JPS63230900A - 配向性薄膜の作製方法及びその装置 - Google Patents
配向性薄膜の作製方法及びその装置Info
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
- Y02E10/549—Organic PV cells
Landscapes
- Peptides Or Proteins (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
ピ）慮東上の利用分野
木＠＃４は、゛（熱泳動法を用い次記同性薄属の作製方
法及びその装置に関するもので、例えば光を照射し九と
きに充電圧を生ずる光ＩＥＲ換素子や、光を照射した゛
ときに１σトンの移ＭＩｔ行う菓子を作製するのに潤用
避れる。
法及びその装置に関するもので、例えば光を照射し九と
きに充電圧を生ずる光ＩＥＲ換素子や、光を照射した゛
ときに１σトンの移ＭＩｔ行う菓子を作製するのに潤用
避れる。
（ｑ従来の技術
高ａ度好塩画の細胞中に存在する蛋白質バクテリオロド
プシンの来合体でるる紫ａａ１元を照射することに１Ｄ
換の裏面から表面へプロトンを移動させる機能と、そｎ
と同時に膜の表裏で分極する哉乾とを偏見ている。この
＊ｇｔ−元分に精展し、その＠濁液を二枚の水平な電極
の間に挟み電圧を印加すると、電極間に生ずる電場にエ
フで中性で負に帯域している紫膜が電極の正極に、配向
ぢｎた状態でスタックざｎる（Ａｃｔａ ｂｉｏｌＡ
ｃａｄ Ｓｃ１ 、Ｖｏ１３２ ３０１−３１０（１９
８１）に開示】。前述の文献に示され方法でに、紫膜の
懸濁液に電圧を印加し紫膜をスタックさせた直後に、を
極間の余分な懸濁液ｔろ紙で吸い収らねばならない。
プシンの来合体でるる紫ａａ１元を照射することに１Ｄ
換の裏面から表面へプロトンを移動させる機能と、そｎ
と同時に膜の表裏で分極する哉乾とを偏見ている。この
＊ｇｔ−元分に精展し、その＠濁液を二枚の水平な電極
の間に挟み電圧を印加すると、電極間に生ずる電場にエ
フで中性で負に帯域している紫膜が電極の正極に、配向
ぢｎた状態でスタックざｎる（Ａｃｔａ ｂｉｏｌＡ
ｃａｄ Ｓｃ１ 、Ｖｏ１３２ ３０１−３１０（１９
８１）に開示】。前述の文献に示され方法でに、紫膜の
懸濁液に電圧を印加し紫膜をスタックさせた直後に、を
極間の余分な懸濁液ｔろ紙で吸い収らねばならない。
ｇＥりてこの操作を伴５方法を実施した場合には、次の
エフな欠点が生じる。
エフな欠点が生じる。
■ 技術的に手間が掛かるり見微妙な操ｆｌ：ｔ″必要
とする。
とする。
■ 層厚のｍ！Ｉが行いにくいため膜厚にむらがでさる
。
。
■再現性良く配向膜が得らｎない。
■スタジクさｎなかりたＩｌ！！ｌ濁液中の紫膜は捨て
られるので無駄となる〇 ■大向横比かでさない。
られるので無駄となる〇 ■大向横比かでさない。
（ハ）発明が解決しようとする問題点
本発明は、配向性が良く、膜厚にむらのない系層の配向
Ｍを揶現江艮く、容易に無駄なく作製できる１成と七の
装ｍ’ｒ提供することを目的とする。
Ｍを揶現江艮く、容易に無駄なく作製できる１成と七の
装ｍ’ｒ提供することを目的とする。
に）問題点を解決するための手段
本発明の配回性博換の作夷方法は、サンプル槽と該槽内
に挿脱される基板倉保持する町励式基板ｌｉ！ｉ１足台
とを’備え、票編會スタックする基板を垂直に立て＼加
紀すンプル槽内に配置し、前記基板と該基板と対向する
サンプル槽の内壁面に設Ｃすた平行な＃ｔｆ＆との間に
電圧ｔ−印加し、紫膜を基板上にスタックする孟うにし
几ものである。
に挿脱される基板倉保持する町励式基板ｌｉ！ｉ１足台
とを’備え、票編會スタックする基板を垂直に立て＼加
紀すンプル槽内に配置し、前記基板と該基板と対向する
サンプル槽の内壁面に設Ｃすた平行な＃ｔｆ＆との間に
