(3H,t、J=5.
8Hz>、  1.92 (1)(、ddq、J=5.
8゜5.8および6.0Hz)、 2.50 (2H,
d。
NMR (CDC13,S)' 0.93 (3H1
d, J=5.8Hz), 1.23(3H,t, J=5.
8Hz>, 1.92 (1) (, ddq, J=5.
8°5.8 and 6.0Hz), 2.50 (2H,
d.

J=5.8Hz)、  3.53 (2H,d、J=6
.0Hz)、  4.00(1)1.dt、J=5.8
および6.0)12)、 4.15 (2H。
J=5.8Hz), 3.53 (2H,d, J=6
.. 0Hz), 4.00(1)1. dt, J=5.8
and 6.0) 12), 4.15 (2H.

q、J=7.2Hz)、  4.48 (2H,s)、
  7.30 (5H,s)13CNMR(CDCl2
.6 ) : 172.73.138.11゜1213
.41. 127.60. 125.70.73.58
゜73.41,71.57.60.57,39.66.
38.47゜14.20. 13.71 比旋光度:[αコ18+ 21.8°(c 1.2L 
C)IC1)IR<ニート)   :  3470. 
1730.  1100  am−1衷1」[L1社 (5)−3−ベンジルオキシ−2−メチルプロパナール
(1,0g)のジクロロメタン(10mA ) m液に
、塩化チタン(IV)(0,68賊)を−70℃で滴下
する。−70℃で15分間攪拌後、この溶液に(1−ト
リメチルシリルオキシエチル)ケテン−エチルトリメチ
ルシリルアセクール<1.86g)を同温で加える。1
時間攪拌後、反応を塩化アンモニウム飽和水溶液で停止
せしめ、ジクロロメタンで2回抽出する。有機層を合わ
せてIN塩酸で2回、炭酸水素ナトリウム飽和水溶液、
水および食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥
して溶媒を留去する。残渣をシリカゲルを使用するクロ
マトグラフィーに付して、(4S)−5−ベンジルオキ
シ−3−ヒドロキシ−2−(1−ヒドロキシエチル)−
4−メチルペンタン酸エチル(294mg )を得る。
q, J=7.2Hz), 4.48 (2H,s),
7.30 (5H,s)13CNMR(CDCl2
.. 6): 172.73.138.11゜1213
.. 41. 127.60. 125.70.73.58
゜73.41, 71.57.60.57, 39.66.
38.47°14.20. 13.71 Specific optical rotation: [α 18 + 21.8° (c 1.2L
C) IC1) IR<NEET): 3470.
1730. Titanium chloride (IV) (0.68 mA) was added to a solution of 3-benzyloxy-2-methylpropanal (1.0 g) in dichloromethane (10 mA). Add dropwise at -70°C. After stirring for 15 minutes at −70° C., (1-trimethylsilyloxyethyl)ketene-ethyltrimethylsilylacecool (<1.86 g) is added to the solution at the same temperature. 1
After stirring for an hour, the reaction is quenched with saturated aqueous ammonium chloride solution and extracted twice with dichloromethane. The organic layers were combined and diluted twice with IN hydrochloric acid, saturated aqueous sodium bicarbonate solution,
Wash sequentially with water and brine, dry over magnesium sulfate, and evaporate the solvent. The residue was chromatographed on silica gel to give (4S)-5-benzyloxy-3-hydroxy-2-(1-hydroxyethyl)-
Ethyl 4-methylpentanoate (294 mg) is obtained.

IR(ニート)   ’  3430.  1720.
  1420.  1260  am″″INMR(C
DC13,8) ’ 0.92 (3H9t−1J=6
.0Hz>。
IR (NEET)' 3430. 1720.
1420. 1260 am″″INMR(C
DC13,8)' 0.92 (3H9t-1J=6
.. 0Hz>.

1.00−1.35 (6H,m)、 1.55−1.
95 (IH,m)。
1.00-1.35 (6H, m), 1.55-1.
95 (IH, m).

2.42−2.77 (LH,m)、 3.30−4.
40 (6H,m)。
2.42-2.77 (LH, m), 3.30-4.
40 (6H, m).

4.50 (2H,s)、 7.30 (5H,s)(
5)−3−ベンジルオキシ−2−メチルプロパナール(
100mg)のジクロロメタン(5戚)溶液に、塩化チ
タン(IV)の1M溶液(0,42戚)を−78℃で滴
下する。−78℃で30分間攪拌後、この溶液に[(I
R)−1−トリメチルシリルオキシエチル]ケテン=メ
チルトリメチルシリルア世クール(177mg)を同温
で加える。1時間攪拌後、反応混合物の反応を塩化アン
モニウム飽和水溶液で停止せしめ、ジクロロメタンで2
回抽出する。有機層を合わせてIN塩酸で2回、炭酸水
素ナトリウム飽和水溶液、水および食塩水で順次洗浄し
、硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を留去する。残渣を
シリカゲルを使用するクロマトグラフィーに付して、(
2R,3S、4S>5−ベンジルオキシ−3−ヒドロキ
シ−2−[(IR)−1−ヒドロキジエチルコー4−メ
チルペンタン酸メチル(25mg)を得る。
4.50 (2H, s), 7.30 (5H, s) (
5)-3-benzyloxy-2-methylpropanal (
A 1M solution of titanium (IV) chloride (0,42 relative) was added dropwise to a solution of 100 mg) of dichloromethane (5 relative) at -78°C. After stirring at −78°C for 30 min, this solution was added to [(I
R)-1-Trimethylsilyloxyethyl]ketene=methyltrimethylsilylacetate (177 mg) is added at the same temperature. After stirring for 1 hour, the reaction mixture was quenched with saturated aqueous ammonium chloride solution and diluted with dichloromethane.
Extract times. The combined organic layers are washed twice with IN hydrochloric acid, successively with saturated aqueous sodium bicarbonate solution, water, and brine, dried over magnesium sulfate, and the solvent is evaporated. The residue was chromatographed on silica gel (
2R,3S,4S>Methyl 5-benzyloxy-3-hydroxy-2-[(IR)-1-hydroxydiethyl-4-methylpentanoate (25 mg) is obtained.

IR(ニー))  :  3400.  2100. 
 1960.  1880゜1720 cm−1 叉1(Mll二〇 塩化チタン(IV)のジクロロメタン中IM溶液(0,
42mm )に、チタン<IV)インプロポキシドのジ
クロロメタン中IM溶液(0,14fflll )を室
温で滴下する。10分間攪拌後、溶液を一78℃に冷却
する。
IR (knee): 3400. 2100.
1960. 1880°1720 cm-1 (Mll IM solution of titanium(IV) dichloride in dichloromethane (0,
42 mm ) at room temperature with an IM solution of titanium<IV) impropoxide in dichloromethane (0.14 fllll ). After stirring for 10 minutes, the solution is cooled to -78°C.

この懸濁液に(S)−3−ベンジルオキジ−2−メチル
プロパナール(100mg)のジクロロメタン(1戚)
溶液を同温で滴下する。−78℃で30分間攪拌後、こ
の溶液に[(IR)−1−トリメチルシリルオキシエチ
ルコケテン−メチルトリメチルシリルアセクール(17
7mg)を同温で加える。1時間攪拌後、反応を塩化ア
ンモニウム飽和水溶液で停止せしめ、ジクロロメタンで
2回抽出する。
To this suspension was added dichloromethane (1 relative) of (S)-3-benzyloxy-2-methylpropanal (100 mg).
Add the solution dropwise at the same temperature. After stirring at -78°C for 30 minutes, this solution was added to [(IR)-1-trimethylsilyloxyethylkoketen-methyltrimethylsilylacecour (17
7 mg) at the same temperature. After stirring for 1 hour, the reaction is quenched with saturated aqueous ammonium chloride solution and extracted twice with dichloromethane.

有機層を合わせてIN塩酸で2回、炭酸水素ナトリウム
飽和水溶液、水および食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネ
シウムで乾燥して溶媒を留去する。残渣をシリカゲルを
使用するクロマトグラフィーに付して、(2R,3S、
4S>5−ベンジルオキシ−3−ヒドロキシ−2−[(
IR)−1−ヒドロキシエチルツー4−メチルペンタン
酸メチル(53mg)を得る。
The combined organic layers are washed twice with IN hydrochloric acid, successively with saturated aqueous sodium bicarbonate solution, water, and brine, dried over magnesium sulfate, and the solvent is evaporated. The residue was chromatographed on silica gel (2R,3S,
4S>5-benzyloxy-3-hydroxy-2-[(
IR)-1-hydroxyethyl-4-methylpentanoate (53 mg) is obtained.

IR(ニー))   :  3400.  2100.
  1960.  1880゜1720 am−’ NMR(CDC1a、S ) ’ 1.13 (3H,
d、J=7.5Hz)、1.17(3B、d、、C6,
3Hz)、 1.70 (LH,m)、 2.60(1
)t、dd、J=9.3および9.3tlz)、 3.
48および3.87 (2H,dd、J=9.3および
3.6Hz>。
IR (knee): 3400. 2100.
1960. 1880°1720 am-' NMR (CDC1a, S)' 1.13 (3H,
d, J=7.5Hz), 1.17 (3B, d,, C6,
3Hz), 1.70 (LH, m), 2.60 (1
)t, dd, J=9.3 and 9.3tlz), 3.
48 and 3.87 (2H, dd, J=9.3 and 3.6Hz>.

3.63  (38,s)、  3.97−4.37 
 (4H,m>、  4.48(2H,s)、 7.3
2 (5H,s)衷1(Ml二υ (5)−3−ベンジルオキシ−2−メチルプロパナール
(440mg)のジクロロメタン(10mQ)溶液に、
ジクロロメタン中1.0M塩化チタン(EV)溶液(2
,am立)を−70℃で滴下する。−70℃で30分間
攪拌後、この溶液にエチルケテン−メチルトリメチルシ
リルアセクール(st7mg)を同温で加える。1時間
攪拌後、反応混合物の反応を飽和塩化アンモニウム水溶
液で停止せしめてジクロロメタンで2回抽出する。有機
層を合わせてIN塩酸で2回、炭酸水素ナトリウム飽和
水溶液、水および食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウ
ムで乾燥して溶媒を減圧下に留去する。残渣の油状物を
シリカゲルを使用するクロマトグラフィーに付して、(
2Rおよび28,3S、4S)−5−ベンジルオキシ−
2−エチル−3−ヒドロキシ−4−メチルペンタン酸メ
チル(603mg)を得る。
3.63 (38,s), 3.97-4.37
(4H, m>, 4.48 (2H, s), 7.3
2 (5H, s) 1 (Ml2υ (5)-3-benzyloxy-2-methylpropanal (440 mg) in dichloromethane (10 mQ) solution,
1.0 M titanium chloride (EV) solution in dichloromethane (2
, am standing) was added dropwise at -70°C. After stirring at −70° C. for 30 minutes, ethylketene-methyltrimethylsilyl acecool (st 7 mg) is added to this solution at the same temperature. After stirring for 1 hour, the reaction mixture was quenched with saturated aqueous ammonium chloride solution and extracted twice with dichloromethane. The combined organic layers are washed twice with IN hydrochloric acid, successively with a saturated aqueous solution of sodium bicarbonate, water, and brine, dried over magnesium sulfate, and the solvent is distilled off under reduced pressure. The residual oil was chromatographed on silica gel (
2R and 28,3S,4S)-5-benzyloxy-
Methyl 2-ethyl-3-hydroxy-4-methylpentanoate (603 mg) is obtained.

IR(ニー))   :  3470.  1730.
  1100  cm−1BMR(CDCl2. l;
 ) : 0.90 (3H,t、J=7.2Hz)、
 1.00(3H,d、J=7.2Hz>、 1.47
−2.00 (3H,m)、 2.47(LH,dt、
 J=7.8および6.0H2)、 3.25−3.8
7(3H,m)、 3.37 (3H,m)、 4.4
8 (2H,s)、 7.30.、。
IR (knee): 3470. 1730.
1100 cm-1 BMR (CDCl2. l;
): 0.90 (3H, t, J=7.2Hz),
1.00 (3H, d, J=7.2Hz>, 1.47
-2.00 (3H, m), 2.47 (LH, dt,
J=7.8 and 6.0H2), 3.25-3.8
7 (3H, m), 3.37 (3H, m), 4.4
8 (2H,s), 7.30. ,.

