JPS63213670A - Production of wear resistant article having tungsten carbide layer - Google Patents

Production of wear resistant article having tungsten carbide layer

Info

Publication number
JPS63213670A
JPS63213670A JP4609787A JP4609787A JPS63213670A JP S63213670 A JPS63213670 A JP S63213670A JP 4609787 A JP4609787 A JP 4609787A JP 4609787 A JP4609787 A JP 4609787A JP S63213670 A JPS63213670 A JP S63213670A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
tungsten carbide
metal
carbide layer
tungsten
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP4609787A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Katsuyoshi Sumiya
角谷 勝嘉
Kenichi Tamura
賢一 田村
Tadashi Takano
正 高野
Atsumi Nakao
中尾 敦巳
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mazda Motor Corp
Original Assignee
Mazda Motor Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mazda Motor Corp filed Critical Mazda Motor Corp
Priority to JP4609787A priority Critical patent/JPS63213670A/en
Publication of JPS63213670A publication Critical patent/JPS63213670A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

PURPOSE:To prevent the peeling of a WC layer formed on each of metal parts, by mechanically polishing the surfaces of the metal parts, electropolishing them and depositing WC by chemical vapor deposition when wear resistant metal parts each having a WC layer are produced. CONSTITUTION:When a very hard WC layer having superior wear resistance is formed on the surface of each of machine parts made of a metal by chemical vapor deposition, the surfaces of the parts are made as smooth as possible by mechanical polishing such as buffing. The surfaces are then cleaned, degreased with an alkali soln. or the like and electropolished. By this electropolishing, small acute edges remaining after the mechanical polishing are removed and entirely very smooth surfaces are formed. The resulting surfaces of the metal parts 31 are chemically plated with Ni 32 and a WC layer 34 is formed on each of the plated surfaces by chemical vapor deposition after a W layer 33 is formed as required. The hard WC layer 34 having superior adhesion to each of the metal parts 31 can be stably formed.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はタングステンカーバイト層を有する耐摩耗性物
品の製造方法に関し、特に耐久性に優れたタングステン
カーバイト層を形成するようにした製造方法に関するも
のである。
[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to a method for manufacturing a wear-resistant article having a tungsten carbide layer, and particularly a manufacturing method for forming a tungsten carbide layer with excellent durability. It is related to.

〔従来技術〕[Prior art]

従来、各種機械部品(ゲージ類・軸受など)、合成樹脂
成形機械部品(スクリュー・シリンダ・プランジャーな
ど)、セラミック成形工具(スクリュー・シリンダ・モ
ールド金型など) 、AI押出し工具(各種ダイ)及び
熱間成形工具(鋳込ピン・中子・金型など)等々の金属
製機械部品には、その表面に化学蒸着(CVD)により
TiCやタングステンカーバイトの耐摩耗性被膜を形成
したものが用いられつつある。
Conventionally, various mechanical parts (gauges, bearings, etc.), synthetic resin molded machine parts (screws, cylinders, plungers, etc.), ceramic molding tools (screws, cylinders, molds, etc.), AI extrusion tools (various dies), and Metal mechanical parts such as hot forming tools (casting pins, cores, molds, etc.) are coated with a wear-resistant coating of TiC or tungsten carbide on their surfaces by chemical vapor deposition (CVD). It's starting to get worse.

特に、タングステンカーバイトは約600℃以下の比較
的低温のCVDにより形成できるので鉄系金属部品は勿
論のこと、AfやCuなどの低融点金属部品にも適用で
き、また熱歪を嫌う精密部品にも適用できるという長所
がある。
In particular, tungsten carbide can be formed by CVD at a relatively low temperature of about 600°C or less, so it can be applied not only to ferrous metal parts but also to low-melting metal parts such as Af and Cu, and precision parts that are sensitive to thermal distortion. It has the advantage that it can also be applied.