電圧ｔ−印加し、紫膜を基板上にスタックする孟うにし
几ものである。
ｔたその作ｊｌｌ！装置に、サンプル槽と、該サンプル
ｆｆＰ３ｒｃ挿脱さｎる基板と、該基板を保持する可動
式１板向足台と、ｌＩｌ記サンすル槽円槽内側内壷面ｒ
ｃ＊＜すられて別記基板と対向する平行な電極とを−＊
Ｌ、に記基板と電極との閾に電圧を印加し、ｉ！ｌＦ配
基板上に紫ｇｔ−スタックするエフにしたものでるる。
ｆｆＰ３ｒｃ挿脱さｎる基板と、該基板を保持する可動
式１板向足台と、ｌＩｌ記サンすル槽円槽内側内壷面ｒ
ｃ＊＜すられて別記基板と対向する平行な電極とを−＊
Ｌ、に記基板と電極との閾に電圧を印加し、ｉ！ｌＦ配
基板上に紫ｇｔ−スタックするエフにしたものでるる。
拘作 用
不発明にＬｎは、１を気泳動を行う之めの平行な二枚の
ｔ億（基板とサンプル４１内壁面に設Ｃす九を極］ｔサ
ンプル檀円で地面に対して僑直に固定でさると共に電極
の関１ｖ！は晶叡固足台を可動ステージを用いてｍ＊で
きる。そのため配向性が艮く、換ｖＣひらのない両層の
配向膜を再現性良く、容易に作製でさる。
ｔ億（基板とサンプル４１内壁面に設Ｃす九を極］ｔサ
ンプル檀円で地面に対して僑直に固定でさると共に電極
の関１ｖ！は晶叡固足台を可動ステージを用いてｍ＊で
きる。そのため配向性が艮く、換ｖＣひらのない両層の
配向膜を再現性良く、容易に作製でさる。
（へ）英施例
以下不発Ｉｊ１１’ｔ−図に示す冥厖例について説明す
る。
る。
（ＩＪにアクリル樹脂製のサンプル槽で核種はマグネチ
ックスタンド（２Ｊの上ＩＣ［ｋ足される。ｌｖｌ前記
サンプル４Ｗ （ＩＪ ｖｉ′アクリル樹脂裂にするの
は、該サンプル僧門の溶猷量、後述する電極間の距離を
その壁面を透して外部りり観察するためでめり、衷たマ
グネティックスタンド（２）で固定するのは操作中に装
置のが九つ８ｔ−防止するためてるる。更にサンプル４
（ＩＪの内容積は賞１なサン１ル潜液（３３の使用量を
少くする丸めに、基板固定台（４）に一定ざｎた基板支
え板（５）と販叉見板に取付Ｃすら九九基板（６）とが
槽内に入りて少し動ヴるぐらいの大ξさにする。
ックスタンド（２Ｊの上ＩＣ［ｋ足される。ｌｖｌ前記
サンプル４Ｗ （ＩＪ ｖｉ′アクリル樹脂裂にするの
は、該サンプル僧門の溶猷量、後述する電極間の距離を
その壁面を透して外部りり観察するためでめり、衷たマ
グネティックスタンド（２）で固定するのは操作中に装
置のが九つ８ｔ−防止するためてるる。更にサンプル４
（ＩＪの内容積は賞１なサン１ル潜液（３３の使用量を
少くする丸めに、基板固定台（４）に一定ざｎた基板支
え板（５）と販叉見板に取付Ｃすら九九基板（６）とが
槽内に入りて少し動ヴるぐらいの大ξさにする。
Ｈ配基板（６）と対向するサンプル槽（υの一負円！面
には平板状の［億（７）を接層し工いる。前記電極（７
）は基板（６）との対向面が平らでなＣ１ｎばならず、
リーＦＩＩｔ８３はｆＩａ記サンプル槽（υの壁面の一
部を削除して、ｍ起を極（７）の表面に接続されている
。
には平板状の［億（７）を接層し工いる。前記電極（７
）は基板（６）との対向面が平らでなＣ１ｎばならず、
リーＦＩＩｔ８３はｆＩａ記サンプル槽（υの壁面の一
部を削除して、ｍ起を極（７）の表面に接続されている
。
前１１ｄ基板固定台（４）ば基板固定部ζ９７％ Ｘ＠
町勤ステージαｏ、ｚｍｍ励動ステージ１１７．マグネ
ティックスタンドσ４からＳ戊されている。ｉ！ＩＩ配
晶板固定部（９）は基板固定部品すと基板叉見版（５）
とからなり、Ｊｉｉ＆（６７’ｔビスＵｔ−用いて挟み
込む方法で画直に固定する。衷た基板（６〕に２軸可動
ステージαυのＺ軸回ＩＩＩＪ／プα５１ｔ−まわして
サンプル槽（１７円に出し入ｎてｎると共にＩＷ紀サす
プル櫂（υ内での基板（６Ｊと電極（力との閏ｐ＃Ｉは
Ｘ軸可動ステージα１のＸ軸可動ノブα１ｌＨｅ用いて
調節できる。
