JPS63216837A - 新規ビニルシクロペンテン類 - Google Patents

新規ビニルシクロペンテン類

Info

Publication number
JPS63216837A
JPS63216837A JP62049936A JP4993687A JPS63216837A JP S63216837 A JPS63216837 A JP S63216837A JP 62049936 A JP62049936 A JP 62049936A JP 4993687 A JP4993687 A JP 4993687A JP S63216837 A JPS63216837 A JP S63216837A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
dimethyl
ether
formula
methyl
added
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP62049936A
Other languages
English (en)
Inventor
Kunikazu Sakai
酒井　邦和
Hiroaki Sasai
宏明 笹井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sagami Chemical Research Institute
Original Assignee
Sagami Chemical Research Institute
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sagami Chemical Research Institute filed Critical Sagami Chemical Research Institute
Priority to JP62049936A priority Critical patent/JPS63216837A/ja
Publication of JPS63216837A publication Critical patent/JPS63216837A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups

Landscapes

  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は下記一般式（ＸＩ）で表わされる新規なビニル
シクロペンテン類に関する。
〔式中Ｒは水素原子または水酸基の保！！基である〕。
前記一般式（ＸＩ）で表わされる化合物は、下記一般式
（１）で表わされる新規な線虫卵卿（式中、Ｒ１はＣＨ
！ＯＲ”　（但し、Ｒ３は水素原子または水酸基の保護
基である。）またはＣ０ＯＲ’（但し、Ｒ４は水素原子
またはカルボキシル基の保護基である。）を表わしＲ１
はＣ３〜Ｃｈの低級アルキル基、アリール基またはアラ
ルキル基を表わす、） 化促進物質の製造過程において、重要な中間体となるも
のである。
〔従来の技術〕
農作物に多大な被害を与えている植物寄生性線虫の駆除
に関して従来は液剤を用いる方法や、燻蒸剤などが用い
られていた。
しかしながら、ＤＢＣＤ　（ネマゴン）やＤＣＩＰ（ネ
マモール）等の液剤は、無差別に土壌微生物を殺す傾向
にあり、土壌への悪影響が懸念され、作物への薬害も無
視出来ないものがある。また強い毒性により取扱いに注
意を要する。Ｄ−Ｄ、クロルピクリン、メチルプロミド
、ジブロムエチレン等の燻蒸剤は、有毒ガスの土壌中へ
の拡散により効果を発揮するものであるが残留性等の危
険性が高いため、現在では使用が禁止されている。
〔発明が解決しようとする問題点〕
本発明者らは、かか不状況に鑑み鋭意検討した結果、前
記一般式（１）で表わされる新規な物質が、植物寄生性
腺虫卵の強力な４化促進作用を有することを見いだした
。この活性を利用することにより、植物寄生性線虫の選
択的駆除剤として用いることができる。
−ａ式（１）で表わされる物質は、近年大豆根より極微
量抽出、単離された天然の線虫卵卿化促進物質グリシノ
エクレビンＡ　（１７式）　　（Ａ。
Ｆｕｋｕｚａｗａ、Ａ、Ｆｕｒｕｓａｋｉ。
Ｍ、Ｉｋｕｒａ、ａｎｄ　　Ｔ、Ｍａｓａｍｕｎｅ。
Ｊ、Ｃｈｅｍ、Ｓｏｃ、　、Ｃｈｅｍ、Ｃｏｍｍｕｎ。
１９８５．２２２）の骨格中、ステロイド環の命名法に
従った時のＣ−Ｄ環に相当するものである。
本発明者らは、一般式Ｎ）で表ゎさるＣ−Ｄ環部を製造
し、４化促進活性　試験を行った所、Ｃ−〇環部のみで
も強力な線虫卵岬化促進活性を有することを見いだし、
前記一般式（１）で表わされる化合物の合成中間体であ
る本発明を完成した。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明の１．３−ジメチル−２−エチニル−５−（３−
オキシ−１−メチルプロピル）シクロベンター１−エン
類（式χ１）　　（式中Ｒは前記と同一の意味を有する
。）は、以下の工程により合成できる。
第一工程 本工程における出発物質となる３、４−ジメチル−２−
シクロベンテノン（弐■）は、文献既知の物質であり、
クロトン酸イソプロピルエステルより大量に容易に合成
できる（Ｊ、−Ｍ。
Ｃｏｎ１ａ　　ａｎｄ　　Ｍ、−Ｌ。
Ｌｅｒｉｖｅｒｅｎｄ、Ｂｕｌｌ、Ｓａｃ。
Ｃｈｉｍ、Ｆｒ、、１９７０．２９８１参照）。
本工程は前記式（ｆｆ＋）で表わされるシクロベンテノ
ンに一触式（ＩＶ）で表わされる３−ブテニルメタルを
共役付加させ、式（Ｖ）で表わされる３゜４−ジメチル
−５−（３−ブテニル）シクロペンタノンを製造するも
のである。
本工程を実施するに当って、一般式（Ｖ）で表わされる
３−ブテニルメタルとしては、触ＩｆｃＩのＣｕｌの存
