JPS62135458A - Novel quinolone compound and production thereof - Google Patents

Novel quinolone compound and production thereof

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Publication number
JPS62135458A
JPS62135458A JP23760386A JP23760386A JPS62135458A JP S62135458 A JPS62135458 A JP S62135458A JP 23760386 A JP23760386 A JP 23760386A JP 23760386 A JP23760386 A JP 23760386A JP S62135458 A JPS62135458 A JP S62135458A
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JP
Japan
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group
compound
formula
salts
ester
Prior art date
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Pending
Application number
JP23760386A
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Japanese (ja)
Inventor
Takao Takatani
高谷 隆男
Hideo Tsutsumi
秀雄 津々美
Keiji Matsuda
啓二 松田
Takashi Ogino
隆 荻野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
Original Assignee
Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd filed Critical Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
Publication of JPS62135458A publication Critical patent/JPS62135458A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

NEW MATERIAL:The compound of formula I (R<1> is halogen; R<2> is lower alkylamino; R<3> is carboxyl or protected carboxyl; R<4>=R<1>; R<5> is H or lower alkyl) and its salt. EXAMPLE:1-(3-Methylamino-4-fluorophenyl)-3-carboxyl-6-fluoro-7-(3-meth ylpipera zin-1-yl)-4-quinolone. USE:A medicinal drug and an antibacterial agent. It has high antibacterial activity and inhibits the growth of various pathogenic microorganisms including Gram- positive and Gram-negative bacterial. It is administered in a dose of 1-6,000mg of the active component per person daily. PREPARATION:The compound of formula I or its salt can be produced by reacting the novel compound of formula II (R<6> is acid residue) or its salt with the compound of formula III or its salt in a solvent such as pyridine, optionally in the presence of a base, at normal temperature or under mild heating or heating, preferably under heating.

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は新規キノロン化合物およびその塩類に関する
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION This invention relates to novel quinolone compounds and salts thereof.

さらに詳細には、この発明は抗菌作用を有する新規キノ
ロン化合物およびその塩類、その製造法およびそれを有
効成分として含有する医薬組成物に関する。
More specifically, the present invention relates to novel quinolone compounds and salts thereof having antibacterial activity, a method for producing the same, and a pharmaceutical composition containing the same as an active ingredient.

すなわち、この発明の一つの目的は、多くの病原菌に対
して有効な新規キノロン化合物およびその塩類を提供す
ることにある。
That is, one object of the present invention is to provide a novel quinolone compound and its salts that are effective against many pathogenic bacteria.

この発明のもう一つの目的は、新規キノロン化合物また
はその塩類の製造法を提供することにある。
Another object of this invention is to provide a method for producing novel quinolone compounds or salts thereof.

この発明のさらにもう一つの目的は、前記新規キノロン
化合物またはその塩類を有効成分として含有する医薬組
成物を提供することにある。
Yet another object of the present invention is to provide a pharmaceutical composition containing the novel quinolone compound or its salt as an active ingredient.

目的とするキノロン化合物は新規であり、下記一般式(
I)で示すことができる。
The target quinolone compound is new and has the following general formula (
It can be shown as I).

(式中、R1はハロゲン、 R2は低級アルキルアミノ基、 R3はカルボキシ基または保護されたカルボキシ基、 R4はハロゲン、 R5は水素または低級アルキル基をそれぞれ意味する)
(In the formula, R1 is a halogen, R2 is a lower alkylamino group, R3 is a carboxy group or a protected carboxy group, R4 is a halogen, and R5 is hydrogen or a lower alkyl group.)
.

この発明によれば、新規キノロン化合物(りは下記反応
式で示される製造法により製造することができる。
According to the present invention, a novel quinolone compound can be produced by the production method shown in the following reaction formula.

11韮 またはその塩類  またはその塩類 CI) またはその塩類 (式中、R1、R2、R3、R4およびR5はそれぞれ
前と同じ意味であり、 R6は酸残基を意味する)。
or salts thereof CI) or salts thereof (wherein R1, R2, R3, R4 and R5 each have the same meaning as before, and R6 means an acid residue).

この発明の原料化合物(II)は新規化合物であり、以
下に示される工程により製造することができる。
The raw material compound (II) of this invention is a new compound and can be produced by the steps shown below.

原料化合、の製造法 またはその塩類     またはその塩類(VI) またはその塩類 またはその塩類 (X) (式中、R、R、R、RおよびR6はそれぞれ前と同じ
意味、 R2はN−保護(低級)アルキルアミノ基、R7は酸残
基、および R8は低級アルコキシ基をそれぞれ意味する。)目的化
合物(1)の好適な塩類は慣用の無毒性塩であり、例え
ばナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩および
例えばカルシウム塩、マグネシウム塩等のアルカリ土類
金属塩のような金属塩、アンモニウム塩、例えばトリメ
チルアミン塩、トリエチルアミン塩、ピリジン塩、ピッ
リン塩、ジシクロヘキシルアミン塩、N、N’ −)ペ
ンシルエチレンジアミン塩等の有機塩基塩、例えば酢酸
塩、トリフルオロ酢酸塩、マレイン酸塩、酒石酸塩、メ
タンスルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、ギ醜塩、ト
ルエンスルホン酸塩等の有機酸塩、例えば塩酸塩、臭化
水素酸塩、ヨー化水素酸塩、硫酸塩、リン酸塩等の無機
酸塩、または例えばアルギニン、アスパラギン酸、グル
タミン酸等のアミノ酸との塩等が挙げられる。
Process for producing raw material compounds, or salts thereof (VI) or salts thereof, or salts thereof (X) (wherein R, R, R, R and R6 each have the same meaning as before, R2 is N-protected ( (lower) alkylamino group, R7 means an acid residue, and R8 means a lower alkoxy group, respectively.) Suitable salts of the target compound (1) are conventional non-toxic salts, such as sodium salts, potassium salts, etc. Metal salts such as alkali metal salts and alkaline earth metal salts such as calcium salts, magnesium salts, ammonium salts such as trimethylamine salts, triethylamine salts, pyridine salts, pilin salts, dicyclohexylamine salts, N,N'-)pencil Organic base salts such as ethylenediamine salts, such as acetates, trifluoroacetates, maleates, tartrates, methanesulfonates, benzenesulfonates, formic salts, toluenesulfonates, etc., such as hydrochloric acid; Examples include inorganic acid salts such as salts, hydrobromides, hydroiodides, sulfates, and phosphates, and salts with amino acids such as arginine, aspartic acid, and glutamic acid.