上記タングステンカーバイト層を金属部品の表面に形成
する技術として、例えば、特開昭52−89583号公
報には、鋼製基材の表面にニッケルリンメッキ層を有し
、このニッケルリンメッキ層の表面にタングステンカー
バイト層またはタングステンとタングステンカーバイト
の混合物の層を有するダイス型及びその製造方法が記載
されている。
As a technique for forming the above-mentioned tungsten carbide layer on the surface of metal parts, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 52-89583 discloses a technique in which a nickel phosphorus plating layer is formed on the surface of a steel base material. A die mold having a tungsten carbide layer or a layer of a mixture of tungsten and tungsten carbide on its surface and a method for manufacturing the same are described.

一方、本願出願人は特願昭61−29370号においで
、タングステン層及びタングステンカーバイト層を有す
る耐摩耗性物品の製造方法を提案した。
On the other hand, the applicant of the present application proposed a method for manufacturing a wear-resistant article having a tungsten layer and a tungsten carbide layer in Japanese Patent Application No. 61-29370.

これら従来技術においては、一般に金属部品の表面をパ
フ等で機械研削してからその表面にニッケルリンメッキ
を施し、そのニッケルリンメッキ層の表面に化学蒸着に
よりタングステンカーバイト層(或いはタングステン層
とタングステンカーバイト層)を形成している。
In these conventional techniques, the surface of the metal part is generally mechanically ground with a puff or the like, then nickel phosphorus plating is applied to the surface, and a tungsten carbide layer (or a tungsten layer and tungsten layer) is formed on the surface of the nickel phosphorus plating layer by chemical vapor deposition. carbide layer).

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

上記従来技術により製造したタングステンカーバイト層
を有する耐摩耗性物品においては、第4図に示すように
金属基材100の表面にニッケルリンメッキ層101が
数μmの厚さに形成され、そのメッキN101の表面に
例えば10〜20μmの厚さのタングステンカーバイト
層102が形成されている。この耐摩耗性物品表面の構
造についてミクロに観察すると、金属表面の微少凸部は
機械研削により概ね滑らかに研削されるけれども、微少
凹部は機械研削により殆んど研削されず、多数の尖鋭な
エツジ部が残っている。そのため、耐摩耗性物品の使用
中に応力や衝撃が作用すると、上記エツジ部からタング
ステンカーバイト層102にクラックが生じそのクラッ
クからタングステンカーバイト層102が剥離し始め、
タングステンカーバイト層102の耐久性つまり耐摩耗
性物品の耐久性が低下するという問題がある。
In the wear-resistant article having a tungsten carbide layer manufactured by the above-mentioned conventional technique, a nickel phosphorus plating layer 101 is formed with a thickness of several μm on the surface of a metal base material 100, as shown in FIG. A tungsten carbide layer 102 having a thickness of, for example, 10 to 20 μm is formed on the surface of N101. A microscopic observation of the structure of the surface of this wear-resistant article shows that although minute protrusions on the metal surface are generally ground smoothly by mechanical grinding, minute depressions are hardly ground by mechanical grinding, and many sharp edges are formed. There are parts left. Therefore, when stress or impact is applied during use of the wear-resistant article, cracks occur in the tungsten carbide layer 102 from the edge portions, and the tungsten carbide layer 102 begins to peel off from the cracks.
There is a problem that the durability of the tungsten carbide layer 102, that is, the durability of the wear-resistant article decreases.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

本発明に係るタングステンカーバイト層を存する耐摩耗
性物品の製造方法は、全屈製部品の金属表面を機械研削
し、その金属表面を電解研摩処理し、その金属表面に化
学蒸着によりタングステンカーバイト層を形成するもの
である。
The method of manufacturing a wear-resistant article having a tungsten carbide layer according to the present invention includes mechanically grinding the metal surface of a fully bent part, electrolytically polishing the metal surface, and depositing tungsten carbide on the metal surface by chemical vapor deposition. It forms a layer.