町勤ステージαｏ、ｚｍｍ励動ステージ１１７．マグネ
ティックスタンドσ４からＳ戊されている。ｉ！ＩＩ配
晶板固定部（９）は基板固定部品すと基板叉見版（５）
とからなり、Ｊｉｉ＆（６７’ｔビスＵｔ−用いて挟み
込む方法で画直に固定する。衷た基板（６〕に２軸可動
ステージαυのＺ軸回ＩＩＩＪ／プα５１ｔ−まわして
サンプル槽（１７円に出し入ｎてｎると共にＩＷ紀サす
プル櫂（υ内での基板（６Ｊと電極（力との閏ｐ＃Ｉは
Ｘ軸可動ステージα１のＸ軸可動ノブα１ｌＨｅ用いて
調節できる。
久に上記の装置を用いて紫膜のイ気泳動による配向膜’
ｋｆ）：展する場合について睨明する。
ｋｆ）：展する場合について睨明する。
まず紫膜の懸濁液を超遠心機で数回精製し、紫膜の表面
にるるカルボキシ末端の解Ｉｌ装置を大きくする几めｐ
ａ２約９．０に！１１１１Ｅｔ、比もの倉サンプル溶液
としてサンプル槽（υに入ｎる。但し、す／プル溶液の
ＰＨは６〜１１の範囲で６ｎば配向属金得らｎることが
芙験的に確認さｎた。
にるるカルボキシ末端の解Ｉｌ装置を大きくする几めｐ
ａ２約９．０に！１１１１Ｅｔ、比もの倉サンプル溶液
としてサンプル槽（υに入ｎる。但し、す／プル溶液の
ＰＨは６〜１１の範囲で６ｎば配向属金得らｎることが
芙験的に確認さｎた。
久にサンプル槽（１）と基板固定台（４）と１−＊紀す
ンプル４（ｌＪＦＥ３ｒＩＣ，設１ｆｆｔ−電億＜７）
トＭ＆（６）ト−１）Ｅ”Ｐ−行１１Ｃ１にる孟うに１
顧してマグネティックスタンド（２）四で固定する。
ンプル４（ｌＪＦＥ３ｒＩＣ，設１ｆｆｔ−電億＜７）
トＭ＆（６）ト−１）Ｅ”Ｐ−行１１Ｃ１にる孟うに１
顧してマグネティックスタンド（２）四で固定する。
Ｊｌｉ板（６）にシード朦α悼を半田付≦グし、そｎを
基板１１ｉＪ定廊品αＪで基板支え板（５）に電極面を
表側にして固定する。この時、基板（６７ｔ”正確に垂
直に立てる尺のに基板（６７と基板支見板（５）との閣
が開かぬように１ｊ！ｊｌ定する。この状態で２軸可動
ノブｕ５１ｅ回してＭ ［（６７ｔ−サンプル槽（１７
のなかへ降ろし、サンプル溶液（３）に浸す。サンプル
＃液（３）の漱面はｒＲ把基板（６Ｊ ｋ沈めると上昇
する。りざにＸ軸可動ノブｕｅｔ回し゛ば極（７；と基
板（６）とのｊＩｉ離を観察しながらその間隔を約１ｍ
Ｋ−節する。
基板１１ｉＪ定廊品αＪで基板支え板（５）に電極面を
表側にして固定する。この時、基板（６７ｔ”正確に垂
直に立てる尺のに基板（６７と基板支見板（５）との閣
が開かぬように１ｊ！ｊｌ定する。この状態で２軸可動
ノブｕ５１ｅ回してＭ ［（６７ｔ−サンプル槽（１７
のなかへ降ろし、サンプル溶液（３）に浸す。サンプル
＃液（３）の漱面はｒＲ把基板（６Ｊ ｋ沈めると上昇
する。りざにＸ軸可動ノブｕｅｔ回し゛ば極（７；と基
板（６）とのｊＩｉ離を観察しながらその間隔を約１ｍ
Ｋ−節する。
な２、サンプル溶液（３７の量が少なく電極（７）と基
板（６）とが光分にサンプル浴液に浸からない場合にも
平行し次電極（力と基板（６〕との間隙の毛細管現象に
エフ開−にサンプル虐液を満た丁ことができる。
板（６）とが光分にサンプル浴液に浸からない場合にも
平行し次電極（力と基板（６〕との間隙の毛細管現象に
エフ開−にサンプル虐液を満た丁ことができる。
久に電極（７）のリート線＋８３と基板（６）のリード
線ｕ７）とを直流、既定化電源に接続し、約ｌＯｖの電
圧を約１秒印加する。この操作によって、紫膜の１を気
泳動による基板（６７上へのスタック（Ｓｔａｃｋ）が
行わｎる。電圧′ｔ−印加して紫膜ｔスタックし終わり
九Ｊｉｉ ＆ （６７は、Ｘ軸可動ノブαＧで電極（７
７カ島ら少し趨した後、ｚｌＩＩｌ可動ノブｕ５１ｔ−
１定装置で回してサンプル博ｇ（３）から引き上げる。
線ｕ７）とを直流、既定化電源に接続し、約ｌＯｖの電
圧を約１秒印加する。この操作によって、紫膜の１を気