この明細書の以上および以下の記載において、この発明
の範囲内に包含される種々の定義の適切な例および説明
を以下詳細に述べる。
In the foregoing and following description of this specification, pertinent examples and explanations of the various definitions falling within the scope of this invention are set forth in detail below.

「低級」とは、特に指示がなければ、炭素原子1〜6個
を意味するものとする。
"Lower" shall mean 1 to 6 carbon atoms unless otherwise specified.

好適な「低級アルキル基」およびr低級アルキルアミノ
基」の好適な1低級アルキル」部分としては、メチル、
エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、第三級ブチ
ル、ペンチル、ヘキシル等のような炭素原子1〜6個を
有するものが挙げられる。そして、より好ましくは(C
,−C4)アルキル基が挙げられる。
Preferred "lower alkyl groups" and preferred lower alkyl moieties of r-lower alkylamino groups include methyl,
Mention may be made of those having 1 to 6 carbon atoms such as ethyl, propyl, isopropyl, butyl, tert-butyl, pentyl, hexyl and the like. And more preferably (C
, -C4) alkyl group.

好適なハロゲンとしては、塩素、臭素、フッ素およびヨ
ー素が挙げられる。
Suitable halogens include chlorine, bromine, fluorine and iodine.

好適な1保護されたカルボキシ基」としては、エステル
化されたカルボキシ基が挙げられ、そのエステル部分と
しては、例えばメチルエステル、エチルエステル、プロ
ピルエステル、イソプロピルエステル、ブチルエステル
、イソブチルエステル、第三級ブチルエステル、ペンチ
ルエステル、第三級ペンチルエステル、ヘキシルエステ
ル、ヘプチルエステル、オクチルエステル、ノニルエス
テル、デシルエステル、ウンデシルエステル、ドデシル
エステル、ヘキサデシルエステル等のアルキルエステル
: 例えばビニルエステル、アリルエステル等の低級アルケ
ニルエステル;例えばエチニルエステル、プロピニルエ
ステル等の低級アルキニルエステル;例えば2−ヨード
エチルエステル、2.2゜2−トリクロロエチルエステ
ル等のモノ(またはジまたはトリ)−ハロ(低級)アル
キルエステル;例えばアセトキシメチルエステル、プロ
ピオニルオキシメチルエステル、1−アセトキシプロピ
ルエステル、バレリルオキシメチルエステル、ピバロイ
ルオキシメチルエステル、ヘキサノイルオキシメチルエ
ステル、1−アセトキシエチルエステル、2−プロピオ
ニルオキシエチルエステル、1−インブチリルオキシエ
チルエステル等の低級アルカノイルオキシ(低級)アル
キルエステル:例えばメシルメチルエステル、2−メシ
ルエチルエステル等の低級アルカンスルホニル(低級)
アルキルエステル; 例えばベンジルエステル、4−メトキシベンジルエステ
ル、4−ニトロベンジルエステル、フェネチルエステル
、トリチルエステル、ジフェニルメチルエステル、ビス
(メトキシフェニル)メチルエステル、3.4−ジメト
キシベンジルエステル、4−ヒドロキシ−3,5−ジ第
三級ブチルベンジルエステル等の適当な置換基1個以上
を有していてもよいフェニル(低級)アルキルエステル
のようなアル(低級)アルキルエステル;例えばメトキ
シカルボニルオキシメチルエステル、エトキシカルボニ
ルオキシメチルエステル、エトキシカルボニルオキシエ
チルエステル等の、アジド基で置換されていてもよい低
級アルコキシカルボニルオキシ(低級)アルキルエステ
ル;好ましくはオキソ基で置換されていてもよいベンゾ
テトラヒドロフリルエステル、さらに好ましくはフタリ
ジルエステルのような複素環エステル; 例えばベンゾイルオキシメチルエステ4.ベンゾイルオ
キシエチルエステル、トルオイルオキシエチルエステル
等のアロイルオキシ(低級)アルキルエステル; 例えばフェニルエステル、トリルエステル、第三級ブチ
ルフェニルエステル、キシリルエステル、メシチルエス
テル、クメニルエステル等の1個以上の適当な置換基を
有していてもよいアリールエステル等が挙げられる。
Suitable "protected carboxy groups" include esterified carboxy groups, and the ester moieties include, for example, methyl esters, ethyl esters, propyl esters, isopropyl esters, butyl esters, isobutyl esters, tertiary Alkyl esters such as butyl ester, pentyl ester, tertiary pentyl ester, hexyl ester, heptyl ester, octyl ester, nonyl ester, decyl ester, undecyl ester, dodecyl ester, hexadecyl ester; For example, vinyl ester, allyl ester, etc. Lower alkenyl esters; lower alkynyl esters such as ethynyl ester and propynyl ester; mono(or di- or tri)-halo(lower) alkyl esters such as 2-iodoethyl ester and 2.2°2-trichloroethyl ester; e.g. Acetoxymethyl ester, propionyloxymethyl ester, 1-acetoxypropyl ester, valeryloxymethyl ester, pivaloyloxymethyl ester, hexanoyloxymethyl ester, 1-acetoxyethyl ester, 2-propionyloxyethyl ester, 1-yne Lower alkanoyloxy (lower) alkyl esters such as butyryloxyethyl ester: lower alkanesulfonyl (lower) such as mesylmethyl ester, 2-mesylethyl ester, etc.
Alkyl ester; for example benzyl ester, 4-methoxybenzyl ester, 4-nitrobenzyl ester, phenethyl ester, trityl ester, diphenylmethyl ester, bis(methoxyphenyl)methyl ester, 3,4-dimethoxybenzyl ester, 4-hydroxy-3 , 5-ditertiary butyl benzyl ester, etc., such as phenyl (lower) alkyl ester, which may have one or more suitable substituents; e.g. methoxycarbonyloxymethyl ester, ethoxy Lower alkoxycarbonyloxy (lower) alkyl esters optionally substituted with an azide group, such as carbonyloxymethyl ester and ethoxycarbonyloxyethyl ester; preferably benzotetrahydrofuryl esters optionally substituted with an oxo group, more preferably is a heterocyclic ester such as a phthalidyl ester; for example, benzoyloxymethyl ester4. aroyloxy (lower) alkyl esters such as benzoyloxyethyl ester, toluoyloxyethyl ester; one or more suitable esters such as phenyl ester, tolyl ester, tertiary butyl phenyl ester, xylyl ester, mesityl ester, cumenyl ester, etc. Examples include aryl esters which may have substituents.