〔作用〕[Effect]

本発明に係るタングステンカーバイト層を有する耐摩耗
性物品の製造方法においては、先ず金属部品の金属表面
を機械研削すると、この機械研削によって金属表面の比
較的大きな凸部やエツジ部が研磨されて金属表面は概ね
滑らかになる。次にその金属表面を電解研摩処理すると
、機械研削で研削されずに金属表面の凹部などに残存し
ていた尖鋭なエツジ部が研摩され金属表面の全表面が滑
らかになる。このように、機械研削と電解研摩により金
属表面を十分に滑らかに研摩してからその表面にタング
ステンカーバイト層を形成するので、タングステンカー
バイト層にクランクが生しにくくなりタングステンカー
バイト層の耐剥離性及び耐久性が向上する。加えて、機
械研削により概ね滑らかに研削後電解研摩するので電解
研摩の処理時間は比較的短かくてもよい。
In the method of manufacturing a wear-resistant article having a tungsten carbide layer according to the present invention, first, the metal surface of the metal component is mechanically ground, and this mechanical grinding polishes relatively large protrusions and edges on the metal surface. The metal surface becomes generally smooth. Next, when the metal surface is subjected to electrolytic polishing, the sharp edges remaining in the recesses of the metal surface that were not ground by mechanical grinding are polished away, and the entire surface of the metal surface becomes smooth. In this way, the tungsten carbide layer is formed on the metal surface after the metal surface is sufficiently smoothed by mechanical grinding and electrolytic polishing, making it difficult for cranks to form on the tungsten carbide layer and increasing the durability of the tungsten carbide layer. Improves removability and durability. In addition, since electrolytic polishing is performed after mechanical grinding to achieve a generally smooth surface, the processing time for electrolytic polishing may be relatively short.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本発明に係るタングステンカーバイト層を有する耐摩耗
性物品の製造方法によれば、以上説明したように、金属
部品の表面を機械研削後更に電解研摩して金属部品の表
面からエツジ部をなくし、そのエツジ部のない滑らかな
金属表面にタングステンカーバイト層を形成するので、
耐剥離性に優れたタングステンカーバイト層を形成する
ことが出来、耐久性に優れた耐摩耗性物品を製造するこ
とが出来る。
According to the method for manufacturing a wear-resistant article having a tungsten carbide layer according to the present invention, as explained above, the surface of the metal part is mechanically ground and then electrolytically polished to eliminate edges from the surface of the metal part, Since a tungsten carbide layer is formed on the smooth metal surface without edges,
A tungsten carbide layer with excellent peeling resistance can be formed, and a wear-resistant article with excellent durability can be manufactured.

〔実施例〕〔Example〕

以下、本発明の実施例について図面に基いて説明する。 Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

本実施例は、例えば合金工具鋼(SKDII)を金属基
材とする筒状の金属部品P(第2図参照)の筒孔内周面
にタングステン層とタングステンカーバイト層とからな
る耐摩耗層を有する耐摩耗性物品を製造する場合の実施
例である。
In this embodiment, a wear-resistant layer consisting of a tungsten layer and a tungsten carbide layer is formed on the inner peripheral surface of a cylindrical hole of a cylindrical metal part P (see Fig. 2) whose metal base material is, for example, alloy tool steel (SKDII). This is an example of manufacturing a wear-resistant article having the following characteristics.

第1工程において、金属部品Pの筒孔内周面を含む全表
面をパフにより機械的に研削し、その金属表面を滑らか
に研削する。このように機械研削を施すと、金属表面の
大きなエツジ部(尖鋭な突起状部分)が確実に除去され
、金属表面が概ね滑らかなるが微少な凹部には未だ比較
的小さなエツジ部が残る。上記機械研削を施すことによ
り後述の電解研摩で除去できないような大きなエツジ部
や痕を除去しまた電解研摩の処理時間を短縮することが
出来る。この機械研削後、金属部品Pの全表面を清掃し
脱脂処理する。
In the first step, the entire surface of the metal part P, including the inner circumferential surface of the cylindrical hole, is mechanically ground using a puff to smooth the metal surface. When mechanical grinding is performed in this manner, large edges (sharp protrusions) on the metal surface are reliably removed and the metal surface becomes generally smooth, but relatively small edges still remain in minute recesses. By performing the mechanical grinding described above, large edges and marks that cannot be removed by electrolytic polishing described later can be removed, and the processing time for electrolytic polishing can be shortened. After this mechanical grinding, the entire surface of the metal part P is cleaned and degreased.

