JPS63188979A - 超伝導記憶装置 - Google Patents
超伝導記憶装置Info
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- JPS63188979A JPS63188979A JP62020533A JP2053387A JPS63188979A JP S63188979 A JPS63188979 A JP S63188979A JP 62020533 A JP62020533 A JP 62020533A JP 2053387 A JP2053387 A JP 2053387A JP S63188979 A JPS63188979 A JP S63188979A
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Landscapes
- Superconductor Devices And Manufacturing Methods Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、情報をジョセフソン磁束量子の形で超伝導
層中に記憶する超伝導記憶装置に関するものである。
層中に記憶する超伝導記憶装置に関するものである。
従来、磁束量子の形で超伝導層中に情報を記憶する超伝
導記憶装置が特願昭60−255136号明細書または
第46回応用物理学会予阿集2A−ZD−4等に開示さ
れている。後者は第6図に示すように、絶縁層1を介し
て第28[の超伝導層2.3が設けられ、超伝導層3の
上側には情報読出部4が設けられている。情報読出部4
は超伝導体で形敢された読出を極5および制御電極6か
ら構成され、それらは相互に絶縁されており、読出電極
5にはバイアス1流が供給され、制御電極6には読み出
し用の制御電流が供給されるようになっている。また超
伝導層2の端部であつで情報読出部4の量子方向と平行
な一方の端部2aの付近には超伝導体からなる書込電極
7が設けられ、書込電流が供給されるようになっている
。
導記憶装置が特願昭60−255136号明細書または
第46回応用物理学会予阿集2A−ZD−4等に開示さ
れている。後者は第6図に示すように、絶縁層1を介し
て第28[の超伝導層2.3が設けられ、超伝導層3の
上側には情報読出部4が設けられている。情報読出部4
は超伝導体で形敢された読出を極5および制御電極6か
ら構成され、それらは相互に絶縁されており、読出電極
5にはバイアス1流が供給され、制御電極6には読み出
し用の制御電流が供給されるようになっている。また超
伝導層2の端部であつで情報読出部4の量子方向と平行
な一方の端部2aの付近には超伝導体からなる書込電極
7が設けられ、書込電流が供給されるようになっている
。
このように構成された装置において、書込電極7に書込
電流を供給すると磁場が発生し、その磁場が超伝導層2
,3に影響を与える。超伝導層2゜3は共に第2種超伝
導体で作られているが、超伝導層3は超伝導層2より厚
みが厚く形成されている。その厚さは、書込電流によ多
発生した磁場が超伝導層2は通過するが、超伝導層3は
通過しないように選ばれている。このように構成するこ
とKよシ、超伝導層2のうち、超伝導層3で覆われてい
ない部分だけ磁束が通過し、超伝導層2の端部2aの超
伝導体が常伝導体に変えられ、そこで磁束童子が発生し
、磁束量子が一度発生するとその磁束量子はそこに接す
る情報読出部方向の超伝導体を常伝導体に変えながら情
報読出部4の方向に移動する。また、この磁束量子は磁
場が除去された後もビン止め力によシ自己保持される性
質を有している。
電流を供給すると磁場が発生し、その磁場が超伝導層2
,3に影響を与える。超伝導層2゜3は共に第2種超伝
導体で作られているが、超伝導層3は超伝導層2より厚
みが厚く形成されている。その厚さは、書込電流によ多
発生した磁場が超伝導層2は通過するが、超伝導層3は
通過しないように選ばれている。このように構成するこ
とKよシ、超伝導層2のうち、超伝導層3で覆われてい
ない部分だけ磁束が通過し、超伝導層2の端部2aの超
伝導体が常伝導体に変えられ、そこで磁束童子が発生し
、磁束量子が一度発生するとその磁束量子はそこに接す
る情報読出部方向の超伝導体を常伝導体に変えながら情
報読出部4の方向に移動する。また、この磁束量子は磁
場が除去された後もビン止め力によシ自己保持される性