泳動による基板（６７上へのスタック（Ｓｔａｃｋ）が
行わｎる。電圧′ｔ−印加して紫膜ｔスタックし終わり
九Ｊｉｉ ＆ （６７は、Ｘ軸可動ノブαＧで電極（７
７カ島ら少し趨した後、ｚｌＩＩｌ可動ノブｕ５１ｔ−
１定装置で回してサンプル博ｇ（３）から引き上げる。
この操作によって表面の乱ｎていない紫膜Ｏ配向膜を得
ることができる。
ることができる。
不発明ｒｃよる装置は、基板の収り替兄が谷易なスタッ
クの終わりた基板ｔ−収り外し新しい基板金帥定して同
様の操作を繰り返セは、サンプル溶液を無駄ｒＣするこ
となく連続して紫膜の配向膜を得ることができる。
クの終わりた基板ｔ−収り外し新しい基板金帥定して同
様の操作を繰り返セは、サンプル溶液を無駄ｒＣするこ
となく連続して紫膜の配向膜を得ることができる。
ここで紫膜の配向膜を作製したときの条ｔ＋を衷とめて
示すと以下の通りでおる。
示すと以下の通りでおる。
基板の種類 透明電極（ＩＴＯ４極ン
索膜容液の濃度 バクテリオａドブシン単位で８Ｘ１０
Ｍ 紫膜溶液ｏＰＨ約９．０ 電極と基板との間隔 約ｌ■ 印 加 電 圧 約１０Ｖ 電圧印ｔＪａ時間 約１秒 上記の条件で作製した紫膜の配向！Ｘは最大値で約１５
Ｖという従来Ｏ方法では得られなかりた大さな光電圧を
生じた。こｒＬは従来の万＠を用いるＬりも配向性が高
く厚い膜が得ら−ｒＬｆＩ−ことを示している。衷た紫
膜溶液の曖藏、電極と基板との間隔、印加電圧、電圧印
加時間を変えることに工ｐ膜厚のｍ贅をすることができ
た。
Ｍ 紫膜溶液ｏＰＨ約９．０ 電極と基板との間隔 約ｌ■ 印 加 電 圧 約１０Ｖ 電圧印ｔＪａ時間 約１秒 上記の条件で作製した紫膜の配向！Ｘは最大値で約１５
Ｖという従来Ｏ方法では得られなかりた大さな光電圧を
生じた。こｒＬは従来の万＠を用いるＬりも配向性が高
く厚い膜が得ら−ｒＬｆＩ−ことを示している。衷た紫
膜溶液の曖藏、電極と基板との間隔、印加電圧、電圧印
加時間を変えることに工ｐ膜厚のｍ贅をすることができ
た。
尚英翔的の装置に２いて久の改良を翔こしてもよい。
■サンプル槽と基板固定台を一体化し、一つの装置とし
てがたつきのないように固定する。
てがたつきのないように固定する。
■Ｘ−Ｚ町動ステージをパルスモータ等を用いた電動式
とし、基板の動きを清かにする。
とし、基板の動きを清かにする。
■基板の基板支え板への固定をクリップあるいは吸腹、
吸引に工つて行い、基板の脱ｍｔ−容易にする。
吸引に工つて行い、基板の脱ｍｔ−容易にする。
■平板の１に他はアクリルに直接白金を蒸着して形成し
次ものを用いる。
次ものを用いる。
（）３発明の効果
不発ｆＪｉＪに工ｎば、光電変換素子あるいはプロトン
移動素子と成り得る紫膜の配向１１ｊｈを、容易に短時
間で再現性Ｘ ＜ 、サンプルの無駄を最小限に押さえ
てｔ’ｐ展することができる。
移動素子と成り得る紫膜の配向１１ｊｈを、容易に短時
間で再現性Ｘ ＜ 、サンプルの無駄を最小限に押さえ
てｔ’ｐ展することができる。
また、膜厚のｍ！ＩＥｔ−容易にすることができる。
さらに紫膜以外でも、分子全体が帯電して比較的双、ム
子モーメントの大さな分子ならば配向ｍを作製すること
ができる。
子モーメントの大さな分子ならば配向ｍを作製すること
ができる。
図面は木兄＃Ｊｉ４による配回性薄膜の作′ａ装戒の一
実施例を示し、第１図は正面図、第２図は備面図でるる
。 （υ・・・サンプル檀、（２〕・・・マグネティックス
タンド、（４）・・・基板固定台、（６）・・・基板、
（７Ｊ・−を他、（ＩＩＪ・・・Ｘ軸ｑａステージ、σ
υ・・・Ｚｌｌ＋Ｉｖ動ステージ、α４・・・マグネテ
ィックスタンド
実施例を示し、第１図は正面図、第２図は備面図でるる
。 （υ・・・サンプル檀、（２〕・・・マグネティックス
タンド、（４）・・・基板固定台、（６）・・・基板、