r保護されたカルボキシ基」の好ましい例としては、f
列えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロ
ポキシカルボニル、インプロポキシカルボニル、ブトキ
シカルボニル、第三級ブトキシカルボニル、ペンチルオ
キシカルボニル、ヘキシルオキシカルボニル、ヘプチル
オキシカルボニル、オクチルオキシカルボニル、ノニル
オキシカルボニル、デシルオキシカルボニル、ウンデシ
ルオキシカルボニル、ドデシルオキシカルボニル、ヘキ
サデシルオキシカルボニル等のアルコキシカルボニル基
が挙げられ、より好ましくは低級アルフキジカルボニル
基が挙げられる。
Preferred examples of "r protected carboxy group" include f
Examples include methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, propoxycarbonyl, impropoxycarbonyl, butoxycarbonyl, tertiary butoxycarbonyl, pentyloxycarbonyl, hexyloxycarbonyl, heptyloxycarbonyl, octyloxycarbonyl, nonyloxycarbonyl, decyloxycarbonyl, undecyl Examples include alkoxycarbonyl groups such as oxycarbonyl, dodecyloxycarbonyl, hexadecyloxycarbonyl, and more preferably lower alkoxycarbonyl groups.

好適な「酸残基」としては、例えばフッ素、塩素、臭素
またはヨー素のようなハロゲン、例えばメシルオキシ、
ベンゼンスルホニルオキシ、p−トルエンスルホニルオ
キシ等のスルホニルオキシ基等が挙げられる。
Suitable "acid residues" include, for example, halogens such as fluorine, chlorine, bromine or iodine, for example mesyloxy,
Examples include sulfonyloxy groups such as benzenesulfonyloxy and p-toluenesulfonyloxy.

目的化合物(1)の好ましい実施態様は下記のとおりで
ある。
Preferred embodiments of the target compound (1) are as follows.

R1の好ましい実施態様はハロゲンである。A preferred embodiment of R1 is halogen.

)2の好ましい実施態様は低級アルキルアミノ基、きら
に好ましくは(CニーC,)アルキルアミノ基である。
A preferred embodiment of )2 is a lower alkylamino group, preferably a (C,)alkylamino group.

R3の好ましい実施態様はカルボキシ基または低級アル
コキシカルボニル基であり、さらに好ましくはカルボキ
シ基である。
A preferred embodiment of R3 is a carboxy group or a lower alkoxycarbonyl group, more preferably a carboxy group.

R4の好ましい実施態様はハロゲンである。A preferred embodiment of R4 is halogen.

R5の好ましい実施態様は水素または低級アルキル基、
さらに好ましくは水素または(C1−C4)アルキル基
である。
A preferred embodiment of R5 is hydrogen or a lower alkyl group,
More preferably hydrogen or a (C1-C4) alkyl group.

この発明の目的化合物の製造法を以下詳細に説明する。The method for producing the object compound of the present invention will be explained in detail below.

1菫羞 目的化合物(I)またはその塩類は、化合物(I[)ま
たはその塩類を化合物(I[[)またはその塩類と反応
させることにより製造することができる。
1. The desired compound (I) or a salt thereof can be produced by reacting the compound (I[) or a salt thereof with the compound (I[[) or a salt thereof.

化合物(II)の好適な塩類については、目的化合物(
1)について例示したような塩が挙げられる。
For suitable salts of compound (II), the target compound (
Salts such as those exemplified for 1) can be mentioned.

化合物(III)の好適な塩類については、目的化合物
(I)について例示したような酸付加塩が挙げられる。
Suitable salts of compound (III) include acid addition salts such as those exemplified for target compound (I).

この反応は塩基の存在下に行ってもよい。This reaction may be carried out in the presence of a base.

好適な塩基としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム等のアルカリ金属水酸化物、例えば水酸化マグ
ネシウム、水酸化カルシウム等のアルカリ土類金属水酸
化物、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカ
リ金属炭酸塩、例えば炭酸マグネシウム、炭酸カルシウ
ム等のアルカリ土類金属炭酸塩、例えば炭酸水素ナトリ
ウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金属炭酸水素塩、
例えば酢酸ナトリウム、酢酸カリウム等のアルカリ金属
酢酸塩、例えばリン酸マグネシウム、リン酸カルシウム
等のアルカリ土類金属リン酸塩、例えばリン酸水素二ナ
トリウム、リン故水素二カリウム等のアルカリ金属リン
酸水素塩等のような無機塩基、および例えばトリメチル
アミン、トリエチルアミン等のトリアルキルアミン、ビ
フリン、N−メチルモルホリン等のような有機塩基がそ
の例として挙げられる。
Suitable bases include, for example, alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, alkaline earth metal hydroxides such as magnesium hydroxide, calcium hydroxide, alkali metal hydroxides such as sodium carbonate, potassium carbonate, etc. carbonates, e.g. alkaline earth metal carbonates such as magnesium carbonate, calcium carbonate, alkali metal bicarbonates such as sodium bicarbonate, potassium bicarbonate;
For example, alkali metal acetates such as sodium acetate and potassium acetate, alkaline earth metal phosphates such as magnesium phosphate and calcium phosphate, alkali metal hydrogen phosphates such as disodium hydrogen phosphate and dipotassium hydrogen phosphate, etc. Examples include inorganic bases such as, for example, trialkylamines such as trimethylamine, triethylamine, etc., organic bases such as bifrin, N-methylmorpholine, etc.

この反応においては、化合物(III)は塩基として使
用することもできる。
In this reaction, compound (III) can also be used as a base.

この反応は通常溶媒中で行われる。This reaction is usually carried out in a solvent.

好適な溶媒としては、クロロホルム、塩化メチレン、ジ
エチルエーテル、テトラヒドロフラン、ピリジン、N、
N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシドおよ
び反応に悪影響を及ぼさないその他のあらゆる溶媒が挙
げられる。
Suitable solvents include chloroform, methylene chloride, diethyl ether, tetrahydrofuran, pyridine, N,
N-dimethylformamide, dimethylsulfoxide and any other solvents that do not adversely affect the reaction are included.

反応温度は特に限定きれないが、通常は常温、加温下ま
たは加熱下、好ましくは加熱下に反応が行われる。
Although the reaction temperature is not particularly limited, the reaction is usually carried out at room temperature, with or without heating, preferably with heating.

この発明の原料化合物の製造法を以下詳細に説明する。The method for producing the raw material compound of this invention will be explained in detail below.

原料化合物の製造法 工程(1): 化合物(V)またはその塩類は化合物(IV)またはそ
の塩類をTI−アルキル化反応に付すことにより製造す
ることができる。
Process for producing raw material compound Step (1): Compound (V) or a salt thereof can be produced by subjecting compound (IV) or a salt thereof to a TI-alkylation reaction.