質を有している。
このようにして書き込まれた情報は制御電極6に読出用
の制御電流を供給し、また読出電極に読出電流を供給す
ることによってそれ゛らの電流による磁場と、保持され
ている磁束量子による磁場の相互作用によって記憶され
た情報が読み出される。
の制御電流を供給し、また読出電極に読出電流を供給す
ることによってそれ゛らの電流による磁場と、保持され
ている磁束量子による磁場の相互作用によって記憶され
た情報が読み出される。
しかしながらこのような従来の装置において発生する磁
束量子は第2種超伝導体中に発生するアブリコソフ磁束
量子であるため、磁束量子を発生させるために超伝導体
を常伝導体に変えねばならず、このため非常に大きなエ
ネルギが必要であシ、実用性に問題があった。また、磁
束量子の移動も超伝導体を常伝導体に変えながら進むた
め、書込速度が遅いという問題を有していた。
束量子は第2種超伝導体中に発生するアブリコソフ磁束
量子であるため、磁束量子を発生させるために超伝導体
を常伝導体に変えねばならず、このため非常に大きなエ
ネルギが必要であシ、実用性に問題があった。また、磁
束量子の移動も超伝導体を常伝導体に変えながら進むた
め、書込速度が遅いという問題を有していた。
このような問題を解決するためにこの発明は、磁束量子
を発生させる超伝導体にその端部から情報読山部付近ま
で連続して接するジョセフソン接合部を設けたものであ
る。
を発生させる超伝導体にその端部から情報読山部付近ま
で連続して接するジョセフソン接合部を設けたものであ
る。
超伝導体端部に露出しているジョセフソン接合部でジョ
セフソン磁束量子が発生し、その磁束量子がジョセフソ
ン接合部に添って移動する。
セフソン磁束量子が発生し、その磁束量子がジョセフソ
ン接合部に添って移動する。
第1図はこの発明の一実施例を示す図であシ、−第6図
と同一部分は同記号を用いている。図において、磁束量
子蓄積部20は第2図に示すように、複数の島状の超電
導体21の接合部に超伝導性の弱い網目状のジョセフソ
ン接合部22を肩するように作られている。このジョセ
フソン接合s 22は第1図に示すように、少なくとも
超伝導層3で覆われていない記号8で示す情報記憶領域
の部分には必らず存在し、第1図および第2図に点線お
よび太目の笑線で示したように、そのジョセフソン接合
部のうち少なくとも1つは記号22a で示すように、
端部20aから情報読山部付近まで(厳密には情報読出
部4の付近まで移動した磁束量子が制御電極6に供給さ
れる制御電流により発生する磁場に影響を与え、その影
響が後述する検出用ジョセフソン接合部に電圧変化をお
こす位置まで〕連続して接している必要がある。ジョセ
フソン接合部22a のよう々連続して接しているジョ
セフソン接合部を必要があるとき記憶用ジョセフソン接
合部と定義する。また、ジョセフソン接合部22aは磁
束量子蓄積部20の端部20aに少なくともその一部が
露出している露出部22atを有する必要がある。
と同一部分は同記号を用いている。図において、磁束量
子蓄積部20は第2図に示すように、複数の島状の超電
導体21の接合部に超伝導性の弱い網目状のジョセフソ
ン接合部22を肩するように作られている。このジョセ
フソン接合s 22は第1図に示すように、少なくとも
超伝導層3で覆われていない記号8で示す情報記憶領域
の部分には必らず存在し、第1図および第2図に点線お
よび太目の笑線で示したように、そのジョセフソン接合
部のうち少なくとも1つは記号22a で示すように、
端部20aから情報読山部付近まで(厳密には情報読出
部4の付近まで移動した磁束量子が制御電極6に供給さ
れる制御電流により発生する磁場に影響を与え、その影
響が後述する検出用ジョセフソン接合部に電圧変化をお
こす位置まで〕連続して接している必要がある。ジョセ
フソン接合部22a のよう々連続して接しているジョ
セフソン接合部を必要があるとき記憶用ジョセフソン接
合部と定義する。また、ジョセフソン接合部22aは磁
束量子蓄積部20の端部20aに少なくともその一部が
露出している露出部22atを有する必要がある。
第1図の記号9a、9b は超伝導層3と読出電極5と
の間に挿入されている絶縁物(この絶縁物は前述したよ
うに第1図には図示していない)に設けられた窓で、こ
の窓を含む■−■方向の断面図が第3図である。第3図
において10は前述の窓9a、9bが設けられている絶