(LH,s) 比旋光度: [a117−3.4G” (c L、06
. CI(C1)[2R: 25−86: 11  高
速液体クロマトグラフィー(HPLC)による] 衷m(を虹−リ 実施例1−2〉で得られた(4S)−5−ベンジルオキ
シ−3−ヒドロキシ−2−(1−ヒドロキシエチル)−
4−メチルペンクン酸エチル(203mg)のジメチル
ホルムアミド(2fflQ)溶液に、塩化第三級ブチル
ジメチルシリル(99mg )およびイミダゾール(2
23mH)を室温で加える。2時間攪拌後、反応混合物
にジエチルエーテルおよび水を加える。水層をジエチル
エーテルで2回抽出し、エーテル層を合わせてIN塩酸
で2回、水および食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウ
ムで乾燥して溶媒を留去する。残渣をシリカゲルを使用
するクロマトグラフィーに付して、(43)−5−ベン
ジルオキシ−2−(1−第三級ブチルジメチルシリルオ
キシエチル)−3−ヒドロキシ−4−メチルペンタン酸
エチル(463mg)を得る。
(LH, s) Specific optical rotation: [a117-3.4G” (c L, 06
.. CI (C1) [2R: 25-86: 11 by high performance liquid chromatography (HPLC)] (4S)-5-benzyloxy-3-hydroxy obtained in Example 1-2> -2-(1-hydroxyethyl)-
Tertiary-butyldimethylsilyl chloride (99 mg) and imidazole (2
23 mH) at room temperature. After stirring for 2 hours, diethyl ether and water are added to the reaction mixture. The aqueous layer is extracted twice with diethyl ether, the combined ether layers are washed twice with IN hydrochloric acid, then with water and brine, dried over magnesium sulfate, and the solvent is distilled off. The residue was chromatographed on silica gel to give ethyl (43)-5-benzyloxy-2-(1-tert-butyldimethylsilyloxyethyl)-3-hydroxy-4-methylpentanoate (463 mg). get.

IR(CDCl2) : 3475.1945.190
0.1800゜1720 cm−1 NMR(CDC1s、S ン:0−10 (6H1s)
、0.90および0.93 (98,それぞれs)、 
0.80−L、40 (9H,+++)。
IR(CDCl2): 3475.1945.190
0.1800゜1720 cm-1 NMR (CDC1s, S: 0-10 (6H1s)
, 0.90 and 0.93 (98, respectively),
0.80-L, 40 (9H, +++).

1.53−2.00 (IH,m)、 1.83 (I
H,br s)、 2.35−2.95 (LH,m)
、 3.30−4.47 (6H,m)、 4.55(
2H,s)、 7.35 <5H,s)この生成物のジ
メチルアセクール誘導体の’HNMR(500MHz 
)分析は、この生成物が3.4〜アンチ化合物と3,4
−シン化合物との混合物(75:25)であることを示
している。
1.53-2.00 (IH, m), 1.83 (I
H, br s), 2.35-2.95 (LH, m)
, 3.30-4.47 (6H, m), 4.55 (
2H,s), 7.35 <5H,s) 'HNMR (500MHz
) analysis shows that this product is 3.4 to anti compound and 3,4
- Syn compound (75:25).

3.4−アンチ化合物   3,4−シン化合物実施例
2−2) ■ (2R,33,4S)−5−ベンジルオキシ−3−ヒド
ロキシ−2−[(IR)−1−ヒドロキシエチルコー4
−メチルペンタン酸メチル(70mg)のジメチルホル
ムアミド(2餓)溶液に、塩化第三級ブチルジメチルシ
リル(71mg)およびイミダゾール(32mg)を室
温で加える。2時間攪拌後、反応混合物にジエチルエー
テルと水を加え、エーテル層を分取する。水層をジエチ
ルエーテルでさらに2回抽出し、エーテル層を合わせて
IN塩酸で2回、水および食塩水で順次洗浄して硫酸マ
グネシウムで乾燥し、溶媒を留去する。残渣をシリカゲ
ルを使用するクロマトグラフィーに付して、(2S、3
S、4S)−5−ベンジルオキシ−2−[(IR)−1
−第三級ブチルジメチルシリルオキシエチル]−3−ヒ
ドロキシ−4−メチルペンタン酸メチル(61mg)を
得る。
3.4-anti compound 3,4-syn compound Example 2-2) ■ (2R,33,4S)-5-benzyloxy-3-hydroxy-2-[(IR)-1-hydroxyethylco4
- To a solution of methylpentanoate (70 mg) in dimethylformamide (dimethylformamide) are added tert-butyldimethylsilyl chloride (71 mg) and imidazole (32 mg) at room temperature. After stirring for 2 hours, diethyl ether and water were added to the reaction mixture, and the ether layer was separated. The aqueous layer is extracted twice more with diethyl ether, the combined ether layers are washed twice with IN hydrochloric acid, then with water and brine, dried over magnesium sulfate, and the solvent is distilled off. The residue was chromatographed on silica gel (2S, 3
S,4S)-5-benzyloxy-2-[(IR)-1
-tert-butyldimethylsilyloxyethyl]-3-hydroxy-4-methylpentanoate (61 mg) was obtained.

IR(CDCl2) ’ 3490.1730 cm−
’NMR(CDCl2.8 ) : 0108 (6H
,s)、 0.87 (9H,s)。
IR(CDCl2)' 3490.1730 cm-
'NMR (CDCl2.8): 0108 (6H
, s), 0.87 (9H, s).

1.10 (3H,d、J=7.2Hz)、 1.27
 (3H,d。
1.10 (3H, d, J=7.2Hz), 1.27
(3H, d.

J=6.0)lz)、 1.80 (2H,m)、 2
.83 (11(、dd。
J=6.0)lz), 1.80 (2H,m), 2
.. 83 (11(, dd.

J=6.6および9.6)1z)、 3.43−4.1
7 (3H,m>。
J=6.6 and 9.6)1z), 3.43-4.1
7 (3H, m>.

3.60 (3H,s)、 4.33 (IH,dd、
J=6.6および6.6Hz>、 4.50 (2)1
.s)、 7.30 (5H,s)実施例3−1) 0−メチルヒドロキシルアミン・塩酸塩(1,22g)
の乾燥トルエン(20m )中部濁液に、トリメチルア
ルミニウムのヘキサ291M溶液(14,61)を3°
Cで徐々に加える。添加終了後、反応混合物を室温まで
昇温せしめ、ガス発生が終止するまで2時間攪拌する。
3.60 (3H, s), 4.33 (IH, dd,
J=6.6 and 6.6Hz>, 4.50 (2)1
.. s), 7.30 (5H, s) Example 3-1) 0-Methylhydroxylamine hydrochloride (1,22g)
A 291M solution of trimethylaluminum in hexane (14,61) was added to the suspension in dry toluene (20 m ) at 3°C.
Add gradually at C. After the addition is complete, the reaction mixture is allowed to warm up to room temperature and stirred for 2 hours until gas evolution has ceased.

この溶液に(3R,4S )−5−ベンジルオキシ−3
−ヒドロキシ−4−メチルペンタン酸エチル(800m
g ) オよヒ(3R。
Add (3R,4S)-5-benzyloxy-3 to this solution.
-Ethyl hydroxy-4-methylpentanoate (800m
g) Ohyohi (3R.

45)−5−ベンジルオキシ−3−ヒドロキシ−4−メ
チルペンタン酸メチル(472mg)の乾燥トルエン(
10m1l ’)溶液を室温で滴下する。溶液を厘料物
質が薄着クロマトグラフィーで観察されなくなるまで、
窒素雰囲気中室温で20時間攪拌する。
45) Methyl-5-benzyloxy-3-hydroxy-4-methylpentanoate (472 mg) in dry toluene (
Add 10 ml of the solution dropwise at room temperature. The solution was filtered until no chemical substances were observed by thin-pack chromatography.
Stir for 20 hours at room temperature under nitrogen atmosphere.

反応混合物の反応を水で注意深く停止せしめ、次いでI
N塩酸をこれに加える。有機層を分離して水層を酢酸エ
チルで2回抽出する。有機抽出液を合わせてIN塩酸お
よび食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、
減圧濃縮して、(3R,4S)−5−ベンジルオキシ−
3−ヒドロキシ−N−メトキシ−4−メチルペンタンア
ミド(1,05g)を得る。
The reaction mixture was carefully quenched with water and then I
Add N-hydrochloric acid to this. Separate the organic layer and extract the aqueous layer twice with ethyl acetate. The combined organic extracts were washed sequentially with IN hydrochloric acid and brine, dried over magnesium sulfate, and
Concentrate under reduced pressure to obtain (3R,4S)-5-benzyloxy-
3-Hydroxy-N-methoxy-4-methylpentanamide (1,05 g) is obtained.

mp : 74−75℃ 1R(CHCla) :3400,1680 cmNM
R(CDC1s、S ) =0.88 (3H,d、J
=5.8Hz>、 1.63(LH,br、s)、 2
.00 (IH,m)、 2.38 (IH,m)。
mp: 74-75℃ 1R (CHCla): 3400, 1680 cmNM
R (CDC1s, S ) = 0.88 (3H, d, J
=5.8Hz>, 1.63 (LH, br, s), 2
.. 00 (IH, m), 2.38 (IH, m).

3.52 (IH,d、J=4.5Hz)、 3.57
 (IH,d。
3.52 (IH, d, J=4.5Hz), 3.57
(IH, d.

J=6.0Hz)、 3.73 (3H,s)、 3.
87 (IH,m)。
J=6.0Hz), 3.73 (3H,s), 3.
87 (IH, m).

4.50 (2H,s)、 7.30 (5H,s)、
 9.10 (LH。
4.50 (2H, s), 7.30 (5H, s),
9.10 (LH.

brs) 叉】」[L1幻 実施例2−1)で得られた(4S)−5−ベンジルオキ
シ−2−(1−第三級ブチルジメチルシリルオキシエチ
ル)−3−ヒドロキシ−4−メチルペンタン酸エチル(
300mg )のメタノール(1mu)および水(1m
Q)溶液に、水酸化ナトリウム(141mg)をOoC
で加える。室温で2時間攪拌後、反応混合物に水および
ジエチルエーテルを加える。分取した水層をジエチルエ
ーテルで2回洗浄し、6N塩酸で酸性にして酢酸エチル
で2回抽出する。有機層を合わせて水および食塩水で順
次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去して
、(4S)−5−ベンジルオキシ−2−(1−第三級ブ
チルジメチルシリルオキシエチル)−3−ヒドロキシ−
4−メチルペンタン酸(130mg)を得る。
(4S)-5-benzyloxy-2-(1-tert-butyldimethylsilyloxyethyl)-3-hydroxy-4-methylpentane obtained in L1 Phantom Example 2-1) Ethyl acid (
300 mg) of methanol (1 mu) and water (1 m
Q) Add sodium hydroxide (141 mg) to the solution
Add with . After stirring for 2 hours at room temperature, water and diethyl ether are added to the reaction mixture. The separated aqueous layer is washed twice with diethyl ether, acidified with 6N hydrochloric acid, and extracted twice with ethyl acetate. The organic layers were combined, washed sequentially with water and brine, dried over magnesium sulfate, and the solvent was distilled off to give (4S)-5-benzyloxy-2-(1-tert-butyldimethylsilyloxyethyl). -3-hydroxy-
4-methylpentanoic acid (130 mg) is obtained.

上記で得られる化合物およびO−ベンジルヒドロキシル
アミン・塩酸塩(156mg)のテトラヒドロフラン(
4111Q)および水(2踵)溶液をpl(4−5に調
整し、これに水溶性カルボジイミド(190mg)の水
溶液を、反応混合物のpl(をIN塩酸を加えつへ4−
5に保ちながら加える。反応混合物を酢酸エチルで3回
抽出する。有機層を合わせてINクエン酸で2回、炭酸
水素ナトリウム5%水溶液、水および食塩水で順次洗浄
し、硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を留去する。残渣
をシリカゲルを使用するクロマトグラフィーに付して、
(4S)−N、5−ビス(ベンジルオキシ)−2−(1
−第三級ブチルジメチルシリルオキシエチル)−3−ヒ
ドロキシ−4−メチルペンタンアミド(86mg)を得
る。
The compound obtained above and O-benzylhydroxylamine hydrochloride (156 mg) in tetrahydrofuran (
A solution of 4111Q) and water (2) was adjusted to 4-5, and an aqueous solution of water-soluble carbodiimide (190 mg) was added to the reaction mixture, 1N hydrochloric acid was added to 4-5.
Add while keeping the temperature at 5. The reaction mixture is extracted three times with ethyl acetate. The combined organic layers are washed twice with IN citric acid, successively with 5% aqueous sodium bicarbonate, water, and brine, dried over magnesium sulfate, and the solvent is evaporated. The residue was chromatographed using silica gel,
(4S)-N,5-bis(benzyloxy)-2-(1
-tert-butyldimethylsilyloxyethyl)-3-hydroxy-4-methylpentanamide (86 mg) is obtained.

IR(ニート)   :  3400.  1670.
  1080  am−1HMR(CDCl2.ε) 
: 0.10 (6H,sン、 0.92および1.0
0 (9H,それぞれs)、 1.10−1.50 (
6H。
IR (NEET): 3400. 1670.
1080 am-1HMR (CDCl2.ε)
: 0.10 (6H,sun, 0.92 and 1.0
0 (9H, s each), 1.10-1.50 (
6H.

m)、 1.70−2.15 (LH,m)、 1.9
5 (LH,br、s)。
m), 1.70-2.15 (LH, m), 1.9
5 (LH, br, s).

2.37−2.62 (LH,m>、 3.38−4.
67 (4H,m)。
2.37-2.62 (LH, m>, 3.38-4.
67 (4H, m).

