JPS63206353A - Novel manufacture of silcion carbide sintered body - Google Patents

Novel manufacture of silcion carbide sintered body

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JPS63206353A
JPS63206353A JP62039131A JP3913187A JPS63206353A JP S63206353 A JPS63206353 A JP S63206353A JP 62039131 A JP62039131 A JP 62039131A JP 3913187 A JP3913187 A JP 3913187A JP S63206353 A JPS63206353 A JP S63206353A
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sintered body
silicon carbide
powder
weight
crystals
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紀博 村川
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Mitsui Toatsu Chemicals Inc
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 (技術分野) 本発明は微細組織の優れた炭化ケイ素焼結体の新規な製
造方法に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Technical Field) The present invention relates to a novel method for producing a silicon carbide sintered body having an excellent microstructure.

(背景技術) 炭化ケイ素の微粉末を焼結して得られるセラミック焼結
体は、高温構造材料として用途の拡大が期待されている
(Background Art) Ceramic sintered bodies obtained by sintering fine powder of silicon carbide are expected to have expanded uses as high-temperature structural materials.

炭化ケイ素焼結体の保有する注目すべき長所として、高
温下での高い強度、優れた耐蝕性、高い熱伝導率、低い
熱膨張率などが挙げられる。従って、これらの長所を持
っている炭化ケイ素焼結体は自動車用ガスタービン部材
及びエンジン部材、高温用熱交換器、ベアリング、燃焼
炉用バーナーなどの用途への研究開発が積極的に進めら
れている。
Notable advantages of silicon carbide sintered bodies include high strength at high temperatures, excellent corrosion resistance, high thermal conductivity, and low coefficient of thermal expansion. Therefore, silicon carbide sintered bodies with these advantages are being actively researched and developed for use in automobile gas turbine parts and engine parts, high-temperature heat exchangers, bearings, burners for combustion furnaces, etc. There is.

複雑形状のセラミック焼結体を工業的に製造するに適す
る方法は無加圧焼結法である。
A pressureless sintering method is suitable for industrially producing ceramic sintered bodies with complex shapes.

しかしながら、炭化ケイ素粉末は代表的な難焼結物質で
あるので、無加圧焼結を可能にするには特別の工夫が必
要である。従来、炭化ケイ素の焼結方法については、特
許を含めい(つかの方法が提案されており、その代表的
な方法としては、ホウ素及び炭素を焼結助剤として使用
する下記2つの米国特許及びこれに対応する日本特許出
願が挙げられる。すなわち: (1)米国特許4,004,934号公報、(特公昭5
7−32035号公報) (2)米国特許4,321.954号公報、(持分[5
9−34147号公報) (1)の方法はβ晶炭化ケイ素粉末に対し、0.3〜3
.0重量%の単体ホウ素に相当する量のホウ素化合物と
0.1〜1.0重量%の単体炭素に相当する量の炭素源
とを添加混合した後、この混合物を成形し、不活性な雰
囲気下において無加圧で1900〜2100°Cの高温
に加熱して炭化ケイ素焼結体を得る方法である。
However, since silicon carbide powder is a typical material that is difficult to sinter, special measures are required to enable pressureless sintering. Conventionally, there have been several patents proposed regarding sintering methods for silicon carbide, including the following two U.S. patents and U.S. patents that use boron and carbon as sintering aids. Japanese patent applications corresponding to this can be cited, namely: (1) U.S. Patent No. 4,004,934,
7-32035) (2) U.S. Patent No. 4,321.954, (Equity [5
9-34147) Method (1) uses 0.3 to 3
.. After adding and mixing a boron compound in an amount equivalent to 0% by weight of elemental boron and a carbon source in an amount equivalent to 0.1 to 1.0% by weight of elemental carbon, this mixture is molded and placed in an inert atmosphere. In this method, a silicon carbide sintered body is obtained by heating to a high temperature of 1900 to 2100° C. without applying pressure.

(2)の方法は5重量%以上のα晶を含む炭化ケイ素粉
末に対し、0.15〜3.0重量%の単体ホウ素に相当
する量のホウ素化合物と0.5〜5.0重量%の単体炭
素に相当する量の炭素化合物とを加えて高温に加熱し、
炭化ケイ素の粉末と焼結体とが実質的に結晶形態の変化
を生じることなく、すなわち、出発原料である炭化ケイ
素粉末中の炭化ケイ素の結晶形態が最終的な焼結体中の
結晶形態と本質的に同じ割合になるようにして、炭化ケ
イ素焼結体を得る方法である。
Method (2) is based on silicon carbide powder containing 5% by weight or more of α crystals, and a boron compound in an amount equivalent to 0.15% to 3.0% by weight of elemental boron and 0.5% to 5.0% by weight. of carbon compound in an amount equivalent to the elemental carbon and heated to high temperature,
The silicon carbide powder and the sintered body do not substantially change in crystalline form, that is, the crystalline form of silicon carbide in the starting material silicon carbide powder is the same as the crystalline form in the final sintered body. This is a method of obtaining a silicon carbide sintered body by keeping the ratio essentially the same.

これらの方法で得られる炭化ケイ素焼結体は、炭化ケイ
素の理論密度の95%以上に達する緻密な焼結体である
。しかしながら、これらの方法で得られた炭化ケイ素焼
結体は、自動車用ガスタービンなどの機械的負荷の大き
い用途に対しては、機械的強度が低くかつ強度のバラツ
キが大きすぎるという問題があって工業的実用化の障害
となっている。
The silicon carbide sintered body obtained by these methods is a dense sintered body that reaches 95% or more of the theoretical density of silicon carbide. However, the silicon carbide sintered bodies obtained by these methods have the problem of low mechanical strength and too large variations in strength for applications that require large mechanical loads such as gas turbines for automobiles. This is an obstacle to industrial practical application.

一般にセラミック焼結体の機械的物性と焼結体の微細組
織とは関連が強いことが知られており、強度が高い焼結
体であるためには、その微細組織が下記する(a)〜(
c)の3つの条件を満足することが好ましいとされてい
る。ここで焼結体の微細組織とは、焼結体を構成する粒
子及び欠陥(空隙)の三次元的構造をいう。
It is generally known that there is a strong relationship between the mechanical properties of a ceramic sintered body and the microstructure of the sintered body, and for a sintered body to have high strength, its microstructure must meet the following (a) to (
It is said that it is preferable to satisfy the three conditions c). Here, the microstructure of a sintered body refers to a three-dimensional structure of particles and defects (voids) that constitute the sintered body.

(a)焼結体に含まれる欠陥が少なくかつ小さいこ(b
)焼結体を構成する単一粒子の粒子径が小さいこと。
(a) Fewer and smaller defects are included in the sintered body (b)
) The particle size of the single particles constituting the sintered body is small.

(c)焼結体中にはぎ0μを越すような特異的に成長し
た粗大粒子が存在しないこと。
(c) There are no specifically grown coarse particles with a diameter exceeding 0μ in the sintered body.

また、更に最近定説になりつつあるが次の(d)の条件
を満足することである。
Furthermore, the following condition (d), which has recently become an established theory, must be satisfied.

(d)焼結体を構成する粒子の形状に異方性があること
(d) The shape of the particles constituting the sintered body has anisotropy.

ここで上記(c)の粗大粒子の発生は、従来は焼結時に
おける相転移にその原因があるとの見解があり、相転移
を生じさせない焼結条件の把握に努力が払われてきた0
例えば前記特公昭57−32035号公報には、β晶か
らα晶への相転移が粒子を粗大に成長させる原因になる
として、同公報はその5頁右段に、窒素雰囲気を使用す
るこの防止法を提案している。また特公昭59−341
47号公報の3頁左段には、「出発原料中の炭化ケイ素
の結晶形態が最終的な非加圧焼結体の結晶形態と本質的
に同じ割合になる。」と明確に記載されている。
Here, the generation of coarse particles in (c) above has conventionally been considered to be caused by phase transition during sintering, and efforts have been made to understand sintering conditions that do not cause phase transition.
For example, in the above-mentioned Japanese Patent Publication No. 57-32035, it states that the phase transition from β crystal to α crystal causes grains to grow coarsely. proposing a law. Also, special public service 59-341
On the left side of page 3 of Publication No. 47, it is clearly stated that "the crystalline form of silicon carbide in the starting material has essentially the same proportion as the crystalline form of the final non-pressure sintered body." There is.

更に(d)の条件である粒子の形状に異方性のあるとい
うことは、焼結体が破損する際に生じる破断面が増加す
ることであり、従ってこの破断面の増加は焼結体の破壊
に要するエネルギーを増大させるためと推察される。す
なわち焼結体が破壊されにくいということである。ここ
で粒子の形状の異方性とは、板状や棒状のように粒子の
形状に三次元的な異方性があることをいう、なお、言う
までもなく、焼結体全体としては特定方向の粒子の配向
性がないことが必要である。
Furthermore, the condition (d) that the particle shape is anisotropic means that the fracture surface that occurs when the sintered body breaks increases, and therefore, this increase in the fracture surface increases the It is presumed that this is to increase the energy required for destruction. In other words, the sintered body is difficult to break. Here, the anisotropy of the particle shape refers to the fact that the particle shape has three-dimensional anisotropy, such as plate-like or rod-like shape.It goes without saying that the sintered body as a whole can be It is necessary that the particles have no orientation.

従来の技術ではこれら上記(a)〜(d)の条件をいず
れも満足する炭化ケイ素焼結体は得られていない0例え
ば、本発明者らの実験によれば、前記(1)の方法(特
公昭57−32035号公報の方法)では、粗大粒子が
発生し易いといった欠点を克服することが出来ず、また
(2)の方法(特公昭59−34147号公報の方法)
では、焼結体の単一粒子に異方性がな(、強度の高い焼
結体が得られないという問題がある。
Conventional techniques have not produced a silicon carbide sintered body that satisfies all of the above conditions (a) to (d). For example, according to the experiments of the present inventors, the method (1) described above The method (method disclosed in Japanese Patent Publication No. 57-32035) cannot overcome the drawback that coarse particles are likely to be generated, and the method (2) (method disclosed in Japanese Patent Publication No. 59-34147) cannot overcome the drawback that coarse particles are likely to be generated.
However, there is a problem that a single particle of the sintered body has no anisotropy (and a sintered body with high strength cannot be obtained).

更に最近、これら(1) 、(2)の無加圧法にょうて
得られた焼結体をHIP(Hot l5ostatic
 Pressing)処理と称し、数千気圧の不活性ガ
ス雰囲気中で再度2000℃付近に加熱し、焼結体に含
まれる内部欠陥を減少させ、緻密化させる方法も開発さ
せている(例えば第3回次世代産業基盤技術シンポジウ
ム−ファインセラミックス−予稿集13〜28頁)、こ
の方法は焼結体の表面を高圧のガスで加圧しながら加熱
することにより、焼結体の内部欠陥を減少させるに有効
な方法である。しかしながら、欠陥の多い焼結体では高
圧のガスが焼結体の内部に浸透して仕舞い、緻密化の効
果は顕われにくいのである0本発明者らの実験によれば
、旧P処理前で 3.05g/cc以上の密度であるこ
とが望ましいことが見出された。
Furthermore, recently, the sintered bodies obtained by the non-pressure methods of (1) and (2) have been subjected to HIP (Hot l5ostatic) process.
We have also developed a method of heating the sintered body to around 2000°C in an inert gas atmosphere of several thousand atmospheres to reduce the internal defects contained in the sintered body and make it denser (for example, the 3rd press). This method is effective in reducing internal defects in a sintered body by heating the surface of the sintered body while pressurizing it with high-pressure gas. This is a great method. However, in the case of a sintered body with many defects, the high pressure gas permeates into the inside of the sintered body and the densification effect is difficult to appear.According to the experiments conducted by the present inventors, It has been found that a density of 3.05 g/cc or more is desirable.

前記(1)の方法では焼結体密度が3.05g/ccに
達する以前に粗大粒子が発生するといった欠点があり、
(2)の方法では旧P処理を行っても粒子形状に異方性
が生じない。
The method (1) above has the disadvantage that coarse particles are generated before the sintered body density reaches 3.05 g/cc,
In method (2), anisotropy does not occur in the particle shape even if the old P treatment is performed.

(基本的着想) 本発明者等は、機械的強度が高(かつそのバラツキが小
さい炭化ケイ素焼結体を得ることを目的とし、焼結体を
構成する粒子の微細構造が、その指針として従来より提
言されてきた前記(a)〜(d)の条件をいずれも満足
する焼結体を得ることを目標として鋭意検討を進めた結
果、以下に記す原料粉末を使用し、かり焼結条件を特定
することにより、上記(a)〜(d)の条件を満足する
微細組織が再現性よく得られることを見出し、更に(a
)〜(d)の条件の微細組織を有する焼結体は事実とし
て機械的強度が高く、かつそのバラツキが小さいことを
確認し、本発明を完成するに到ったものである。
(Basic idea) The present inventors aimed to obtain a silicon carbide sintered body with high mechanical strength (and small variation in mechanical strength), and the microstructure of the particles constituting the sintered body was used as a guideline for achieving this goal. As a result of intensive studies with the goal of obtaining a sintered body that satisfies all of the conditions (a) to (d) that have been proposed by It has been found that by specifying the above, a microstructure satisfying the conditions (a) to (d) above can be obtained with good reproducibility, and furthermore, (a)
It was confirmed that the sintered bodies having the microstructures under the conditions of ) to (d) actually have high mechanical strength and small variations in mechanical strength, and the present invention was completed.

(発明の詳細な開示) すなわち、本発明に従えば、 炭化ケイ素粉末100重量部に0.05〜0.3重量部
のホウ素及び0.5〜3.0重量部の炭素を添加混合し
た後、該混合物を成形し、1900〜2050°Cにて
加熱焼結させて炭化ケイ素焼結体を得る方法において、 ■該炭化ケイ素粉末の物性は以下に示す(イ)、(ロ)
、(ハ)の条件を満足するものであり:(イ)平均粒子
径ρが0.1〜0.2μであること。
(Detailed disclosure of the invention) That is, according to the present invention, after adding and mixing 0.05 to 0.3 parts by weight of boron and 0.5 to 3.0 parts by weight of carbon to 100 parts by weight of silicon carbide powder. In the method of obtaining a silicon carbide sintered body by molding the mixture and heating and sintering it at 1900 to 2050°C, the physical properties of the silicon carbide powder are as shown below (a) and (b).
, (c): (a) The average particle diameter ρ is 0.1 to 0.2 μ.

(ロ)粒子径の標準偏差が0.8×ρ以下であること。(b) The standard deviation of particle diameter is 0.8×ρ or less.

(ハ)結晶形は80重量%以上のβ晶と、20重量%以
下の低温型α晶を含むものであること。
(c) The crystal form must contain 80% by weight or more of β crystals and 20% by weight or less of low-temperature α crystals.

(2)かつ、一旦不活性ガス雰囲気中で該炭化ケイ素粉
末中のα晶含有量が5重量%を越えないような温度範囲
に加熱して次の(ニ)、(ホ)の条件を満足する焼結中
間体を得: (ニ)密度が3.05g/ cc以上であること。
(2) and once heated in an inert gas atmosphere to a temperature range such that the α crystal content in the silicon carbide powder does not exceed 5% by weight, and the following conditions (d) and (e) are satisfied. Obtain a sintered intermediate that: (d) has a density of 3.05 g/cc or more.

(ホ)結晶形は95重量%以上のβ晶と5重量%以下の
α晶を含むものであること。
(e) The crystal form must contain 95% by weight or more of β crystals and 5% by weight or less of α crystals.

(3)しかる後、100気圧以上の不活性ガス雰囲気中
で1800〜2000℃に加熱して、次の(へ)、 (
ト)、(チ)の特性により特徴ずけられる焼結体を得る
ことからなる、炭化ケイ素焼結体の新規な製造法。
(3) After that, it is heated to 1800-2000°C in an inert gas atmosphere of 100 atmospheres or more, and the next step (
A novel method for producing a silicon carbide sintered body, which comprises obtaining a sintered body characterized by the properties of (g) and (h).

(へ)焼結体密度が3.Log/cc以上であること。(f) The density of the sintered body is 3. Must be more than Log/cc.

(ト)微細組織の平均粒子径が3〜15μでアスベクト
比が5〜20であること。
(g) The average grain size of the microstructure is 3 to 15 μm and the asvect ratio is 5 to 20.

(チ)結晶形は50重量%以上のβ晶と50重量%未満
の高温型α晶を含むものであること。
(h) The crystal form must contain 50% by weight or more of β crystals and less than 50% by weight of high-temperature α crystals.

が提供される。is provided.

以下、本発明の詳細な説明する。The present invention will be explained in detail below.

まず、本発明で使用する原料炭化ケイ素粉末は次の3つ
の要件を満足するものであることが要請される。
First, the raw material silicon carbide powder used in the present invention is required to satisfy the following three requirements.

第1の要件は粉末の平均粒子径ρが0.1〜0.2μで
あることである。その理由は、ρが0.2μをを越える
と得られる炭化ケイ素焼結体の密度が3.10g/cc
を超えに(いからであり、ρが0.1H未満であると焼
結の駆動力が大き過ぎるためか、焼結体に粗大粒子が発
生し易いためであり、何れにしても本発明の目的を達成
することは出来ない。
The first requirement is that the powder has an average particle diameter ρ of 0.1 to 0.2 μ. The reason is that when ρ exceeds 0.2 μ, the density of the silicon carbide sintered body obtained is 3.10 g/cc.
If ρ is less than 0.1H, this is because the driving force for sintering is too large or coarse particles are likely to be generated in the sintered body. It is not possible to achieve the goal.

