JPS63197331U - - Google Patents
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- Publication number
- JPS63197331U JPS63197331U JP8976187U JP8976187U JPS63197331U JP S63197331 U JPS63197331 U JP S63197331U JP 8976187 U JP8976187 U JP 8976187U JP 8976187 U JP8976187 U JP 8976187U JP S63197331 U JPS63197331 U JP S63197331U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- spin head
- wafer
- resist coating
- developing device
- supports
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Coating Apparatus (AREA)
Description
第１図は本考案レジスト塗布・現像装置をレジ
スト塗布装置に適用したときの実施例を示す一部
断面模式図である。 １……スピンヘツド、３……ウエハー、４……
滴下ノズル、６……渦巻状パイプ、７……液体循
環系。
スト塗布装置に適用したときの実施例を示す一部
断面模式図である。 １……スピンヘツド、３……ウエハー、４……
滴下ノズル、６……渦巻状パイプ、７……液体循
環系。
Claims (1)
- ウエハーを支持する回転自在なスピンヘツドを
備えたレジスト塗布・現像装置であつて、前記ス
ピンヘツドはウエハー載置面の温度分布をほぼ一
定にする温度調整手段を有することを特徴とした
レジスト塗布・現像装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8976187U JPS63197331U (ja) | 1987-06-11 | 1987-06-11 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8976187U JPS63197331U (ja) | 1987-06-11 | 1987-06-11 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63197331U true JPS63197331U (ja) | 1988-12-19 |
Family
ID=30949031
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8976187U Pending JPS63197331U (ja) | 1987-06-11 | 1987-06-11 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63197331U (ja) |
-
1987
- 1987-06-11 JP JP8976187U patent/JPS63197331U/ja active Pending