化合物(V)および(IV)の好適な塩類としては、目
的化合物(1)において例示したような酸付加塩を挙げ
ることができる。
Suitable salts of compounds (V) and (IV) include acid addition salts as exemplified for the target compound (1).

好適なN−アルキル化剤としてはハロゲン化アルキル(
例えば、ヨー化メチノ呟臭化エチル等)が挙げられる。
Suitable N-alkylating agents include alkyl halides (
For example, methyl iodide, ethyl bromide, etc.) can be mentioned.

反応は通常溶媒中で行われるが、好適な溶媒としては、
ジエチルエーテル、ジオキサン、ヘキサメチルホスホル
アミド等が挙げられるが、反応に悪影響を及ぼさない溶
媒であればいかなる溶媒でも使用することができる。
The reaction is usually carried out in a solvent, and suitable solvents include:
Examples include diethyl ether, dioxane, hexamethylphosphoramide, etc., but any solvent can be used as long as it does not adversely affect the reaction.

反応温度は特に限定きれないが、通常室温〜加温下で反
応が行われる。
Although the reaction temperature is not particularly limited, the reaction is usually carried out at room temperature to elevated temperature.

工程(2): 化合物(VI)は化合物(V)またはその塩類をN−保
護基の導入反応に付すことにより製造することができる
Step (2): Compound (VI) can be produced by subjecting compound (V) or a salt thereof to an N-protecting group introduction reaction.

化合物(lのR2のN−保護(低級)アルキルアミン基
における好適なN−保護基としては低級アルカノイル基
(例えば、ホルミル基、アセチル基等)が挙げられる。
Suitable N-protecting groups for the N-protected (lower) alkylamine group of R2 in compound (l) include lower alkanoyl groups (eg, formyl group, acetyl group, etc.).

N−保護基の導入反応としては当分野で通常用いられる
方法が用いられるが、例えば、ギ酸と無水酢酸の混合物
を用いる方法、ホルミルイミダゾールを用いる方法、無
水酢酸を用いる方法、アセチルクロリドを用いる方法等
が挙げられる。
For the introduction reaction of the N-protecting group, methods commonly used in the art are used, such as a method using a mixture of formic acid and acetic anhydride, a method using formylimidazole, a method using acetic anhydride, and a method using acetyl chloride. etc.

工程(3): 化合物(■)またはその塩類は化合物(VI)をNO3
基の還元反応に付すことにより製造することができる。
Step (3): Compound (■) or its salt is the compound (VI) with NO3
It can be produced by subjecting it to a reduction reaction of groups.

化合物(■)の好適な塩類としては目的化合物(I)に
おいて例示したような酸付加塩を挙げることができる。
Suitable salts for compound (■) include acid addition salts such as those exemplified for target compound (I).

好適なNO□基の還元方法としては、酸化白金、パラジ
ウム−炭素、ラネーニッケル等の触媒を用いる接触還元
等が挙げられる。
Suitable methods for reducing NO□ groups include catalytic reduction using catalysts such as platinum oxide, palladium-carbon, and Raney nickel.

工程(4): 化合物([X)またはその塩類は化合物(■)またはそ
の塩類を化合物(■)と反応させることにより製造する
ことができる。
Step (4): Compound ([X) or a salt thereof can be produced by reacting compound (■) or a salt thereof with compound (■).

化合物(■)におけるR7の酸残基としては前に例示し
たものと同じものが挙げられ、R8の低級アルコキシ基
としてはメトキシ、エトキシ、プロポキシ、第3級ブト
キシ等が挙げられる。
Examples of the acid residue of R7 in compound (■) are the same as those exemplified above, and examples of the lower alkoxy group of R8 include methoxy, ethoxy, propoxy, tertiary butoxy and the like.

化合物(IX)の好適な塩類としては目的化合物(1)
において例示したような塩を挙げることができる。
Desirable salts of compound (IX) include target compound (1)
Examples include salts such as those exemplified in .

この反応はトリメチルアミン、トリエチルアミン等の塩
基の存在下に行ってもよい。
This reaction may be carried out in the presence of a base such as trimethylamine or triethylamine.

この反応は無溶媒で行うこともできるが反応に悪影響を
及ぼきない慣用の溶媒を用いて行うこともできる。
This reaction can be carried out without a solvent, but it can also be carried out using a conventional solvent that does not adversely affect the reaction.

反応温度は特に限定されないが、通常室温〜加温下で行
われる。
Although the reaction temperature is not particularly limited, it is usually carried out at room temperature to elevated temperature.

工程(5): 化合物(X)は化合物(IX)またはその塩類を閉環反
応に付すことにより製造することができる。
Step (5): Compound (X) can be produced by subjecting compound (IX) or a salt thereof to a ring-closing reaction.

この閉環反応は、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム等の塩基の存在下に行う
ことができる。
This ring-closing reaction can be carried out in the presence of a base such as sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydroxide, potassium hydroxide, or the like.

この反応は通常N、N−ジメチルホルムアミド、とリジ
ン、ジメチルスルホキシド等の溶媒中で行われるが、反
応に悪影響を及ぼさない溶媒であればいかなる溶媒中で
も行うことができる。
This reaction is usually carried out in a solvent such as N,N-dimethylformamide, lysine, dimethyl sulfoxide, etc., but it can be carried out in any solvent as long as it does not adversely affect the reaction.

反応温度は特に限定きれないが通常加温〜加熱下に反応
が行われる。
Although the reaction temperature is not particularly limited, the reaction is usually carried out at or under heating.

工程〈6): 化合物(I[)またはその塩類は化合物(X)をN−保
護基の脱離反応に付すことにより製造することができる
Step <6): Compound (I[) or a salt thereof can be produced by subjecting compound (X) to an N-protecting group elimination reaction.

N−保護基の脱離反応としては、酸または塩基を用いる
加水分解を挙げることができる。
As the elimination reaction of the N-protecting group, hydrolysis using an acid or a base can be mentioned.

適当な酸としては、ギ酸、酢酸、p−+−ルエンスルホ
ン酸、塩酸等の有機もしくは無機の酸を挙げることがで
きる。これらの酸は混合して用いることができる。
Suitable acids include organic or inorganic acids such as formic acid, acetic acid, p-+-luenesulfonic acid, hydrochloric acid, and the like. These acids can be used in combination.

適当な塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、水酸化マグネシウム、炭酸ナトリウム、トリメチル
アミン、トリエチルアミン、ピッリン等の有機もしくは
無機の塩基を挙げることができる。
Suitable bases include organic or inorganic bases such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, magnesium hydroxide, sodium carbonate, trimethylamine, triethylamine, pilin, and the like.