縁物、11は超伝導層3のうち窓9a、9bで覆われる
領域が酸化されて形成されたトンネル障壁層、12は鎖
交磁束数を増加させるための絶縁物である。読出電極5
は絶縁物10.12の上部に接して設けられるとともに
、その一部は窓9a、9bf:埋め、トンネル障壁層1
1の上面に接している。このトンネル障壁層11は非常
に薄く、BML導層3および読出電極5の近接効果によ
りジョセフソン接合を形成するようになっている。以下
、そのジョセフソン接合を記憶用ジョセフソン接合部と
区別して呼称する必要がおるとき、読出用ジョセフソン
接合部と定義する。13は制御電債6と読出電極5を絶
縁するための絶縁物でちる。第3図の絶縁物のうち、絶
縁物1だけが第1図に現われている。
の間に挿入されている絶縁物(この絶縁物は前述したよ
うに第1図には図示していない)に設けられた窓で、こ
の窓を含む■−■方向の断面図が第3図である。第3図
において10は前述の窓9a、9bが設けられている絶
縁物、11は超伝導層3のうち窓9a、9bで覆われる
領域が酸化されて形成されたトンネル障壁層、12は鎖
交磁束数を増加させるための絶縁物である。読出電極5
は絶縁物10.12の上部に接して設けられるとともに
、その一部は窓9a、9bf:埋め、トンネル障壁層1
1の上面に接している。このトンネル障壁層11は非常
に薄く、BML導層3および読出電極5の近接効果によ
りジョセフソン接合を形成するようになっている。以下
、そのジョセフソン接合を記憶用ジョセフソン接合部と
区別して呼称する必要がおるとき、読出用ジョセフソン
接合部と定義する。13は制御電債6と読出電極5を絶
縁するための絶縁物でちる。第3図の絶縁物のうち、絶
縁物1だけが第1図に現われている。
このように構成された装置の動作は次の通シである。先
ず情報の記憶について説明する。情報の記憶を行なうと
きは第1図に示す書込電流を書込極Tに流す。このとき
、情報「l」に対応する電流を矢印方向に流すとすれば
、情報「0」に対応する電流は反対方向に流すものとす
る。との書込電流によυ磁場が発生し、その磁場が磁束
量子蓄積部20に供給される。このことにょシ、磁束量
子蓄積部20の端部20aに露出しているジョセフソン
接合部22alに磁束量子が発生し、発生した磁束量子
は磁場による力および、端部で次々に発生する磁束量子
によシ作用する斥力によって情報読出部4の方向に押し
込まれる。
ず情報の記憶について説明する。情報の記憶を行なうと
きは第1図に示す書込電流を書込極Tに流す。このとき
、情報「l」に対応する電流を矢印方向に流すとすれば
、情報「0」に対応する電流は反対方向に流すものとす
る。との書込電流によυ磁場が発生し、その磁場が磁束
量子蓄積部20に供給される。このことにょシ、磁束量
子蓄積部20の端部20aに露出しているジョセフソン
接合部22alに磁束量子が発生し、発生した磁束量子
は磁場による力および、端部で次々に発生する磁束量子
によシ作用する斥力によって情報読出部4の方向に押し
込まれる。
ジョセフソン接合部22(記号22a+22JJを含む
)は隣接する超伝導体の近接効果によって常伝導体の絶
縁膜が弱い超伝導体に変えられているものであるから、
その部分を常伝導体にするには本来の超伝導体を常伝導
体に変えるエネルギの数10分の1以下のエネルギで裏
足シる。そして、発生した磁束量子が磁場により作用す
る力、および後から発生する磁束量子との斥力によシ移
動するがこのとき、本来の超伝導体である島状の超伝導
体21を常伝導体に変えながら移動するよりも、近接効
果によって弱い超伝導体となっているジョセフソン接合
部22を常伝導体に変えながら移動する方がはるかにエ
ネルギが少なくてすむ。このため、磁束量子はジョセフ
ソン接合部22に添って移動するわけであるが、磁束量
子を情報読出部4に影響を与える位置まで移動させるた
めに、前述したように、端部20aから情報読出部付近
まで連続して接するジョセフソン接合部が少なくとも1
つは必要な理由がここにある。また、このようにジョセ
フソン接合部に添って磁束量子を移動する形態は従来の
ものよシもはるかに少ないエネルギですむため、磁束量
子の移動速度は従来のものより数千倍早い。
)は隣接する超伝導体の近接効果によって常伝導体の絶
縁膜が弱い超伝導体に変えられているものであるから、
その部分を常伝導体にするには本来の超伝導体を常伝導
体に変えるエネルギの数10分の1以下のエネルギで裏