第2工程において、上記金属部品Pを電解研摩処理し、
これにより金属部品Pの全表面のエツジ部を除去し滑ら
かにする。
In the second step, the metal part P is electrolytically polished,
As a result, edges on the entire surface of the metal part P are removed and smoothed.

この場合、例えば第1図に示すような電解研摩処理装置
Eを用いて処理する。この電解研摩処理装置Eは、研摩
槽1の外側に冷却水槽2を設け、研摩槽1の内部に電気
ヒータ3、攪拌器4、温度計5及び陰極板6を設け、研
摩槽1の内部に金属部品Pを吊持配設し、研摩槽1内に
下記の研摩用電解液を収容し、直流電源7の「−」端子
を陰極板6に接続するとともに「+」端子を可変抵抗8
及び電流計9を介して金属部品Pに接続したものである
In this case, for example, an electrolytic polishing apparatus E as shown in FIG. 1 is used. This electrolytic polishing treatment apparatus E is provided with a cooling water tank 2 outside the polishing tank 1, an electric heater 3, a stirrer 4, a thermometer 5, and a cathode plate 6 inside the polishing tank 1. A metal part P is suspended, the following polishing electrolyte is stored in the polishing tank 1, the "-" terminal of the DC power supply 7 is connected to the cathode plate 6, and the "+" terminal is connected to the variable resistor 8.
and is connected to the metal part P via an ammeter 9.

上記研摩用電解液としては、鉄系の金属部品Pを処理す
る場合、例えば硫酸50cc、水酸化第2鉄5g、硫酸
第1鉄1g及び重クロム酸カリ0.5gの混合比率から
なる所定量の電解液を用いる。
When treating iron-based metal parts P, the polishing electrolyte is used in a predetermined amount consisting of, for example, 50 cc of sulfuric acid, 5 g of ferric hydroxide, 1 g of ferrous sulfate, and 0.5 g of potassium dichromate. electrolyte solution is used.

上記電解研摩処理するときには、ヒータ3を作動させる
とともに冷却水を循環させ乍ら電解液の液温を約60〜
1)0°Cに保持した状態で、直流電源7から通電して
陰極板6と金属部品P間の電流密度を約35〜500 
A / d triとし、約10〜20秒間処理する。
When carrying out the electrolytic polishing process, the heater 3 is operated and the cooling water is circulated to raise the temperature of the electrolytic solution to about 60 - 60°C.
1) While maintaining the temperature at 0°C, apply electricity from the DC power supply 7 to increase the current density between the cathode plate 6 and the metal part P to approximately 35 to 500°C.
A/d tri and process for approximately 10-20 seconds.

上記電解処理時、金属部品Pの表面のエツジ部の電流密
度が高くなることからエツジ部がイオン化して溶解し金
属部品Pの全表面のエツジ部が除去されることになる。
During the electrolytic treatment, the current density at the edge portion of the surface of the metal part P becomes high, so the edge portion is ionized and melted, and the edge portion of the entire surface of the metal part P is removed.

上記のように、電解研摩を施すことにより、機械研削で
生じた微少凹凸(パフ研削したときのパフ目など)、機
械研削で研摩できなかった凹部のエツジ部や痕などを確
実に除去することができ、複雑な形状の金属部品Pに対
しても完全に研摩することができる。
As mentioned above, by applying electrolytic polishing, it is possible to reliably remove minute irregularities caused by mechanical grinding (such as puff marks during puff grinding), edges and marks of concave parts that could not be polished by mechanical grinding. It is possible to completely polish even metal parts P with complicated shapes.

尚、アルミ合金製の金属部品を処理する場合には、研摩
用の電解液として、例えばリン酸50cc、寒天1g及
びカセイソーダ0.5gの混合比率からなる電解液を用
いればよい。
In addition, when processing metal parts made of aluminum alloy, an electrolytic solution consisting of, for example, 50 cc of phosphoric acid, 1 g of agar, and 0.5 g of caustic soda may be used as the polishing electrolyte.

第3工程において、上記金属部品Pの表面に約2〜15
μmの無電解ニッケルリンメッキ層を形成する。このメ
・ツキ層を形成する技術は広く実用化されている周知の
ニッケルリンメッキ処理技術によって行なえばよく、こ
こではその詳細については説明を省略する。但し、ニッ
ケルリンメッキ層に代えてニッケル単体のメッキ層或い
はNi −Bメッキ層を形成してもよい。
In the third step, approximately 2 to 15
An electroless nickel phosphorus plating layer of μm thickness is formed. The technique for forming this metal layer may be a well-known nickel phosphorous plating technique that is widely used in practice, and detailed explanation thereof will be omitted here. However, instead of the nickel phosphorus plating layer, a nickel plating layer or a Ni-B plating layer may be formed.

第4工程において、上記金属部品Pをタングステンカー
バイト層形成用低温CVD装置により処理し、その金属
部品Pの筒孔の内周面にタングステン層とタングステン
カーバイト層を形成する。
In the fourth step, the metal part P is treated with a low-temperature CVD apparatus for forming a tungsten carbide layer, and a tungsten layer and a tungsten carbide layer are formed on the inner peripheral surface of the cylindrical hole of the metal part P.

ここで、上記低温CVD装置について簡単に説明する。Here, the above-mentioned low-temperature CVD apparatus will be briefly explained.

この低温CVD装置は、第2図に示すようにレトルト本
体10とその外周側を覆う断熱容器1)とからなるレー
トルト12 (反応炉)と、Arガス供給源13とWF
6供給源14とCbHb供給源15とH2ガス供給源1
6などからなる原料ガス供給系と、真空ポンプ17によ
りレトルト本体10内の処理室を減圧する吸引系と、水
運ポンプ18とガス精製器19とからなり処理室からガ
スを排出するガス排出系とを備え、レトルト本体10内
の上段・中段・下段位置には夫々被処理物としての金属
部品Pを保持し且つそれらの外周側を覆う遮蔽部材20
が設けられている。各遮蔽部材20には実際には複数の
金属部品Pがセットされ、各金属部品Pの筒孔を通して
処理ガスが流れるようになっている。尚、図中符号21
はガス混合器である。
As shown in FIG. 2, this low-temperature CVD apparatus includes a retort 12 (reactor) consisting of a retort main body 10 and a heat insulating container 1 covering the outer circumference of the retort, an Ar gas supply source 13, and a WF
6 supply source 14, CbHb supply source 15, and H2 gas supply source 1
6, etc., a suction system that reduces the pressure in the processing chamber in the retort main body 10 using a vacuum pump 17, and a gas exhaust system that exhausts gas from the processing chamber, consisting of a water transport pump 18 and a gas purifier 19. At the upper, middle, and lower positions in the retort main body 10, there are shielding members 20 that hold metal parts P as objects to be processed and cover their outer peripheries.
is provided. A plurality of metal parts P are actually set in each shielding member 20, and the processing gas flows through the cylindrical hole of each metal part P. In addition, the reference numeral 21 in the figure
is a gas mixer.

上記低温CVD装置を用いて金属部品Pの筒孔の内周面
に化学蒸着によりタングステン層とタングステンカーバ
イト層を形成する場合、先ず真空ポンプ17で吸引して
処理室を約10〜50T。
When forming a tungsten layer and a tungsten carbide layer by chemical vapor deposition on the inner circumferential surface of the cylindrical hole of the metal part P using the low-temperature CVD apparatus, first, the vacuum pump 17 is used to suction the processing chamber to a pressure of about 10 to 50 T.

rrに減圧することにより気相反応の妨げとなる空気を
極力除去するとともに誘導コイルllaに通電して金属
部品Pを約300〜600℃に加熱する。そして、バル
ブ22・27を開きArガス供給源13からのArガス
をガス供給本管28とガス供給管28aにより処理室内
へ少量ずつ供給しつつ水運ポンプ18を作動させて処理
室内の空気をArガスで還換する。
By reducing the pressure to rr, as much air as possible that would interfere with the gas phase reaction is removed, and the metal part P is heated to approximately 300 to 600°C by energizing the induction coil lla. Then, the valves 22 and 27 are opened to supply Ar gas from the Ar gas supply source 13 into the processing chamber little by little through the gas supply main pipe 28 and the gas supply pipe 28a, and the water transport pump 18 is operated to convert the air in the processing chamber into Ar gas. Recycle with gas.

次に、バルブ24・25をも開くとともにボンブ29と
加熱器30を作動させ、処理室内へ所定モル比のWF6
ガスとキャリアとしてのArガスとH,ガスとの混合ガ
スを少量ずつ供給しつつ水運ポンプ18により処理室内
のガスを少量ずつ排出する。炭素源としてのC6H,ガ
スを含まない上記原料ガスの供給を約10分間程度継続
すると、金属部品Pの筒孔の内周面に約1μm程度のタ
ングステン層が気相反応によって蒸着する。上記のよう
に処理する処理時間の長短に応じてタングステン層の膜
厚を大小調節することが出来る。
Next, the valves 24 and 25 are opened, the bomb 29 and the heater 30 are activated, and a predetermined molar ratio of WF6 is introduced into the processing chamber.
The gas in the processing chamber is discharged little by little by the water transport pump 18 while supplying a mixed gas of Ar gas and H gas as a carrier little by little. When the supply of C6H as a carbon source and the raw material gas containing no gas is continued for about 10 minutes, a tungsten layer of about 1 μm is deposited on the inner peripheral surface of the cylindrical hole of the metal part P by vapor phase reaction. As described above, the thickness of the tungsten layer can be adjusted depending on the length of processing time.

次に、バルブ23・26をも開き、処理室内へ所定モル
比のWF6ガスとArガスとChHhガスとH2ガスと
の混合ガスを少量ずつ供給しつつ水運ポンプ18により
処理室内のガスを少量ずつ排出する。上記炭素源として
のCbH6ガスを含む混合ガスの供給を約1.5〜2時
間程度継続すると、金属部品Pの筒孔の内周面のタング
ステン層の表面に約10〜20μmのタングステンカー
バイト層が気相反応によって蒸着する。上記タングステ
ンカーバイ+−iにはwc、w2c及びW、Cが含まれ
ており、上記のように処理する処理時間の長短に応じて
タングステンカーバイト層の膜厚を大小調節することが
出来る。
Next, the valves 23 and 26 are also opened, and while a mixed gas of WF6 gas, Ar gas, ChHh gas, and H2 gas at a predetermined molar ratio is supplied into the processing chamber little by little, the gas in the processing chamber is gradually removed by the water pump 18. Discharge. When the supply of the mixed gas containing CbH6 gas as the carbon source is continued for about 1.5 to 2 hours, a tungsten carbide layer of about 10 to 20 μm is formed on the surface of the tungsten layer on the inner peripheral surface of the cylindrical hole of the metal part P. is deposited by a gas phase reaction. The tungsten carbide +-i includes wc, w2c, W, and C, and the thickness of the tungsten carbide layer can be adjusted depending on the length of the processing time as described above.

上記タングステンカーバイト層形成用低温CVD装置で
処理し、金属部品Pの筒孔の内周面のニッケルリンメッ
キ層の表面にタングステン層とタングステンカーバイト
層とを順に形成した後、レトルト12のカバープレート
10aを取外し、各遮蔽部品20と共に金属部品Pを外
部へ取出せばよい。
After forming a tungsten layer and a tungsten carbide layer in this order on the surface of the nickel phosphorus plating layer on the inner circumferential surface of the cylindrical hole of the metal part P by using the low-temperature CVD apparatus for forming a tungsten carbide layer, the retort 12 is covered. What is necessary is to remove the plate 10a and take out the metal parts P together with each shielding part 20 to the outside.

ングステンカーバイト層(Hv2000〜2500)と
の間に中間の硬さのタングステン5(HVl 200)
を形成すると、ニッケルリンメ・7キ層とタングステン
層との結合力も強くまたタングステン層とタングステン
カーバイトiの結合力も強いこと、中間硬さのタングス
テン層が緩衝材的に機能することなどの理由によりニッ
ケルリンメッキ層とタングステンカーバイト層の結合力
が強化されて応力や衝撃力が作用したときのタングステ
ンカーバイトiの耐剥離性が著しく向上する。
Medium hardness tungsten 5 (HVl 200) between ungsten carbide layer (HV2000-2500)
This is because the bonding force between the nickel rimming layer and the tungsten layer is strong, the bonding force between the tungsten layer and tungsten carbide is also strong, and the medium-hardness tungsten layer functions as a buffer material. This strengthens the bond between the nickel phosphorus plating layer and the tungsten carbide layer, and significantly improves the peeling resistance of tungsten carbide i when stress or impact force is applied.

尚、上記タングステン層を省略し、ニッケルリンメッキ
層の表面に直接タングステンカーバイト層を形成してよ
い。また金属部品Pの全表面にタングステン層及びタン
グステンカーバイト層を形成する場合には、前記遮蔽部
材20を用いずに金属部品Pを処理室内に露出状に配設
すればよい。
Note that the tungsten layer may be omitted and a tungsten carbide layer may be formed directly on the surface of the nickel phosphorus plating layer. Further, when forming a tungsten layer and a tungsten carbide layer on the entire surface of the metal part P, the metal part P may be exposed in the processing chamber without using the shielding member 20.

上記第1工程〜第4工程を経て製造された耐摩耗性物品
としての金属部品Pの筒孔の内周面近傍部の構造は、第
3図に示すとおりである。
The structure of the vicinity of the inner circumferential surface of the cylindrical hole of the metal component P as the wear-resistant article manufactured through the first to fourth steps described above is as shown in FIG.

金属部品Pの金属基材31の表面は、機械研削処理と電
解研摩処理によりエツジ部のない状態に滑らかに研摩さ
れており、その表面にニッケルリンメッキ層32が形成
され、そのメッキ層32の表面にタングステン層33が
形成され、そのタングステン1)330表面にタングス
テンカーバイト層34が形成されている。
The surface of the metal base material 31 of the metal part P is polished smoothly without any edges by mechanical grinding and electrolytic polishing, and a nickel phosphorus plating layer 32 is formed on the surface. A tungsten layer 33 is formed on the surface, and a tungsten carbide layer 34 is formed on the surface of the tungsten 1) 330.

このように滑らかな金属表面にニッケルリンメッキ層3
2とタングステンN33とタングステンカーバイト層3
4が形成されるので、応力や衝撃が作用したときのタン
グステン層33とタングステンカーバイト層34の耐剥
離性が著しく向上し、耐久性に優れた耐摩耗性物品が得
られる。
In this way, nickel phosphorus plating layer 3 is applied to the smooth metal surface.
2 and tungsten N33 and tungsten carbide layer 3
4 is formed, the peeling resistance of the tungsten layer 33 and the tungsten carbide layer 34 when stress or impact is applied is significantly improved, and a wear-resistant article with excellent durability can be obtained.

尚、金属部品Pの形状及び構造は実施例のものに限るも
のではなく、金属部品Pの金属基材としては鋼、合金鋼
、アルミ合金、アルミ、銅など殆んど全ての金属材料が
適用対象となる。
Note that the shape and structure of the metal part P are not limited to those in the example, and almost all metal materials such as steel, alloy steel, aluminum alloy, aluminum, copper, etc. can be used as the metal base material of the metal part P. Targeted.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

図面は本発明の実施例に係るもので、第1図は電解研摩
処理装置の全体構成図、第2図はタングステンカーバイ
ト形成用低温CVD装置の全体構成図、第3図は金属部
品の要部拡大断面図、第4図は従来技術で製造した金属
部品の第3図相当図である。 P・・金属部品、 34・・タングステンカーバイト層
。 特 許 出 願 人  マツダ株式会社第3図
The drawings relate to embodiments of the present invention, and FIG. 1 is an overall configuration diagram of an electrolytic polishing processing apparatus, FIG. 2 is an overall configuration diagram of a low-temperature CVD apparatus for forming tungsten carbide, and FIG. 3 is a diagram showing essential parts of metal parts. The enlarged sectional view of FIG. 4 is a view corresponding to FIG. 3 of a metal part manufactured by the conventional technique. P...Metal parts, 34...Tungsten carbide layer. Patent applicant Mazda Motor Corporation Figure 3

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] (1) 金属製部品の金属表面を機械研削し、その金属
表面を電解研摩処理し、その金属表面に化学蒸着により
タングステンカーバイト層を形成することを特徴とする
タングステンカーバイト層を有する耐摩耗性物品の製造
方法。
(1) Wear resistance having a tungsten carbide layer, which is characterized by mechanically grinding the metal surface of a metal part, electrolytically polishing the metal surface, and forming a tungsten carbide layer on the metal surface by chemical vapor deposition. Method of manufacturing sex products.
JP4609787A 1987-02-28 1987-02-28 Production of wear resistant article having tungsten carbide layer Pending JPS63213670A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4609787A JPS63213670A (en) 1987-02-28 1987-02-28 Production of wear resistant article having tungsten carbide layer

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4609787A JPS63213670A (en) 1987-02-28 1987-02-28 Production of wear resistant article having tungsten carbide layer

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS63213670A true JPS63213670A (en) 1988-09-06

Family

ID=12737486

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP4609787A Pending JPS63213670A (en) 1987-02-28 1987-02-28 Production of wear resistant article having tungsten carbide layer

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS63213670A (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
AU2005200519A1 (en) Method and manufacture of corrosion resistant and decorative coatings and laminated systems for metal substrates
US5558759A (en) Metal finishing process
US20010014295A1 (en) Method of processing a surface of a mold using electric discharge, an electrode used in such processing and a method of manufacturing such an electrode
CN101380828B (en) Manufacture method of plunger chip die for processing magnetic material
CN107974682A (en) A kind of method that die casting surface peening and reparation remanufacture
JP2002321026A (en) Tool
JP3627784B2 (en) Discharge surface treatment method
JPS6363288B2 (en)
WO2004013370A1 (en) Metal material and method for production thereof
JPS63213670A (en) Production of wear resistant article having tungsten carbide layer
JP2006523774A (en) Use of articles as molding tools
JP2728254B2 (en) Method of manufacturing conductor roll
JPS62290871A (en) Wear-resistant article having tungsten carbide layer and its production
JPH065376Y2 (en) Mold for molding glass products
JP7016223B2 (en) Laminated material
JP2002047595A (en) Chromium plating method and chromium plating apparatus
JPH11348083A (en) Mold for injection-molding of synthetic resin and manufacture thereof
JP2696002B2 (en) Composite cylinder with hole and method of manufacturing the same
JPS63109015A (en) Molding die
CN109943871B (en) Surface coating of die casting die and preparation method thereof
JPH11172361A (en) Surface-coated cemented carbide and its production
JPS62205275A (en) Abrasion resistant article having tungsten carbide layer and its production
JPH01145396A (en) Method for coating diamond of low-pressure cvd method
JPS62256964A (en) Ceramics-coated member
JPS60229717A (en) Mold for vulcanization and molding of rubber