溶媒を用いて加水分解反応を行う場合には、慣用される
有機溶媒、水およびそれらの混合物を用いることができ
る。
When carrying out the hydrolysis reaction using a solvent, commonly used organic solvents, water, and mixtures thereof can be used.

この発明の目的化合物(I)およびその塩類は新規化合
物であり、高い抗菌作用を有し、ダラム陽性菌およびダ
ラム陰性菌を含む種々の病原菌の生育を阻止し、抗菌剤
として有用である。治療のためにこの発明の化合物は、
経口投与、非経口投与または外用に適した有機または無
機固体状もしくは液状賦形剤のような医薬として許容さ
れる担体と混合して、前記化合物を有効成分として含有
する常用の製剤の形で使用することができる。
Compound (I) and its salts are novel compounds, have high antibacterial activity, inhibit the growth of various pathogenic bacteria including Durum-positive bacteria and Durum-negative bacteria, and are useful as antibacterial agents. For treatment the compounds of this invention are
Use in the form of conventional preparations containing said compounds as active ingredients in admixture with pharmaceutically acceptable carriers such as organic or inorganic solid or liquid excipients suitable for oral, parenteral or topical administration. can do.

製剤はカプセル、錠剤、糖衣錠、軟膏または生薬のよう
な固体状であっても、溶液、懸濁液またはエマルジョン
のような液状であってもよい。必要に応じて上記製剤中
に、助剤、安定剤、湿潤剤または乳化剤、緩衝液および
その他の通常使用される添加剤が含まれていてもよい。
The formulation may be in solid form, such as a capsule, tablet, dragee, ointment, or herbal medicine, or in liquid form, such as a solution, suspension, or emulsion. If necessary, auxiliary agents, stabilizers, wetting agents or emulsifiers, buffers and other commonly used additives may be included in the above formulation.

化合物の投与量は患者の年齢および条件によって変動す
るが、この発明の化合物は1回投与量約10mg、50
mg、 100mg、250mg、500mg、100
0mgで病原菌による感染症の治療に有効であることが
わかった。一般的には1 mg/個体〜約6000mg
/個体またはそれ以上の量を1日当りに投与してもよい
Although the dosage of the compound varies depending on the age and condition of the patient, the compound of this invention is administered at a single dose of about 10 mg, 50 mg.
mg, 100mg, 250mg, 500mg, 100
It was found that 0 mg is effective in treating infections caused by pathogenic bacteria. Generally 1 mg/individual ~ about 6000 mg
/individual or more may be administered per day.

目的化合物の有用性を示すために、この発明の代表的な
化合物の抗菌活性を以下に示す。
In order to demonstrate the usefulness of the target compounds, the antibacterial activity of representative compounds of this invention is shown below.

最小発育阻止濃度 (A)墓象羞 試験管内抗菌活性を下記寒天平板倍数希釈法により測定
した。
Minimum inhibitory concentration (A) In vitro antibacterial activity was measured by the following agar plate multiple dilution method.

各試験菌株をトリプチケース・ソイ・ブロス中、−夜培
養し、その−白金耳(生菌数106/l11)を、各濃
度段階の試験化合物を含むハート・インフュージョン寒
天(l(I寒天)上で37°Cl2O時間培養した。最
小発育阻止、f1度(MIC)はHg / mQで表わ
した。
Each test strain was cultured overnight in trypticase soy broth, and a loopful of it (106 viable bacteria/l11) was transferred to heart infusion agar (l (I agar) containing the test compound at each concentration level. ) for 37 °CCl2O hours. Minimal inhibition, f1 degree (MIC) was expressed as Hg/mQ.

(B)メM1針隻 (1)1−(3−メチルアミノ−4−フルオロフェニル
)−3−カルボキシ−6−フルオロ−7−(3−メチル
ピペラジン−1−イル)−4−キノロン (C)試験結果 MIC(</戚) 以下製造例および実施例に従って、この発明をさらに詳
細に説明する。
(B) Me M1 needle (1) 1-(3-methylamino-4-fluorophenyl)-3-carboxy-6-fluoro-7-(3-methylpiperazin-1-yl)-4-quinolone (C ) Test result MIC (</relative) This invention will be described in more detail below with reference to Production Examples and Examples.

製造例1 1−フルオロ−2−アミノ−4−ニトロベンゼン(2g
)のへキサメチルホスホルアミド(10mQ )溶液に
、炭酸水素ナトリウム(3,2g)およびヨー化メチル
(2,amBを室温で加え、混合物を同温で一夜攪拌す
る0反応混合物を氷水(100賊)中に注ぎ、酢酸エチ
ル(50111fl )で2回抽出する。抽出液を塩化
ナトリウム飽和水溶液で洗浄して無水硫酸マグネシウム
で乾燥し、減圧濃縮して残渣を得る。この残渣をシリカ
ゲル(60g)を使用するカラムクロマトグラフィーに
付し、n−ヘキナンと酢酸エチルとの混合溶液(体積比
、10:1)で溶出する。まず最初に溶出される化合物
を含む画分を集め、次いで溶媒をM圧下に留去して、1
−フルオロ−2−ヅメデルアミノ−4−二トロベンゼン
(1,19g)をシロップ状物として得る。
Production example 1 1-fluoro-2-amino-4-nitrobenzene (2g
) to a solution of hexamethylphosphoramide (10 mQ), sodium bicarbonate (3,2 g) and methyl iodide (2, amB) were added at room temperature, and the mixture was stirred overnight at the same temperature. The extract was washed with a saturated aqueous solution of sodium chloride, dried over anhydrous magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure to obtain a residue.This residue was extracted with silica gel (60 g). It is subjected to column chromatography using M and eluted with a mixed solution of n-hexane and ethyl acetate (volume ratio, 10:1).First, the fractions containing the eluted compound are collected, and then the solvent is Distill under pressure to 1
-Fluoro-2-dumedelamino-4-nitrobenzene (1,19 g) is obtained as a syrup.

IRに−ト)  :  1625.  1530.  
1460−1450.  1415゜1350、123
0 (:TlTl1 −1N (CDCl2.8 > ’ 2.93 (3H
1s)、2.95 (3H1s)。
IR): 1625. 1530.
1460-1450. 1415°1350, 123
0 (:TlTl1 -1N (CDCl2.8 >' 2.93 (3H
1s), 2.95 (3H1s).

7.05 (LH,dd、J=9)1zおよびJ=12
Hz)、 7.6−7.80 (2H,m) Mass : 184 (M”) 次いで溶出される目的化合物を含む両分を集め、減圧濃
縮して、1−フルオロ−2−メチルアミノ−4−ニトロ
ベンゼン(0,99g)を結晶として得る。
7.05 (LH, dd, J=9)1z and J=12
Hz), 7.6-7.80 (2H, m) Mass: 184 (M'') Next, both fractions containing the target compound to be eluted were collected and concentrated under reduced pressure to obtain 1-fluoro-2-methylamino-4. -Nitrobenzene (0.99 g) is obtained as crystals.

fill) : 89−90℃ IR(スジ3−ル)  :  3400. 1635.
 1535. 1380. 1290゜1190 CI
ClTl −1N (CDCl2.δ) : 2.95 (3H,
s)、 6.85−7.63(3H,m) Mass : 170 (M ) 製造例2 ギ酸(10m1l )および無水酢酸(10IQ )の
混合物に、1−フルオロ−2−メチルアミノ−4−ニト
ロベンゼン(0,99g)を水冷下に加える。混合物を
常温で1時間攪拌する0反応混合物を−fj、圧濃縮し
て残渣を得る。この残渣を酢酸エチル(5011111
)に溶解する。溶液を水および塩化ナトリウム飽和水溶
液で洗浄して硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮して
、1−フルオロ−2−(N−メチル−N−ホルミルアミ
ン)−4−二トロベンゼン(0,96g)をシロップ状
物として得る。
Fill): 89-90°C IR: 3400. 1635.
1535. 1380. 1290°1190 CI
ClTl -1N (CDCl2.δ): 2.95 (3H,
s), 6.85-7.63 (3H, m) Mass: 170 (M) Production Example 2 1-Fluoro-2-methylamino-4-nitrobenzene was added to a mixture of formic acid (10ml) and acetic anhydride (10IQ). (0.99 g) was added under water cooling. The mixture was stirred at room temperature for 1 hour. The reaction mixture was concentrated under pressure to obtain a residue. This residue was dissolved in ethyl acetate (5011111
) dissolves in The solution was washed with water and saturated aqueous sodium chloride solution, dried over magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure to give 1-fluoro-2-(N-methyl-N-formylamine)-4-nitrobenzene (0.96 g). is obtained as a syrup.

1R(ニー))   :  1690−1670.  
1620.  1590.  1525゜1500、1
350−1330.1250 am−’NMR(CDC
l2.8 ) :3.34 (3H9s)、7.15−
7.60(11,m)、 8.00−8.45 (3L
m)Mass : 198 (M”)、 170 (M
”−28)製造例3 1−フルオロ−2−(N−メチル−N−ホルミルアミノ
)−4−二トロベンゼン(0,93g)のメタノール(
101!112)溶液を、10%パラジウム−炭素(1
g)の存在下、大気圧の水素雰囲気中に4時間接触還元
する。触媒を濾去し、濾液を減圧濃縮して、1−フルオ
ロ−2−(N−メチル−N−ホルミルアミン)−4−ア
ミノベンゼン(0,70g)を粗製の固体として得る。
1R (knee): 1690-1670.
1620. 1590. 1525°1500, 1
350-1330.1250 am-'NMR (CDC
l2.8): 3.34 (3H9s), 7.15-
7.60 (11, m), 8.00-8.45 (3L
m) Mass: 198 (M”), 170 (M
"-28) Production Example 3 1-fluoro-2-(N-methyl-N-formylamino)-4-nitrobenzene (0.93 g) in methanol (
101!112) solution to 10% palladium-carbon (1
g) in a hydrogen atmosphere at atmospheric pressure for 4 hours. The catalyst is filtered off and the filtrate is concentrated under reduced pressure to obtain 1-fluoro-2-(N-methyl-N-formylamine)-4-aminobenzene (0.70 g) as a crude solid.

NMR(CD30D、δ) : 3.20 (3H,s
)、 6.45−7.20(3H,m)、 8.20 
(LH,d、J=2Hz>1盗頂1 2−(2,4−ジクロロ−5−フルオロベンゾイル)−
3−エトキシアクリル酸エチルエステル(E、Z混合物
)(1,3g)およびトリエチルアミン(0,30IQ
)の溶液に、1−フルオロ−2−(N−メチル−N−ホ
ルミルアミノ)−4−アミンベンゼン(0,67g)を
室温で加える。混合物を同温で一夜攪拌する。反応混合
物を減EE濃縮して残渣を得る。この残渣を酢酸エチル
(50!1111 )に溶解する。溶液を塩化ナトリウ
ム水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃
縮して、2−(2,4−ジクロロ−5−フルオロベンゾ
イル)−3−[3−(N−メチル−N−ホルミルアミノ
)−4−フルオロフェニルアミノコアクリル酸エテルエ
ステル(E、Z混合物) (1,91g )をシロップ
状物として得る。
NMR (CD30D, δ): 3.20 (3H, s
), 6.45-7.20 (3H, m), 8.20
(LH, d, J = 2Hz>1 stolen peak 1 2-(2,4-dichloro-5-fluorobenzoyl)-
3-Ethoxyacrylic acid ethyl ester (E,Z mixture) (1,3g) and triethylamine (0,30IQ
) 1-Fluoro-2-(N-methyl-N-formylamino)-4-aminebenzene (0.67 g) is added at room temperature. The mixture is stirred at the same temperature overnight. The reaction mixture was concentrated in reduced EE to give a residue. This residue is dissolved in ethyl acetate (50!1111). The solution was washed with an aqueous sodium chloride solution, dried over magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure to give 2-(2,4-dichloro-5-fluorobenzoyl)-3-[3-(N-methyl-N-formylamino). -4-Fluorophenylaminocoacrylic acid ether ester (E,Z mixture) (1,91 g) is obtained as a syrup.

IR(EtOH) : 1680−1620.1510
.1250 cm−1NMR(CDCl2ゾ) : 0
.75−1.30 (3B、m)、 3.33(3H,
s)、 3.90−4.30 (2H,m>、 6.9
0−7.50(5H,m)、 8.33 (LH,d、
J=2Hz)、 8.53 (IH,d。
IR(EtOH): 1680-1620.1510
.. 1250 cm-1NMR (CDCl2zo): 0
.. 75-1.30 (3B, m), 3.33 (3H,
s), 3.90-4.30 (2H, m>, 6.9
0-7.50 (5H, m), 8.33 (LH, d,
J=2Hz), 8.53 (IH, d.