足シる。そして、発生した磁束量子が磁場により作用す
る力、および後から発生する磁束量子との斥力によシ移
動するがこのとき、本来の超伝導体である島状の超伝導
体21を常伝導体に変えながら移動するよりも、近接効
果によって弱い超伝導体となっているジョセフソン接合
部22を常伝導体に変えながら移動する方がはるかにエ
ネルギが少なくてすむ。このため、磁束量子はジョセフ
ソン接合部22に添って移動するわけであるが、磁束量
子を情報読出部4に影響を与える位置まで移動させるた
めに、前述したように、端部20aから情報読出部付近
まで連続して接するジョセフソン接合部が少なくとも1
つは必要な理由がここにある。また、このようにジョセ
フソン接合部に添って磁束量子を移動する形態は従来の
ものよシもはるかに少ないエネルギですむため、磁束量
子の移動速度は従来のものより数千倍早い。
情報読出部4の方向に移動してきた磁束量子は厚みの厚
い超伝導層3の存在によシ、それ以上の移動が妨げられ
る。このようにして、磁束量子蓄積部20に設けられた
ジョセフソン接合部22に磁束量子が侵入していき、あ
る程度以上の磁束量子が侵入してしまうと、今度は磁束
量子の互いの斥力により、侵入が困難となり、飽和状態
に達する。このようにして侵入した磁束量子は磁束量子
蓄積部20のビン止め力(磁束量子を捕獲する力)によ
シ自己保持される。
い超伝導層3の存在によシ、それ以上の移動が妨げられ
る。このようにして、磁束量子蓄積部20に設けられた
ジョセフソン接合部22に磁束量子が侵入していき、あ
る程度以上の磁束量子が侵入してしまうと、今度は磁束
量子の互いの斥力により、侵入が困難となり、飽和状態
に達する。このようにして侵入した磁束量子は磁束量子
蓄積部20のビン止め力(磁束量子を捕獲する力)によ
シ自己保持される。
書込電極7に流す電流を前述と逆の方向にすると、今ま
でと逆向きの磁場が発生し、この磁場によって磁束量子
蓄積部20に今までと逆向き、すなわち前述の磁束量子
の向きが第1図において紙面の下から上向きの方向であ
る場合、今度は上から下の方向に向いた磁束量子が発生
する。この磁束量子も前述の磁束量子と同様にジョセフ
ソン接合部22に添って情報読出部4の方向に進んで行
き、既に自己保持されている反対向きの磁束量子と結合
して対消滅する。そしてさらに、新たな磁束量子が侵入
することによって、最終的には以前に自己保持されてい
たとは逆向きの磁束量子だけが超伝導層20に残留し、
保持される。このため、前者の状態が情報rlJを記憶
した状態とするなら・後者のものは情報「0」を記憶し
た状態に相当する。
でと逆向きの磁場が発生し、この磁場によって磁束量子
蓄積部20に今までと逆向き、すなわち前述の磁束量子
の向きが第1図において紙面の下から上向きの方向であ
る場合、今度は上から下の方向に向いた磁束量子が発生
する。この磁束量子も前述の磁束量子と同様にジョセフ
ソン接合部22に添って情報読出部4の方向に進んで行
き、既に自己保持されている反対向きの磁束量子と結合
して対消滅する。そしてさらに、新たな磁束量子が侵入
することによって、最終的には以前に自己保持されてい
たとは逆向きの磁束量子だけが超伝導層20に残留し、
保持される。このため、前者の状態が情報rlJを記憶
した状態とするなら・後者のものは情報「0」を記憶し
た状態に相当する。
次に記憶された情報の読出しについて説明する。
胱出しは制御電流Ics を制御電極6に供給するとと
もに、所定のバイアス電流Isを読出電極5に供給する
ことによって行なう。このとき、バイアス流Is は読
出電極5からトンネル障壁層11を介して超伝導層3に
流れるが、このバイアス電流の値は、制御電極6に供給
されている制御電流による磁場と、移動してきた磁束量
子による磁場のうち、制″@電流による磁場と同一方向
の磁場が加え合わされたとき、トンネル障壁層11に電
圧が発生する有電圧状態となるように設定されている。
もに、所定のバイアス電流Isを読出電極5に供給する
ことによって行なう。このとき、バイアス流Is は読
出電極5からトンネル障壁層11を介して超伝導層3に
流れるが、このバイアス電流の値は、制御電極6に供給
されている制御電流による磁場と、移動してきた磁束量
子による磁場のうち、制″@電流による磁場と同一方向
の磁場が加え合わされたとき、トンネル障壁層11に電
圧が発生する有電圧状態となるように設定されている。