（７Ｊ・−を他、（ＩＩＪ・・・Ｘ軸ｑａステージ、σ
υ・・・Ｚｌｌ＋Ｉｖ動ステージ、α４・・・マグネテ
ィックスタンド
Claims (5)
- （１）光を照射したときに電位を生ずる紫膜の配向性薄
膜を電気的に泳動し電極基板上にスタックさせるもので
あって、サンプル槽と該槽内に挿脱される基板を保持す
る可動式基板固定台とを備え、紫膜をスタックする前記
基板を垂直に立てゝ前記サンプル槽内に配置し、前記基
板と該基板と対向するサンプル槽の内壁面に設けた平行
な電極との間に電圧を印加し、紫膜を基板上にスタック
するようにしたことを特徴とする配向性薄膜の作製方法
。 - （２）光を照射したときに電位を生ずる紫膜の配向性薄
膜を電気的に泳動し電極基板上にスタックさせるもので
あって、サンプル槽と、該サンプル槽内に挿脱される基
板と、該基板を保持する可動式基板固定台と、前記サン
プル槽内の一側内壁面に設けられて前記基板と対向する
平行な電極とを備え、前記基板と電極との間に電圧を印
加し、前記基板上に紫膜をスタックするようにしたこと
を特徴とする配向性薄膜の作製装置。 - （３）前記サンプル槽は透明なアクリル樹脂製であるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第２項記載の配向性薄膜
の作製装置。 - （４）前記基板固定台はＸ軸可動ステージとＺ軸可動ス
テージを有していることを特徴とする特許請求の範囲第
２項記載の配向性薄膜の作製装置。 - （５）前記サンプル槽と基板固定台を夫々マグネテイツ
クスタンドに取付けてなることを特徴とする特許請求の
範囲第２項又は第４項に記載の配向性薄膜の作製装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62064764A JPS63230900A (ja) | 1987-03-19 | 1987-03-19 | 配向性薄膜の作製方法及びその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62064764A JPS63230900A (ja) | 1987-03-19 | 1987-03-19 | 配向性薄膜の作製方法及びその装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63230900A true JPS63230900A (ja) | 1988-09-27 |
Family
ID=13267581
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62064764A Pending JPS63230900A (ja) | 1987-03-19 | 1987-03-19 | 配向性薄膜の作製方法及びその装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63230900A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63237584A (ja) * | 1987-03-26 | 1988-10-04 | Mitsubishi Electric Corp | 光応答性スイツチ素子 |
-
1987
- 1987-03-19 JP JP62064764A patent/JPS63230900A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63237584A (ja) * | 1987-03-26 | 1988-10-04 | Mitsubishi Electric Corp | 光応答性スイツチ素子 |
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