4.50 (2H,s)、 4.97 (2H,s)、
 7.47 (5)1.s)。
4.50 (2H,s), 4.97 (2H,s),
7.47 (5)1. s).

7.53 (5H,s)、 9.50および9.67 
(18,それぞれbr、s) 去fi二拉 奮 0−メチルヒドロキシルアミン・塩酸塩(81mg>の
乾燥トルエン(41n11)中部濁液に、ヘキサン中I
Mトリメチルアルミニウム溶液(0,97d ) ヲ3
°Cで徐々に加える。添加終了後、反応混合物を室温ま
で昇温せしめ、ガス発生が終止するまで2時間攪拌する
。この溶液に(2S、3S、4S)−5−ベンジルオキ
シ−2−[(IR)−1−第三級ブチルジメチルシリル
オキシエチルツー3−ヒドロキシ−4−メチルペンタン
謙メチル(61mg)の乾燥トルエン(111112)
溶液を室温で滴下する。
7.53 (5H,s), 9.50 and 9.67
(18, br, s respectively) To a suspension of 0-methylhydroxylamine hydrochloride (81 mg) in dry toluene (41n11) was added I in hexane.
M trimethylaluminum solution (0.97d) 3
Add gradually at °C. After the addition is complete, the reaction mixture is allowed to warm up to room temperature and stirred for 2 hours until gas evolution has ceased. Add (2S, 3S, 4S)-5-benzyloxy-2-[(IR)-1-tert-butyldimethylsilyloxyethyl-3-hydroxy-4-methylpentane (61 mg) to this solution in dry toluene. (111112)
The solution is added dropwise at room temperature.

溶液を窒素雰囲気中室温で30時間攪拌する。反応混合
物の反応を水で注意しながら停止せしめ、IN塩酸と酢
酸エチルとの混合物を加える。有機層を分取し、水層を
酢酸エチルで2回抽出する。
The solution is stirred for 30 hours at room temperature under nitrogen atmosphere. The reaction mixture is carefully quenched with water and a mixture of IN hydrochloric acid and ethyl acetate is added. The organic layer is separated and the aqueous layer is extracted twice with ethyl acetate.

有機層を合わせてIN塩酸および食塩水で順次洗浄し、
硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去して、(2S、
3S、4S)−5−ベンジルオキシ−2−[(IR)−
1−第三級ブチルジメチルシリルオキシエチルツー3−
ヒドロキシ−N−メトキシ−4−メチルペンタンアミド
(aamg)を得る。
The organic layers were combined and washed sequentially with IN hydrochloric acid and brine;
After drying with magnesium sulfate, the solvent was distilled off to obtain (2S,
3S,4S)-5-benzyloxy-2-[(IR)-
1-Tertiary butyldimethylsilyloxyethyl two 3-
Hydroxy-N-methoxy-4-methylpentanamide (aamg) is obtained.

IR(ニー))   :  3460.  1690.
  1090  cm−1に1皇に1 0−メチルヒドロキシルアミン・塩酸塩(446mg)
の乾燥トルエンC10mfL)中部濁液に、ヘキサン中
IMトリメチルアルミニウム溶液(5,34mQ )を
3°Cで徐々に加える。添加終了後、反応混合物を室温
まで昇温せしめ、ガス発生が終止するまで2時間攪拌す
る。この溶液に実施例1−5)で得られる(2R,3S
、43)−5−ベンジルオキシ−2−エチル−3−ヒド
ロキシ−4−メチルペンタン酸メチル(456mg)の
乾燥トルエン(2,5+119)溶液を室温で滴下する
。この溶液を窒素雰囲気中、原料物質が薄1クロマトグ
ラフィーで観察されなくなるまで、17時間攪拌する。
IR (knee): 3460. 1690.
1 to 1090 cm-1 0-Methylhydroxylamine hydrochloride (446 mg)
IM trimethylaluminum solution in hexane (5,34 mQ) is slowly added to the suspension in dry toluene (10 mfL) at 3°C. After the addition is complete, the reaction mixture is allowed to warm up to room temperature and stirred for 2 hours until gas evolution has ceased. This solution was added to (2R,3S) obtained in Example 1-5).
, 43) A solution of methyl-5-benzyloxy-2-ethyl-3-hydroxy-4-methylpentanoate (456 mg) in dry toluene (2,5+119) is added dropwise at room temperature. The solution is stirred under a nitrogen atmosphere for 17 hours until no starting material is observed by thin 1 chromatography.

反応混合物の反応を注意深く水で停止せしめ、IN塩酸
と酢酸エチルとの混合物を加える。有機層を分取し、水
層を酢酸エチルで2回抽出する。有機層を合わせて順次
IN塩酸と食塩水とで洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥
後、減圧濃縮して、(3!3,4S)−5−ベンジルオ
キシ−2−エチル−3−ヒドロキシ−N−メトキシ−4
−メチルペンタンアミド(634mg )を得る。
The reaction mixture is carefully quenched with water and a mixture of IN hydrochloric acid and ethyl acetate is added. The organic layer is separated and the aqueous layer is extracted twice with ethyl acetate. The organic layers were combined, washed sequentially with IN hydrochloric acid and brine, dried over magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure to give (3!3,4S)-5-benzyloxy-2-ethyl-3-hydroxy-N- Methoxy-4
-Methylpentanamide (634 mg) is obtained.

IRにニート)   :  3450.  3200.
  1945.  1860.  1810゜1735
、1650.1600.1450゜1080 am−1 NMR(CDC13,δ) : 0.88 (3)1.
d、J=6.01(z)、 0.92(3H,t、J4
6.0f(z)、  1.70  (3H,m)、  
2.00−2.40(IH,m)、 3.40−3.8
3 (3)!、m>、 3.65 (3H,s)。
NEET to IR): 3450. 3200.
1945. 1860. 1810°1735
, 1650.1600.1450°1080 am-1 NMR (CDC13, δ): 0.88 (3)1.
d, J=6.01 (z), 0.92 (3H, t, J4
6.0f(z), 1.70 (3H,m),
2.00-2.40 (IH, m), 3.40-3.8
3 (3)! , m>, 3.65 (3H,s).

4.50 (2H,s)、 7.33 (5H,s)、
 9.15 (LH。
4.50 (2H, s), 7.33 (5H, s),
9.15 (LH.

br、s) 実施例4−1) (3R,4S)−5−ベンジルオキシ−3−ヒドロキシ
−N−メトキシ−4−メチルペンタンアミ)’ (1,
05g )およヒドリフェニルホスフィン(1,60g
 )のテトラヒトa”yラン(40rnQ)溶液に、ア
ゾジカルボン酸ジメチル(0,88g)を5℃で滴下す
る。滴下終了後、反応混合物を室温で1時間攪拌する。
br, s) Example 4-1) (3R,4S)-5-benzyloxy-3-hydroxy-N-methoxy-4-methylpentanami)' (1,
05g) and hydriphenylphosphine (1.60g
) dimethyl azodicarboxylate (0.88 g) is added dropwise at 5° C. to a solution of tetrahedral a”y run (40 rnQ) of 100% azodicarboxylate (40 rnQ). After the addition is complete, the reaction mixture is stirred at room temperature for 1 hour.

反応完結後、溶媒を減圧丁番こ留去する。残渣にシリカ
ゲル(30fflll )を加え、溶媒を留去して残渣
の固体をシリカゲルを使用するクロマトグラフィーに付
し、ヘキサン/酢酸エチル(4:1−3:1)で溶出し
て、(4S)−4−[(IR)−2−ベンジルオキシ−
1−メチルエチル]−1−メトキシアゼチジン−2−オ
ン(906mg)を得る。
After the reaction is completed, the solvent is distilled off under reduced pressure. Silica gel (30 fflll) was added to the residue, the solvent was distilled off, and the residual solid was subjected to chromatography using silica gel, eluting with hexane/ethyl acetate (4:1-3:1) to obtain (4S). -4-[(IR)-2-benzyloxy-
1-methylethyl]-1-methoxyazetidin-2-one (906 mg) is obtained.

IR(ニー))  :  1770. 1450. 1
100  am−1HMR(CDCl2.δ) :1.
06 (3H,d、J=5.3Hz)、 2.07<I
H,dq、 J=5.3および6.0Hz>、 2.5
0 (LH。
IR (knee): 1770. 1450. 1
100 am-1HMR (CDCl2.δ): 1.
06 (3H, d, J=5.3Hz), 2.07<I
H, dq, J=5.3 and 6.0Hz>, 2.5
0 (LH.

dd、 J=13.5および3.0Hz)、 2.70
 (IH,dd。
dd, J=13.5 and 3.0Hz), 2.70
(IH, dd.

J=13.5および5.3Hz)、 3.40 (2)
!、d。
J=13.5 and 5.3Hz), 3.40 (2)
! , d.

J:6.0Hz)、 3.70 (3H,s>、 3.
92 (LH,ddd。
J:6.0Hz), 3.70 (3H,s>, 3.
92 (LH, ddd.

J=6.0.5.3および3.0Hz)、 4.47 
(2H,s)。
J=6.0.5.3 and 3.0Hz), 4.47
(2H, s).

7.33 (5)1.s> 13CNMR(CDCl2) : L64.39. L
38.16.128.41゜127.60.73.31
..72.77、63.01.59.17゜36.63
.36.25.13.00 比旋光度;[α]  ”1.525@(c 1.18.
 CHCl5)衷1ヱしL1社 実施例3−2〉で得られる(4S)−N、5−ビス(ベ
ンジルオキシ)−2−(1−第三級ブチルジメチルシリ
ルオキシエチル)−3−ヒドロキシ−4−メチルペンタ
ンアミド(86mg )およびトリフェニルホスフィン
(45ng)のテトラヒドロフラン(2躯)溶液に、ア
ゾジカルボン酸ジエチル(o、 o27mQ)を5℃で
滴下する。滴下終了後、反応混合物を室温で3時間攪拌
する。反応完結後、溶媒を減圧下に留去する。残渣をシ
リカゲルを使用するクロマトグラフィーに付して、1−
ベンジルオキシ−4−4(IR)−2−ベンジルオキシ
−1−メチルエチル]−3−(1−ヒドロキシエチル)
アゼチジン−2−オン(94mg)を得る。
7.33 (5)1. s> 13CNMR (CDCl2): L64.39. L
38.16.128.41゜127.60.73.31
.. .. 72.77, 63.01.59.17゜36.63
.. 36.25.13.00 Specific rotation; [α] ”1.525@(c 1.18.
(4S)-N,5-bis(benzyloxy)-2-(1-tert-butyldimethylsilyloxyethyl)-3-hydroxy- obtained in Example 3-2 of L1 Company Diethyl azodicarboxylate (o, o27mQ) is added dropwise to a solution of 4-methylpentanamide (86 mg) and triphenylphosphine (45 ng) in tetrahydrofuran (2 units) at 5°C. After the addition is complete, the reaction mixture is stirred at room temperature for 3 hours. After the reaction is completed, the solvent is distilled off under reduced pressure. The residue was chromatographed on silica gel to give 1-
Benzyloxy-4-4(IR)-2-benzyloxy-1-methylethyl]-3-(1-hydroxyethyl)
Azetidin-2-one (94 mg) is obtained.

IR(ニー)>  :  3420.  1755  
am−1HMR(CDCl2,8  )  ’  1.
04  (3H,dJニア、0Hz)、 1.17(3
H,d、、C6,0Hz)、 1.60 (LH,br
、s)、 2.00−2.27 (IH,m)、 2.
80 (LH,dd、、T=6.0および2.0Hz)
、 3.35 (2)1.d、J=6.0Hz>、 3
.55 (IH。
IR (knee)>: 3420. 1755
am-1HMR (CDCl2,8)' 1.
04 (3H, dJ near, 0Hz), 1.17 (3
H,d,,C6,0Hz), 1.60(LH,br
, s), 2.00-2.27 (IH, m), 2.
80 (LH, dd, T=6.0 and 2.0Hz)
, 3.35 (2)1. d, J=6.0Hz>, 3
.. 55 (IH.

dd、 J=6.0および2.0Hz)、 3.88 
(LH,m)。
dd, J=6.0 and 2.0Hz), 3.88
(LH, m).

4.43 (2H,s)、 4.95 (2H,s)、
 7.30 (5H,s)。
4.43 (2H,s), 4.95 (2H,s),
7.30 (5H, s).

7.40 (51,s) 夫凰輿工二ヱ (23,3!9.43)−5−ベンジルオキシ−2−[
(IR)−1−第三級ブチルジメチルシリルオキシエチ
ルツー3−ヒドロキシ−N−メトキシ−4−メチルペン
タンアミド(44mg)およびトリフェニルホスフィン
(83mg )のテトラヒドロフラン(3賊)溶液に、
アゾジカルボン酸ジメチル(45mg)を5°Cで滴下
する。1時間攪拌後、溶媒を減圧下に留去する。残渣を
シリカゲルを使用するクロマトグラフィーに付し、ヘキ
サン/酢酸エチル(5:1)で溶出シテ、(3S、4R
,)−4−[(IR)−2−ペンジルオキシーエーメチ
ルエチルコー3−[(IR)−1−第三級プチルジメチ
ルシリルオキシェチルコー1−メトキシアゼチジン−2
−オン(15mg)を得る。
7.40 (51,s)
(IR)-1-Tertiary-butyldimethylsilyloxyethyl-3-hydroxy-N-methoxy-4-methylpentanamide (44 mg) and triphenylphosphine (83 mg) in tetrahydrofuran (III) solution,
Dimethyl azodicarboxylate (45 mg) is added dropwise at 5°C. After stirring for 1 hour, the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was chromatographed on silica gel, eluting with hexane/ethyl acetate (5:1), (3S, 4R
,)-4-[(IR)-2-penzyloxy-acetylethyl-3-[(IR)-1-tert-butyldimethylsilyloxyethyl-1-methoxyazetidine-2
-one (15 mg) is obtained.