第4図は読出用ジョセフソン接合部のfJ5m特性を示
す図であり、横軸は制御電極6に供給する制御電流、縦
軸は読出電極5に供給するバイアス電流である。図にお
いて点線は磁束量子が発生していないときの閾値特性曲
線、実線はrOJ状態に相当する磁束量子が保持されて
いるときの閾値特性曲線、一点鎖線は「1」状態に相当
する磁束量子が保持されているときの閾値特性曲線であ
る。
す図であり、横軸は制御電極6に供給する制御電流、縦
軸は読出電極5に供給するバイアス電流である。図にお
いて点線は磁束量子が発生していないときの閾値特性曲
線、実線はrOJ状態に相当する磁束量子が保持されて
いるときの閾値特性曲線、一点鎖線は「1」状態に相当
する磁束量子が保持されているときの閾値特性曲線であ
る。
このように、記憶状態によって閾値特性が横軸に沿って
遷移するのは、磁束量子蓄積部20に保持された磁束量
子が作る磁界の影響によるものである。
遷移するのは、磁束量子蓄積部20に保持された磁束量
子が作る磁界の影響によるものである。
今、続出電極5に前述した値のバイアス電流1sを供給
するとともに、制@電極6に第1図の矢印方向の制御電
流IC8を供給することによって動作点を第4図の記号
Aの位置に移動させることができる。この図は「0」記
憶状態であれば動作点Aが実紗で示す閾値特性曲線の内
側にあるため、トンネル障壁層11は苓電圧状態が維持
され、「l」記憶状態であれば動作点Aは一点鎖線で示
す閾値特性曲線の外側に出てし、まうことから、有電圧
状態に転移するξとを示している。この現象は[0,1
状態のときには磁束量子が作る磁場と、制御電流Ics
が作る磁場とがトンネル障壁N11において互いに折消
し合い、「1」状態にあるときは互いに那わシ合うこと
により生じる。このような作用によって所定のバイアス
電流Is と制御電流Icsとを同時に供給したとき
のトンネル障壁層11の電圧状態によって、記憶状態が
rlJであるか、「0」であるかを読み出すことができ
る。
するとともに、制@電極6に第1図の矢印方向の制御電
流IC8を供給することによって動作点を第4図の記号
Aの位置に移動させることができる。この図は「0」記
憶状態であれば動作点Aが実紗で示す閾値特性曲線の内
側にあるため、トンネル障壁層11は苓電圧状態が維持
され、「l」記憶状態であれば動作点Aは一点鎖線で示
す閾値特性曲線の外側に出てし、まうことから、有電圧
状態に転移するξとを示している。この現象は[0,1
状態のときには磁束量子が作る磁場と、制御電流Ics
が作る磁場とがトンネル障壁N11において互いに折消
し合い、「1」状態にあるときは互いに那わシ合うこと
により生じる。このような作用によって所定のバイアス
電流Is と制御電流Icsとを同時に供給したとき
のトンネル障壁層11の電圧状態によって、記憶状態が
rlJであるか、「0」であるかを読み出すことができ
る。
+PI報記憶装置の記憶動作特性は書込電極7に供給す
る書込′trlf、の値が小さいことおよび書込速度の
速いことが必要である。これらは前述したようにいずれ
も従来のものよりも非常に小さな値をとるので、従来の
ものよシもはるかに優れ′fC,特性を肩していること
になる。また、従来は超伝導層2に82m超伝導性を肩
するものしか用いることができなかつ念が、この例のも
のは磁束玉子が発生および移動する個所は超伝導層では
なく、記憶用ジョセフノン接合部でおるから、超伝導1
−2自体は第1種でも第2褌でも良く、材料の選択範囲
が広くなる。
る書込′trlf、の値が小さいことおよび書込速度の
速いことが必要である。これらは前述したようにいずれ
も従来のものよりも非常に小さな値をとるので、従来の
ものよシもはるかに優れ′fC,特性を肩していること
になる。また、従来は超伝導層2に82m超伝導性を肩
するものしか用いることができなかつ念が、この例のも
のは磁束玉子が発生および移動する個所は超伝導層では
なく、記憶用ジョセフノン接合部でおるから、超伝導1
−2自体は第1種でも第2褌でも良く、材料の選択範囲
が広くなる。
第2図に示すような網目状のジョセフノン接合部を形成
するには、絶縁性表面を有する基板として例えば、5r
Ti03、At! Os 、M9ALt O4の表面K
B& Pb1−xB1工03を蒸着し、堆積後に酸素
や酸化鉛等の雰囲気中において高熱温度処理することK
よυ粒界ジョセフンン接合を形成できる。また、S 1