在下における、３−ブテニルマグネシウムプロミド、同
ヨーシト、同クロリド、同じく触媒量のＣｕｌの存在下
における３−ブテニルリチウム、および３−ブテニル銅
化合物などをあげることができる。
本工程は、溶媒の存在下に行われるものである。
用いられる溶媒としては、ジメチルエーテル、ジエチル
エーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル
、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン
などのエーテル類や、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキ
サン、ヘプタン、ベンゼン、トルエンなどの炭化水素類
を挙げることができる。
本工程は、−１００℃〜１００℃の範囲で行われるが、
好適には〜３０℃〜２５℃の範囲である。
第二工程 本工程は式（Ｖ）で表わされる物質を閉環し、式（Ｖｌ
）で表わされる４、５．８−トリメチル−２−オキソビ
シクロ（３，３，０）オクタンを製造するものである。
閉環は加熱によって行われる。
温度は、２−５０℃から４００℃の範囲で行われるが、
好適には３１０℃から３３０℃の範囲で行うのが良い０
本工程を行うに当っては溶媒の存在は特に必要ではない
が、所望によっては、上記温度で不活性な溶媒の存在下
に行っても良い。
第三工程 本工程は、式（Ｖｌ）で表わされる物質をバイヤー・ビ
リガー（Ｂａｅｙｅｒ−Ｖｉ　ｌ　ｌ　Ｉｇｏｒ）酸化
反応に付し、式（■）で表わされる５、６゜９−トリメ
チル−２−オキサ−３−オキソビシクロ（４，３，Ｏ）
ノナンを製造するものである。
本工程を行うに当って用いられる酸化剤としては、過ギ
酸、過酢酸、トリフルオロ過酢酸、過安息香酸、メタク
ロル過安息香酸、過フタール酸などのを機過酸や、過酸
化水素、ｔ−ブチルヒドロペルオキシドなどを用いるこ
とができる。
本工程は溶媒の存在下に行うことが望ましく、用いられ
る溶媒としては、有機過酸の場合には塩化メチレン、ク
ロロホルム、エーテル、アセトニトリル等、もしくはこ
れらの混合物を、過酸化水素、ｔ−ブチルヒドロペルオ
キシドの場合には水、ｔ−ブチルアルコール、ｔ−アミ
ルアルコール、アセトニトリル等や、これらの混合物が
好適に使用できる。
反応は一３０℃〜４０℃で円滑に進行する。
第四工程 本工程は式（■）で表わされるラクトンを還元し、式（
■）（Ｒ−Ｈ）で表わされる、２，５−ジメチル−２−
（５−ヒドロキシ−１−メチル−プロピル）シクロペン
タノールを製造するものである０本工程は還元剤を用い
て行うものであり、例えば、水素化アルミニウムリチウ
ム、水素化ジイソブチ゛ルアルミニウムなどを用いるこ
とができる。本工程は、溶媒の存在下に行うことが好ま
しく、例えば水素化アルミニウムリチウムを用いる場合
には、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、テトラヒ
ドロフラン、ジメトキシエタンのごとき、エーテル系の
溶媒を、水素化ジイソブチルアルミニウムの場合には、
上記の他にトルエン、塩化メチレンを、用いることがで
きる０反応温度は、−７８℃〜７０℃を還元剤および、
溶媒に応じて、選択することができる。
第五工程 本工程は、式（■）（Ｒ−Ｈ）で表わされるジオールの
１級水酸基を保護し、さらに２級水酸基を酸化し、式（
ＩＸ）で表わされる２−（３−アルコキシ−１−メチル
−プロピル）−２，５−ジメチル−シクロペンタノンを
製造するものである。
１級水酸基の保！ＩＩ試剤としては、ｔ−プチルジフヱ
ニルシリルクロリド、ｔ−ブチルジメチルシリルクロリ
ド、トリフェニルメチルクロリドなどを好適に使用する
ことができる０本工程は、塩基の存在下に行うもので、
イミダゾール、トリエチアミンなどの有機塩基を用いた
場合に好結果が得られる６本工程は、溶媒の存在下に行
うことが望ましく、例えば、ＤＭＦ、ピリジン、塩化メ
チレン、クロロホルムおよびこれらの混合溶媒を用いる
ことができる０反応温度は、−１０℃〜６０℃の範囲で
行われる。
２級水酸基の酸化は、酸化剤を用いて行うものであり、
例えばＰＣＣ，ＰＤＣ，Ｃｏ　Ｉ　Ｉ　ｉ　ｎｓ試薬な
どのクロム酸系の酸化剤を用いた場合に反応は好適に進
行する０本工程は、溶媒の存在下に行うことが好ましく
、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、テトラヒドロ
フラン、ジメトキシエタンのごとき、エーテル系の溶媒
や、クロロホルム、塩化メチレン、ＤＭＦを酸化剤に応
して選択することができる０反応温度は、−７８℃〜７
０℃を酸化剤および、溶媒に応じて、選択することがで
きる。
第六工程 本工程は、式（ＩＸ）で表わされる物質を塩基の存在下
、無水トリフルオロメタンスルホン酸と反応させること
により、前記一般式（Ｘ）で表わされる、２−　（３−
アルコキシ−１−メチル−プロピル）−２，５−ジメチ
ル−シクロペンタ−１−エン−１−イル　トリフレート
を製造するものである０本工程は、塩基の存在下に行う
ことが必要で、例えば、４−メチル−２，６−ジーｔ−
ブチルピリジン、２．６−ジーｔ−ブチルピリジン、ピ
リジン、トリメチルアミンなどを好適に使用することが
できる０本工程は、溶媒の存在下に行うことカ望ましく
、例えば、塩化メチレン、クロロホルム、１．２−ジク
ロロエタンを用いた場合に好結果が得られる６反応は、
室温〜７０℃にて円滑に進行するものである。
第七工程 本工程は、前記一般式（Ｘ）で表わされるトリフレート
をパラジウム（０）触媒、および、ハロゲン化リチウム
の存在下にビニルトリブチルスズと反応せしめ、一般式
（ＸＩ）で表わされるビニルシクロペンテン類を製造す
るものである。