IR(C1(C1) : 1760.1255.110
0 am−1NMR(CDC13,S  )  ’  
0.08  (6H1s)、 0.90  <9H9s
)。
IR(C1(C1): 1760.1255.110
0 am-1NMR (CDC13,S)'
0.08 (6H1s), 0.90 <9H9s
).

1、tO(3H,d、J=6.6Hzン、   1.2
3  (3H,d。
1, tO(3H, d, J=6.6Hz, 1.2
3 (3H, d.

J=6.0)1z)、 2.15 (IH,m)、 2
.73 (1M、dd。
J=6.0)1z), 2.15 (IH, m), 2
.. 73 (1M, dd.

J=2.4および4.8Hz)、 3.45 (2H,
d。
J=2.4 and 4.8Hz), 3.45 (2H,
d.

J=6.0Hz>、 3.73 (3H,s)、 4.
12 (IH,dd。
J=6.0Hz>, 3.73 (3H,s), 4.
12 (IH, dd.

J=2.4および5.0Hz>、 4.15 (IH,
m)、 4.52(2H,s)、  7.37 (5)
1.s)実施例3−4〉で得られる(3S、45)−5
−ベンジルオキシ−2−エチル−3−ヒドロキシ−N−
メトキシ−4−メチルペンタンアミド(634mg)オ
よヒドリフェニルホスフィン(871mg) f>テト
ラヒドロフラン(25m )溶液に、アゾジカルボン酸
ジメチル(476mg)を5℃で滴下する。滴下終了後
、反応混合物を室温で1時間攪拌する。
J=2.4 and 5.0Hz>, 4.15 (IH,
m), 4.52 (2H, s), 7.37 (5)
1. s) (3S, 45)-5 obtained in Example 3-4>
-benzyloxy-2-ethyl-3-hydroxy-N-
Dimethyl azodicarboxylate (476 mg) was added dropwise to a solution of methoxy-4-methylpentanamide (634 mg), hydriphenylphosphine (871 mg), and tetrahydrofuran (25 m) at 5°C. After the addition is complete, the reaction mixture is stirred at room temperature for 1 hour.

反応完結後、溶媒を減圧下に留去する。残渣にシリカゲ
ルを加えて、シリカゲルが乾燥するまで溶媒を留去する
。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、ヘキサ
ン/酢酸エチル(4:1)で溶出して、(4R)−4−
[(IR)−2−ベンジルオキシ−1−メチルエチルツ
ー3−エチル−1−メトキシアゼチジン−2−オン(3
05mg )を得る。
After the reaction is completed, the solvent is distilled off under reduced pressure. Silica gel is added to the residue and the solvent is distilled off until the silica gel is dry. The residue was chromatographed on silica gel, eluting with hexane/ethyl acetate (4:1) to give (4R)-4-
[(IR)-2-benzyloxy-1-methylethyl-3-ethyl-1-methoxyazetidin-2-one (3
05 mg).

IR(ニート)  :  1765. 1450.  
1100  am−1MMR(CHCl3.δ) : 
0.98 (38,t、J=7.2Hz>、 1.07
(3H,d、J−6,9Hz)、 1.67 (2H,
m)、 2.08 (1)T。
IR (NEET): 1765. 1450.
1100 am-1MMR (CHCl3.δ):
0.98 (38,t, J=7.2Hz>, 1.07
(3H, d, J-6,9Hz), 1.67 (2H,
m), 2.08 (1)T.

m)、 2.68 (LH,dt、J=2.1および6
.9Hz)。
m), 2.68 (LH, dt, J=2.1 and 6
.. 9Hz).

3.42 (2H,d、J=6.0Hz)、 3.60
 (IH,dd、J:2.1および6.0Hz)、 3
.72 (3H,s)、 4.47 (2H。
3.42 (2H, d, J=6.0Hz), 3.60
(IH, dd, J: 2.1 and 6.0Hz), 3
.. 72 (3H, s), 4.47 (2H.

s)、 7.30 (5H,s) 比旋光度;[αコD+11.9°(c 1.1&、 C
HCl5)衷1ヱ95二υ ヘキサン中16?fn−プチルリデウム(0,75mf
i )、ジイソプロピルアミン(0,221d ’)お
よびテトラヒドロフラン(2誰)から製造したリチウム
ジイソプロピルアミド(1,20ミリモル)のテトラヒ
ドロフラ:/(2+11fi)l液に、(4S)−4−
[:(IR)−2−ベンジルオキシ−1−メチルエチル
]−1−メトキシアゼチジン−・2−オン(100mg
)のテトラヒドロフラン(2rnQ>溶液を一75℃で
滴下する。5分間攪拌後、新たに蒸留したアセトアルデ
ヒF C0,02fflQ )のテトラヒドロフラン(
1m)m液を同温で滴下する。反応混合物を30分間攪
拌し、次いで塩化アンモニウム飽和水溶液で冷却下に反
応を停止せしめ、酢酸エチルで希釈する。水層を酢酸エ
チルで2回抽出し、有機層を合わせて水で2回および食
塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を
留去する。残渣をシリカゲルを使用するクロマトグラフ
ィーに付し、ヘキサン/酢酸エチル(1:2)で溶出し
て、(33゜4R)−4−[(IR)−2−ベンジルオ
キジ−1−メチルエチル−3−[(I S)および(I
R)−1−ヒドロキシエチル]−1−メトキシアゼチジ
ン−2−オン(IS: IR鱒83 : 17、HPL
Cによる)の混合物(60mg)を得る。
s), 7.30 (5H, s) Specific optical rotation; [α coD + 11.9° (c 1.1&, C
HCl5) 1ヱ952υ 16 in hexane? fn-butyllideum (0,75mf
i) To a solution of lithium diisopropylamide (1,20 mmol) prepared from diisopropylamine (0,221d') and tetrahydrofuran (2), (4S)-4-
[:(IR)-2-benzyloxy-1-methylethyl]-1-methoxyazetidin-.2-one (100 mg
) of tetrahydrofuran (2rnQ>) is added dropwise at -75°C. After stirring for 5 minutes, a solution of freshly distilled acetaldehyde F C0,02fflQ ) in tetrahydrofuran (
1m) Add the m solution dropwise at the same temperature. The reaction mixture is stirred for 30 minutes, then quenched with saturated aqueous ammonium chloride solution under cooling and diluted with ethyl acetate. The aqueous layer is extracted twice with ethyl acetate, the organic layers are combined, washed twice with water and then with brine, dried over magnesium sulfate, and the solvent is distilled off. The residue was chromatographed on silica gel, eluting with hexane/ethyl acetate (1:2) to give (33°4R)-4-[(IR)-2-benzyloxy-1-methylethyl-3- [(I S) and (I
R)-1-hydroxyethyl]-1-methoxyazetidin-2-one (IS: IR Trout 83: 17, HPL
A mixture (60 mg) of (according to C) is obtained.

IR(CHCI ) : 3430.1760 am−
’NMR(CDCl2.8) ’ 1.07 (2H,
d、J=6.6Hz)、 t、t。
IR (CHCI): 3430.1760 am-
'NMR (CDCl2.8) ' 1.07 (2H,
d, J=6.6Hz), t, t.

(LH,d、J=6.6Hz)、 1.27 (3H,
d、J=6.6Hz>。
(LH, d, J=6.6Hz), 1.27 (3H,
d, J=6.6Hz>.

2.08 (IH,m)、 2.77 (0,3H,d
d、J=6.0および2.1Hz)、 2.83 (0
,7)!、dd、J:5.1および2.1Hz>  3
.43  (1,3H,dJ=6.0Hz)  3.4
8(0,7H,dJ=6.0Hz)、  3.70−4
.15 (2H,m)。
2.08 (IH, m), 2.77 (0,3H, d
d, J = 6.0 and 2.1 Hz), 2.83 (0
,7)! , dd, J: 5.1 and 2.1Hz > 3
.. 43 (1,3H, dJ=6.0Hz) 3.4
8 (0,7H, dJ=6.0Hz), 3.70-4
.. 15 (2H, m).

3.77 (3H,s)、  4.47 (2H,s)
、  7.33 (5M、s)衷1」Iし1社 ヘキサ791.6Mn−ブチルリチウム(1,881Q
11)、ジイソプロピルアミン(0,50m1l ) 
、テトラヒドロフラン(4唾)およびヘキサメチル燐酸
トリアミド(211111)から3℃で製造したリチウ
ムジインプロピルアミド(3,00ミリモル)のテトラ
ヒドロフラン(4鶴)およびヘキサメチル燐酸トリアミ
ド(2m11)中溶液に、(4S)−4−[:(IR)
−2−ベンジルオキシ−1−メチルエチル]−1−メト
キシアゼチジン−2−オン(300rng )のテトラ
ヒドロフラン(2証)溶液を一78°Cで滴下する。1
0分間攪拌後、この混合物にテトラヒドロフラン(6m
)ウニ塩化ビス(シクロペンタジェニル)ジルコニウム
(877mg)を同温で加える。15分間攪拌後、これ
に新たに蒸留したアセトアルデヒド(o、2mQ)のテ
トラヒドロフラン(2mQ>溶液を同温で滴下する。反
応混合物を30分間攪拌し、次いで塩化アンモニウム飽
和水溶液で冷却下に反応を停止せしめ、酢酸エチルで希
釈する。水層を酢酸エチルで2回抽出し、有機層を合わ
せて、水で2回および食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネ
シウムで乾燥して溶媒を留去する。残渣をシリカゲルを
使用するクロマトグラフィーに付し、ヘキサン/酢酸エ
チル(1:2)で溶出して、(3S。
3.77 (3H,s), 4.47 (2H,s)
, 7.33 (5M, s)
11), diisopropylamine (0.50ml)
, (4S)- 4-[:(IR)
A solution of -2-benzyloxy-1-methylethyl]-1-methoxyazetidin-2-one (300 rng) in tetrahydrofuran (II) was added dropwise at -78°C. 1
After stirring for 0 min, tetrahydrofuran (6 m
) Add bis(cyclopentadienyl)zirconium chloride (877 mg) at the same temperature. After stirring for 15 minutes, a solution of freshly distilled acetaldehyde (o, 2 mQ) in tetrahydrofuran (2 mQ>) is added dropwise at the same temperature. The reaction mixture is stirred for 30 minutes and then quenched with saturated aqueous ammonium chloride solution under cooling. The aqueous layer is extracted twice with ethyl acetate, the organic layers are combined, washed twice with water and then with brine, dried over magnesium sulfate, and the solvent is evaporated.Residue was chromatographed on silica gel, eluting with hexane/ethyl acetate (1:2) (3S.

4R)−4−[(IR)−2−ベンジルオキシ−1−メ
チルエチルコー3−[(IR)および(IS)−1−ヒ
ドロキシエチル]−1−メトキシアゼチジン−2−オン
(4R: I 5−56: 44、HPLCによる) 
(154mg)を得る。
4R)-4-[(IR)-2-benzyloxy-1-methylethylco-3-[(IR) and (IS)-1-hydroxyethyl]-1-methoxyazetidin-2-one (4R: I 5-56: 44, by HPLC)
(154 mg) is obtained.

IR(Ct(CI ) : 3430.1760 cr
n−’NMR(CDCl2.δ) : 1.07 (1
,5H,d、J=6.6Hz)。
IR(Ct(CI): 3430.1760 cr
n-'NMR (CDCl2.δ): 1.07 (1
, 5H, d, J=6.6Hz).

1.10 (1,5H,d、J=6.6Hz)、 1.
27 (3H,d。
1.10 (1.5H, d, J=6.6Hz), 1.
27 (3H, d.

J=6.6Hz)、  2.08  (IH,m)、 
 2.77  (0,5H,dd。
J=6.6Hz), 2.08 (IH, m),
2.77 (0.5H, dd.

J=6.0および2.1Hz)、 2.83 (0,5
H,dd。
J = 6.0 and 2.1Hz), 2.83 (0,5
H, dd.

J=5.1および2.1Hz)、 3.43 (IH,
d。
J=5.1 and 2.1Hz), 3.43 (IH,
d.

J=6.0Hz>、 3.48 (IH,d、J=6.
0Hz)、 3.70−4.23 (2H,+n)、 
3.77 (3H,s)、 4.47 (2H,s)。
J=6.0Hz>, 3.48 (IH, d, J=6.
0Hz), 3.70-4.23 (2H, +n),
3.77 (3H, s), 4.47 (2H, s).