J=13Hz) Mass : 458.457.456製造例5 2−(2,4−ジクロロ−5−フルオロベンゾイル)−
3−[3−(N−メチル−N−ホルミルアミノ)−4−
フルオロフェニルアミノコアクリル酸エチルエステル(
E、zf1合物) (187g )および炭酸カリウム
(l13g)のN、N−ジメチルホルムアミド(20鵬
)溶液を100°Cで2時間攪拌する0反応混合物を氷
水(1oomQ)中に注ぎ、溶液をIN塩酸でpH4〜
5にm整する。生成する沈殿を濾取、水洗し、五酸化リ
ンの存在下で減圧乾燥して、1−[:3−(N−メチル
−N−ホルミルアミノ)−4−フルオロフェニル]−3
−エトキシカルボニル−6−フルオロ−7−クロロ−4
−キノロン(1,44g)の固体を得る。
J=13Hz) Mass: 458.457.456 Production Example 5 2-(2,4-dichloro-5-fluorobenzoyl)-
3-[3-(N-methyl-N-formylamino)-4-
Fluorophenylaminocoacrylic acid ethyl ester (
A solution of E, zf1 compound) (187 g) and potassium carbonate (13 g) in N,N-dimethylformamide (20 Peng) was stirred at 100 °C for 2 hours. The reaction mixture was poured into ice water (1 oomQ) and the solution was pH 4~ with IN hydrochloric acid
Adjust to 5. The resulting precipitate was collected by filtration, washed with water, and dried under reduced pressure in the presence of phosphorus pentoxide to give 1-[:3-(N-methyl-N-formylamino)-4-fluorophenyl]-3.
-ethoxycarbonyl-6-fluoro-7-chloro-4
- Obtain the quinolone (1.44 g) as a solid.

mp ’ 225−228℃ IR(スジミール)  :  1720. 1665.
 1610. 1540. 1510゜1260、12
20 am−’ NMR(DMSO−da、8 ) ’ 124 (3H
,t、J=7Hz)、 3.25−3.60 (3H,
m)、 4.19 (2H,q、J=7Hz)、 7.
28(11,d、J4Hz)、 7.50−8.05 
(4)1.m)、 8.30−8.53  (2H,m
> Mass  :  423  (M”+2)、   4
21  (M”)、   420  (M”−1)製造
例6 1−[3−(N−メチル−N−ホルミルアミノ)−4−
フルオロフェニルツー3−エトキンカルボニル−6−フ
ルオロ−7−10ロー4−4ノロン(t、40g)の酢
酸(lQmQ)および濃塩酸(2,511111)の混
合物中の溶液を4時間還流する。
mp' 225-228℃ IR (suji meal): 1720. 1665.
1610. 1540. 1510°1260, 12
20 am-' NMR (DMSO-da, 8)' 124 (3H
, t, J=7Hz), 3.25-3.60 (3H,
m), 4.19 (2H, q, J=7Hz), 7.
28 (11, d, J4Hz), 7.50-8.05
(4)1. m), 8.30-8.53 (2H, m
>Mass: 423 (M”+2), 4
21 (M”), 420 (M”-1) Production Example 6 1-[3-(N-methyl-N-formylamino)-4-
A solution of fluorophenyl-3-ethquinecarbonyl-6-fluoro-7-10rho4-4nolone (t, 40 g) in a mixture of acetic acid (1QmQ) and concentrated hydrochloric acid (2,511111) is refluxed for 4 hours.

冷後、水(somc )を反応混合物にカロえる。After cooling, water (somc) is added to the reaction mixture.

生成する沈殿を濾取し、水およびエタノールで洗浄し、
五酸化リンの存在下に減圧乾燥して、1−(3−メチル
アミノ−4−フルオロフェニル)−3−カルボキシ−6
−フルオレローフ−クロロ−4−キノロン(0、92g
)の固体を得る。
The formed precipitate was collected by filtration, washed with water and ethanol,
Drying under reduced pressure in the presence of phosphorus pentoxide gave 1-(3-methylamino-4-fluorophenyl)-3-carboxy-6
-Fluoroleof-chloro-4-quinolone (0.92g
) to obtain a solid.

mp : 269−271℃ IR  (スジ曹−ル)  :  1730,  16
15,  1530.  1500.  1260。
mp: 269-271℃ IR (strewn carbonate): 1730, 16
15, 1530. 1500. 1260.

1210 am−1 NMR (CF3COOH.8 ) ’ 3−51 (
3H.s)、7−68(IH,d.J=6Hz)、 7
.70−8.10 (3H.m)、 8.53(IH.
d.J=8Hz)、 9.46 (LH.s)Mass
 : 366、 365. 364 (M”)衷】C礼
1 1−(3−メチルアミノ−4−フルオロフェニル)−3
−カルボキシ−6−ブルオロー7ークロロー4ーキノロ
ン(0.36g)および2−メチルピペラジン(0.4
5g)のピリジン( zomQ)中温合物を40時間攪
拌下に還流する.反応混合物を減圧濃縮し、残渣に水を
加える。溶液を希塩酸で水冷下にpH5.0に調整する
.沈殿を濾取、水洗し、90°Cで減圧乾燥して、1−
(3−メチルアミノ−4−フルオロフェニル)−3−力
Jレボキシ−6−フルオロ−7−(3−メチルピペラジ
ン−1−イル)−4−キノロン(0、14g)を得る。
1210 am-1 NMR (CF3COOH.8)' 3-51 (
3H. s), 7-68 (IH, d.J=6Hz), 7
.. 70-8.10 (3H.m), 8.53 (IH.m)
d. J=8Hz), 9.46 (LH.s)Mass
: 366, 365. 364 (M”) C 1 1-(3-methylamino-4-fluorophenyl)-3
-carboxy-6-fluoro-7-chloro-4-quinolone (0.36 g) and 2-methylpiperazine (0.4
A warm mixture of 5g) of pyridine (zomQ) is refluxed with stirring for 40 hours. The reaction mixture is concentrated under reduced pressure, and water is added to the residue. Adjust the solution to pH 5.0 with dilute hydrochloric acid while cooling with water. The precipitate was collected by filtration, washed with water, and dried under reduced pressure at 90°C to obtain 1-
(3-Methylamino-4-fluorophenyl)-3-levoxy-6-fluoro-7-(3-methylpiperazin-1-yl)-4-quinolone (0.14 g) is obtained.

mp : 190−192℃ IR  (スジ3−ル)  :  3350.  17
15.  1635.  1620。
mp: 190-192°C IR (streak 3-l): 3350. 17
15. 1635. 1620.

1530国−1 NMR (CF3COOH,δ) : 1.56 (3
H.d.J=4Hz)、 3.25−4、20 (7H
.m)、 3.53 (3H.s)、 3.80 (L
H.d。
1530 country-1 NMR (CF3COOH, δ): 1.56 (3
H. d. J=4Hz), 3.25-4, 20 (7H
.. m), 3.53 (3H.s), 3.80 (L
H. d.

J:6Hz>、 7.70−8.50 (4H.m)、
 9.26 (IH.s)実施例2 1−(3−メチルアミノ−4−フルオロフェニル)−3
−カルボキシ−6−フルオレローフ−クロロ− (0.41g)のジメチルスルホキシド( 6mm)溶
液を105〜110℃で5時間攪拌する。反応混合物を
減圧濃縮して残渣を得る。この残渣を水( SO+++
Q)で粉砕する。生成する沈殿を濾取して水およびエタ
ノールで洗浄し、五酸化リンの存在下減圧乾燥する。得
られる固体をN.N−ジメチルホルムアミドとエタノー
ルとの混液(体積比、3:1)から再結晶してエタノー
ルで洗浄し、五酸化リンの存在下に減圧乾燥して、1−
(3−メチルアミノ−4−フルオロフェニル)−3−カ
ルボキシ−6−フルオロ−7−(ピペラジン−1−イル
)−4−キノロン(0.19g)を得る。
J: 6Hz>, 7.70-8.50 (4H.m),
9.26 (IH.s) Example 2 1-(3-methylamino-4-fluorophenyl)-3
A solution of -carboxy-6-fluorolof-chloro- (0.41 g) in dimethyl sulfoxide (6 mm) is stirred at 105-110°C for 5 hours. The reaction mixture is concentrated under reduced pressure to obtain a residue. This residue is mixed with water (SO+++
Grind with Q). The resulting precipitate is filtered, washed with water and ethanol, and dried under reduced pressure in the presence of phosphorus pentoxide. The resulting solid was rated at N. The 1-
(3-Methylamino-4-fluorophenyl)-3-carboxy-6-fluoro-7-(piperazin-1-yl)-4-quinolone (0.19 g) is obtained.

mp : 144−146℃ IR  (スジミール)  :  1710.  16
20.  1530.  1300,  1270。
mp: 144-146℃ IR (suji meal): 1710. 16
20. 1530. 1300, 1270.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1)一般式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1はハロゲン、 R^2は低級アルキルアミノ基、 R^3はカルボキシ基または保護されたカルボキシ基、 R^4はハロゲン、 R^5は水素または低級アルキル基をそれぞれ意味する
) で示されるキノロン化合物およびその塩類。 2)R^2が(C_1−C_4)アルキルアミノ基、R
^3がカルボキシ基または低級アルコキシカルボニル基
、 R^5が水素または(C_1−C_4)アルキル基であ
る特許請求の範囲第1項記載の化合物。 3)R^1がフッ素、R^2がメチルアミノ基、R^3
がカルボキシ基、R^4がフッ素、R^5が水素または
メチル基である特許請求の範囲第2項記載の化合物。 4)1−(3−メチルアミノ−4−フルオロフェニル)
−3−カルボキシ−6−フルオロ−7−(3−メチルピ
ペラジン−1−イル)−4−キノロン、および 1−(3−メチルアミノ−4−フルオロフェニル)−3
−カルボキシ−6−フルオロ−7−(ピペラジン−1−
イル)−4−キノロンからなる群より選択された特許請
求の範囲第3項記載の化合物。 5)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1はハロゲン、 R^2は低級アルキルアミノ基、 R^3はカルボキシ基または保護されたカルボキシ基、 R^4はハロゲン、 R^6は酸残基をそれぞれ意味する) で示される化合物またはその塩類を、一般式:▲数式、
化学式、表等があります▼ (式中、R^5は水素または低級アルキル基を意味する
) で示される化合物またはその塩類と反応させて、一般式
: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1、R^2、R^3、R^4およびR^5
はそれぞれ前と同じ意味) で示されるキノロン化合物またはその塩類を得ることを
特徴とする新規キノロン化合物の製造法。 6)一般式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1はハロゲン、 R^2は低級アルキルアミノ基、 R^3はカルボキシ基または保護されたカルボキシ基、 R^4はハロゲン、および R^6は酸残基をそれぞれ意味する。) で示される化合物およびその塩類。 7)一般式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1はハロゲン、 R^2は低級アルキルアミノ基、 R^3はカルボキシ基または保護されたカルボキシ基、 R^4はハロゲン、 R^5は水素または低級アルキル基をそれぞれ意味する
) で示されるキノロン化合物またはその塩類を有効成分と
して含有する医薬組成物。
[Claims] 1) General formula: ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (In the formula, R^1 is a halogen, R^2 is a lower alkylamino group, and R^3 is a carboxy group or a protected A quinolone compound represented by a carboxy group, R^4 means a halogen, R^5 means hydrogen or a lower alkyl group, and salts thereof. 2) R^2 is (C_1-C_4) alkylamino group, R
The compound according to claim 1, wherein ^3 is a carboxy group or a lower alkoxycarbonyl group, and R^5 is hydrogen or a (C_1-C_4) alkyl group. 3) R^1 is fluorine, R^2 is methylamino group, R^3
3. The compound according to claim 2, wherein is a carboxy group, R^4 is fluorine, and R^5 is hydrogen or a methyl group. 4) 1-(3-methylamino-4-fluorophenyl)
-3-carboxy-6-fluoro-7-(3-methylpiperazin-1-yl)-4-quinolone, and 1-(3-methylamino-4-fluorophenyl)-3
-carboxy-6-fluoro-7-(piperazine-1-
4. A compound according to claim 3 selected from the group consisting of yl)-4-quinolones. 5) General formula ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ (In the formula, R^1 is halogen, R^2 is lower alkylamino group, R^3 is carboxy group or protected carboxy group, R^4 is halogen, R^6 means an acid residue) or its salts, by the general formula: ▲ mathematical formula,
There are chemical formulas, tables, etc. ▼ (In the formula, R^5 means hydrogen or lower alkyl group) When reacted with the compound shown by or its salts, the general formula: ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ ( In the formula, R^1, R^2, R^3, R^4 and R^5
(each has the same meaning as above) 6) General formula: ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (In the formula, R^1 is a halogen, R^2 is a lower alkylamino group, R^3 is a carboxyl group or a protected carboxy group, R^4 represents a halogen, and R^6 represents an acid residue, respectively.) Compounds and salts thereof. 7) General formula: ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (In the formula, R^1 is a halogen, R^2 is a lower alkylamino group, R^3 is a carboxyl group or a protected carboxy group, R^4 represents a halogen, R^5 represents hydrogen or a lower alkyl group, respectively) A pharmaceutical composition containing a quinolone compound or a salt thereof as an active ingredient.
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