本工程において用いられるパラジウム触媒としては例え
ばテトラキストリフェニルホスフィンパラジウムを、ハ
ロゲン化リチウムとしては例えば塩化リチウムを用いる
ことができる。
本工程は、溶媒中で行うことが望ましく、例えば、ジメ
チルエーテル、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン
、ジメトキシエタンのごとき、エーテル系の溶媒を好適
に使用できる。
反応は、室温〜１００℃にて円滑に進行する。
保護基で水ｆ１２基が保護された一般式（ＸＩ）で表わ
される化合物は必要に応じて脱保護し、一般式（ＸＩ）
においてＲ−Ｈで表わされる化合物に導くことができる
。脱保護は、水酸基の保護基が、シリルエーテル系の場
合にはフン化水素酸を、トリフェニルメチル基などのエ
ーテル系の場合には、希硫酸、ｐ−）ルエンスルホン酸
などの酸性条件下に行う０本反応は、溶媒の存在下に行
うもので、ｔ−ブタノール、イソプロパツール、エタノ
ール、メタノールなどのアルコール系溶媒、ジオキサン
、・テトラヒドロフラン、エチルエーテルなどのエーテ
ル系の溶媒を用いることができる、フン化水素酸を用い
て脱保護を行う場合にはアセトニトリルを用いると効率
良く脱保護を行うことができる。
以上のようにして製造された一般式（ＸＩ）で表わされ
る中間体は、以下のようにしてさらにグリシノエクレピ
ンＡ　　Ｃ−Ｄ環部へと導くことができる。
（式中、Ｒは前記と同一の意味を有し、Ｒ’はＣＨｉＯ
Ｒ”（但し、Ｒ′は水素原子　または水酸基の保ｍ基で
ある。）またはＧＯＯＲ’　（但し、Ｒ４は水素原子ま
たはカルボキシル基の保護基である。）を表わし、Ｒ２
はＣ０〜Ｃ６の低級アルキル基、アリール基またはアラ
ルキル基を表わす。）第八工程 本工程は、−１１式（ＸＩ）で表わされる物質と、アセ
チレンジカルボン酸ジエステル（Ｘｌｌ）とをディール
ス・アルダ−（Ｄｉａｌｓ−Ａｌｄｅｒ）反応に付した
後側鎖の水酸基が保護されている場合には保護基を脱保
護し、さらに酸化して得られるカルボン酸をエステル化
することにより、前記一般式（Ｘ１ｍで表わされる　１
．７−シメチルー２．３−ジカルボキシ−７−（２−ア
ルコキシカルボニル−１−メチル−エチル）ビシクロ〔
４゜３．０〕ソナー２．５−ジエンを製造するものであ
る。
ディールス・アルダ−反応には、溶媒の存在は特に必要
ないが、トルエン、ベンゼン、キシレン、デカリンなど
を用いても反応は円滑に進行する。
反応温度は、８０℃〜１５０℃を溶媒によって選択する
ことができる。
脱保護は、水酸基の保護基が、シリルエーテル系の場合
にはフン化水素酸を、トリフェニルメチル基などのエー
テル系の場合には、希硫酸、ｐ−トルエンスルホン酸な
どの酸性条件下に行う０本反応は、溶媒の存在下に行う
もので、ｔ−ブタノール、イソプロパツール、エタノー
ル、メタノールなどのアルコール系溶媒や、ジオキサン
、テトラヒドロフラン、エチルエーテルなどのエーテル
系の溶媒を用いることができる。フッ化水素酸を用いて
脱保護を行う場合には、アセトニトリルを用いると効率
良く脱保護を行うことができる。
酸化は、酸性条件下に行うことが好ましく、例えば、Ｊ
ｏｎｅｓ試薬を用いることができる。
酸化反応は、溶媒の存在下に行うものであり、アセトン
、２−ブタノンなどを用いることができる。
エステル化反応は、中性あるいは、酸性条件下に行うこ
とが望ましく、ジアゾメタンを用いた場合に最も効率良
く反応は進行する。
脱保護、酸化、エステル化の各反応は、−２０℃〜８０
℃にて円滑に進行する。
第九工程 本工程は、一般式（ＸＴＩ＋）で表わされる物質を有機
過酸により酸化し、前記一般式（ＸＩＶ）で表わされる
１、７−シメチルー２．３−ビス（アルコキシカルボニ
ル）−５，６−オキソ−？−＜２−置換−１−メチル−
エチル）ビシクロ（４，３゜０〕ノナ−２−エンを製造
するものである。
本工程において用いられる有機過酸としては、例えば、
メタクロル過安息香酸、過安息香酸、過酢酸などを好適
に使用することができる。
本工程は、溶媒の存在下に行うことが好ましく、例えば
、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、テトラヒドロ
フラン、ジメトキシエタンのごとき、エーテル系の溶媒
、クロロホルム、塩化メチレン、四塩化炭素、などの含
へ口系の溶媒の他、ヘキサン、ベンゼン、酢酸エチルな
どを使用することができる。
本工程は、ｐＨ７に調製した燐酸緩衝液などの緩衝液の
存在下に行うと効率良く反応が進行する。
本反応は、−３０℃〜室温で円滑に進行する。
策士工程 本工程は、前記一般式（ＸＩＶ）で表わされるエポキシ
ドをルイス酸の存在下にメチル基の転位反応に付し、一
般式（１）で表わされる６、７−シメチルー２．３−ビ
ス（アルコキシカルボニル）−５−ヒドロキシ−７−（
２−置換−１−メチル−エチル）ビシクロ（４，３，０
）ノナ−２，９−ジエンを製造するものである。
本工程において用いられるルイス酸としては、例えば、
トリメチルシリルトリフレート、臭化マグネシウム、三
フッ化ホウ素エチルエーテル、ジエチルアルミニウムク
ロリドなどを好適に使用できる。
本工程は、溶媒の存在下に行うものであり、例えば、ジ
メチルエーテル、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジメトキシエタンのごとき、エーテル系の溶媒、ク
ロロホルム、塩化メチレン、四塩化炭素、などの含ハロ
系の溶媒の他、ヘキサン、トルエン、ベンゼンなどをル
イス酸に応じて選択する。
反応は、−７８℃〜１２０℃で円滑に進行する。
さらに弐（１）で表わされる化合物はＲ１およびＲ２が
保護されている場合は脱保護により式（■′）で表わさ
れるカルボン酸に導かれる。