7.33 (51,s) ヘキサン中1.55Mn−ブチルリチウム(0,93賊
)、ジイソプロピルアミン(0,25m )およびテト
ラヒドロフラン(6111Q)から3°Cで製造したリ
チウムジイソプロピルアミド(1,44ミリモル)のテ
トラヒドロフラン(flu]1mに、テトラヒドロフラ
ン(3戚)中(4S)−4−[(IR)−2−ベンジル
オキシ−1−メチルエチルツー1−メトキンアゼチジン
−2−オン(300mg)を−78°Cで滴下する。1
0分間攪拌後、この混合物にテトラヒドロフラン(31
1111)中第三級ブチルジメチルシリルメチルケトン
(226mg )を同温で加える。1時間攪拌後、反応
混合物に第三級ブチルアルコール中INカリウム第三級
ブトキシド(1,44111駒を同温で加える。混合物
を0°Cまで昇温せしめ、1分間攪拌して塩化アンモニ
ウム飽和水溶液で反応を停止せしめ、酢酸エチルを加え
、有機層を分取する。水層を酢酸エチルで2回抽出し、
有機層を合わせてIN塩酸で2回、炭酸水素ナトリウム
飽和水溶液、水および食塩水で順次洗浄して硫酸マグネ
シウムで乾燥し、溶媒を留去する。残渣をシリカゲルを
使用するクロマトグラフィーに付し、ヘキサン/酢酸エ
チル(5:1)で溶出して、(3S。
7.33 (51,s) Lithium diisopropylamide (1,44 mmol) prepared from 1.55 M n-butyllithium (0,93 mm), diisopropylamine (0,25 m) and tetrahydrofuran (6111Q) in hexane at 3 °C. ) to 1 m of tetrahydrofuran (flu) was added (4S)-4-[(IR)-2-benzyloxy-1-methylethyl-1-methquinazetidin-2-one (300 mg) in tetrahydrofuran (3 relatives). Drop at -78°C.1
After stirring for 0 minutes, tetrahydrofuran (31
1111) and tertiary-butyldimethylsilylmethylketone (226 mg) was added at the same temperature. After stirring for 1 hour, IN potassium tert-butoxide in tert-butyl alcohol (1,44111 pieces) was added to the reaction mixture at the same temperature. The mixture was warmed to 0°C and stirred for 1 minute to form a saturated aqueous ammonium chloride solution. Stop the reaction, add ethyl acetate, and separate the organic layer.Extract the aqueous layer twice with ethyl acetate,
The combined organic layers are washed twice with IN hydrochloric acid, successively with a saturated aqueous solution of sodium bicarbonate, water, and brine, dried over magnesium sulfate, and the solvent is distilled off. The residue was chromatographed on silica gel, eluting with hexane/ethyl acetate (5:1) (3S.

4R)−7,t−[IR)−z−ベンジルオキシ−1−
メチルエチルコー3−[(IR)−1−第三級ブチルジ
メチルシリルオキシエチル]−1−メトキシアゼチジン
−2−オン(279mg)を得、さらに原料物質111
mgを回収する。
4R)-7,t-[IR)-z-benzyloxy-1-
Methylethylco-3-[(IR)-1-tert-butyldimethylsilyloxyethyl]-1-methoxyazetidin-2-one (279 mg) was obtained, and further raw material 111
Collect mg.

1R(CDCIs) : 1760.1255.110
0 amNMR(CDCIs、8 ) =0.08 (
6H,s)、 o、 90 (91(、s)。
1R (CDCIs): 1760.1255.110
0 amNMR(CDCIs, 8) = 0.08 (
6H,s), o, 90 (91(,s).

1.10 (3H,d、J=6.6Hz)、 1.23
 (3H,d。
1.10 (3H, d, J=6.6Hz), 1.23
(3H, d.

J=6.0Hz)、 2.i5 (IH,m)、 2.
73 (IH,dd。
J=6.0Hz), 2. i5 (IH, m), 2.
73 (IH, dd.

J=2.4および4.8Hz>、 3.45 (2H,
d。
J=2.4 and 4.8Hz>, 3.45 (2H,
d.

J=6.0Hz)、 3.73 <3H,s)、 4.
12 (IH,dd。
J=6.0Hz), 3.73 <3H,s), 4.
12 (IH, dd.

J=2.4および5.0H2)、 4.15 (IH,
m>、 4.52(2H,s)、 7.37 (5H,
s)比旋光度=[α貼8+1.607°(c 1 、1
2.CHCl3)叉1」LL二U 実施例5−1)で得られる(3S、4R)−4−[(I
R)−2−ベンジルオキシ−1−メチルエチル]−3−
[(IS)および(IR)−1−ヒドロキシエチル]−
1−メトキシアゼチジン−2−オン(55mg)のジメ
チルホルムアミド(31119)溶液に、塩化第三級ブ
チルジメチルシリル(100mg)およびイミダゾール
(50mg)を室温で加える。1時間攪拌後、反応混合
物をジエチルエーテルおよび水で希釈する。水層をジエ
チルエーテルで2回抽出し、エーテル1を合わせて水で
2回および食塩、水で順次洗浄して硫酸マグネシウムで
乾燥し、溶媒を留去する。残渣をシリカゲルを使用する
クロマトグラフィーに付し、ヘキサン/酢酸エチル(1
0:1)で溶出して、(3S、4R)−4−[(IR)
−2−ベンジルオキシ−1−メチルエチルコー3−[(
15)および(IR)−1−第三級ブチルジメチルシリ
ルオキシエチル]−1−メトキシアゼデシン−2−オン
(70mg)を得る。
J=2.4 and 5.0H2), 4.15 (IH,
m>, 4.52 (2H, s), 7.37 (5H,
s) Specific rotation = [α 8 + 1.607° (c 1 , 1
2. (3S,4R)-4-[(I
R)-2-benzyloxy-1-methylethyl]-3-
[(IS) and (IR)-1-hydroxyethyl]-
To a solution of 1-methoxyazetidin-2-one (55 mg) in dimethylformamide (31119) are added tert-butyldimethylsilyl chloride (100 mg) and imidazole (50 mg) at room temperature. After stirring for 1 hour, the reaction mixture is diluted with diethyl ether and water. The aqueous layer is extracted twice with diethyl ether, combined with ether 1, washed twice with water, then with salt and then with water, dried over magnesium sulfate, and the solvent is distilled off. The residue was chromatographed on silica gel in hexane/ethyl acetate (1
(3S,4R)-4-[(IR)
-2-benzyloxy-1-methylethylco-3-[(
15) and (IR)-1-tert-butyldimethylsilyloxyethyl]-1-methoxyazedecin-2-one (70 mg) are obtained.

IR(CDCIs) ’ 1760.1255 am−
1HMR(CDCIs、 E ) : 0.10 (6
H,s)、 0.93 (9H,s)。
IR(CDCIs)' 1760.1255 am-
1HMR (CDCIs, E): 0.10 (6
H,s), 0.93 (9H,s).

1.13 (3H,d、J=6.6Hz)、 1.33
 (3H,d。
1.13 (3H, d, J=6.6Hz), 1.33
(3H, d.

J=6.3Hz)、 2.17 (LH,ddd、J=
6.6.6.6および6.6Hz)、 2.77 (0
,2H,dd、J=2.4および4.8Hz>、 2.
83 (0,8H,dd、J:3.0および3.0Hz
>、 3.50 (2H,dJ=6.6Hz)、 3.
77 (3H1s)、 3.93 (0,8H,dd、
J=3.0および6.6Hz)。
J=6.3Hz), 2.17 (LH, ddd, J=
6.6.6.6 and 6.6Hz), 2.77 (0
, 2H, dd, J=2.4 and 4.8Hz>, 2.
83 (0,8H, dd, J: 3.0 and 3.0Hz
>, 3.50 (2H, dJ=6.6Hz), 3.
77 (3H1s), 3.93 (0.8H, dd,
J = 3.0 and 6.6 Hz).

4、00−4.34 <1.2H,m)、 4.53 
(2H,s)、 7.30(5H,5) )IPLC分析によって、この生成物が異性体A(17
%)、異性体B(82%)およびその他(1%)の混合
物であることが示きれる。
4, 00-4.34 <1.2H, m), 4.53
(2H,s), 7.30(5H,5) ) IPLC analysis reveals that this product is isomer A (17
%), isomer B (82%) and others (1%).

実施例7−2) 実施例4−2)で得られる1−ベンジルオキシ−4−[
(IR)−2−ベンジルオキシ−1−メチルエチル]−
3−(1−ヒドロキシエチル)アゼチジン−2−オン(
95mg)のジメチルホルムアミド(2mQ)溶液に、
塩化第三級ブチルジメチルシリル(77mg)およびイ
ミダゾール(87mg)を室温で加える。2時間攪拌後
、反応混合物にジエチルエーテルと水を力Uえ、有機層
を分取する。水層をジエチルエーテルで2回抽出し、エ
ーテル層を合わせてIN塩酸で2回、水および食塩水で
順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を留去す
る。残渣をシリカゲルを使用するクロマトグラフィーに
イ寸して、1−ベンジルオキシ−4−[(IR)−2−
ベンジルオキシ−1−メチルエチル]−3−[ヱー第三
級ブチルジメチルシリルオキジエチルコアゼチジン−2
−オン(26mg) ヲ得る。
Example 7-2) 1-benzyloxy-4-[ obtained in Example 4-2)
(IR)-2-benzyloxy-1-methylethyl]-
3-(1-hydroxyethyl)azetidin-2-one (
95 mg) in dimethylformamide (2 mQ) solution,
Tert-butyldimethylsilyl chloride (77 mg) and imidazole (87 mg) are added at room temperature. After stirring for 2 hours, diethyl ether and water were added to the reaction mixture, and the organic layer was separated. The aqueous layer is extracted twice with diethyl ether, the combined ether layers are washed twice with IN hydrochloric acid, then with water and brine, dried over magnesium sulfate, and the solvent is distilled off. The residue was chromatographed on silica gel to give 1-benzyloxy-4-[(IR)-2-
benzyloxy-1-methylethyl]-3-[tert-butyldimethylsilyloxydiethylcoazetidine-2
-on (26mg).

1R(CHCL3) =1760.1455.1255
.ttoo amNMR(CDCI3.δ) : 0.
08 (6H,s)、 0.88 (9H,s)。
1R(CHCL3) =1760.1455.1255
.. ttoo amNMR (CDCI3.δ): 0.
08 (6H, s), 0.88 (9H, s).

1.07 (3H,d、J=6.9Hz)、 1.22
 (3H,d。
1.07 (3H, d, J=6.9Hz), 1.22
(3H, d.

J=6.3Hz)、 2.100)i、m)、 2.8
7 (IH,dd。
J=6.3Hz), 2.100)i, m), 2.8
7 (IH, dd.

J=2.4および3.6Hz)、 3.24 (2H,
d。
J=2.4 and 3.6Hz), 3.24 (2H,
d.

J=6.0Hz)、 3.80 (IH,dd、J=2
.4および6.0Hz)、 4.12 (1)1.m)
、 4.50 (2H,s)、 4.95(2H,s)
、7.33  (5H,s)、  7.40  (5H
,s)衷1」トし1打 実施例5−2)で得られる(3S、4R)−4−[(I
R)−2−ベンジルオキシ−1−メチルエチル]−3−
[(IR)および(Is)−1−ヒドロキジエチルツー
1−メトキシアゼチジン−2−オン(134mg)のジ
メチルホルムアミド(5111Q)溶液に、塩化第三級
ブチルジメチルシリル(138mg)およびイミダゾー
ル(155mg)を室温で加える。1時間攪拌後、反応
混合物にジエチルエーテルおよび水を加え、有機層を分
取する。水層をジエチルエーテルで2回抽出し、エーテ
ル層を合わせて水で2回および食塩水で順次洗浄し、硫
酸マグネシウムで乾燥して溶媒を留去する。残渣をシリ
カゲルを使用するクロマトグラフィーに付し、ヘキサン
/酢酸エチル(10:1)で溶出して、(3S、4R)
−4−[:(IR)−2−ベンジルオキシ−1−メチル
エチル]−3−[1−第三級ブチルジメチルシリルオキ
シエチルツー1−メトキシアゼチジン−2−オン(15
1mg)を得る。
J=6.0Hz), 3.80 (IH, dd, J=2
.. 4 and 6.0Hz), 4.12 (1)1. m)
, 4.50 (2H, s), 4.95 (2H, s)
, 7.33 (5H,s), 7.40 (5H
, s) 1'' and 1 stroke (3S, 4R)-4-[(I
R)-2-benzyloxy-1-methylethyl]-3-
[To a solution of (IR) and (Is)-1-hydroxydiethyl-1-methoxyazetidin-2-one (134 mg) in dimethylformamide (5111Q) were added tert-butyldimethylsilyl chloride (138 mg) and imidazole (155 mg). Add at room temperature. After stirring for 1 hour, diethyl ether and water are added to the reaction mixture, and the organic layer is separated. The aqueous layer is extracted twice with diethyl ether, the combined ether layers are washed twice with water and then with brine, dried over magnesium sulfate, and the solvent is distilled off. The residue was chromatographed on silica gel, eluting with hexane/ethyl acetate (10:1) to give (3S, 4R)
-4-[:(IR)-2-benzyloxy-1-methylethyl]-3-[1-tert-butyldimethylsilyloxyethyl-1-methoxyazetidin-2-one (15
1 mg).

IR(CDCI ) : 1760.1255 cm−
1NMR(CDCI3.6 ) : 0.10 (6H
,s)、 0.93 (9H,s)。
IR (CDCI): 1760.1255 cm-
1NMR (CDCI3.6): 0.10 (6H
,s), 0.93 (9H,s).

1、ts (3H,d、J=6.6)1z)、 1.2
7 (1,5H,d。
1, ts (3H, d, J=6.6)1z), 1.2
7 (1,5H,d.

J=6.0Hz)、 1.33 (1,5H,d、J=
6.3Hz)、 2.17(LH,m、J=6.6.6
.6および6.6Hz)、 2.78(0,5H,dd
、 J=2.4および4.8)1z)、 2.85(0
,5H,dd、J=3.0および3.0Hz)、 3.
50 (2H。
J=6.0Hz), 1.33 (1,5H,d, J=
6.3Hz), 2.17 (LH, m, J=6.6.6
.. 6 and 6.6Hz), 2.78 (0,5H, dd
, J=2.4 and 4.8)1z), 2.85(0
, 5H, dd, J=3.0 and 3.0Hz), 3.
50 (2H.

dJ=6.6Hz: d、J=6.0Hz)、 3.7
5 (1,5H,s)。
dJ=6.6Hz: d, J=6.0Hz), 3.7
5 (1,5H,s).

3.80 (1,5H,s)、 3.93 (0,5H
,dd、J=3.0および6.6Hz)、 4.00−
4.34 (1,5H,m)、 4.53(2H,s)
、 7.40 (5H,5)HPLC分析によって、こ
の生成物が異性体A(52%)、異性体B(47%)お
よびその他(1%)の混合物であることが示される。
3.80 (1,5H,s), 3.93 (0,5H
, dd, J=3.0 and 6.6Hz), 4.00-
4.34 (1,5H, m), 4.53 (2H, s)
, 7.40 (5H,5) HPLC analysis shows the product to be a mixture of isomer A (52%), isomer B (47%) and others (1%).

衷IL旦 (5)−3−ベンジルオキシ−2−メチルプロパナール
(1,0g)および[(IR)−1−トリエチルシリル
オキシエチル]ケテン■メチルトリエチルシリルアセク
ール(2,33g)のジクロロメタン(201d )溶
液に塩化チタン(mV)のジクロロメタン中IM溶液(
6,7211111)を−40±5°Cで滴下する。1
時間攪拌後、反応を水(1踵)で停止せしめ、IN塩酸
(201Q )およびテトラヒドロフラン(20m1l
 )を加え、この混合物を2時間攪拌し、脱シリル化す
る0反応完了後右機層を分取する。水層を酢酸エチルで
2回抽出し、有機層を合わせてIN塩酸で2回、炭酸水
素ナトリウム飽和水溶液、水および食塩水で順次洗浄し
、硫酸マグネシウムで乾燥後濃縮する。残渣をシリカゲ
ルを使用するクロマトグラフィーに付して、(2R,3
5゜4S)−5−ベンジルオキジ−3−ヒドロキシ−2
−[(IR>1−ヒドロキシエチル]−4−メチルペン
タン酸メチル(934mg)を得ル。
(5)-3-Benzyloxy-2-methylpropanal (1,0 g) and [(IR)-1-triethylsilyloxyethyl]ketene ■Methyltriethylsilyl acecool (2,33 g) in dichloromethane ( 201d) solution of titanium chloride (mV) in dichloromethane IM solution (
6,7211111) was added dropwise at -40±5°C. 1
After stirring for an hour, the reaction was quenched with water (1 liter), IN hydrochloric acid (201Q) and tetrahydrofuran (20ml).
), the mixture is stirred for 2 hours, and after the desilylation reaction is completed, the right layer is separated. The aqueous layer is extracted twice with ethyl acetate, and the organic layers are combined and washed twice with IN hydrochloric acid, successively with a saturated aqueous solution of sodium bicarbonate, water, and brine, dried over magnesium sulfate, and concentrated. The residue was chromatographed on silica gel (2R,3
5゜4S)-5-benzyloxy-3-hydroxy-2
-Methyl-[(IR>1-hydroxyethyl]-4-methylpentanoate (934 mg) was obtained.

IRに−ト)  :  3400.  2100.  
1960. 1880゜1720 am−1 比旋光度=[αコ25−14.6°(c 1.126.
 CHCl )(2S、3S、4S>5−ベンジルオキ
シ−2−[(IR)−1−第三級ブチルジメチルシリル
オキシエチルツー3−ヒドロキシ−N−メトキシ−4−
メチルペンタンアミド(500mg)を無水ピリジン(
2−)に溶解し、0°Cに冷却する。塩化メタンスルホ
ニル(0,109mQ )を徐々に加えた後、混合物を
1日攪拌し、酢酸エチル(50mQ )およびIN!酸
(l0IIIQ )を加える。反応混合物を酢酸エチル
で3回抽出し、有機層を合わせ、INm酸、水および食
塩水で順次洗浄する。硫酸マグネシウムで乾燥後減圧濃
縮して(2S、3S、4S)−5−ベンジルオキシ−2
−[(IR)−1=第三級ブチルジメチルシリルオキシ
エチル]−3−メタンスルホニルオキジ−N−メトキシ
−4−メチルペンタンアミド(592mg)を得る。こ
の化合物のメタノール(Llmll )溶液に室温で炭
酸カリウム(163mg)を加え、1時間攪拌する。固
形物を濾取し、酢酸エチル(somu )で洗浄する。
IR): 3400. 2100.
1960. 1880° 1720 am-1 Specific rotation = [α 25-14.6° (c 1.126.
CHCl )(2S,3S,4S>5-benzyloxy-2-[(IR)-1-tert-butyldimethylsilyloxyethyl-3-hydroxy-N-methoxy-4-
Methylpentanamide (500 mg) was dissolved in anhydrous pyridine (
2-) and cooled to 0°C. After gradual addition of methanesulfonyl chloride (0,109 mQ ), the mixture was stirred for 1 day and then added with ethyl acetate (50 mQ ) and IN! Add acid (10IIIQ). The reaction mixture is extracted three times with ethyl acetate and the organic layers are combined and washed sequentially with INm acid, water and brine. After drying with magnesium sulfate, it was concentrated under reduced pressure to give (2S, 3S, 4S)-5-benzyloxy-2.
-[(IR)-1=tertiary-butyldimethylsilyloxyethyl]-3-methanesulfonyloxy-N-methoxy-4-methylpentanamide (592 mg) is obtained. Potassium carbonate (163 mg) was added to a solution of this compound in methanol (Llmll) at room temperature, and the mixture was stirred for 1 hour. The solids are filtered off and washed with ethyl acetate (somu).

濾液および洗液を合わせて濃縮した後、酢酸エチル(5
0mEl )に溶解する。IN塩酸、炭酸水素ナトリウ
ム飽和水溶液および食塩水で順次洗浄後、硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、濃縮して(3S、4R)−4−[(IR
)−2−ペン、ジルオキシ−1−メチルエチルコー3−
[(IR)−1−第三級ブチルジメチルシリルオキシエ
チルツー1−メトキシアゼチジン−2−オン(375m
g)を得る。
The filtrate and washings were combined and concentrated, then ethyl acetate (5
0 ml). After successively washing with IN hydrochloric acid, saturated aqueous sodium bicarbonate solution and brine, drying over magnesium sulfate and concentration gave (3S,4R)-4-[(IR
)-2-pen, zyloxy-1-methylethylco-3-
[(IR)-1-tert-butyldimethylsilyloxyethyl-1-methoxyazetidin-2-one (375 m
g) is obtained.

IR(CHCI ) : 1760.1255.110
0 cm−1比旋光度:[αコ、  +1.52°(c
 1.05.CHCl3)艮1」LLニリ リチウム(80mg )を蒸留アンモニア(6mQ)に
−78℃で溶解する。30分後、これにテトラヒドロフ
ラン(1mQ)中第三級ブチルアルコール(2mf1)
を加え、溶液を10分間攪拌する。この溶液に(3S、
4R)−4−[:(IR)−2−ベンジルオキシ−1−
メチルエチルコー3−[(IR)−1−第三級ブチルジ
メチルシリルオキシエチル]−1−メトキシアゼチジン
−2−オン(200mg )のテトラヒドロフラン(1
−)溶液を同温で加える。1時間攪拌後、混合物の反応
を塩化アンモニウム飽和水溶液で注意しながら停止せし
め、室温まで昇温せしめてアンモニアを除去する。混合
物を酸性にして酢酸エチルで2回抽出する。有機層を合
わせてIN塩酸で2回、炭酸水素ナトリウム飽和水溶液
および食塩水で順次洗浄して硫酸マグネシウムで乾燥し
、溶媒を留去して、(3S。
IR (CHCI): 1760.1255.110
0 cm-1 specific optical rotation: [α, +1.52° (c
1.05. CHCl3) 艮1'LL Nililithium (80 mg) is dissolved in distilled ammonia (6 mQ) at -78°C. After 30 minutes, this was added with tertiary butyl alcohol (2 mf1) in tetrahydrofuran (1 mQ).
and stir the solution for 10 minutes. To this solution (3S,
4R)-4-[:(IR)-2-benzyloxy-1-
Tetrahydrofuran (1
-) Add the solution at the same temperature. After stirring for 1 hour, the mixture was carefully quenched with saturated aqueous ammonium chloride solution and warmed to room temperature to remove ammonia. The mixture is acidified and extracted twice with ethyl acetate. The combined organic layers were washed twice with IN hydrochloric acid, successively with a saturated aqueous solution of sodium bicarbonate and brine, dried over magnesium sulfate, and the solvent was distilled off (3S).

4 R)−3−[(I R)−1−第三級ブチルジメチ
ルシリルオキシエチル]−4−[(IR)−2−ヒドロ
キシ−1−メチルエチル]アゼチジンー2−オン(12
5mg)を得る。
4 R)-3-[(IR)-1-tert-butyldimethylsilyloxyethyl]-4-[(IR)-2-hydroxy-1-methylethyl]azetidin-2-one (12
5 mg).

mp : 62−63℃ 1R(CHCl3) ’ 3420,1755 amN
MR(CDC13,f; ) ’ 0.10 (6)1
.s)、0.90 (3H1d。
mp: 62-63℃ 1R(CHCl3)' 3420,1755 amN
MR(CDC13,f; )' 0.10 (6)1
.. s), 0.90 (3H1d.

J=6.0Hz)、 0.93 (9)1.s)、 1
.30 (3H,d。
J=6.0Hz), 0.93 (9)1. s), 1
.. 30 (3H, d.

J=6.0)tz)、 1.57−2.00 (LH,
m)、 3.10 (IH。
J=6.0)tz), 1.57-2.00 (LH,
m), 3.10 (IH.

d、J=8.4Hz)、 3.28 (IH,dd、J
=8.4および2.1Hz)、 3.38−3.75 
(2H,d、J=6.6Hz)、 4.10(LH,m
)、 6.48 (IH,br、s)比旋光度:[α貼
7−14.4°(c t、oo、 CHCl5)製造例
1−2) リチウム(7mg)を蒸留アンモニア(3mQ)に−7
8℃で溶解する。30分後、これに第三級ブデルアルコ
ール(1戚)を加え、溶液を5分間攪拌する。この溶液
に(35,4R)−4−[(IR>−2−ベンジルオキ
シ−1−メチルエチル]−3−[(IR)および(IS
)−1−第三級ブチルジメチルシリルオキシエチル]−
1−メトキシアゼデシン−2−オン(IR: IS寓5
2.40、)IPLcによる)(83mg)のテトラヒ
下ロフラン(1戚)溶液を同温で加える。1時間攪拌後
、混合物の反応を塩化アンモニウム飽和水溶液により停
止せしめ、室温まで昇温せしめてアンモニアを留去する
。混合物を酸性にして酢酸エチルで2回抽出する。有機
層を合わせて水および食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネ
シウムで乾燥後、溶媒を留去して、(3S、4R)−3
−[(IR)および(IS)−1−第三級ブテルジメチ
ルシリルオキシエチルコー4−[(IR)−2−ヒドロ
キシ−1=メチルエチル]アゼチジン−2−オン(IR
:l5−63:37、HPLCによる) (33,1g
 )を得る。
d, J=8.4Hz), 3.28 (IH, dd, J
=8.4 and 2.1Hz), 3.38-3.75
(2H, d, J = 6.6Hz), 4.10 (LH, m
), 6.48 (IH, br, s) Specific rotation: [α paste 7-14.4° (ct, oo, CHCl5) Production example 1-2) Lithium (7 mg) was dissolved in distilled ammonia (3 mQ) -7
Dissolve at 8°C. After 30 minutes, tertiary Budel alcohol (1 relative) is added to this and the solution is stirred for 5 minutes. This solution was added to (35,4R)-4-[(IR>-2-benzyloxy-1-methylethyl]-3-[(IR) and (IS
)-1-Tertiary butyldimethylsilyloxyethyl]-
1-Methoxyazedecin-2-one (IR: IS Feg5
2.40,) by IPLc) (83 mg) in tetrahydrofuran (1 relative) is added at the same temperature. After stirring for 1 hour, the reaction of the mixture was quenched with a saturated aqueous ammonium chloride solution, the temperature was raised to room temperature, and ammonia was distilled off. The mixture is acidified and extracted twice with ethyl acetate. The organic layers were combined, washed sequentially with water and brine, dried over magnesium sulfate, and the solvent was distilled off to give (3S,4R)-3
-[(IR) and (IS)-1-tert-butereddimethylsilyloxyethylco-4-[(IR)-2-hydroxy-1=methylethyl]azetidin-2-one (IR
:l5-63:37, by HPLC) (33,1g
).

1R(CHCl3) : 3640.3425.175
0 amNMR(CDC13,S ) ’ 0.10 
(6H9s)、0.90 (1,5H9d、J:6.0
Hz>、 0.93 (9H,s)、 0.97 (1
,5H,d。
1R(CHCl3): 3640.3425.175
0 amNMR(CDC13,S)' 0.10
(6H9s), 0.90 (1,5H9d, J:6.0
Hz>, 0.93 (9H,s), 0.97 (1
,5H,d.

J=6.0Hz)、 1.30 (1,51(、d、に
6.0Hz)、 1.37<1.5Hz、d、J:6.
0Hz)、 1.57−2.00 (LH,m>。
J=6.0Hz), 1.30 (1,51(,d,6.0Hz), 1.37<1.5Hz, d, J:6.
0Hz), 1.57-2.00 (LH, m>.

3.10 (LH,d、J=8.4)1z)、 3.2
8 (IH,dd。
3.10 (LH, d, J=8.4)1z), 3.2
8 (IH, dd.

J=8.4および2.1Hz>、 3.38−3.75
 (2)!、m)。
J=8.4 and 2.1Hz>, 3.38-3.75
(2)! , m).

4.00−4.37 (IH,m)、 6.33 (L
H,br、s)製3jH艷主 υ 酸化クロム(IV>(104g )をピリジン(2−)
に15℃で少量ずつ分割して加え、この懸濁混合物を室
温で15分間攪拌する。この懸濁混合物に(3S。
4.00-4.37 (IH, m), 6.33 (L
Chromium oxide (IV>(104g)) made of pyridine (2-)
is added in small portions at 15° C. and the suspension mixture is stirred for 15 minutes at room temperature. To this suspension mixture (3S.

4R)−3−[(IR)−1−第三級ブチルジメチルシ
リルオキシエチル]−4−[(IR)−2−ヒドロキシ
−1−メチルエチルコアゼチジンー2−オン(100m
g)を滴下し、混合物を2.5日間攪拌する0反応混合
物にジエチルエーテルを加え、セライトを付して濾過す
る。濾過残渣をジエチルエーテルで2回洗浄する。有機
層を炭酸水素ナトリウム飽和水溶液で4回抽出する。水
層を合わせてジエチルエーテルで2回洗浄し、濃塩酸で
酸性にして酢酸エチルで3回抽出する。有機層をIN塩
酸で2回、水および食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシ
ウムで乾燥後、溶媒を減圧下に留去して、(2R)−2
−4(3S、4S)−3−((IR)−1−第三級ブチ
ルジメチルシリルオキシエチル)−2−才キソアゼテジ
ン−4−イル]プロピオン酸(68mg )を得る。
4R)-3-[(IR)-1-tert-butyldimethylsilyloxyethyl]-4-[(IR)-2-hydroxy-1-methylethylcoazetidin-2-one (100 m
Add g) dropwise and stir the mixture for 2.5 days. Add diethyl ether to the reaction mixture and filter through Celite. Wash the filter residue twice with diethyl ether. The organic layer is extracted four times with saturated aqueous sodium bicarbonate solution. The combined aqueous layers are washed twice with diethyl ether, acidified with concentrated hydrochloric acid, and extracted three times with ethyl acetate. The organic layer was washed twice with IN hydrochloric acid, then with water and brine, dried over magnesium sulfate, and the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain (2R)-2.
-4(3S,4S)-3-((IR)-1-tert-butyldimethylsilyloxyethyl)-2-year-old xoazetedin-4-yl]propionic acid (68 mg) was obtained.

mp : 139−141℃ IR(CHCL3) ’ 3420.3300.173
0 cm−″1比旋光度:[αコ20−18.4°(c
 1.0. MeOH>ジエチルエーテル中の(2R)
−2−[(3S。
mp: 139-141℃ IR (CHCL3)' 3420.3300.173
0 cm-″1 Specific optical rotation: [α 20-18.4° (c
1.0. (2R) in MeOH>diethyl ether
-2-[(3S.

4S)−3−((IR)−1−第三級ブチルジメチルシ
リルオキシエチル)−2−オキソアゼデシン−4−イル
]プロピオン酸(68mg )を、ジアゾメタンのジエ
チルエーテル溶液で処理して、(2R)−2−[(3S
、4S)−3−((IR)−1−第三級ブチルジメチル
シリルオキシエチル)−2−才キソアゼチジン−4−イ
ルコプロビオン酸メチル(65mg)を得る。
4S)-3-((IR)-1-tert-butyldimethylsilyloxyethyl)-2-oxoazedecin-4-yl]propionic acid (68 mg) was treated with a solution of diazomethane in diethyl ether to give (2R) -2-[(3S
, 4S)-3-((IR)-1-tert-butyldimethylsilyloxyethyl)-2-year-old xoazetidin-4-ylcoprobionic acid methyl (65 mg).

mp : 110(12℃ IR(CH2C12) : 3530.3410.17
65.1740゜1420 cm−1 NMR(CDCl3.E ) ’ o、 10 (6)
1.s)、 o、 90 (9H1s) 。
mp: 110 (12℃ IR (CH2C12): 3530.3410.17
65.1740°1420 cm-1 NMR (CDCl3.E) 'o, 10 (6)
1. s), o, 90 (9H1s).

1.20 (3H,d、J−6,3Hz)、 1.27
 (3H,d。
1.20 (3H, d, J-6, 3Hz), 1.27
(3H, d.

J=6.3)1z)、 2.75 (1)!、qd、J
=6.6および5.7Hz)、 3.00 (LH,d
dJ=2.1および3.9Hz)、  3.73  <
3H,s)、  3.90  (LH,ddJ=2.1
および5.・71(z)、 4.23 (LH,m)、
 6.12(IH,br、s) 比旋光度:[α貼9−19.2°(c 0.48.CH
2Cl□)製造例3 リチウム(20mg)をエチルアミン(311111)
に−40°Cで溶解する。45分後、これに(3S、4
R)−4−[(IR)−2−ベンジルオキシ−1−メチ
ルエチル]−3−[(I R)−1−第三級ブチルジメ
チルシリルオキシエテル]−1−メトキシアゼチジン−
2−オン(100mg)の第三級ブチルアルコール(I
IQ)およびテトラヒドロフラン(1戒)溶液を加え、
1時間攪拌する。混合物の反応を塩化アンモニウム飽和
水溶液で注意しながら停止せしめ、室温まで昇温せしめ
てエチルアミンを除去する。残渣に酢酸エチルを加え、
IN塩酸、炭酸水素ナトリウム飽和水溶液および食塩水
で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮する。
J=6.3)1z), 2.75 (1)! ,qd,J
=6.6 and 5.7Hz), 3.00 (LH,d
dJ = 2.1 and 3.9Hz), 3.73 <
3H, s), 3.90 (LH, ddJ=2.1
and 5.・71 (z), 4.23 (LH, m),
6.12 (IH, br, s) Specific optical rotation: [α pasted 9-19.2° (c 0.48.CH
2Cl□) Production Example 3 Lithium (20mg) was mixed with ethylamine (311111)
Dissolve at -40°C. After 45 minutes, (3S, 4
R)-4-[(IR)-2-benzyloxy-1-methylethyl]-3-[(IR)-1-tert-butyldimethylsilyloxyether]-1-methoxyazetidine-
Tertiary butyl alcohol (I) of 2-one (100 mg)
Add IQ) and tetrahydrofuran (1 precept) solution,
Stir for 1 hour. The mixture is carefully quenched with saturated aqueous ammonium chloride solution and allowed to warm to room temperature to remove ethylamine. Add ethyl acetate to the residue,
Wash sequentially with IN hydrochloric acid, saturated aqueous sodium bicarbonate solution and brine, dry over magnesium sulfate, and concentrate.

残渣をシリカゲルを使用するクロマトグラフィーに付し
て(3S、4R)−3−[(IR)−1−第三級ブチル
ジメチルシリルオキシエチルツー4−[(IR)−2−
ヒドロキシ−1−メチルエチルコアモチジン−2−オン
(50mg) ヲ得、さらに原料化合物(32mg )
を回収する。
The residue was chromatographed on silica gel to give (3S,4R)-3-[(IR)-1-tert-butyldimethylsilyloxyethyl-4-[(IR)-2-
Hydroxy-1-methylethyl coamotidin-2-one (50 mg) was obtained, and the raw material compound (32 mg) was obtained.
Collect.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1)式: ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、R^1は保護されたまたは保護されていないヒ
ドロキシ(低級)アルキル基、R^2は低級アルキル基
、R^3は水素、低級アルキル基、保護されたもしくは
保護されていないヒドロキシ(低級)アルキル基、また
はトリ置換シリル基、R^4はヒドロキシ基、置換され
たヒドロキシ基、アミノ基または保護されたアミノ基を
意味する]で示される化合物またはその塩類。 2)R^1がヒドロキシ(低級)アルキル基、アシルオ
キシ(低級)アルキル基、アル(低級)アルコキシ(低
級)アルキル基またはトリ置換シリルオキシ(低級)ア
ルキル基、R^2が低級アルキル基、R^3が水素、低
級アルキル基、ヒドロキシ(低級)アルキル基、アシル
オキシ(低級)アルキル基、アル(低級)アルコキシ(
低級)アルキル基、トリ置換シリルオキシ(低級)アル
キル基またはトリ置換シリル基、R^4がヒドロキシ基
、適当な置換基を少なくとも1個有していてもよい低級
アルコキシ基、低級アルケニルオキシ基、低級アルキニ
ルオキシ基、適当な置換基を少なくとも1個有していて
もよいアル(低級)アルコキシ基、適当な置換基を少な
くとも1個有していてもよいアリールオキシ基、フタリ
ジルオキシ基、低級アルコキシアミノ基またはアル(低
級)アルコキシアミノ基である特許請求の範囲第1)項
に記載の化合物。 3)R^1がヒドロキシ(低級)アルキル基またはアル
(低級)アルコキシ(低級)アルキル基、R^2が低級
アルキル基、R^3が水素、低級アルキル基、ヒドロキ
シ(低級)アルキル基、トリ(低級)アルキルシリルオ
キシ(低級)アルキル基またはトリ(低級)アルキルシ
リル基、R^4がヒドロキシ基、低級アルコキシ基、低
級アルコキシアミノ基またはアル(低級)アルコキシア
ミノ基である特許請求の範囲第2)項に記載の化合物。 4)R^1がヒドロキシ(C_1〜C_4)アルキル基
またはフェニル(C_1〜C_4)アルコキシ(C_1
〜C_4)アルキル基、R^2がC_1〜C_4アルキ
ル基、R^3が水素、C_1〜C_4アルキル基、ヒド
ロキシ(C_1〜C_4)アルキル基、トリ(C_1〜
C_4)アルキルシリルオキシ(C_1〜C_4)アル
キル基またはトリ(C_1〜C_4)アルキルシリル基
、R^4がヒドロキシ基、C_1〜C_4アルコキシ基
、C_1〜C_4アルコキシアミノ基、フェニル(C_
1〜C_4)アルコキシアミノ基である特許請求の範囲
第3)項に記載の化合物。 5)R^4がヒドロキシ基またはC_1〜C_4アルコ
キシ基である特許請求の範囲第4)項に記載の化合物。 6)R^1がベンジルオキシメチル基、R^2がメチル
基、R^3が1−トリエチルシリルオキシエチル基また
は1−第三級ブチルジメチルシリルオキシエチル基、R
^4がヒドロキシ基、メトキシ基またはエトキシ基であ
る特許請求の範囲第5)項に記載の化合物。 7)R^4がC_1〜C_4アルコキシアミノ基または
フェニル(C_1〜C_4)アルコキシアミノ基である
特許請求の範囲第4)項に記載の化合物。 8)R^1がベンジルオキシメチル基、R^2がメチル
基、R^3が1−トリエチルシリルオキシエチル基また
は1−第3級ブチルジメチルシリルオキシエチル基、R
^4がメトキシアミノ基またはベンジルオキシアミノ基
である特許請求の範囲第7)項に記載の化合物。 9)N,5−ビス(ベンジルオキシ)−2−(1−第三
級ブチルジメチルシリルオキシエチル)−3−ヒドロキ
シ−4−メチルペンタンアミドである特許請求の範囲第
8)項に記載の化合物。 10)5−ベンジルオキシ−2−[1−第三級ブチルジ
メチルシリルオキシエチル]−3−ヒドロキシ−N−メ
トキシ−4−メチルペンタンアミドである特許請求の範
囲第8)項に記載の化合物。 11)(a)式: ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、R^1は保護されたまたは保護されていないヒ
ドロキシ(低級)アルキル基、R^2は低級アルキル基
を意味する] で示される化合物を、式: ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、R^3は水素、低級アルキル基、保護されたも
しくは保護されていないヒドロキシ(低級)アルキル基
、またはトリ置換シリル基、R^4_aは置換されたヒ
ドロキシ基、R^5はヒドロキシ保護基を意味する] で示される化合物またはその塩類と反応させて、式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1、R^2、R^3およびR^4_aはそ
れぞれ前と同じ意味) で示される化合物またはその塩類を得る方法;および (b)式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1、R^2およびR^4_aはそれぞれ前
と同じ意味であり、R^3_aはトリ置換シリル基を意
味する) で示される化合物またはその塩類をアルカリ金属フッ化
物と反応させて、式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1、R^2およびR^4_aはそれぞれ前
と同じ意味) で示される化合物またはその塩類を得る方法;および (c)式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1、R^2、R^3およびR^4_aはそ
れぞれ前と同じ意味) で示される化合物またはその塩類を加水分解して、式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1、R^2およびR^3はそれぞれ前と同
じ意味) で示される化合物またはその塩類を得る方法;および (d)式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1、R^2およびR^3はそれぞれ前と同
じ意味であり、R^4_bはヒドロキシ基または置換さ
れたヒドロキシ基を意味する) で示される化合物またはその塩類を、式: R^4_c−H (式中、R^4_cはアミノ基または保護されたアミノ
基を意味する) で示される化合物もしくはその反応性誘導体またはその
塩類と反応させて、式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1、R^2、R^3およびR^4_cはそ
れぞれ前と同じ意味) で示される化合物またはその塩類を得る方法からなる、
式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1、R^2およびR^3はそれぞれ前と同
じ意味であり、R^4はヒドロキシ基、置換されたヒド
ロキシ基、アミノ基または保護されたアミノ基を意味す
る) で示される3−ヒドロキシアルカン酸誘導体またはその
塩類の製造法。 12)式: ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、R^1_aは保護されたヒドロキシ(低級)ア
ルキル基、R^2は低級アルキル基、R^3は水素、低
級アルキル基、保護されたもしくは保護されていないヒ
ドロキシ(低級)アルキル基、またはトリ置換シリル基
、R^4_dは保護されたアミノ基を意味する] で示される化合物またはその塩類を環化することを特徴
とする、式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1_a、R^2およびR^3はそれぞれ前
と同じ意味であり、R^6はアミド保護基を意味する)
で示される化合物またはその塩類の製造法。 13)R^1_aがフェニル(C_1〜C_4)アルコ
キシ(C_1〜C_4)アルキル基、R^2がC_1〜
C_4アルキル基、R^3がトリ(C_1〜C_4)ア
ルキルシリルオキシ(C_1〜C_4)アルキル基、R
^4_dおよびR^6がC_1〜C_4アルコキシアミ
ノ基またはフェニル(C_1〜C_4)アルコキシアミ
ノ基である特許請求の範囲第12)項に記載の製造法。 14)R^1_aがベンジルオキシメチル基、R^2が
メチル基、R^3が1−第三級ブチルジメチルシリルオ
キシエチル基、R^4_dおよびR^6がメトキシアミ
ノ基またはベンジルオキシアミノ基である特許請求の範
囲第13)項に記載の製造法。 15)(a)式: ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、R^1_aは保護されたヒドロキシ(低級)ア
ルキル基、R^2は低級アルキル基、R^6はアミド保
護基を意味する] で示される化合物を、式: R^7COR^8 (式中、R^7は低級アルキル基、R^8は水素または
トリ置換シリル基を意味する) で示される化合物と反応させて、式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1_a、R^2、R^6、R^7およびR
^8はそれぞれ前と同じ意味) で示される化合物またはその塩類を得る方法;および (b)式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1_a、R^2およびR^6はそれぞれ前
と同じ意味) で示される化合物を、式: R^7COR^8_b (式中、R^7は前と同じ意味であり、R^8_bはト
リ置換シリル基を意味する) で示される化合物と反応させて、式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1_a、R^2、R^6、R^7およびR
^8_bはそれぞれ前と同じ意味) で示される化合物またはその塩類を得、次いでこの化合
物を塩基と反応させて、式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1_a、R^2、R^6、R^7およびR
^8_bはそれぞれ前と同じ意味) で示される化合物を得る方法からなる、式:▲数式、化
学式、表等があります▼ (式中、R^1_a、R^2、R^6、R^7およびR
^8はそれぞれ前と同じ意味であり、R^8_aは水素
またはトリ置換シリル基を意味し、R^8_aがトリ置
換シリル基を意味する場合には、R^8は水素を意味す
る)で示される化合物またはその塩類の製造法。
[Claims] 1) Formula: ▲ Numerical formula, chemical formula, table, etc. ▼ [In the formula, R^1 is a protected or unprotected hydroxy (lower) alkyl group, R^2 is a lower alkyl group , R^3 is hydrogen, a lower alkyl group, a protected or unprotected hydroxy (lower) alkyl group, or a trisubstituted silyl group, R^4 is a hydroxy group, a substituted hydroxy group, an amino group, or a protected or a salt thereof. 2) R^1 is a hydroxy (lower) alkyl group, an acyloxy (lower) alkyl group, an alkoxy (lower) alkyl group, or a trisubstituted silyloxy (lower) alkyl group, R^2 is a lower alkyl group, R^ 3 is hydrogen, lower alkyl group, hydroxy (lower) alkyl group, acyloxy (lower) alkyl group, al (lower) alkoxy (
(lower) alkyl group, trisubstituted silyloxy (lower) alkyl group or trisubstituted silyl group, R^4 is a hydroxy group, lower alkoxy group which may have at least one suitable substituent, lower alkenyloxy group, lower Alkynyloxy group, al (lower) alkoxy group which may have at least one suitable substituent, aryloxy group which may have at least one suitable substituent, phthalidyloxy group, lower alkoxy group The compound according to claim 1), which is an amino group or an alkoxyamino group. 3) R^1 is a hydroxy (lower) alkyl group or an alkoxy (lower) alkyl group, R^2 is a lower alkyl group, R^3 is hydrogen, a lower alkyl group, a hydroxy (lower) alkyl group, a tri- (lower)alkylsilyloxy(lower)alkyl group or tri(lower)alkylsilyl group, R^4 is a hydroxy group, lower alkoxy group, lower alkoxyamino group or ar(lower)alkoxyamino group The compound described in section 2). 4) R^1 is a hydroxy (C_1 to C_4) alkyl group or a phenyl (C_1 to C_4) alkoxy (C_1
~C_4) alkyl group, R^2 is C_1~C_4 alkyl group, R^3 is hydrogen, C_1~C_4 alkyl group, hydroxy (C_1~C_4) alkyl group, tri(C_1~
C_4) Alkylsilyloxy (C_1-C_4) alkyl group or tri(C_1-C_4) alkylsilyl group, R^4 is hydroxy group, C_1-C_4 alkoxy group, C_1-C_4 alkoxyamino group, phenyl (C_4)
1 to C_4) The compound according to claim 3), which is an alkoxyamino group. 5) The compound according to claim 4, wherein R^4 is a hydroxy group or a C_1 to C_4 alkoxy group. 6) R^1 is a benzyloxymethyl group, R^2 is a methyl group, R^3 is a 1-triethylsilyloxyethyl group or a 1-tertiary butyldimethylsilyloxyethyl group, R
The compound according to claim 5), wherein ^4 is a hydroxy group, a methoxy group, or an ethoxy group. 7) The compound according to claim 4, wherein R^4 is a C_1-C_4 alkoxyamino group or a phenyl(C_1-C_4) alkoxyamino group. 8) R^1 is a benzyloxymethyl group, R^2 is a methyl group, R^3 is a 1-triethylsilyloxyethyl group or a 1-tertiary butyldimethylsilyloxyethyl group, R
The compound according to claim 7), wherein ^4 is a methoxyamino group or a benzyloxyamino group. 9) The compound according to claim 8) which is N,5-bis(benzyloxy)-2-(1-tert-butyldimethylsilyloxyethyl)-3-hydroxy-4-methylpentanamide . 10) The compound according to claim 8), which is 5-benzyloxy-2-[1-tert-butyldimethylsilyloxyethyl]-3-hydroxy-N-methoxy-4-methylpentanamide. 11) Formula (a): ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ [In the formula, R^1 means a protected or unprotected hydroxy (lower) alkyl group, and R^2 means a lower alkyl group. ] A compound represented by the formula: ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ [In the formula, R^3 is hydrogen, a lower alkyl group, a protected or unprotected hydroxy (lower) alkyl group, or a Substituted silyl group, R^4_a means substituted hydroxy group, R^5 means hydroxy protecting group] By reacting with a compound represented by the formula or its salts, the formula: ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ In the formula, R^1, R^2, R^3 and R^4_a each have the same meaning as before); and (b) formula: ▲ where the mathematical formula, chemical formula, table, etc. ▼ (In the formula, R^1, R^2 and R^4_a each have the same meaning as before, and R^3_a means a trisubstituted silyl group.) The compound represented by or its salts is an alkali metal fluoride. A method of obtaining a compound or its salts by reacting with the formula: ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (In the formula, R^1, R^2 and R^4_a each have the same meaning as before); and (c) Formula: ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (In the formula, R^1, R^2, R^3 and R^4_a each have the same meaning as before.) A method of obtaining a compound or its salts by hydrolysis: ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (In the formula, R^1, R^2 and R^3 each have the same meaning as before); and (d) Formula: ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (In the formula, R^1, R^2 and R^3 each have the same meaning as before, and R^4_b is a hydroxy group or a substituted A compound represented by the formula: R^4_c-H (wherein, R^4_c means an amino group or a protected amino group) or its reactivity. When reacted with a derivative or its salt, the formula: ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (In the formula, R^1, R^2, R^3 and R^4_c each have the same meaning as before) consisting of a method for obtaining a compound or its salts;
Formula: ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (In the formula, R^1, R^2 and R^3 each have the same meaning as before, and R^4 is a hydroxy group, a substituted hydroxy group, an amino or a protected amino group) or a salt thereof. 12) Formula: ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ [In the formula, R^1_a is a protected hydroxy (lower) alkyl group, R^2 is a lower alkyl group, R^3 is hydrogen, a lower alkyl group, A protected or unprotected hydroxy (lower) alkyl group, or a trisubstituted silyl group, R^4_d means a protected amino group] or a salt thereof is characterized by cyclization. , formula: ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (In the formula, R^1_a, R^2 and R^3 each have the same meaning as before, and R^6 means an amide protecting group)
A method for producing the compound shown or its salts. 13) R^1_a is phenyl (C_1-C_4) alkoxy (C_1-C_4) alkyl group, R^2 is C_1-
C_4 alkyl group, R^3 is tri(C_1-C_4) alkylsilyloxy(C_1-C_4) alkyl group, R
The manufacturing method according to claim 12), wherein ^4_d and R^6 are a C_1-C_4 alkoxyamino group or a phenyl(C_1-C_4) alkoxyamino group. 14) R^1_a is a benzyloxymethyl group, R^2 is a methyl group, R^3 is a 1-tertiary butyldimethylsilyloxyethyl group, R^4_d and R^6 are a methoxyamino group or a benzyloxyamino group The manufacturing method according to claim 13). 15) Formula (a): ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ [In the formula, R^1_a is a protected hydroxy (lower) alkyl group, R^2 is a lower alkyl group, and R^6 is an amide protecting group. ] is reacted with a compound represented by the formula: R^7COR^8 (wherein R^7 is a lower alkyl group, and R^8 is hydrogen or a trisubstituted silyl group). , formula: ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (In the formula, R^1_a, R^2, R^6, R^7 and R
^8 each has the same meaning as before); and (b) formula: ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (In the formula, R^1_a, R^2 and R^ (6 each has the same meaning as before) A compound represented by the formula: R^7COR^8_b (wherein R^7 has the same meaning as before and R^8_b means a trisubstituted silyl group) The formula: ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (In the formula, R^1_a, R^2, R^6, R^7 and R
^8_b each has the same meaning as before) to obtain a compound or its salts, and then react this compound with a base to form the formula: ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (In the formula, R^1_a, R ^2, R^6, R^7 and R
^8_b each has the same meaning as before) Formula: ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ (In the formula, R^1_a, R^2, R^6, R^7 and R
^8 each has the same meaning as before, R^8_a means hydrogen or a trisubstituted silyl group, and when R^8_a means a trisubstituted silyl group, R^8 means hydrogen). A method for producing the indicated compound or its salts.
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