02 、At20iに例えばInやSn等を蒸着し、堆
積後に酸素等の雰囲気中において暴露処理することによ
り、例えはI no3、S n03 衿でなる絶縁/m
が超伝導微粒子のまわりに形成される工程をとることも
できる。この蒸増、酸化の工程を多数回線や返すことに
よって超伝導微粒子H膜粒界ジョセフンン接合を形成し
、次にその蒸着膜に対しイオンエツチング処理tiは化
学エツチング処理を施こすことによって所望の形状を有
するものを得ることができる。また、超伝導体にその超
伝導性を損なわせる不純物、例えば酸素や磁性不純物を
網目状に導入することもできる。これには例えばS t
Oz 、Atz OsにNbやPb等を蒸着し、堆積後
に島状になったフォトレジストでなるマスク層を用い、
酸素やFe等の超伝導性を損なわせる不純物を例えばイ
オン注入することにより、網の目状に超伝導性の弱い部
分が形成される。その後、このマスク層を除去し、次に
その膜に対し、イオンエツチング処理または化学エツチ
ング処理を施とすことによって、所望の形状を持ったも
のを形成するととができる。または基板上にマスク層を
形成し、その後に超伝導膜を蒸着し、次に有機溶媒等に
よシフオドレジスト上の超伝導薄膜を除去し、島状にな
ったフォトレジストでなるマスク層を用い、酸素やFe
等の超伝導性を損なわせる不純物を例えばイオン注入法
を用いて、網の目状に形成することもできる。
するには、絶縁性表面を有する基板として例えば、5r
Ti03、At! Os 、M9ALt O4の表面K
B& Pb1−xB1工03を蒸着し、堆積後に酸素
や酸化鉛等の雰囲気中において高熱温度処理することK
よυ粒界ジョセフンン接合を形成できる。また、S 1
02 、At20iに例えばInやSn等を蒸着し、堆
積後に酸素等の雰囲気中において暴露処理することによ
り、例えはI no3、S n03 衿でなる絶縁/m
が超伝導微粒子のまわりに形成される工程をとることも
できる。この蒸増、酸化の工程を多数回線や返すことに
よって超伝導微粒子H膜粒界ジョセフンン接合を形成し
、次にその蒸着膜に対しイオンエツチング処理tiは化
学エツチング処理を施こすことによって所望の形状を有
するものを得ることができる。また、超伝導体にその超
伝導性を損なわせる不純物、例えば酸素や磁性不純物を
網目状に導入することもできる。これには例えばS t
Oz 、Atz OsにNbやPb等を蒸着し、堆積後
に島状になったフォトレジストでなるマスク層を用い、
酸素やFe等の超伝導性を損なわせる不純物を例えばイ
オン注入することにより、網の目状に超伝導性の弱い部
分が形成される。その後、このマスク層を除去し、次に
その膜に対し、イオンエツチング処理または化学エツチ
ング処理を施とすことによって、所望の形状を持ったも
のを形成するととができる。または基板上にマスク層を
形成し、その後に超伝導膜を蒸着し、次に有機溶媒等に
よシフオドレジスト上の超伝導薄膜を除去し、島状にな
ったフォトレジストでなるマスク層を用い、酸素やFe
等の超伝導性を損なわせる不純物を例えばイオン注入法
を用いて、網の目状に形成することもできる。
なお、以上の実施例において網目状の概念は第2図に示
すように、ある一平面が網目状になるように説明してき
たが、これは第5図に示すように、風船のような球形の
ものを複数押しつげ、水平面および垂直面ともに絹目状
に々るようにしても良い。また網目とは多角形に限定さ
れず四角形等でも良い。 ゛ 〔発明の効果〕 以上説明したようにこの発明は情報を記憶させる超伝導
層に記憶用ジョセフノン接合を形成したので、情報書込
みのためのエネルギが少なく、また書込速度が早く、実
用的な装置が得られるという効呆を有する。
すように、ある一平面が網目状になるように説明してき
たが、これは第5図に示すように、風船のような球形の
ものを複数押しつげ、水平面および垂直面ともに絹目状
に々るようにしても良い。また網目とは多角形に限定さ
れず四角形等でも良い。 ゛ 〔発明の効果〕 以上説明したようにこの発明は情報を記憶させる超伝導
層に記憶用ジョセフノン接合を形成したので、情報書込
みのためのエネルギが少なく、また書込速度が早く、実
用的な装置が得られるという効呆を有する。
第1図はこの発明の一実施例を示す斜視図、第2図は第
1図における情報を記憶する部分の超伝導体の一例を示
す斜視図、第3図は第1図の■−■断面図、第4図は情
報読出部の閾値特性を示すグラフ、第5図は網目状の他