本反応においては水酸化リチウム、水酸化ナトリウム等
のアルカリ金属水酸化物、炭酸ナトリウム、炭酸カリウ
ム等のアルカリ金属炭酸塩等に好適に用いられる。
反応は溶媒の存在下に行われ、水やメタノール、エタノ
ール、【−ブタノール等のアルコール類、テトラヒドロ
フラン、ジオキサン等のエーテル類、およびこれらの混
合物を用いることができる。
反応は一１０℃〜１００℃で円滑に進行する。
以上参考例、実施例及び試験例によりさらにくわしく説
明する。
参考例１ アルゴン雰囲気下、ブテニルマグネシウムプロミドのＴ
ＨＦ溶液（１００ｍ　ｌ、　　０．０７４Ｍ）にＣｕｌ
　　（１，４１ｇ）を加え、−１５℃に冷却下３゜４−
ジメチル−２−シクロベンテノン（４，０８ｇ。
３７ｍｍｏ＋）のＴＨＦ溶液（５０ｍｌ）を１時間かけ
て滴下した０反応液にエーテルを加え、飽和塩化アンモ
ニウム水溶液（１００ｍｌｘ４）と水で洗浄した。有機
層を乾燥後濃縮して得た残さをシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（ヘキサン／エーテル　１０：１）にて精
製し、オイル状の３−（３−ブテニル）−３，４−ジメ
チル−シクロペンタノンを４．５４　ｇ　　（７３，７
％）得た。
ＴＬＣ上のＲｆｉ直：０．２１（ヘキサン／エーテル　
　１０：１） ’Ｈ−ＮＭＦ？　　（ＣＤＣＩ、）：　δ　　０．８９
　　（ｓ。
３Ｈ）、　　１．０２　　（ｄ、３Ｈ，Ｊ＝６Ｈｚ）。
５．０５　　（ｍ、　　２８）、　　５．８３　　（ｍ
、　　ＩＨ）。
参考例２ ３−（３−ブテニル）−３，４−ジメチル−シクロペン
タノン（４，３４ｇ、２６．１ｍｍｏ　＋）をステンレ
ス製耐圧容器中、３時間、３２０℃に加熱した。室温ま
で冷却後、反応混合物をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（ヘキサン／酢酸エチ　２０：１）にて精製し、
オイル状の４．５゜８−トリメチル−２−オキソビシク
ロ（３，３゜０〕オクタンを２．６１　ｇ　（６０，１
％）を得た。
ＴＬＣ上のＲｆ値：０．３２（ヘキサン／酢酸エチル　
２０：１） ’ＨＮＭＲ（ＣＤＣＩ３）　　：　　δ０．８−２．５
（ｍ）。
ＩＲ（ｎｅａｔ）　　４１７４０ｃｍ−’（Ｃ−０）。
参考例３ ４．５．８−トリメチル−２−オキソビシクロ（３，３
，０）オクタン（２，３６６ｇ、　　１４．２ｍｍｏ＋
）を塩化メチレン（３６ｍｌ）に溶解し、０℃にて炭酸
水素ナトリウム（３，５９ｇ、４２．７ｍｍｏｌ）及び
、ｍ−クロル過安４色香酸（３，５５ｇ＋　　２０．６
ｍｍｏ　Ｉ）を加え、室温で２０時間攪拌した０反応液
に塩化メチレンを加え、１０％チオ硫酸ナトリウム水溶
液、飽和重曹水、水の順に洗浄し、乾燥後濃縮した。残
さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／
酢酸エチル１０１）にて精製し、オイル状の５．６．９
＝トリメチル−２−オキサ−３−オキソビシクロ（４，
３，０）ノナンを１．６４２　ｇ　（６３，３％）得た
。
ＴＬＣ上のＲｆ値：０．１３（ヘキサン／酢酸エチル　
１０１） ’ＨＮＭＲ（ＣＤＣＩｓ）：δ１．０（ｓ。
３Ｈ）、１．０２　（ｄ、３Ｈ，Ｊ−６Ｈｚ）。
１．１３　（ｄ、３Ｈ，Ｊ＝６Ｈｚ）、４．０２（ｄ、
ＬＨ，Ｊ＝６Ｈ２）。
ＩＲ（ｎｅａｔ）：１７５０ｃｍ−’（Ｃ−０）。
参考例４ ５、　６．　９−トリメチル−２−オキサ−３−オキソ
ビシクロ（４，３，０）ノナン（１６５■。
０．９０ｍｍｏｌ）をエーテル（８ｍｌ）に溶解し、水
素化アルミニウムリチウム（３８■、１．０ｍ−ｍｏ　
Ｉ）を加え、室温で３時間攪拌した０反応液中に酢酸エ
チル＜０．１ｍ１）を加え３０分間攪拌後水を加え、エ
ーテルにて抽出した。有機層を乾燥後ｔ１ｍし、得られ
たオイル状残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
により精製し、２．５−ジメチル−２−（５−ヒドロキ
シ−１−メチル−プロピル）シクロペンタノールを１４
７■（８７，２％）得た。
’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣＩａ）：δ０．７７　　（ｓ。
３Ｈ）、０．８８　　（ｄ、３Ｈ，、Ｊ−７Ｈｚ）。
１．０３　　（ｄ、３Ｈ，Ｊ−７Ｈ２）、１．１５−２
．１　（ｍ、８Ｈ）、２．７４　　（ｂｓ、２Ｈ）。
３．４７−３．９５　　（ｍ、３Ｈ）。
ＩＲ（ｎｅａ　ｔ）：　３３９０　（ＯＨ）。
２９７０ａａ−’　（ＣＨ）　。
ＭＡＳＳ（ｍ／ｚ）：１８６　　（Ｍ”）　、　　１６
９　　（Ｍ　−０Ｈ）、１６Ｂ。
参考例５ ２．５−ジメチル−２−（５−ヒドロキシ−１メチル−
プロピル）シクロペンタノール（１３４ｍ、　　０．７
２　ｍｍ　ｏ　１　）をアルゴン雰囲気下ＤＭＦ（２ｍ
ｌ）に溶解し、室温で塩化ｔ−プチルジフエニｎｔシラ
７　（２１８ｗ、０．７９ｍｍｏ　ｌ）とイミダゾール
（５ｔｗ、０．７９ｍｍｏ　ｌ）を加え、３時間攪拌し
た０反応液に、エーテルと飽和重曹水を加え、水で洗浄
し乾燥後濃縮した。得られたオイル状の２−（３−（ｔ
−プチルジフェニルシリルオキン）−１−メチル−プロ
ピル）−２，５−ジメチル−シクロペンタノールはＴＬ
Ｃ上単−なスポットを示し精製せずに次の反応に用いた
。２−（３−ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ−１−
メチル−プロピル）−２，５−ジメチル−シクロペンタ
ノールを塩化メチレン（１０ｍｌ）に熔解し、アルゴン
雰囲気下、塩化メチレン中で調製した７等量のＣｏ１１
ｉｎｓ試薬に加えた。１５分間攪拌後エーテルを加え、
析出した不溶物を短いシリカゲルカラムを用いて分離し
た。溶出液を濃縮して得たオイル状残さをシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー（ヘキサン／エーテル　１０：
１）により精製し、２−（３−ｔ−ブチルジフェニルシ
リルオキシ−１−メチル−プロピル）−２，５−ジメチ
ル−シクロペンタノンを２２６■（７４，３％）得た。
ＴＬＣ上のＲｆ値＝０．１８（ヘキサン／エーテル　２
０：１） ’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣ１３＞　　：　　６０．７１　　
（ｄ。
３Ｈ，Ｊ−７Ｈｚ）、　　０．９−１．１５　　（ｍ。
１５Ｈ）、　　３．７　　（ｍ、　　２Ｈ）、　　７．
３−７．５（ｍ、　　６Ｈ）、　　７．５５−７．８　
（ｍ、　　４Ｈ）。
ＩＲ（ｎｅａｔ）　　：２９７０　　（ＣＨ）。
１７３０　　（Ｃ−０）、　　１５９０　　（Ｃ−Ｃ）
。
１　４６０　ｃｍ−’。
参考例６ ２−（３−１−ブチルジフェニルシリルオキシ−１−メ
チル−プロピル）−２，５−ジメチル−シクロペンタノ
ン（３２１ｍｇ、０．７５９ｍｍｏ　１）をアルゴン雰
囲気下、塩化メチレン（２０ｍｌ）に溶解し、２．６−
ジーｔ−ブチルピリジン２４７ｇ、１．２９ｍｍｏ　Ｉ
）と無水トリフロロメタンスルホン酸（３２２ｍｇ、１
．１４ｍｍｏ　Ｉ）を加え、３８℃で２日間攪拌した０
反応液を濃縮して得た残さをシリカゲルカラムクロマト
グラフィー（ヘキサン／エーテル　３０：１）により精
製し、２−　（３−ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ
−１−メチル−プロピル）−２，５−ジメチル−シクロ
ペンタ−１−エン−１−イル　トリフレートを３８０■
（９０，２％）を得た。
ＴＬＣ上のＲｆ値：０．４９（ヘキサン／エーテル　　
２０：１） ’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣ１，）ｉδ０．７６　（ｄ。
３Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ）、１．０６　（ｓ、９Ｈ）。
１．１６　（ｓ、３Ｈ）、１゜７６　（ｓ、３Ｈ）。
３．６−３．８５　　（ｍ、２Ｈ）、７．３−７．５５
（ｍ、６Ｈ）、７．５５−７．８（ｍ、４Ｈ）。
ＩＲ（ｎｅａ　ｔ）　　：　１４１０ｃｍ−’　（Ｓ−
０）　。
ＭＡＳＳ（ｍ／ｚ）：４９７．　３６３．　２６９゜実
施例１ ２−（３−ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ−１−メ
チル−プロピル）−２，５−ジメチル−シクロペンタ−
１−エン−１−イル　トリフレート（１５２Ｎ、０．２
７４ｍｍｏ　１）をアルゴン雰囲気下、ＴＨＦ　（２ｍ
ｌ）に溶解し、塩化リチウム（３５■、０．８３ｍｍｏ
　Ｉ）、テトラキス〔トリフェニルホスフィン〕パラジ
ウム（１０■、３ｍｏ１Ｍ＋）及び、ビニルトリブチル
スズ（１０４ｗｇ、０．３２９ｍｏ　ｌ）を加え、９時
間加熱還流した０反応液にヘキサンを加え、水、１０％
アンモニア水、水の順に洗浄した。有機層を乾燥後濃縮
して得た残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（
ヘキサン／トルエン　１０：１）により精製し、１−　
（３−ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシーｌ−メチル
−プロピル）−１，３−ジメチル−２−エチニル−シク
ロペンタ−２−エンを６４■（６４，０％）得た。
ＴＬＣ上のＲｆ値：　０．２６　（ヘキサン）’Ｈ−Ｎ
ＭＲ（ＣＤＣｌ２　）：δ０．６５　（ｄ。
３Ｈ，Ｊ−７Ｈｚ＞、１．０６　（！１．９Ｈ）。
１．１３　（ｓ、３Ｈ）、１．７５　　（ｓ、３Ｈ）。
３．６−３．８５　（ｍ、２Ｈ）、５．０８　　（ｂｄ
。
ＩＨ，Ｊ＝ｌ　ＩＨｚ）、５．２２　　（ｂｄ、ＬＨ。
Ｊ＝１６．５Ｈｚ）、６．３０　（ｄｄ、ＩＨ，Ｊ＝１
１ａｎｄ１６．５Ｈｚ）、７．３−７．５５（ｍ、６Ｈ
）、７．５５−７．８　（ｍ、４Ｈ）。
［Ｒ（ｎｅａｔ）：１６４０ｃｍ″’（Ｃ−Ｃ）。
ＭＡＳＳ　（ｍ／ｚ）：　３７５，２９７゜１９９゜ 参考例７ ｌ−（３−ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ−１−メ
チル−プロピル）−１，３−ジメチル−２−エチニル−
シクロペンター２−エン（２６７ａｗ。
０．６１７ｍｍｏ　Ｉ）をトルｘン（２ｍｌ）　に？１
ｊＭし、アセチレンジカルボン酸メチル（２７７ａｙｒ
。
・２．４７ｍｍｏ　ｌ）を加え、１２０’ｃで１０時間
攪拌した０反応液を濃縮して得た残さをシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー（ヘキサン／エーテル４：ｌ）に
より精製し、１．７−シメチルー２゜３−ビス（メトキ
シカルボニル）−７−（３−を−ブチルジフェニルシリ
ルオキシ−１−メチル−プロピル）ビシクロ（４，３，
０）ノナ−２，５−ジエンを２９１■（８２，０％）得
た。
ＴＬＣ上のＲｆ値：０．４２（ヘキサン−エーテル２：
１） ｒＲ（ｎｅａｔ）：　１７３０ｃｍ−’　（Ｃ−０）。
ＭＡＳＳ　（ｍ／ｚ）：　５４３　（Ｍ”−ＯＭｅ）。
５１７．５０１゜ 参考例日 １．７−シメチルー２．３−ビス（メトキシカルボニル
）−７−（３−ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ−１
−メチル−プロピル）ビシクロ（４，３，０）ノナ−２
，５−ジエン（１７０■。
０．３０ｍｍｏｌ）を４％弗化水素含有アセトニトリル
（２ｍｌ）に溶解し、３℃で３日間攪拌した。
反応液中に、エーテルを加え、水にて洗浄後、乾燥、濃
縮した。得られたオイル状残さをシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー（ヘキサン／エーテル　１：１）により
精製し、１．７−シメチルー２．３−ビス（メトキシカ
ルボニル）−７−（３−ヒドロキシ−１−メチル−プロ
ピル）ビシクロ（４，３，０）ノナ−２，５−ジエンを
７６■（７６，４％）得た。
ＴＬＣ上のＲｆ値：０．１５（ヘキサン／エーテル　　
１　：　１） ’ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ２）：δ０．９０　（Ｓ。
３Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ）、１．０１　　（ｓ、３Ｈ）。
１．１９　（ｓ、３Ｈ）、２．９７　　（ｄ、ＩＨ，Ｊ
＝２Ｈｚ）、３．１４　（ｄ、ＬＨ，Ｊ−６Ｈｚ）。
３．７６ａｎｄ３．８２　（２ｓ、２Ｘ３Ｈ）。
５．５０　　（ｃｌａ、　　ＩＨ，Ｊ＝６ａｎｄ１．５
Ｈ２）。
ＩＲ（ｎｅａｔ）　　：３４５０　　（○Ｈ）、１７２
５ｃｎ−’　　（Ｃ＝０）。
ＭＡＳＳ　　（ｍ／ｚ）　　：　　３３６　　（Ｍ’）
、　　３２　１゜３０５、　２８９゜ 参考例９ Ｃ１１３ＣｘＪＣ １，７−シメチルー２，３−ビス（メトキシカルボニル
）−７−（３−ヒドロキシ−１−メチル−プロピル）ビ
シクロ（４，３，０）ノナ−２，５−ジエン（５９ｍ、
０．１７５ｍｍｏ　ｌ）をアセトン（３ｍｌ）に溶解し
、０℃に冷却下、攪拌しながら８ＮのＪｏｎｅｓ試薬（
１５０ｐｌ、５当ｉｔ）を滴下した。５０分間撹拌した
後イソプロピルアルコールを数滴加え更に５分間攪拌し
、エーテルにて抽出した。有機層を水にて洗浄したのち
０℃に冷却し、過剰のジアゾメタンのエーテル溶液を加
え、１時間攪拌した０反応液を濃縮して得たオイル状残
さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／
エーテル　２：１）により精製し、１．７−シメチルー
２．３−ビス（メトキシカルボニル）−７−（２−カル
ボキシメチル−１−メチル−エチル）ビシクロ（４，３
，０）ノナ−２゜５−ジエンを４３ｓ＋ｒ（６７，３％
）得た。
ＴＬＣ上のＲｆ値１．５３（ヘキサン／エーテル　　１
　：　１） ’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣＩ３）：δ０．９５　　（ｄ。
３Ｈ，Ｊ＝６Ｈｚ）、１．０１　　（ｓ、３Ｈ）。
１．２２　（ｓ、３Ｈ）、２．９７　（ｄ、ＬＨ，Ｊ＝
２Ｈｚ）、３．１３　（ｄ、ＬＨ，Ｊ−６Ｈｚ）。
３．６９，３．７６ａｎｄ３．８３　（３ｇ、３ｘ３Ｈ
）、５．５２　　（ｄｄ、　　ＩＨ，Ｊ＝６ａｎｄ１．
５Ｈｚ）。
ＩＲ（ｎｅａｔ）　　：１７３５　　（Ｃ−０）。
１６３０　　（Ｃ＝Ｃ）、　　１２６０Ｃ１ｍ−’　　
（Ｃ−０）。
ＭＡＳＳ　　（ｍ／ｚ）　　：　　３４９　　（Ｍ”−
１５）。
３３３、　３１８．　３１７゜ 参考例１０ ＣＩ−１，ＣすＣ １，７−シメチルー２，３−ビス（メトキシカルボニル
）−７−（ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ−１−メ
チル−プロピル）ビシクロ（４，３゜０］ノナ−２，５
−ジエン（８９■、０．１５５ｍｍｏｌ）を塩化メチレ
ン（２ｍｌ）に溶解し、０．５Ｍ　　ＮａＨｆＰＯ４（
０，５ｍ１）及び、０．５ＭＮ　ａ　ｍＨＰ　Ｏ＜　（
０，５ｍ　ｌ　）の存在下にｍ−クロル過安息香酸（３
２＊、０．１８５ｍｍｏ　ｌ）を加え、室温で２日間攪
拌した。　反応液中に１０％チオ硫酸ナトリウムを加え
て３０分間攪拌した後、塩化メチレンを加え、飽和重曹
水、水にて洗浄した。有ＪａＮを乾燥後濃縮して得た残
さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／
エーテル　４：ｌ）により精製し、１．７−シメチルー
２．３−ビス（メトキシカルボニル）−５，６−オキソ
−７−（５−ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ−１−
メチル−プロピル）ビシクロ（４，３゜０〕ノナ−２−
エンを２６■（２８，４％）得た。
ＴＬＣ上（７）Ｒｒ値：０．２９（ヘキサン／エーテル
２：１） ’Ｈ−ＮＭＩ？　（ＣＤＣＩり：５０．７０　（ｄ。
３’Ｈ，Ｊ−７Ｈｚ）、１．０４　（ｓ、９Ｈ）。
１．２７　（ｓ、３Ｈ）、１．５３　（ｓ、３Ｈ）。
２．７６　　（ｂｓ、　　２Ｈ）、　　３．４０　　（
ｂｓ、　　ＩＨ）。
３．７４ａｎｄ３．７９　　（２ｓ、　　６Ｈ）、　　
７．３−７．５５　　（ｍ、　　６Ｈ）、　　７．５５
−７．８　　（ｍ。
４Ｈ）。
参考例１１ １．７−シメチルー２．３−ビス（メトキシカルボニル
）−７−（２−メトキシカルボニル−１−メチル−エチ
ル）ビシクロ（４，３，０）ノナ−２，５−ジエン（４
３ｗ、０．１１２ｍｍｏ　１）を塩化メチレン（２ｍ　
ｌ　）に溶解し、０．５ＭＮ　ａ　ＨｉＰ　Ｏｓ　（０
，５ｍ　ｌ　）及び、０．５ＭＮａｔＨＰＯａ　（０，
５ｍ１）の存在下にｍ−クロル過安息香酸（４１ｍ＋ｒ
、０．２３８ｍｍｏ　りを加え、５℃で７日間攪拌した
０反応液中に１０％チオ硫酸ナトリウムを加えて３０分
間攪拌した後、塩化メチレンを加え、水にて洗浄した。
有機層を乾燥後濃縮して得た残さをシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー（ヘキサン／エーテル　２：ｌ）によ
り精製し、１．７−シメチルー２．３−ビス（メトキシ
カルボニル）−５，６−オキソ−７−（２−メトキシカ
ルボニル−１−メチル−エチル）ビシクロ（４，３，０
）ノナ−２−エンを９■（２０，１％）得た。
ＴＬＣ上のＲｒ値＝０．３５（へキサン／エーテル１：
１） ’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ２）：δ０．９０　（ｄ。
３Ｈ，Ｊ−５Ｈｚ）、１．０４　（ｓ、３Ｈ）。
１．２９　（ａ、３Ｈ）、３．４８　（ｄａ、ＩＨ。
Ｊ−３ａｎｄ０．５Ｈｚ）、３．６９，３．７６ａｎｄ
３．８０　（３ｇ、３ｘ３Ｈ）。
ＩＲ（ｎｅａｔ）　　：１７３０　　（Ｃ−０）。
１６５０　　（Ｃ−Ｃ）、　　１２６０　　（Ｃ−０）
。
１　０５０ｃｍ−’　　（Ｃ−０＞　　。
ＭＡＳＳ　　（ｍ／ｚ）　　：　３８０　　（Ｍ”）、
　　３４９゜３２０、　３１７．　２４７゜ 参考例１２ Ｃ１ｉ３００Ｃ １，７−シメチルー２．３−ビス（メトキシカルボニル
）−５，６−オキソ−７−（５−ｔ−ブチルジフェニル
シリルオキシ−１−メチル−プロピル）ビンクロ（４，
３，０）ノナ−２−エン（２６ｑ、０．０４４ｍｍｏ　
Ｉ）を塩化メチレン（ｌ　ｍ　ｌ　）に溶解し、０℃に
冷却下、トリメチルシリルトリフレート（８，５，ｌｊ
　１．０．０４４ｍｍｏ　ｌ）を加え、３０分間攪拌し
た。反応液に飽和重曹水と塩化メチレンを加え、有機層
を水で洗浄した後、乾燥、濃縮して得た残さをＰＴＬＣ
（ヘキサン／エーテル　１：１）により精製し、６．７
−ジメチル＝２．３−ヒス（メトキシカルボニル）−５
−ヒドロキシ−７−（５−１−ブチルジフェニルシリル
オキシ−１−メチル−プロピル）ビシクロ［４，３゜０
］ノナ−２，９−ジエンを１■（３，８％）得た。・’
Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣＩｓ）：δ１．０４　（ｓ。
９Ｈ）、１．２７　（ｓ、３Ｈ）、３．７７ａｎｄ３．
８３　（２ｇ、６Ｈ）、５．８５　（ｂｓ、ＬＨ）。
７．３−７．５５　（ｍ、６Ｈ）、７．５５−７．８（
ｍ、４Ｈ）。
参考例１３ ＣＯＯＣＩ（３ １，７−シメチルー２．３−ビス（メトキシカルボニル
）−５，６−オキソ−７−（２−メトキシカルボニル−
１−メチル−エチル）ビシクロ〔４゜３．０］ノナ−２
−エン（５ｗ、０．０１３ｍｍｏ　１）を塩化メチレン
（０，５ｍ１）に溶解し、０℃に冷却下、トリメチルシ
リルトリフレートの塩化メチレン溶液（０，０５Ｎ、２
９０μｌ、０．０１４ｍ−ｍｏ＋）を加え、３０分間攪
拌した０反応液に飽和重曹水と塩化メチレンを加え、有
機層を水で洗浄した後、乾燥、濃縮して得た残さをＰＴ
ＬＣ（トルエン／酢酸エチル　４：１）により精製し、
６．７−シメチルー２．３−ビス（メトキシカルボニル
）−５−ヒドロキシ−７−（２−メトキシカルボニル−
１−メチル−エチル）ビシクロ〔４゜３．０〕ノナ−２
，９−ジエンを１■（２０％）得た。
ＴＬＣ上のＲｆ値：０．４０（トルエン／酢酸エチル　
４：１） ’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣＩり：δ０．９４　（ｄ。
３Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、０．９６　（ｓ、３Ｈ）。
１．２４　（ｓ、３Ｈ）、３．６４，３．７３ａｎｄ３
．８１　　（３ｓ、３Ｘ３Ｈ）、６．６４　（ｄ。
ＩＨ，Ｊ＝３Ｈｚ）　。
ＩＲ（ｎｅａｔ）：３４５０　（ＯＨ）。
１７３０　（Ｃ＝Ｏ）、１２５０ｃｍ−’　（Ｃ−０）
。
ＭＡＳＳ　（ｍ／ｚ）：３８１　　（Ｍ＋１”）。
３４９．３３３，３１７．２８０，２７９゜参考例１４ ６．７−シメチルー２，３−ビス（メトキシカルボニル
）−５−ヒドロキシ−７−（２−メトキシカルボニル−
１−メチル−エチル）ビシクロ〔４゜３．０〕ノナ−２
，９−ジエン（２■、ｏ、ｏｏｓｍｍｏｌ）をメタノー
ル（０，６ｍ１）に溶解し、水冷下、水酸化リチウム水
溶液（０，３Ｎ、０．３ｍ１）を加えて９時間攪拌した
０反応液をイオン交換樹脂Ｄｏｗｅｘ５０　　（Ｈ”）
にて中和し、イオン交換樹脂を濾別した後、濾液を濃縮
して６．７−シメチルー２．３−カルボキシ−５−ヒド
ロキシ＝７−（２−カルボキシ−１−メチル−エチル）
ビシクロ〔４，３，０〕ノナ−２，９−ジエンを２■（
ｑｕａｎｔ）得た０本物質はＴＬＣ（アセトニトリル／
水　５：１）主車−なスポット（Ｒｆ−０，７）を与え
、更に精製することなく活性試験に供した。
試験例１ ダイズシスト線虫のシストを１ｏ日間２５℃で蒸留水に
浸漬後、卵を取り出し、蒸留水中約１００個／ｍｌに調
製した。
この線虫卵を前記参考例、実施例のごとく製造した６、
７−シメチルー２．３−カルボキシ−５−ヒドロキシ−
７−（２−カルボキシ−１−メチル−エチル）ビシクロ
（４，３，０）ノナ−２゜９−ジエンの水溶液（１０−
’〜１０−”ｇ／ｍ　ｌ）の存在下に２５℃でｌＯ日間
培養した。尚、対照用に蒸留水のみでの培養を行った。
４化した幼虫および、卿化せずに残った卵の個体数を顕
微鏡下に数え、全個体数に対するＭ化した幼虫のυｊ合
をＰＬ、同じく蒸留水中での卿化率をｐｗとした。
試駆の結果、６，７−シメチルー２．３−ジカルボキシ
−５−ヒドロキノ−７−（２−カルボキシ−１−ノナル
ーエチル）ビシクロ（４，３，０）ノナ−２，９−ジエ
ンは１０−＠ｇ／ｍｌでｐｔ−４３％の活性を示したの
に対し、Ｐｗは２２％であった。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. （１）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中Ｒは水素原子または水酸基の保護基である。 で表わされる１，３−ジメチル−２−エテニル−３−（
    ３−オキシ−１−メチルプロピル）シクロペンテン類。
JP62049936A 1987-03-06 1987-03-06 新規ビニルシクロペンテン類 Pending JPS63216837A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP62049936A JPS63216837A (ja) 1987-03-06 1987-03-06 新規ビニルシクロペンテン類

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP62049936A JPS63216837A (ja) 1987-03-06 1987-03-06 新規ビニルシクロペンテン類

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS63216837A true JPS63216837A (ja) 1988-09-09

Family

ID=12844908

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP62049936A Pending JPS63216837A (ja) 1987-03-06 1987-03-06 新規ビニルシクロペンテン類

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS63216837A (ja)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Lewis et al. Reaction of α-Pinene Oxide with Zinc Bromide and Rearrangement of 2, 2, 3-Trimethyl-3-cyclopentene Products Derived Therefrom1
EP0040517B1 (en) Homobrassinolide and its synthesis
EP0045118A2 (en) Intermediates for the synthesis of bicyclo (2,2,1) heptanes and bicyclo (2,2,1) hept-2Z-enes
Suzuki et al. Ascotoxin (Decumbin), a Metabolite of Ascochyta imperfecta PECK.
US3793375A (en) Process for producing polyene compounds
JPS63216837A (ja) 新規ビニルシクロペンテン類
Voyle et al. Quassinoids. 1. Attempted intramolecular Diels-Alder approach for assembling the ABCD rings
CA1149402A (en) Total synthesis of (1rs,4sr,5rs)-4- (4,8-dimethyl-5-hydroxy-7-nonenyl) -4-methyl-3,8-dioxabicyclo ¬3.2.1| octane-1-acetic acid
Paruch et al. Synthesis of spirolactones from the limonene system
EP0006355B1 (en) Mixed anhydride steroid intermediate and process for preparing steroid intermediates
AU739303B2 (en) Method for the synthesis of taxanes
EP0822191B1 (en) Preparation of intermediates for norlabdane oxide
CH626096A5 (ja)
Mori et al. Pheromone Synthesis, CXL. Synthesis of Four Macrolide Pheromones to Define the Scope and Limitation of Enzymatic Macrolactonization
US4181683A (en) 1,7-Octadien-3-one and process for preparing the same
JPS63216841A (ja) 新規ビシクロ〔４．３．０〕ノナ−２−エン類
JPS63216842A (ja) 新規ヒドロキシビシクロ〔４．３．０〕ノナ−２，９−ジエン類
US4046760A (en) Process for preparing 1-α-hydroxy cholesterol derivatives
US3281440A (en) Fluorinated vitamin a compounds
DE2347172A1 (de) Prostaglandin e tief 1-synthese
AU2002253387B2 (en) Uncatalysed addition reactions
US3845088A (en) Cyclopentane or cyclohexane substituted unsaturated hydrocarbon esters having juvenile hormone activity
US4103091A (en) Method for the preparation of prostaglandin intermediates from a mold metabolite
EP0041661A2 (de) Neues Verfahren zur Herstellung von Carbacyclin-Zwischenprodukten
Kelly Synthesis of (+-)-nor-ketoagarofuran