第2の要件は粉末の粒子径の標準偏差が0.8×ρ以下
の粒径分布の狭いものであることである。
The second requirement is that the powder has a narrow particle size distribution with a standard deviation of particle size of 0.8×ρ or less.

けだし、焼結体の微細組織の粒子径分布が狭く粗大粒子
を発生させないためには、原料粉末の粒径分布が狭いこ
とが不可欠であるという、本発明者等の実験的知見に基
づくものである。なお、粒子径の測定法は後記する〔粒
子径測定法〕に詳述した如く、電子顕微鏡像より求める
方法を採用することが好ましい。
This is based on the experimental findings of the present inventors that in order to prevent the generation of coarse particles, the particle size distribution of the fine structure of the sintered body is narrow, and that it is essential that the particle size distribution of the raw material powder is narrow. be. As a method for measuring the particle size, it is preferable to employ a method of determining the particle size from an electron microscope image, as detailed in the section [Particle Size Measurement Method] below.

第3の要件は、炭化ケイ素粉末の結晶形が、80%以上
のβ晶と、低温型α晶(2H)を含むことである。低温
型α晶(20重量)が20%以下であるとは、すなわち
焼結時にその殆どがβ晶に相転移する結晶形を20%以
下含むことを意味する。その理由は、この第3の要件が
満足される場合についてのみ、焼結体の粒子に異方性(
アスペクト比で表示される)が生じるという本発明者等
の実験的知見に基づくものである。更に炭化ケイ素粉末
に含まれる高温型α晶(48,68,15R)の含有量
は、1%以下の痕跡程度であることが好ましい。
The third requirement is that the crystal form of the silicon carbide powder contains 80% or more of β crystals and low temperature α crystals (2H). 20% or less of low-temperature α-crystals (20% by weight) means that 20% or less of crystal forms, most of which undergo a phase transition to β-crystals during sintering, are included. The reason is that the particles of the sintered body have anisotropy (
This is based on the experimental findings of the present inventors that the aspect ratio (expressed in terms of aspect ratio) occurs. Further, the content of high-temperature type α crystals (48, 68, 15R) contained in the silicon carbide powder is preferably about a trace of 1% or less.

上記3つの要件を満足する炭化ケイ素粉末は、基本的に
、本発明者等が先に特開昭59−83922号公報にて
提案した方法、すなわち分解性ケイ素化合物と分解性炭
素化合物より一旦化学反応によってケイ素酸化物と単体
炭素とが極めて微細に混合した粉末を製造し次にこの粉
末を0.15g/cc以上の嵩密度に緊縮した後、16
00〜1900℃程度に加熱することにより容易に得る
ことが出来る。
Silicon carbide powder that satisfies the above three requirements is basically produced by the method previously proposed by the present inventors in JP-A No. 59-83922, that is, by chemically processing a decomposable silicon compound and a decomposable carbon compound. After producing a powder containing an extremely fine mixture of silicon oxide and elemental carbon by reaction, and then compressing this powder to a bulk density of 0.15 g/cc or more, 16
It can be easily obtained by heating to about 00 to 1900°C.

なお、β晶を主成分とする炭化ケイ素微粉末の他の製造
法としては、従来、次の2つの方法が代表的な方法とし
て知られている。すなわち、(イ)ケイ素酸化物と炭素
またはシリコンと炭素とを機械的に混合した後、200
0°C以下に加熱し、生成した炭化ケイ素を微粉砕する
方法。
Note that, as other methods for producing fine silicon carbide powder containing β crystals as a main component, the following two methods are conventionally known as representative methods. That is, (a) after mechanically mixing silicon oxide and carbon or silicon and carbon, 200
A method of heating to below 0°C and finely pulverizing the silicon carbide produced.

(ロ) SiH4、St (CHa) aなどのケイ素
化合物とCH4゜CJiなどの炭素化合物とを、120
0°C以上に加熱されたプラズマ雰囲気中に導入し、水
素の存在下で気相反応せしめて炭化ケイ素を生成させる
方法。
(b) A silicon compound such as SiH4, St (CHa) a and a carbon compound such as CH4°CJi are combined at 120%
A method of producing silicon carbide by introducing it into a plasma atmosphere heated to 0°C or higher and causing a gas phase reaction in the presence of hydrogen.

しかしながら、本発明者等が上記(イ)(ロ)の2つの
方法を追跡実験した結果では、(イ)の方法で得られる
粉末は、0.1μ以下に微粉砕された粒子と数μの粒子
とが共存する粒度分布の広い粉末であり、また、(ロ)
の方法で得られる粉末は、単一粒子は0.1H程度の大
きさであるが、粒子と粒子が強固に凝集していて、見掛
は上の粒径が大きく粒径分布の広い粉末である。従って
、上記(イ)及び(ロ)の方法で得られる炭化ケイ素粉
末はいずれも本発明の原料としては適当でない。
However, according to the results of follow-up experiments conducted by the present inventors on the two methods (a) and (b) above, the powder obtained by method (a) has two types: particles pulverized to 0.1 μm or less and particles of several μm. It is a powder with a wide particle size distribution that coexists with particles, and (b)
The powder obtained by this method has a single particle size of about 0.1H, but the particles are tightly agglomerated, and it appears to be a powder with a large upper particle size and a wide particle size distribution. be. Therefore, neither of the silicon carbide powders obtained by the above methods (a) and (b) is suitable as a raw material for the present invention.

さて、炭化ケイ素焼結体は炭化ケイ素粉末を所望の形状
に成形した後焼結して得られるが、本発明においては、
成形に先立って炭化ケイ素粉末に、単体ホウ素またはホ
ウ素化合物及び単体炭素を焼結を促進させるための焼結
助剤として少量添加混合して混合物とする。その添加量
は、炭化ケイ素粉末100部に対し、前者は単体ホウ素
換算として0.05〜0.3部、後者は0.5〜3.0
部である。
Now, a silicon carbide sintered body is obtained by molding silicon carbide powder into a desired shape and then sintering it, but in the present invention,
Prior to molding, a small amount of elemental boron or a boron compound and elemental carbon are added and mixed as sintering aids to promote sintering to silicon carbide powder to form a mixture. The amount of the former is 0.05 to 0.3 parts in terms of elemental boron, and the latter is 0.5 to 3.0 parts per 100 parts of silicon carbide powder.
Department.

炭化ケイ素粉末と焼結助剤との混合はボールミル等で行
うことが出来るが、焼結助剤はその目的上炭化ケイ素粉
末と出来るだけ均一に混合させることが望ましく、従っ
て例えば単体ホウ素またはホウ素化合物は比表面積が3
 nf/g以上の微粉末状のものが好ましい、なお、ホ
ウ素化合物としては、BaC、BN、 BP、 AIB
zなどが挙げらる。
The silicon carbide powder and the sintering aid can be mixed using a ball mill or the like, but for that purpose it is desirable to mix the sintering aid with the silicon carbide powder as uniformly as possible. has a specific surface area of 3
A fine powder of nf/g or more is preferable. As boron compounds, BaC, BN, BP, AIB
Examples include z.

また、単体炭素の添加方法としては、比較的炭素含有率
の高い炭化水素、例えばフェノール−ホルムアルデヒド
縮合物、レゾルシノール−ホルムアルデヒド縮合物、グ
リセリン、タールピッチ、フラン樹脂などを水あるいは
トルエン、アセトン、エタノールなどの溶剤に溶かし、
これを先の少量の単体ホウ素またはホウ素化合物の粉末
が混合された炭化ケイ素粉末に添加し、ボールミルなど
で湿式状態で混合した後、水あるいは溶剤を乾燥除去し
更に500〜600℃の不活性ガス雰囲気中で加熱し炭
化水素を炭化せしめることによって行うことができる。
In addition, as a method for adding elemental carbon, hydrocarbons with relatively high carbon content, such as phenol-formaldehyde condensates, resorcinol-formaldehyde condensates, glycerin, tar pitch, furan resins, etc., can be added to water or toluene, acetone, ethanol, etc. Dissolve in the solvent of
This is added to the silicon carbide powder mixed with a small amount of elemental boron or boron compound powder, mixed in a wet state using a ball mill, etc., then the water or solvent is removed by drying, and then the inert gas at 500 to 600°C is added. This can be carried out by heating in an atmosphere to carbonize the hydrocarbon.

なお、単体炭素の他の添加方法として、微粉末状の単体
炭素そのものを用いても良い、この場合単体炭素は比表
面積が30rd/g以上のカーボンブラック、アセチレ
ンブラックなどを用い、より均一な混合を得るために、
水あるいはメタノール、エタノールなどの有機溶媒を加
えて、湿式でボールミル、振動ミルなどを使用して混合
する方法が好ましい、すなわち、単体ホウ素またはホウ
素化合物微粉末、単体炭素微粉末及び炭化ケイ素微粉末
に、水あるいは有機溶媒を加えて混合した後、水あるい
は有機溶媒を蒸発除去する方法である。
As another method of adding elemental carbon, it is also possible to use finely powdered elemental carbon itself. In this case, carbon black, acetylene black, etc. with a specific surface area of 30rd/g or more is used as the elemental carbon to achieve a more uniform mixture. In order to get
It is preferable to add water or an organic solvent such as methanol or ethanol and mix the mixture wet using a ball mill, vibration mill, etc. This is a method in which water or an organic solvent is added and mixed, and then the water or organic solvent is removed by evaporation.

かくして得られた焼結助剤を少量含有した炭化ケイ素粉
末は、次にこれを所望する形状に成形し次いで一旦大気
圧程度でもしくは大気圧以下もしくは真空下のアルゴン
、ヘリウム、窒素などの不活性ガス雰囲気中で加熱する
ことによって密度が3.05g/cc以上であり、かつ
結晶形は95重量%以上のβ晶と5重量%以下のα晶を
含む焼結中間体を得ることができる。
The thus obtained silicon carbide powder containing a small amount of sintering aid is then molded into a desired shape and then heated with an inert gas such as argon, helium, nitrogen, etc. at about atmospheric pressure or below atmospheric pressure or under vacuum. By heating in a gas atmosphere, a sintered intermediate having a density of 3.05 g/cc or more and containing 95% by weight or more of β crystals and 5% by weight or less of α crystals can be obtained.

ここで加熱温度は基本的には、炭化ケイ素微粉末中のα
晶の含有量が5%を越えないような温度範囲に保持する
ことが要請されるが、通常は、この加熱温度は、185
0〜2000″Cの範囲とすれば概ね良好である。ただ
し、より好ましくは、炭化ケイ素粉末の物性によって適
宜選定すべきであり、本発明者等の実験的知見上、加熱
温度は密度が3.05g/ccに達するに必要な最低な
温度(以下Tsと称す、)ないしTs+50°Cの範囲
とした方が、焼結中間体に粗大粒子の発生を防ぐために
好ましい0本発明者らの実験的知見によれば、炭化ケイ
素粉末の(粒子径の標準偏差)/ρとTsとの間には添
付図面の第12図に示すように正の相関があり、粒度分
布の狭い粉末はより低い温度で3.05g/ccの密度
に到達する傾向があるのである。なお、この焼結中間体
のおけるα晶は低温型と高温型両者の総和を意味するも
のとする。
Here, the heating temperature is basically α in the silicon carbide fine powder.
It is required to maintain the temperature within a range such that the crystal content does not exceed 5%, but usually this heating temperature is 185%.
A temperature in the range of 0 to 2,000"C is generally good. However, it is more preferable to select the appropriate temperature depending on the physical properties of the silicon carbide powder. According to the experimental findings of the present inventors, the heating temperature should be set at a density of 3. In order to prevent the generation of coarse particles in the sintered intermediate, it is preferable to set the temperature between the minimum temperature required to reach .05 g/cc (hereinafter referred to as Ts) to Ts + 50°C. Experiments conducted by the present inventors According to our findings, there is a positive correlation between (standard deviation of particle size) /ρ and Ts of silicon carbide powder, as shown in Figure 12 of the attached drawings, and powders with narrow particle size distribution have lower There is a tendency for the density to reach 3.05 g/cc at a certain temperature.The α crystal in this sintered intermediate means the sum of both the low-temperature type and the high-temperature type.

次に本発明では、上記の如くして得た所定の特性値を有
する焼結中間体を、充分高圧のアルゴン、ヘリウム、窒
素などの不活性ガス雰囲気中で加熱することによって、
目的の焼結体とすることができる。
Next, in the present invention, the sintered intermediate having the predetermined characteristic values obtained as described above is heated in a sufficiently high pressure inert gas atmosphere such as argon, helium, nitrogen, etc.
The desired sintered body can be obtained.

ここで不活性ガスの圧力は少なくとも100気圧以上、
より好ましくは500気圧以上が望ましい。
Here, the pressure of the inert gas is at least 100 atmospheres or more,
More preferably, the pressure is 500 atmospheres or more.

圧力の上限は特に設定する必要はないが、10000気
圧以上とすることは設備費増加の割に効果が少ない。
Although it is not necessary to particularly set an upper limit of the pressure, setting it to 10,000 atmospheres or more is less effective considering the increase in equipment costs.

加熱温度はすでに述べたとおり、1800〜2000°
Cの範囲とすれば概ね良好であるが、先のTsを考慮し
Ts−50〜Ts+50℃の範囲とした方がより好まし
い。
As mentioned above, the heating temperature is 1800-2000°
A range of C is generally good, but in consideration of the above Ts, it is more preferable to set it in a range of Ts-50 to Ts+50°C.

以上詳細に述べた如く本発明の方法に従えば、以下に述
べる3つの特性を併せもつ炭化ケイ素焼結体を得ること
が出来る。すなわち: まず第1に、焼結体の密度が3.Log / cc以上
であり、第2に、微細組織の平均粒子径が3〜15μで
かつアスペクト比が5〜20であるようなものである。
As described in detail above, by following the method of the present invention, it is possible to obtain a silicon carbide sintered body having the following three characteristics. Namely: First of all, the density of the sintered body is 3. Log/cc or more, and secondly, the average grain size of the microstructure is 3 to 15 μ and the aspect ratio is 5 to 20.

なお、微細組織とは先述した如く焼結体を構成する粒子
及び欠陥の三次元的構造をいうが、ここで云う平均粒子
径及びアスペクト比の測定は、焼結体の表面を平滑にし
、これを顕微鏡で拡大(通常100〜1000倍)して
観られる像より求めるものとし、粒子径とはこの像にお
けるそれぞれの粒子の最大長(L)と最小長(D)の平
均値とし、平均粒子径とは粒子径の算術平均値とし、ア
スペクト比はL/Dの算術平均値としたものである。こ
れらは通常300個以上の粒子について求めれば充分で
ある。
As mentioned above, the microstructure refers to the three-dimensional structure of the particles and defects that make up the sintered body, but the measurement of the average particle diameter and aspect ratio is performed by smoothing the surface of the sintered body and The particle diameter is determined from an image magnified (usually 100 to 1000 times) with a microscope, and the particle diameter is the average value of the maximum length (L) and minimum length (D) of each particle in this image. The diameter is the arithmetic mean value of particle diameters, and the aspect ratio is the arithmetic mean value of L/D. It is usually sufficient to determine these for 300 or more particles.

さらに、第3に、本発明の焼結体の結晶形は80%以上
のβ晶と20%以下の高温型α晶を含む焼結体であり、
更に好ましくは高温型α晶が5%以下の焼結体であるよ
うなものである。
Furthermore, thirdly, the crystal form of the sintered body of the present invention is a sintered body containing 80% or more β crystals and 20% or less high temperature α crystals,
More preferably, the sintered body contains 5% or less of high-temperature α crystals.

本発明者等の実験的知見からすれば、低温型α晶が20
%以下(残りはβ晶)、より好ましくは5〜20%含ま
れる炭化ケイ素粉末を原料として、上述の如き条件で焼
結すれば、高温型α晶が20%以下(残りはβ晶)、よ
り好ましくは5%以下の組成の炭化ケイ素焼結体が極め
て再現性良く得られるのである。この焼結体は本発明で
目的とする優れた微細構造を有していることは勿論であ
る。
According to the experimental findings of the present inventors, the low-temperature α crystal is 20
% (the remainder is β crystals), more preferably 5 to 20%, if the silicon carbide powder is sintered under the conditions described above, the high-temperature α crystals are 20% or less (the remainder is β crystals), More preferably, a silicon carbide sintered body having a composition of 5% or less can be obtained with extremely high reproducibility. It goes without saying that this sintered body has the excellent microstructure that is the object of the present invention.

(発明の作用効果) 本発明は、従来より技術的思想としては、強く望まれな
がらも、現実にはその製造法が確立されていなかった、
優れた微細構造を有する炭化ケイ素焼結体の製造法を、
原料炭化ケイ素粉末の物性及び焼結条件を特定すること
によって確立したものである。
(Actions and Effects of the Invention) Although the present invention has been strongly desired as a technical idea, in reality, a manufacturing method thereof has not been established.
A method for manufacturing silicon carbide sintered bodies with excellent microstructure,
This was established by specifying the physical properties and sintering conditions of the raw material silicon carbide powder.

本発明の方法によって得られた焼結体の機械的強度を測
定した結果は、後記実施例に示すように従来の焼結体よ
りも明らかに強度が高(かつそのバラツキも小さく、ま
た破壊靭性値(Lc)も高いことが確認された。
The results of measuring the mechanical strength of the sintered body obtained by the method of the present invention show that it is clearly higher in strength than the conventional sintered body (and its variation is small, and the fracture toughness is It was confirmed that the value (Lc) was also high.

本発明の方法によって得られる炭化ケイ素焼結体は、上
記の如く優れた微細構造を有するが、その理由は次のよ
うに推察される。
The silicon carbide sintered body obtained by the method of the present invention has an excellent microstructure as described above, and the reason for this is presumed to be as follows.

すなわち: (イ)原料粉末が易焼結性であるので、焼結助剤である
ホウ素の添加量が0.05〜0.3重量部と従来技術よ
りもはるかに少ない量で焼結が可能であり、このため焼
結体中の粗大粒子の発生が抑えられる。
That is: (a) Since the raw material powder is easily sinterable, sintering can be performed with the addition of 0.05 to 0.3 parts by weight of boron, which is a sintering aid, which is much smaller than in conventional technology. Therefore, generation of coarse particles in the sintered body can be suppressed.

(ロ)易焼結性の原料粉末を用いるので、焼結温度が1
900〜2050℃と従来よりも低(することが可能で
あり、このため焼結体粒子の肥大化が抑えられる。
(b) Since an easily sinterable raw material powder is used, the sintering temperature is 1
It is possible to reduce the temperature to 900 to 2050°C, which is lower than the conventional temperature, thereby suppressing enlargement of the sintered particles.

(ハ)焼結過程において、α晶が5%以下の焼結中間体
を経由するため、焼結体粒子に異方性が生じる。
(c) In the sintering process, the sintered particles pass through a sintered intermediate containing 5% or less of α crystals, so that anisotropy occurs in the sintered particles.

(実施例及び比較例) 以下、本発明のより具体的な実施の形態を実施例により
説明する。
(Examples and Comparative Examples) Hereinafter, more specific embodiments of the present invention will be described with reference to Examples.

車止エエ塞粉未 実施例及び比較例には表−1に示す品質の炭化ケイ素粉
末を使用した。
Silicon carbide powder of the quality shown in Table 1 was used in the non-experimental examples and comparative examples.

表−1における粉末1〜3は、本発明者等が先に特開昭
59−83922号公報において提案した方法、すなわ
ち水素を空気で燃焼させて得た火炎の中に、ケイ素化合
物として5iC1nを、炭素化合物としてC9留分を同
時に注入して得た、33.6%のstagと66.3%
単体炭素を含むスス状の極めて微細な混合物を、一旦0
.5 g/ccの嵩密度に緊縮した後、それぞれ170
0℃、1800℃、1900°Cに加熱し、下記(1)
式に示す反応式により炭化ケイ素を生成せしめた後余剰
の炭素を燃焼除去して得たものである。
Powders 1 to 3 in Table 1 were prepared using the method previously proposed by the present inventors in JP-A-59-83922, in which 5iC1n was added as a silicon compound in a flame obtained by burning hydrogen with air. , 33.6% stag and 66.3% obtained by simultaneous injection of C9 fraction as carbon compound.
A very fine soot-like mixture containing elemental carbon is once heated to zero.
.. 170 respectively after tightening to a bulk density of 5 g/cc.
Heating to 0℃, 1800℃, 1900℃, following (1)
It is obtained by burning off excess carbon after producing silicon carbide according to the reaction formula shown in the formula.

SiO□+3C−+SiC+2GO・−・−・・・・−
−−−−・(1)粉末4は、SiH4、C)+4及びh
とを直接気相で反応させて得たもので、従来公知の方法
〔例えば、日本化学会誌、」、188−193(198
0) )に準じて1400″Cの反応温度で生成させた
ものである。
SiO□+3C-+SiC+2GO・-・-・・・・・-
-----・(1) Powder 4 is SiH4, C)+4 and h
It is obtained by direct reaction of
0)) at a reaction temperature of 1400''C.

粉末5及び6は市販品であり、その顕微鏡像から、二酸
化ケイ素もしくはシリコンと単体炭素とを混合し、加熱
して得られた炭化ケイ素の粗粒を振動ミル等で長時間粉
砕して微粉化したものと推定された。
Powders 5 and 6 are commercially available products, and their microscopic images indicate that they are made by mixing silicon dioxide or silicon with elemental carbon, heating the resulting coarse particles of silicon carbide, and grinding them for a long time using a vibrating mill or the like. It is assumed that the

表−1 表−1の数値が示す通り、粉末1〜3は本発明の原料と
しての物性条件(イ)、(ロ)、(ハ)をすべて満足し
ている。これに比べ粉末4〜6は平均粒子径ρおよびそ
の標準偏差が本発明の規定値よりいずれも大きい。粉末
6は結晶形がβ晶を含まずしかも高温形のα晶のみであ
る。このように粉末4〜6は本発明で規定する原料とし
ての物性条件をいずれも満足していない。
Table 1 As shown by the values in Table 1, Powders 1 to 3 satisfy all physical property conditions (a), (b), and (c) as raw materials of the present invention. In comparison, powders 4 to 6 have an average particle diameter ρ and a standard deviation thereof each larger than the specified values of the present invention. Powder 6 does not contain any β-crystals and is only high-temperature α-crystals. As described above, powders 4 to 6 do not satisfy any of the physical property conditions as raw materials specified in the present invention.

表−1に示した平均粒子径ρ及び粒子径の標準偏差の測
定法は後記分析法の総括の項で述べる(粒子径測定法〕
に、同じく結晶形の割合は〔結晶形定量法〕によって求
めた。
The method for measuring the average particle diameter ρ and the standard deviation of particle diameter shown in Table 1 will be described in the summary of analysis methods below (Particle diameter measurement method)
Similarly, the proportion of crystal forms was determined by [crystal form determination method].

粉末1,4.5の透過型電子顕微鏡像をそれぞれ第1図
、第2図および第3図に、粉末1の粉末X線回折像を第
4図に示した。
Transmission electron microscope images of Powders 1 and 4.5 are shown in FIGS. 1, 2, and 3, respectively, and FIG. 4 shows a powder X-ray diffraction image of Powder 1.

亥l■エニ主 表−1に示した粉末1〜3のそれぞれ100gに、ホウ
素源として比表面積が10.4m”/gの84C粉末0
.25gと、単体炭素源として比表面積が120.5+
*”/gのカーボンブラック2gと、更にエタノールを
50cc加えて、これらを樹脂製のボールミルで20時
間混合した。得られた混合物を加熱してエタノールを蒸
発除去して得た粉末の50gを、円筒容器に入れ0.5
7/c+1の荷重で1軸圧縮した後、2 T/cdの静
水圧でラバープレスし成形した。得られたそれぞれの粉
末成形体の密度を表−2に示した。
84C powder with a specific surface area of 10.4 m''/g as a boron source was added to 100 g of each of powders 1 to 3 shown in Table 1.
.. 25g and a specific surface area of 120.5+ as a single carbon source
*"/g of carbon black and 50 cc of ethanol were added and mixed in a resin ball mill for 20 hours. The resulting mixture was heated to remove ethanol by evaporation, and 50 g of the powder was obtained. 0.5 in a cylindrical container
After being uniaxially compressed with a load of 7/c+1, it was rubber pressed and molded with a hydrostatic pressure of 2 T/cd. Table 2 shows the density of each powder compact obtained.

次にこれらの粉末成形体を10−1〜ITorrの真空
下窒素雰囲気中で1900℃の温度にて30分間加熱し
炭化ケイ素焼結中間体を得た。得られた焼結中間体の密
度及び結晶形を表−2に示した。なお、それぞれの粉末
成形体のTs (密度が3.051/ccに達するに必
要な最低温度)はそれぞれ表−2に示す値であった。 
Tsは後述するも  の    の  に記した方法に
よって求めた。
Next, these powder compacts were heated for 30 minutes at a temperature of 1900° C. in a nitrogen atmosphere under a vacuum of 10 −1 to I Torr to obtain a silicon carbide sintered intermediate. Table 2 shows the density and crystal form of the obtained sintered intermediate. The Ts (minimum temperature necessary for the density to reach 3.051/cc) of each powder compact was the value shown in Table 2.
Ts was determined by the method described in the section below.

次にそれぞれの焼結中間体を、1500気圧の窒素雰囲
気中でそれぞれ1880℃で30分間加熱し、炭化ケイ
素焼結体を得た。
Next, each of the sintered intermediates was heated at 1,880° C. for 30 minutes in a nitrogen atmosphere of 1,500 atmospheres to obtain a silicon carbide sintered body.

得られた焼結体の密度、微細組織の平均粒子径アスペク
ト比及び結晶形を表−2に示した。
Table 2 shows the density, average grain size aspect ratio of the microstructure, and crystal shape of the obtained sintered body.

得られたそれぞれの炭化ケイ素焼結体より各20片の試
験片を切り出し、JIS R−1601の方法に従って
曲げ強度を測定した。また同様に各20片の試験片より
、ビッカーズ圧痕法によってKICを測定した。これら
の測定値を表−2に示した。
Twenty test pieces were cut out from each of the obtained silicon carbide sintered bodies, and the bending strength was measured according to the method of JIS R-1601. Similarly, KIC was measured using the Vickers indentation method using each of the 20 test pieces. These measured values are shown in Table-2.

表−2の数値が示す様に、本発明の条件を満たす物性の
原料粉末を使用し、本発明が特定する条件で焼結させた
炭化ケイ素焼結体は、いずれも本発明の目的を満足する
特性を持ったものであった。
As shown by the values in Table 2, any silicon carbide sintered body produced by using raw material powder with physical properties that meet the conditions of the present invention and sintered under the conditions specified by the present invention satisfies the purpose of the present invention. It had the characteristics of

なお、実施例1で得られた焼結中間体及び焼結体の粉末
X線回折像をそれぞれ第5図および第6図に示した。
The powder X-ray diffraction images of the sintered intermediate and sintered body obtained in Example 1 are shown in FIG. 5 and FIG. 6, respectively.

表−2 此m二1 表−1に示す、本発明で規定する条件を満たさない粉末
4.5.6を用い、実施例と同一方法、同一条件にて炭
化ケイ素焼結中間体を得た。得られた焼結中間体につい
てその密度を測定した結果は、表−3に示す通り、何れ
も本発明の目標値3.05g/cc以上を大きく下廻っ
ていることがわかった。
Table 2 This m21 A silicon carbide sintered intermediate was obtained using the powder 4.5.6 shown in Table 1, which does not meet the conditions specified in the present invention, by the same method and under the same conditions as in the example. . The density of the obtained sintered intermediates was measured, and as shown in Table 3, it was found that all the densities were significantly below the target value of 3.05 g/cc or more of the present invention.

表−3 此m二i 表−1に示す、本発明で規定する条件を満たさない粉末
4,5.6を用い、焼結体密度を上げるべく焼結条件等
を探索し、表−4に示す条件に変更して(表−4に記載
の条件以外は実施例と同一条件)炭化ケイ素焼結体を得
た。得られた焼結体の密度は表−4に記載の通り、粉末
4については(比較例4)B、Cの添加量を増加させる
ことで上昇可能であり、粉末5,6については(比較例
5.6)加熱温度を高くすると上昇可能であることが認
められた。なお、粉末4を用いた比較例1の84Gの添
加量が0.25部の粉末成形体は、加熱温度を高くして
も密度が3.051/ccに到達しなかった。
Table 3 Using powders 4 and 5.6 shown in Table 1 that do not meet the conditions specified in the present invention, sintering conditions etc. were searched to increase the density of the sintered compact, and the results are shown in Table 4. A silicon carbide sintered body was obtained by changing the conditions to those shown (same conditions as in Examples except for the conditions listed in Table 4). As shown in Table 4, the density of the obtained sintered body can be increased by increasing the amount of B and C added for powder 4 (comparative example 4), and for powders 5 and 6 (comparative example 4). Example 5.6) It was found that the heating temperature could be increased by increasing the heating temperature. In addition, in the powder compact of Comparative Example 1 using Powder 4, in which the amount of 84G added was 0.25 parts, the density did not reach 3.051/cc even if the heating temperature was increased.

此tuiユ亀 比較例4〜6で得られた密度が3.05g/cc以上の
焼結中間体を、実施例と同様にして1500気圧の窒素
雰囲気中で表−5に示した加熱温度に30分間保持し、
炭化ケイ素焼結体を得た0次に実施例と全(同様にして
これら焼結体の機械的物性を測定し、表−5の結果を得
た0表−5の数値が示す様に、いずれの焼結体もその微
細構造が本発明で目的とする物性値を呈しておらず、ま
た機械的物性も劣ることが分かる。
The sintered intermediates with a density of 3.05 g/cc or more obtained in Comparative Examples 4 to 6 were heated to the heating temperature shown in Table 5 in a nitrogen atmosphere of 1500 atm in the same manner as in the examples. hold for 30 minutes,
Next, the mechanical properties of these sintered bodies were measured in the same manner as in the examples, and the results in Table 5 were obtained. As shown by the numerical values in Table 5, It can be seen that the fine structure of any of the sintered bodies does not exhibit the physical property values targeted by the present invention, and the mechanical properties are also poor.

その結果は、焼結体密度が増加し、(ニ)の要件を充足
することは出来たのであるが、比較例7.8では平均粒
子径が規定値より高く、また、比較例9ではアスペクト
比が規定値より低く、何れも、本発明の目的を達成する
焼結体は得られないことが認められた。さらに実施例1
〜3と比較して、曲げ強度の平均も低(、標準偏差も大
であり、さらにKleも低い。
As a result, the sintered body density increased and the requirement (d) was satisfied, but in Comparative Examples 7 and 8, the average particle diameter was higher than the specified value, and in Comparative Example 9, the aspect ratio was It was found that the ratio was lower than the specified value, and a sintered body that achieved the object of the present invention could not be obtained in either case. Furthermore, Example 1
-3, the average bending strength is low (and the standard deviation is large, and Kle is also low.

表−5 α晶の含有率が同等な粉末2と粉末5を各種の割合で混
合し粒度分布の異なる粉末を用意した。
Table 5 Powder 2 and Powder 5, which have the same α-crystal content, were mixed at various ratios to prepare powders with different particle size distributions.

それらの粉末に実施例と全く同様にしてBaCとカーボ
ンブラックを添加した後成形し、それぞれの粉末成形体
のTsを次の様にして測定した。同一バッチの混合粉末
より得られた粉末成形体を10−I〜I Torrの真
空上窒素雰囲気中で30分間加熱し、冷却後密度を測定
する。加熱温度は1800℃より10″C刻みで高くす
る。密度が3.05g/ccに達した加熱温度をTsと
する。このようにして得られた、Tsと(粒子径の標準
偏差)/ρとの関係を第12図に示した。図より両者は
正の相関があることが分かる。
BaC and carbon black were added to these powders in exactly the same manner as in the examples, and then molded, and the Ts of each powder compact was measured as follows. A powder compact obtained from the same batch of mixed powder is heated in a vacuum of 10-1 Torr in a nitrogen atmosphere for 30 minutes, and after cooling, the density is measured. The heating temperature is increased from 1800°C in 10"C increments. The heating temperature at which the density reaches 3.05 g/cc is Ts. Thus obtained, Ts and (standard deviation of particle size)/ρ The relationship between the two is shown in Fig. 12. It can be seen from the figure that there is a positive correlation between the two.

日 のα    のt 粉末2と粉末6を各種の割合で混合し、結晶形の異なる
粉末を用意した。それらの粉末に実施例と全く同様にし
てB、Cとカーボンブラックを添加した後成形し、実施
例と全く同様にして真空下で加熱して焼結中間体を得た
。次にこれらの焼結中間体を実施例と同様にして150
0気圧の加圧下で加熱し、焼結体を得た。
Powder 2 and Powder 6 were mixed at various ratios to prepare powders with different crystal forms. B, C and carbon black were added to these powders in exactly the same manner as in the examples, and then molded, and heated under vacuum in the same manner as in the examples to obtain sintered intermediates. Next, these sintered intermediates were heated to 150 mm in the same manner as in the example.
A sintered body was obtained by heating under a pressure of 0 atm.

これら混合粉末より得られた焼結中間体のα晶含有量と
、焼結体微細組織のアスペクト比との関係を第13図に
示した。図より焼結中間体のα晶含有量が5%を超える
と、焼結体微細構造のアスペクト比が5以上になりにく
いことが分かる。
FIG. 13 shows the relationship between the α crystal content of the sintered intermediate obtained from these mixed powders and the aspect ratio of the fine structure of the sintered body. From the figure, it can be seen that when the α crystal content of the sintered intermediate exceeds 5%, the aspect ratio of the sintered body microstructure is difficult to become 5 or more.

日  の   のt 粉末1に実施例と全く同様にしてB、Cとカーボンブラ
ックを添加し成形した後、真空下で1800〜1900
°Cの各種温度で加熱し、密度の異なる焼結中間体を得
た0次にこれらの焼結中間体を実施例と全く同様にして
1500気圧の加圧下で加熱し焼結体を得た。これら焼
結中間体の密度と焼結体の密度との関係を第14図に示
した。図より焼結中間体の密度が3.05g/cc以上
でないと、焼結体の密度が3.10g/cc以上になり
にくいことが分る。
After adding B, C and carbon black to Powder 1 and molding it in exactly the same manner as in Example, it was heated to 1800 to 1900 m
These sintered intermediates were heated at various temperatures of °C to obtain sintered intermediates with different densities.Next, these sintered intermediates were heated under a pressure of 1500 atm in exactly the same manner as in the example to obtain sintered bodies. . The relationship between the density of these sintered intermediates and the density of the sintered body is shown in FIG. From the figure, it can be seen that unless the density of the sintered intermediate is 3.05 g/cc or more, the density of the sintered body is difficult to reach 3.10 g/cc or more.

旦盈鳳lス亙 第1図〜第3図に示した炭化ケイ素粉末の電子顕微鏡像
より、粉末1(第1図)は粒子径分布が狭く二次凝集も
ないこと、粉末4(第2図)は単一粒子径は比較的均等
であるが二次凝集が発達していること、粉末6(第3図
)は二次凝集はないが、粒度分布が広いことが分る。第
7図〜第9図に示した焼結体の微細構造の光学顕微鏡像
より次のことが分る。実施例1の焼結体(第7図)では
粒子が微細で異方性があるのに対し、比較例8(第8図
)では粒子に異方性があるが粗大であること、比較例9
(第9図)では粒子は微細であるが異方性がないことが
分る。また第10図、第11図に示した焼結中間体の微
細構造の光学顕微鏡像より、実施例1(第10図)では
粒子が微細かつ均等であるのに対し、比較例2(第11
図)では異方性のある粗大粒子が生成していることが分
る。
From the electron microscope images of silicon carbide powder shown in Figures 1 to 3, powder 1 (Figure 1) has a narrow particle size distribution with no secondary agglomeration, and powder 4 (Figure 2) has a narrow particle size distribution with no secondary agglomeration. It can be seen that powder 6 (Figure 3) has a relatively uniform single particle size but developed secondary agglomeration, and powder 6 (Figure 3) has no secondary agglomeration but has a wide particle size distribution. The following can be seen from the optical microscope images of the fine structure of the sintered body shown in FIGS. 7 to 9. In the sintered body of Example 1 (Figure 7), the particles are fine and anisotropic, whereas in Comparative Example 8 (Figure 8), the particles are anisotropic but coarse; 9
(Figure 9) shows that although the particles are fine, there is no anisotropy. Further, from the optical microscope images of the fine structure of the sintered intermediate shown in FIGS. 10 and 11, it is clear that the particles in Example 1 (FIG. 10) are fine and uniform, whereas the particles in Comparative Example 2 (FIG. 11) are fine and uniform.
Figure) shows that coarse particles with anisotropy are generated.

(分析法の総括) 以下、本発明で使用する分析法を纏めて示す。(Summary of analytical methods) The analysis methods used in the present invention are summarized below.

〔粒子径測定〕[Particle size measurement]

本発明における粒子径の測定法は、粒子を直接観察する
唯一の方法である顕微鏡像により求める方法とし、顕微
鏡は透過型電子顕微鏡を用いる。
In the present invention, the particle diameter is measured using a microscope image, which is the only method for directly observing particles, and a transmission electron microscope is used as the microscope.

衆知の如く、粉末の粒子を電子顕微鏡の試料支持台に担
持する際には、粒子の凝集や偏析が生じ易く、粉末の全
体を代表する試料を作成することはかなり困難である。
As is well known, when powder particles are supported on a sample support of an electron microscope, agglomeration and segregation of particles tend to occur, making it quite difficult to prepare a sample that represents the entire powder.

この問題を防ぐために従来より検討が重ねられている(
例えば粉体工学研究会績「粉体粒度測定法」 (養賢堂
発行、昭和42年)の第4章に種々の方法が記載されて
いる)。
In order to prevent this problem, many studies have been carried out in the past (
For example, various methods are described in Chapter 4 of "Powder Particle Size Measurement Method" published by the Powder Technology Research Association (published by Yokendo, 1962).

本発明者等はこれら種々の方法を鋭意検討した結果、コ
ロジオンを支持膜としたシートメツシュに、粉末粒子を
分散させたスラリーをネブライザーを用いて噴霧し、粉
末粒子をコロジオン膜に担持させて得た試料が最も良好
な結果が得られることを確認した。
As a result of intensive studies on these various methods, the present inventors sprayed a slurry in which powder particles were dispersed onto a sheet mesh using collodion as a support film using a nebulizer, and the powder particles were supported on the collodion film. It was confirmed that the sample gave the best results.

本発明においては、粉末の粒子径の測定はこの噴霧法に
よって得られた試料の電子顕微鏡像より求めるものとす
る。スラリーはイソブタノールを分散媒とすることが好
ましく、粉末のスラリー濃度は0.3〜0.7%の範囲
が好ましい、ここで粉末を分散させる際には超音波細胞
破砕器の様な強力な超音波分散器を用い数分間作用させ
て行う方法が好ましい。
In the present invention, the particle size of the powder is determined from an electron microscope image of a sample obtained by this spraying method. The slurry preferably uses isobutanol as a dispersion medium, and the powder slurry concentration is preferably in the range of 0.3 to 0.7%. A method using an ultrasonic disperser for several minutes is preferred.

粉末の粒子径は、この様にして得られた試料の顕微鏡像
より求めるが、ここでは粒子径は円相当径とする。この
円相当径とは、粒子像の面積を測定して、その像と等し
い面積の円を仮定し、その円の直径で表した値である。
The particle size of the powder is determined from the microscopic image of the sample obtained in this way, and here the particle size is defined as the equivalent circle diameter. The equivalent circle diameter is a value expressed by measuring the area of a particle image, assuming a circle with the same area as the image, and expressing the diameter of the circle.

ここで本発明においてはある影像を単一の粒子とみなす
か、複数の粒子とみなすかに任意性が入る余地をなくす
ために、例えば瓢箪状の影像の様に一部でも接続したも
のは、全て単一の粒子とみなすものとする。なお、支持
膜に担持された粉末の量が増加すると、複数の粒子が見
掛は上接続して単一の粒子に見える確率が増すため、本
発明における粒子径は、影像全体に占める粒子像の面積
が5〜15%の範囲にある様に作成された試料より求め
るものとする。
Here, in the present invention, in order to eliminate the possibility of arbitrariness as to whether a certain image is regarded as a single particle or a plurality of particles, for example, when an image is partially connected, such as a gourd-shaped image, All shall be considered as a single particle. Note that as the amount of powder supported on the support film increases, the probability that multiple particles will apparently connect upwards and appear as a single particle increases. It shall be determined from a sample prepared such that the area is in the range of 5 to 15%.

なお、平均粒子径は円相5径の算術平均値とする。Note that the average particle diameter is the arithmetic mean value of the five diameters of the circular phase.

〔結晶形定量法〕[Crystal form determination method]

炭化ケイ素粉末及び焼結体に含まれる低温型α晶(2H
) 、β晶(3C) 、高温型α晶(4H,6H,15
R)の定量は、CuKα線を光源としモノクロメータ−
を受光側に入れた粉末X線回折法で得られる図形より求
める0図形の各ピーク高さより各成分を算出する方法は
、窯業協会誌、鉦、 576−582 (1979))
に記載の方法に従うものとする。なお、焼結体を粉末X
線回折法で測定する際には、焼結体を100メツシユ以
下に粉砕して測定する。
Low-temperature α crystal (2H) contained in silicon carbide powder and sintered body
), β crystal (3C), high temperature α crystal (4H, 6H, 15
Quantification of R) is carried out using a monochromator using CuKα radiation as a light source.
The method of calculating each component from the height of each peak of the 0 figure obtained from the figure obtained by powder X-ray diffraction method using a powder on the receiving side is described in Ceramics Association Journal, Gong, 576-582 (1979))
The method described in shall be followed. In addition, the sintered body is powder
When measuring by the linear diffraction method, the sintered body is pulverized into 100 meshes or less.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図〜第3図は、本発明の実施例及び比較例で用いた
それぞれ粉末1.4.6の、透過形電子顕微鏡で撮影し
た粒子状態を示す写真である。倍率はいずれも8000
倍である。第4図は、粉末1の粉末X線回折図形を示す
、第5図〜第6図は、実施例1の粉末1を原料として得
られたそれぞれ焼結中間体、焼結体の粉末X線回折図形
を示す。 第7図〜第9図はそれぞれ実施例1.比較例8.比較例
9で得た焼結体の断面の表面組織の微細構造を示す光学
顕微鏡による写真である0倍率はいずれも500倍であ
る。 第10図〜第11図はそれぞれ実施例1.比較例1で得
られた焼結中間体の断面の表面組織の微細構造を示す光
学顕微鏡による写真である0倍率はいずれも150倍で
ある。 第12図は(粒子径の標準偏差/ρ)とのTsとの関係
を示すグラフである。 第13図は焼結中間体のα高含有量と結晶体の微細組織
のアスペクト比との関係を示すグラフである。 第14図は焼結中間体の密度と焼結体の密度との関係を
示すグラフである。 特許出願人 三井東圧化学株式会社 第1図 第2−図 図面の浄書 第7図 図面の浄書 第8図 第1412I 手続補正書(方式) 昭和62年5月19日 特許庁長官 黒 1)明 雄 殿 1、事件の表示 昭和62年特許願第39131  号 2、発明の名称 炭化ケイ素焼結体の新規な製造法 3、補正をする者 事件との関係  特許出瀬人 住所 東京都千代田区霞が関三丁目2番5号名称(31
2)  三井東圧化学株式会社4、補正により増加する
発明の数   零7、補正の内容 〔別紙〕 4、図面の簡単な説明 第1図〜第3図は、本発明の実施例及び比較例で用いた
それぞれ粉末1,4.6の、透過形電子顕微鏡で撮影し
た粒子状態を示す写真である0倍率番よいずれも800
0倍である。第4図は、粉末1の粉末X線回折図形を示
す、第5図〜第6図は、実施例1の粉末1を原料として
得られたそれぞれ焼結中間体、焼結体の粉末X線回折図
形を示す。 第7図〜第9図はそれぞれ実施例1.比較例8.比較例
9で得た焼結体の断面の粒子構造を示す光学顕微鏡によ
る写真である0倍率はいずれも500倍である。 第10図〜第11図はそれぞれ実施例1.比較例1で得
られた焼結中間体の断面の粒子構造を示す光学顕微鏡に
よる写真である0倍率はいずれも150倍である。 第12図は(粒子径の標準偏差lρ)とのTsとの関係
を示すグラフである。 第13図は焼結中間体のα晶含育量と結晶体の微細組織
のアスペクト比との関係を示すグラフである。 第14図は焼結中間体の密度と焼結体の密度との関係を
示すグラフである。 (2)図面の第7図〜第11図を別紙のとおり割印の無
い図面と差し換える。 以上
FIGS. 1 to 3 are photographs showing the state of particles of powders 1, 4, and 6 used in Examples and Comparative Examples of the present invention, respectively, taken with a transmission electron microscope. Both magnifications are 8000
It's double. FIG. 4 shows the powder X-ray diffraction pattern of Powder 1. FIGS. The diffraction pattern is shown. FIGS. 7 to 9 show Example 1, respectively. Comparative example 8. The 0 magnification of the photos taken with an optical microscope showing the fine structure of the surface structure of the cross section of the sintered body obtained in Comparative Example 9 is 500 times. FIGS. 10 to 11 show Example 1, respectively. The 0 magnification of the photos taken by an optical microscope showing the fine structure of the surface structure of the cross section of the sintered intermediate obtained in Comparative Example 1 is 150 times. FIG. 12 is a graph showing the relationship between Ts and (standard deviation of particle diameter/ρ). FIG. 13 is a graph showing the relationship between the high α content of the sintered intermediate and the aspect ratio of the microstructure of the crystal. FIG. 14 is a graph showing the relationship between the density of the sintered intermediate and the density of the sintered body. Patent applicant: Mitsui Toatsu Chemical Co., Ltd. Figure 1: Engraving of the drawings in Figure 2 - Engraving of the drawings in Figure 7 Figure 8: 1412I Procedural amendment (method) May 19, 1985 Commissioner of the Japan Patent Office Black 1) Akira Mr. Yu 1, Indication of the case Patent Application No. 39131 filed in 1988 2, Title of the invention: New manufacturing method for silicon carbide sintered body 3, Relationship with the case by the person making the amendment Patent address: Kasumigaseki, Chiyoda-ku, Tokyo 3-chome 2-5 name (31
2) Mitsui Toatsu Chemical Co., Ltd. 4. Number of inventions increased by amendment 0 7. Contents of amendment [Attachment] 4. Brief explanation of drawings Figures 1 to 3 show examples and comparative examples of the present invention. These are photographs taken with a transmission electron microscope showing the particle state of powders 1 and 4.6 used in
It is 0 times. FIG. 4 shows the powder X-ray diffraction pattern of Powder 1. FIGS. The diffraction pattern is shown. FIGS. 7 to 9 show Example 1, respectively. Comparative example 8. The zero magnification of the photos taken with an optical microscope showing the grain structure of the cross section of the sintered body obtained in Comparative Example 9 is 500 times. FIGS. 10 to 11 show Example 1, respectively. The 0 magnification of the photos taken with an optical microscope showing the grain structure of the cross section of the sintered intermediate obtained in Comparative Example 1 is 150 times. FIG. 12 is a graph showing the relationship between Ts and (standard deviation lρ of particle diameter). FIG. 13 is a graph showing the relationship between the α-crystal content of the sintered intermediate and the aspect ratio of the microstructure of the crystal. FIG. 14 is a graph showing the relationship between the density of the sintered intermediate and the density of the sintered body. (2) Figures 7 to 11 of the drawings are replaced with drawings without tally marks as shown in the attached sheet. that's all

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)炭化ケイ素粉末100重量部に0.05〜0.3
重量部のホウ素及び0.5〜3.0重量部の炭素を添加
混合した後、該混合物を成形し、1900〜2050℃
にて加熱焼結させて炭化ケイ素焼結体を得る方法におい
て、 (1)該炭化ケイ素粉末の物性は以下に示す(イ)、(
ロ)、(ハ)の条件を満足するものであり:(イ)平均
粒子径ρが0.1〜0.2μであること。 (ロ)粒子径の標準偏差が0.8×ρ以下であること。 (ハ)結晶形は80重量%以上のβ晶と、20重量%以
下の低温型α晶を含むものであること。
(1) 0.05 to 0.3 per 100 parts by weight of silicon carbide powder
After adding and mixing parts by weight of boron and 0.5 to 3.0 parts by weight of carbon, the mixture is molded and heated at 1900 to 2050°C.
(1) The physical properties of the silicon carbide powder are as shown below (a), (
It satisfies the conditions (b) and (c): (a) the average particle diameter ρ is 0.1 to 0.2 μ; (b) The standard deviation of particle diameter is 0.8×ρ or less. (c) The crystal form must contain 80% by weight or more of β crystals and 20% by weight or less of low-temperature α crystals.
(2)かつ、一旦不活性ガス雰囲気中で該炭化ケイ素粉
末中のα晶含有量が5重量%を越えないような温度範囲
に加熱して次の(ニ)、(ホ)の条件を満足する焼結中
間体を得: (ニ)密度が3.05g/cc以上であること。 (ホ)結晶形は95重量%以上のβ晶と5重量%以下の
α晶を含むものであること。
(2) and once heated in an inert gas atmosphere to a temperature range such that the α crystal content in the silicon carbide powder does not exceed 5% by weight, and the following conditions (d) and (e) are satisfied. Obtain a sintered intermediate that: (d) has a density of 3.05 g/cc or more. (e) The crystal form must contain 95% by weight or more of β crystals and 5% by weight or less of α crystals.
(3)しかる後、100気圧以上の不活性ガス雰囲気中
で1800〜2000℃に加熱して、次の(ヘ)、(ト
)、(チ)の特性により特徴ずけられる焼結体を得るこ
とからなる、炭化ケイ素焼結体の新規な製造法。 (へ)焼結体密度が3.10g/cc以上であること。 (ト)微細組織の平均粒子径が3〜15μでアスペクト
比が5〜20であること。 (チ)結晶形は50重量%以上のβ晶と50重量%未満
の高温型α晶を含むものであること。
(3) After that, it is heated to 1800 to 2000°C in an inert gas atmosphere of 100 atmospheres or more to obtain a sintered body characterized by the following properties (f), (g), and (h). A novel manufacturing method for silicon carbide sintered bodies, which comprises: (f) The density of the sintered body is 3.10 g/cc or more. (g) The average particle diameter of the microstructure is 3 to 15 μm and the aspect ratio is 5 to 20. (h) The crystal form must contain 50% by weight or more of β crystals and less than 50% by weight of high-temperature α crystals.
(4)原料炭化ケイ素粉末中には低温型α晶が5〜20
重量%含まれていて、得られる炭化ケイ素焼結体中には
高温型α晶が5重量%以下含まれていることを特徴とす
る特許請求の範囲第1項記載の方法。
(4) There are 5 to 20 low-temperature α crystals in the raw material silicon carbide powder.
2. The method according to claim 1, wherein the resulting silicon carbide sintered body contains 5% by weight or less of high-temperature α crystals.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6414175A (en) * 1987-07-08 1989-01-18 Toshiba Corp Production of silicon carbide ceramic
EP2166258A4 (en) * 2007-04-25 2012-07-04 Ebara Corp Ceramic sliding member for pure water

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS54122311A (en) * 1978-03-15 1979-09-21 Hiroshige Suzuki High density silicon carbide sintered body and preparation thereof
JPS56169181A (en) * 1980-05-30 1981-12-25 Ibigawa Electric Ind Co Ltd Manufacture of high strength silicon carbide sintered body
JPS5983922A (en) * 1982-11-04 1984-05-15 Mitsui Toatsu Chem Inc Preparation of silicon carbide powder
JPS6156187A (en) * 1984-05-21 1986-03-20 エニーケム・シンテシース・エセ・ピ・ア Reactive stabilizer compound for organic polymer, stabilizedpolymer blend and preparation thereof

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS54122311A (en) * 1978-03-15 1979-09-21 Hiroshige Suzuki High density silicon carbide sintered body and preparation thereof
JPS56169181A (en) * 1980-05-30 1981-12-25 Ibigawa Electric Ind Co Ltd Manufacture of high strength silicon carbide sintered body
JPS5983922A (en) * 1982-11-04 1984-05-15 Mitsui Toatsu Chem Inc Preparation of silicon carbide powder
JPS6156187A (en) * 1984-05-21 1986-03-20 エニーケム・シンテシース・エセ・ピ・ア Reactive stabilizer compound for organic polymer, stabilizedpolymer blend and preparation thereof

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6414175A (en) * 1987-07-08 1989-01-18 Toshiba Corp Production of silicon carbide ceramic
EP2166258A4 (en) * 2007-04-25 2012-07-04 Ebara Corp Ceramic sliding member for pure water

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