の概念を示す斜視図、第6図は従来装置の一例を示す斜
視図である。 1.10,12,13・・・・絶縁物、2.3・・・・
超伝導層、4・・・・情報読出部、5・・・・読出電極
、6県・・・制御電極、T・・・・畳込電流、8・・・
・情報記憶領域、9a 、 9b・・・・窓、11・・
・・トンネル障壁層、20・・・・磁束量子蓄積部、2
1・・・・超伝導体、22・・・・ジョセフノン接合部
。
1図における情報を記憶する部分の超伝導体の一例を示
す斜視図、第3図は第1図の■−■断面図、第4図は情
報読出部の閾値特性を示すグラフ、第5図は網目状の他
の概念を示す斜視図、第6図は従来装置の一例を示す斜
視図である。 1.10,12,13・・・・絶縁物、2.3・・・・
超伝導層、4・・・・情報読出部、5・・・・読出電極
、6県・・・制御電極、T・・・・畳込電流、8・・・
・情報記憶領域、9a 、 9b・・・・窓、11・・
・・トンネル障壁層、20・・・・磁束量子蓄積部、2
1・・・・超伝導体、22・・・・ジョセフノン接合部
。
Claims (1)
- 磁場が印加されることによつて端部で磁束量子を発生で
き、その磁束量子が情報読出部に向つて移動するととも
に、磁場を取除いた状態でもすでに発生した磁束量子を
保持できる磁束量子蓄積部を少なくとも有する超伝導記
憶装置において、当該磁束量子蓄積部は端部から情報読
出部方向に連続して接するジョセフソン接合部を備え、
そのジョセフソン接合部は磁束量子を発生する端部に少
なくとも一部が露出し、かつ移動した磁束量子により発
生した磁場が情報読出部に影響を与える位置まで連続し
ていることを特徴とする超伝導記憶装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62020533A JPH073892B2 (ja) | 1987-02-02 | 1987-02-02 | 超伝導記憶装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62020533A JPH073892B2 (ja) | 1987-02-02 | 1987-02-02 | 超伝導記憶装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63188979A true JPS63188979A (ja) | 1988-08-04 |
JPH073892B2 JPH073892B2 (ja) | 1995-01-18 |
Family
ID=12029789
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62020533A Expired - Fee Related JPH073892B2 (ja) | 1987-02-02 | 1987-02-02 | 超伝導記憶装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH073892B2 (ja) |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60154686A (ja) * | 1984-01-25 | 1985-08-14 | Agency Of Ind Science & Technol | ジヨゼフソン線路デバイス |
-
1987
- 1987-02-02 JP JP62020533A patent/JPH073892B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60154686A (ja) * | 1984-01-25 | 1985-08-14 | Agency Of Ind Science & Technol | ジヨゼフソン線路デバイス |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH073892B2 (ja) | 1995-01-18 |
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Legal Events
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---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |