JPS63187494A - Semiconductor storage device - Google Patents

Semiconductor storage device

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JPS63187494A
JPS63187494A JP62019065A JP1906587A JPS63187494A JP S63187494 A JPS63187494 A JP S63187494A JP 62019065 A JP62019065 A JP 62019065A JP 1906587 A JP1906587 A JP 1906587A JP S63187494 A JPS63187494 A JP S63187494A
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JP
Japan
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memory cell
contact
bit lines
bit
bit line
Prior art date
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Pending
Application number
JP62019065A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kiyohiro Furuya
清広 古谷
Kazutami Arimoto
和民 有本
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Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Filing date
Publication date
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  • Semiconductor Memories (AREA)

Abstract

PURPOSE:To decrease the flat area of a memory cell by using two bit lines in contact with the memory cell and one bit line split into two not is contact with each and providing a stray capacitance balance means balancing the stray capacitance of the bit lines. CONSTITUTION:Two bit lines 9a, 9b in contact with a memory cell at an area 10 by 2-bit in the direction of a word line 2 of the memory cell array and bit lines 8a, 8b not in contact with the memory cell exist. A capacitance 12 having the same capacitance as the stray capacitance of the bit line 8a is connected in parallel with the connection terminal of the bit line 9a in contact with the memory cell in two input terminals of a sense amplifier 3a. Then a capacitor 11 having the same capacitance as the stray capacitance of the bit line 9a in contact with the memory call is connected in parallel with the memory cell to the connection terminal of the bit lie 8a split into two and not contact with the memory cell to balance the stray capacitance. Thus, noise immunity is provided and the pitch of the sense amplifiers is a pitch for 2-bit of the memory cell, then the memory cell area is reduced.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野J この発明は、半導体記憶装置、特に半導体装置装置のメ
モリセルアレイ構成に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Field of Application J] The present invention relates to a semiconductor memory device, and particularly to a memory cell array configuration of a semiconductor device.

(従来の技術〕 第4図、第5図は従来のT二導体記憶装置のメモリセル
アレイの一例を示す構成図であり、第4図は、例えば、
特開昭51−74535に示された折り返しビット線構
成のメモリセルアレイの構成図、第5図は、第4図のメ
モリセルの平面図である。
(Prior Art) FIGS. 4 and 5 are configuration diagrams showing an example of a memory cell array of a conventional T two-conductor memory device.
FIG. 5 is a block diagram of a memory cell array having a folded bit line configuration disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 51-74535. FIG. 5 is a plan view of the memory cell shown in FIG. 4.

図中1はビット線、la、lb、lc、ld。In the figure, 1 is the bit line, la, lb, lc, ld.

Ie、If、Ig、lhは各ビット線、2はワード線、
2a、2b、2c、2d、2e、2f。
Ie, If, Ig, lh are each bit line, 2 is a word line,
2a, 2b, 2c, 2d, 2e, 2f.

2g、2hは各ワード線、3はセンスアンプ、3a、3
b、3c、3dは各センスアンプ、4はトランスファー
ゲートのチャンネル部、5はコンタクト孔、6は1ビッ
ト分のメモリセル領域、7は情報電荷#iM用キャパシ
タである。
2g, 2h are each word line, 3 is a sense amplifier, 3a, 3
b, 3c, and 3d are respective sense amplifiers, 4 is a channel portion of a transfer gate, 5 is a contact hole, 6 is a memory cell region for one bit, and 7 is a capacitor for information charge #iM.

次に、この従来例の半導体記憶装置の動作を第4図、第
5図を用いて説明する。
Next, the operation of this conventional semiconductor memory device will be explained with reference to FIGS. 4 and 5.

メモリセルの情報電荷N積用キャパシタ7は、電源電位
または接地電位に充電されており、どちらの電位に充電
されているかによって、情報“l”または“0″を記憶
している。
The information charge N product capacitor 7 of the memory cell is charged to a power supply potential or a ground potential, and stores information "1" or "0" depending on which potential it is charged to.

このメモリセルが記憶しCいる情報をbzみ出す際は、
先づ、ピッ11を電源電位の半分の電位に充電しておく
。次にアドレス信号に応じて、例えば、ワード線2bの
みを高電位に変化させる。
When extracting the information stored in this memory cell,
First, the pin 11 is charged to half the power supply potential. Next, depending on the address signal, for example, only the word line 2b is changed to a high potential.

トランスファゲートのチャンネル部4が導電状態となり
、メモリセルの情報電荷蓄積用のキャパシタ7がビット
線1b、ld、if、Ihに接続される。この時ビット
線1b、ld、if。
The channel portion 4 of the transfer gate becomes conductive, and the capacitor 7 for storing information charges in the memory cell is connected to the bit lines 1b, ld, if, and Ih. At this time, bit lines 1b, ld, if.

Ihのうち、電源電位に充電されたキャパシタか接続さ
れたビット線は、電位が電C電位の半分よりも高電位に
変化し、接地電位に充電したキャパシタが接続されたビ
ット線は、電位が電′f!X電位の半分より低電位とな
るが、ビット線!a、lc。
Of Ih, the potential of the bit line connected to the capacitor charged to the power supply potential changes to a higher potential than half of the potential of the power supply, and the potential of the bit line connected to the capacitor charged to the ground potential changes to Electric 'f! The potential is lower than half of the X potential, but the bit line! a, lc.

le、Igの電位は、電#を電位の半分のままである。The potentials of le and Ig remain half of the potential of #.

従って、ワード線2bの選択後、ビット線lb、ld、
if、lhの電位が電源電位の半分より上がったか下が
ったかは、電源電位の半分の電位のビット線1a、lc
、le、Igと、センスアンプ3a、3b、3c、3d
によって比較す−ることにより知ることができ、この結
果によって、メモリセルが記憶していた情報を知ること
ができる。
Therefore, after selecting word line 2b, bit lines lb, ld,
Whether the potential of if, lh has risen or fallen from half of the power supply potential is determined by the bit lines 1a, lc whose potential is half the power supply potential.
, le, Ig, and sense amplifiers 3a, 3b, 3c, 3d
This result can be used to determine the information stored in the memory cell.

又、例えば、ワード線2Cが選択された場合は、ビット
線1a、lc、le、Igの電位が、電源電位の半分か
ら変化し、ビット線1b。
Further, for example, when the word line 2C is selected, the potentials of the bit lines 1a, lc, le, and Ig change from half of the power supply potential, and the potentials of the bit lines 1a, lc, le, and Ig change from half of the power supply potential.

ld、if、Igの電位は電源電位の半分に保たれるた
め、ビット線1a、lc、is、Igの電位は、センス
アンプ3a、3b、3c、3dによって、ビット線1b
、ld、If、lhの電位と比較することによって、ワ
ード線選択後、電源電位のt分から、上がったのか、下
がったのかを知ることができ、前記と同じように、メモ
リセルが記憶していた情報を知ることができる。
Since the potentials of ld, if, and Ig are kept at half of the power supply potential, the potentials of bit lines 1a, lc, is, and Ig are controlled by sense amplifiers 3a, 3b, 3c, and 3d to
, ld, If, and lh, it is possible to know whether the power supply potential has increased or decreased from the t minute of the power supply potential after word line selection, and similarly to the above, it is possible to determine whether the memory cell has stored data. You can know the information.

他のワード線を選択した時も同心である。このような折
り返しビット線構成では、例えばセンスアンプ3aに入
力する2本のビット線1a。
They are also concentric when other word lines are selected. In such a folded bit line configuration, for example, two bit lines 1a input to the sense amplifier 3a.

lbは、センスアンプ3aから同じ方向である右方に近
接して延びているので、2本のビット線la、1bが、
基板やセルプレート(共に図示せず)から受けるカップ
リング雑音は、同相となるため、雑音によるセンスアン
プ3aの誤動作をおこしにくいという利点がある。他の
センスアンプについても同心である。また、各センスア
ンプ配設のピッチがメモリセル6の2ビット分のピッチ
となるのでセンスアンプ3のデザインルールがゆるいと
いう利点がある。
lb extends in the same direction from the sense amplifier 3a, close to the right, so the two bit lines la and 1b are
Since the coupling noise received from the substrate and the cell plate (both not shown) is in phase, there is an advantage that the sense amplifier 3a is less likely to malfunction due to noise. The same is true for other sense amplifiers. Furthermore, since the pitch of each sense amplifier is equal to the pitch of two bits of the memory cell 6, there is an advantage that the design rules for the sense amplifier 3 are relaxed.

然しながら、このような従来例の折り返しビット線構成
の半導体記憶装置は、第5図に示したように、1ビット
分のメモリセル領域6にワード線2を、2本配設する必
要があり、その平面積を小さくし、高集積化するために
は、フォトリソグラフィーに高度の分解能が必要となり
、その平面積を小さくすることには困難が伴なうという
欠点があった。
However, in such a conventional semiconductor memory device with a folded bit line configuration, as shown in FIG. 5, it is necessary to provide two word lines 2 in a memory cell area 6 for one bit. In order to reduce the planar area and achieve high integration, high resolution is required in photolithography, which has the drawback of being difficult to reduce the planar area.

(発明が解決しようとする問題点) 以上のように、従来例においては、メモリセルの乎面植
を小さくしようとする場合、フォトリソグラフィーに高
度の分解能が必要となり、平面積を小さくするには困難
が伴なうという問題点がある。
(Problems to be Solved by the Invention) As described above, in the conventional example, when trying to reduce the surface area of a memory cell, high resolution is required for photolithography, and in order to reduce the planar area, The problem is that it is difficult.

この発明は、上記のような従来例の問題点を解消するた
めになされたもので、従来例のセンスアンプのビッヂが
メモリセル2ビツトのピッチであり、雑?fに強い折り
返しビット線構成の長所を残しながら、メモリセルの平
面積が小さい半導体記憶装置を得ることを目的とする。
This invention was made in order to solve the problems of the conventional example as described above, and the pitch of the sense amplifier of the conventional example is the pitch of 2 bits of the memory cell, and it is rough? It is an object of the present invention to obtain a semiconductor memory device in which the planar area of memory cells is small while retaining the advantages of a folded bit line structure that is strong against f.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

このため、この発明においては、メモリセルアレイとセ
ンスアンプを有する半導体記憶装置において、メモリセ
ルの2ビツト分の領域に、前記メモリセルとコンタクト
する2木のビット線ならびに前記メモリセルとコンタク
トしない2分割された1本のビット線を有する前記メモ
リセルを行列状に配設して成るメモリセルアレイと、前
記メモリセルアレイの両側に配設されたセンスアンプよ
り成り、かつ、前記メモリセルとコンタクトする前記ビ
ット線の一方と、前記メモリセルとコンタクトしない前
記2分割ビット線の一方は、前記メモリセルアレイの一
方に配設した前記センスアンプに入力し、n「記メモリ
セルとコンタクトする前記ビット線の他方と、前記メモ
リセルとコンタクトしない前記2分割ビット線の他方は
、前記メモリセルアレイの他方に配設した前記センスア
ンプに入力し、前記センスアンプに入力する2本の0η
記ビツト線の浮遊容置のバランスをとる浮遊容量バラン
ス手段を設けることにより、前記目的を達成しようとす
るものである。
Therefore, in the present invention, in a semiconductor memory device having a memory cell array and a sense amplifier, in an area for two bits of a memory cell, two bit lines that contact the memory cell and two divided bit lines that do not contact the memory cell are provided. a memory cell array having one bit line arranged in rows and columns, and a sense amplifier arranged on both sides of the memory cell array, the bit being in contact with the memory cell; One of the two divided bit lines that does not contact the memory cell is input to the sense amplifier disposed on one side of the memory cell array, and one of the two bit lines that is not in contact with the memory cell is connected to the other bit line that is in contact with the memory cell. , the other of the two divided bit lines not in contact with the memory cell is input to the sense amplifier disposed on the other side of the memory cell array, and the two 0η lines input to the sense amplifier
The above object is achieved by providing a stray capacitance balancing means for balancing the floating capacitance of the bit line.

(作用〕 この発明における、メモリセルアレイとセンスアンプを
41するt導体・記憶装置は、メモリセル2ビツト分の
領域に、メモリセルとコンタクトする2本のビット線と
、メモリセルとコンタクトしない2分割された1本のビ
ット線が配設され、メモリセルとコンタクトする2本の
ビット線のうちの一方と2分割されたメモリセルとコン
タクトしないビット線の一方、およびメモリセルとコン
タクトする2本のビット線のうちの他方と、2分割され
たメモリセルとコンタクトしないビット線の他方は、相
補のビット線として、夫々メモリセルアレイの両側のセ
ンスアンプに入力されることにより、前記従来例の折り
返しビット線構成の場合と同心の動作により、メモリセ
ルが記憶しているメモリの読み出しをする。
(Function) In the present invention, the t-conductor/memory device that makes up the memory cell array and the sense amplifier 41 has two bit lines in an area corresponding to two bits of the memory cell, one in contact with the memory cell and one not in contact with the memory cell. One of the two bit lines that contacts the memory cell, one of the divided bit lines that does not contact the memory cell, and two bit lines that contact the memory cell. The other of the bit lines and the other of the bit lines that do not contact the divided memory cells are inputted as complementary bit lines to the sense amplifiers on both sides of the memory cell array, respectively, so that the folded bit of the conventional example is The memory stored in the memory cell is read by a concentric operation as in the case of the line configuration.

〔実施例〕〔Example〕

以丁、この発明の実施例を図面に基づい”C説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be explained based on the drawings.

第1図は、この発明の〜実施例による゛ト導体記憶装置
のメモリセルアレイの構成説明図、第2図は第1図のメ
モリセルアレイを構成するメモリセルの構造説明図であ
って、第2図<ayは、2ビツト分のメモリセル領域に
3木のビット線を有するメモリセルの平面説明図、第2
図(b)は、第2図(a)を矢印から視た斜視図、第2
図(C)は、第1図をx−x’ 方向に−・部切断した
断面図である。
FIG. 1 is an explanatory diagram of the structure of a memory cell array of a conductive memory device according to embodiments of the present invention, and FIG. 2 is an explanatory diagram of the structure of memory cells constituting the memory cell array of FIG. Figure <ay is a plan view of a memory cell having three bit lines in a memory cell area for two bits, the second
Figure (b) is a perspective view of Figure 2 (a) seen from the arrow;
Figure (C) is a sectional view of Figure 1 taken in the x-x' direction.

第3図はこの発明の他の実施例である半導体記憶装置の
メモリセルアレイの構成説明図、第4図は従来例の半導
体記憶装置の構成説明図、第5図は第4IAのメモリセ
ルアレイを構成するメモリセルの構造説明図である。
FIG. 3 is an explanatory diagram of the configuration of a memory cell array of a semiconductor memory device according to another embodiment of the present invention, FIG. 4 is an explanatory diagram of the configuration of a conventional semiconductor memory device, and FIG. 5 is a configuration explanatory diagram of a memory cell array of a fourth IA. FIG. 2 is a structural explanatory diagram of a memory cell.

第1図中、2はワード線、3はセンスアンプ、4はトラ
ンスファゲートのチャンネル部、5はコンタクト孔、6
は1ビツト分のメモリセル領域、8はメモリセルとコン
タクトしないビット線、8a〜8hはメモリセルとコン
タクトしない各ビット線、9はメモリセルとコンタクト
するビット線、9a〜9hはメモリセルとコンタクトす
る各ビット線、10は2ビツト分のメモリセルを並列に
配設したメモリセルアレイ、!!はビット線9と同じ8
址をもつ客用、12はビット線8と同じ容量をもつ容量
であり、第2図中、13は1層目ポリシリコン、14は
n型拡散層、15はキャパシタ絶縁1摸、16は平面部
分離酸化膜、16aは側壁部分離酸化膜、16bは溝底
部分離酸化膜、17は溝掘り分離領域であり、第3図中
、3a〜3tは各センスアンプ、8a〜8pはメモリセ
ルとコンタクトしない各ビット線、9a〜9pはメモリ
セルとコンタクトする各ビット線であり、第3図中ビッ
ト線8,9.容量11.12の−・部は記入を省略しで
ある。
In FIG. 1, 2 is a word line, 3 is a sense amplifier, 4 is a channel part of a transfer gate, 5 is a contact hole, and 6
is a memory cell area for one bit, 8 is a bit line that does not contact a memory cell, 8a to 8h is each bit line that does not contact a memory cell, 9 is a bit line that is in contact with a memory cell, 9a to 9h is a contact with a memory cell Each bit line 10 is a memory cell array in which memory cells for 2 bits are arranged in parallel! ! is the same as bit line 9
12 is a capacitor with the same capacitance as the bit line 8. In Figure 2, 13 is the first layer of polysilicon, 14 is an n-type diffusion layer, 15 is a capacitor insulation sample, and 16 is a flat surface. 16a is a sidewall isolation oxide film, 16b is a trench bottom isolation oxide film, and 17 is a trench isolation region. In FIG. 3, 3a to 3t are sense amplifiers, and 8a to 8p are memory cells. The bit lines 9a to 9p that do not make contact are the bit lines that make contact with the memory cells, and the bit lines 8, 9, . . . 9 in FIG. The - section of capacity 11.12 is omitted.

各図中、首記従来例におけると同一または相当構成要素
は同一符号で表し、重複説明は省略する。
In each figure, the same or equivalent components as in the prior art described above are represented by the same reference numerals, and redundant explanation will be omitted.

この実施例のメモリセルアレイは、第1図のメモリセル
アレイ構成説明図に示すように、メモリセルの2ビツト
分の領域に、メモリセルとコンタクトする2本のビット
1Q9a、9b、ならびにメモリセルとコンタクトしな
い2分割された1本のビット線8a、8bを有するメモ
リセルが行列状に配設され、その両側にセンスアンプ3
が配設されており、又、メモリセルとコンタクトする一
方のビットfi9aと、メモリセルとコンタクトしない
一方の2分割されたビット線8aは、メモリセルアレイ
10の一方に配設されたセンスアンプ3aに入力し、メ
モリセルとコンタクトする他方のビットfi9bと、メ
モリセルとコンタクトしない他方の2分割されたビット
線8はbメモリセルアレイ10の他方に配設されたセン
スアンプ3fに入力する構成となっている。
As shown in the explanatory diagram of the memory cell array configuration in FIG. 1, the memory cell array of this embodiment has two bits 1Q9a and 9b in contact with the memory cell and two bits 1Q9a and 9b in contact with the memory cell in an area corresponding to two bits of the memory cell. Memory cells each having one bit line 8a, 8b divided into two are arranged in a matrix, and sense amplifiers 3 are arranged on both sides of the memory cells.
The bit line 8a, which is divided into two, with one bit line fi9a in contact with the memory cell and the other bit line 8a not in contact with the memory cell, is connected to the sense amplifier 3a disposed in one side of the memory cell array 10. The other bit line 8 which is input and contacts the memory cell, and the other bit line 8 which is not in contact with the memory cell, is configured to input to the sense amplifier 3f disposed on the other side of the b memory cell array 10. There is.

第2図のメモリセル6は、第2図(C)において基板に
掘った溝の側面のn型拡散層14と、一層[1ポリシリ
コン13およびキャパシタ絶縁膜15からなる情報電荷
蓄積用容量と、トランスファゲートのチャンネル部4と
で形成されたITrlcのメモリセルとして動作する。
The memory cell 6 in FIG. 2 consists of an n-type diffusion layer 14 on the side surface of the groove dug in the substrate in FIG. , and the channel portion 4 of the transfer gate, it operates as an ITrlc memory cell.

このメモリセル6は、第2図(a)のように、2ビツト
分のメモリセル領域に3本のビット線が通過する面積が
あればよい。
As shown in FIG. 2(a), this memory cell 6 only needs to have an area for three bit lines to pass through the memory cell area for two bits.

前述のように、第1図のメモリセルアレイのワード線2
の方向に2ビツト分の領域10にメモリセルとコンタク
トした2木のビット、!!i19 a 。
As mentioned above, the word line 2 of the memory cell array in FIG.
2 bits in contact with the memory cell in the area 10 corresponding to 2 bits in the direction of ! ! i19a.

9bと、メモリセルとコンタクトしない2本のビット線
8a、8bが存在する。
9b and two bit lines 8a and 8b that do not contact the memory cells.

従ってビット線9aとビット線8a、ビット線8bとビ
ット線9bは相補のビット線として、メモリセルアレイ
の両側のセンスアンプ3a。
Therefore, bit line 9a and bit line 8a, and bit line 8b and bit line 9b serve as complementary bit lines and sense amplifiers 3a on both sides of the memory cell array.

3fに入力して、前記第4図に示した従来例の折り返し
ビット線構成の場合と同心にしてメモリセルが記憶して
いた情報を読み出すことができる。
3f, the information stored in the memory cells can be read out concentrically with the conventional folded bit line configuration shown in FIG.

次に、例えばセンスアンプ3aに入力する2木のビット
線9aと88の浮遊容量のバランスをとる浮遊容ζlバ
ランス手段について説明する。
Next, a stray capacitance ζl balancing means for balancing the stray capacitances of the two bit lines 9a and 88 input to the sense amplifier 3a, for example, will be described.

前記2本のビット線9aと8aはその長さが相違するた
め、ビット線の浮遊容量が異なっている。このため2本
のビット線9aと88のバランスをとるために、センス
アンプ3aの2つの入力端子のうち、メモリセルとコン
タクトするビット線9aの接続端子に、メモリセルとコ
ンタクトしない2分割されたビット1Is8aの浮遊容
量と同じ人きさの容量12を並列に接続し、メモリセル
とコンタクトしない2分割されたビット線8aの接続端
子にメモリセルとコンタクトするビット線9aの浮遊容
量と同じ大きさの容量11を並列に接続することにより
浮遊容量のバランスがとれる。
Since the two bit lines 9a and 8a have different lengths, the stray capacitances of the bit lines are different. Therefore, in order to balance the two bit lines 9a and 88, of the two input terminals of the sense amplifier 3a, the connection terminal of the bit line 9a that contacts the memory cell is divided into two that do not contact the memory cell. A human-sized capacitance 12, which is the same as the stray capacitance of bit 1Is8a, is connected in parallel, and the connection terminal of the divided bit line 8a, which is not in contact with the memory cell, has the same size as the stray capacitance of the bit line 9a, which is in contact with the memory cell. By connecting the capacitors 11 in parallel, the stray capacitance can be balanced.

又、面記容量11.12の代りに、第3図に示したよう
に、メモリセルアレイを複数のブロックに分割し、非選
択のブロックのビット線を利用することができる。例え
ば、センスアンプ3eの一方の入力端子には、ビット線
8bと9jが、他方の入力端子には9bと8jが接続さ
れており、センスアンプ3e負荷容量の点ではバランス
がとれている。
Furthermore, instead of the surface capacitance 11.12, the memory cell array can be divided into a plurality of blocks and the bit lines of unselected blocks can be used, as shown in FIG. For example, the bit lines 8b and 9j are connected to one input terminal of the sense amplifier 3e, and the bit lines 9b and 8j are connected to the other input terminal, so that the load capacitance of the sense amplifier 3e is well balanced.

以上のように、この実施例によれば、前述の従来例の折
り返しビット線構成では、1ビツト分のメモリセル領域
に2木の配線を通す必要があったが、1ビツト分のメモ
リセル領域に1.5本の配線を通せばよく、また折り返
しビット線構成と類似の雑音耐性をもち、センスアンプ
のピッチもメモリセル2ビツト分のピッチであるため、
メモリセル面積の縮小が可能であり、半導体記憶装置の
チップ面積を縮小することができる。
As described above, according to this embodiment, in the folded bit line configuration of the conventional example described above, it was necessary to pass two wires through the memory cell area for one bit, but it is possible to It only requires 1.5 wires to be passed through the bit line configuration, has noise resistance similar to the folded bit line configuration, and the pitch of the sense amplifier is the same as the pitch of 2 bits of the memory cell.
The memory cell area can be reduced, and the chip area of the semiconductor memory device can be reduced.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以−ヒ説明したように、この発明によれば、メモリセル
アレイとセンスアンプを有する半導体記憶装置において
、メモリセルの2ビツト分の領域にメモリセルとコンタ
クトする2本のビット線ならびにメモリセルとコンタク
トしない2分割された1本のビット線をイJ−するメモ
リセルを行列状に配設したメモリセルアレイと、メモリ
セルアレイの両側に配設されたセンスアンプより成り、
かつ、メモリセルとコンタクトするビット線の一方と、
メモリセルとコンタクトしない2分割ビット線の一方は
、メモリセルアレイの一方に配設したセンスアンプに入
力し、メモリセルとコンタクトするビット線の他方と、
メモリセルとコンタクトしない2分割ビット線の他方は
、メモリセルアレイの他方に配設したセンスアンプに入
力し、センスアンプに入力する2本のビット線の浮遊容
量のバランスをとる浮遊容量バランス1段を設けたので
、雑音耐性をもちながら、メモリセル面積を縮小するこ
とができ、半導体記憶装置のチップ面積を縮小できる効
果がある。
As explained below, according to the present invention, in a semiconductor memory device having a memory cell array and a sense amplifier, two bit lines contacting the memory cell and two bit lines contacting the memory cell are provided in a region corresponding to two bits of the memory cell. It consists of a memory cell array in which memory cells are arranged in rows and columns, and sense amplifiers are arranged on both sides of the memory cell array.
and one of the bit lines in contact with the memory cell;
One of the two divided bit lines that does not make contact with the memory cell is input to a sense amplifier arranged on one side of the memory cell array, and the other bit line that makes contact with the memory cell,
The other half of the divided bit line that does not contact the memory cell is input to the sense amplifier arranged on the other side of the memory cell array, and one stage of stray capacitance balance is used to balance the stray capacitance of the two bit lines input to the sense amplifier. Because of this, the memory cell area can be reduced while maintaining noise resistance, and the chip area of the semiconductor memory device can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1し1は、この発明の一実施例による半導体記憶装置
のメモリセルアレイの構成説明図、第2図は、第1図の
メモリセルアレイを構成するメモリセルの構造説明図で
あり、第2図(a)は2ビット分のメモリセル領域に3
本のビット線を打するメモリセルの平面説明図、第2図
(b)は、第2図(a)を矢印からみた斜視図、第2図
(c)は、第11mをx−x’力方向一部切断した断面
図である。第3図は、この発明の他の実施例である単導
体記憶装置のメモリセルアレーrの構成説明図、第4図
は、従来例の半導体記憶装置のメモリセルアレイの構成
説明図、第5図は第4図のメモリセルアレーrを構成す
るメモリセルの構造説明図である。 2・・・−ワード線 2a〜2d・・・・・・各ワード線 3・・・・・・センスアンプ 3a〜3を−・・・・各センスアンプ 4−−−−−− トラフアゲートのチャンネル部5−−
−−−コンタクト孔
1 is an explanatory diagram of the structure of a memory cell array of a semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention; FIG. 2 is an explanatory diagram of the structure of memory cells constituting the memory cell array of FIG. 1; (a) shows 3 bits in the memory cell area for 2 bits.
2(b) is a perspective view of FIG. 2(a) seen from the arrow, and FIG. 2(c) is a plan view of the memory cell that drives the bit line of the book. It is a sectional view partially cut away in the force direction. FIG. 3 is an explanatory diagram of the configuration of a memory cell array r of a single conductor memory device according to another embodiment of the present invention, FIG. 4 is an explanatory diagram of the configuration of a memory cell array of a conventional semiconductor memory device, and FIG. 4 is a structural explanatory diagram of memory cells constituting the memory cell array r of FIG. 4. FIG. 2...-word lines 2a to 2d... each word line 3... sense amplifiers 3a to 3... each sense amplifier 4-------- of the trough gate. Channel section 5--
---Contact hole

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)メモリセルアレイとセンスアップを有する半導体
記憶装置において、メモリセルの2ビツト分の領域に、
前記メモリセルとコンタクトする2本のビット線ならび
に前記メモリセルとコンタクトしない2分割された1本
のビット線を有する前記メモリセルを行列状に配設して
成るメモリセルアレイと、前記メモリセルアレイの両側
に配設されたセンスアンプより成り、かつ、前記メモリ
セルとコンタクトする前記ビット線の一方と、前記メモ
リセルとコンタクトしない前記2分割ビット線の一方は
、前記メモリセルアレイの一方に配設した前記センスア
ンプに入力し、前記メモリセルとコンタクトする前記ビ
ット線の他方と、前記メモリセルとコンタクトしない前
記2分割ビット線の他方は、前記メモリセルアレイの他
方に配設した前記センスアンプに入力し、前記センスア
ンプに入力する2本の前記ビット線の浮遊容量のバラン
スを取る浮遊容量バランス手段を設けたことを特徴とす
る半導体記憶装置。
(1) In a semiconductor memory device having a memory cell array and sense-up, in the area for 2 bits of the memory cell,
A memory cell array in which the memory cells are arranged in a matrix, the memory cells having two bit lines in contact with the memory cells and one bit line divided into two not in contact with the memory cells, and both sides of the memory cell array. One of the bit lines in contact with the memory cell and one of the two divided bit lines not in contact with the memory cell are connected to the sense amplifier disposed in one of the memory cell arrays. The other of the bit lines input to the sense amplifier and in contact with the memory cell, and the other of the two divided bit lines not in contact with the memory cell are input to the sense amplifier disposed in the other side of the memory cell array, A semiconductor memory device comprising a stray capacitance balancing means for balancing stray capacitances of the two bit lines input to the sense amplifier.
(2)前記浮遊容量バランス手段は、前記センスアンプ
の2つの入力端子のうち、前記メモリセルとコンタクト
する前記ビット線の接続端子に、前記メモリセルとコン
タクトしない前記2分割ビット線の浮遊容量と同じ大き
さの容量を接続し、前記メモリセルとコンタクトしない
前記2分割ビット線の接続端子に、前記メモリセルとコ
ンタクトする前記ビット線の浮遊容量と同じ大きさの容
量を接続した手段であることを特徴とする特許請求の範
囲第1項記載の半導体記憶装置。
(2) The stray capacitance balancing means connects the stray capacitance of the two-part bit line that does not contact the memory cell to the connection terminal of the bit line that contacts the memory cell among the two input terminals of the sense amplifier. The means connects capacitors of the same size, and connects a capacitor of the same size as a stray capacitance of the bit line that contacts the memory cell to a connection terminal of the two-part bit line that does not contact the memory cell. A semiconductor memory device according to claim 1, characterized in that:
(3)前記浮遊容量バランス手段は、前記メモリセルア
レイを複数個のブロックに分割し、非選択のブロックの
前記ビット線を利用する手段であることを特徴とする特
許請求の範囲第1項記載の半導体記憶装置。
(3) The stray capacitance balancing means is a means for dividing the memory cell array into a plurality of blocks and utilizing the bit lines of unselected blocks. Semiconductor storage device.
JP62019065A 1987-01-29 1987-01-29 Semiconductor storage device Pending JPS63187494A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7227768B2 (en) * 2005-07-01 2007-06-05 Spansion Llc Power interconnect structure for balanced bitline capacitance in a memory array

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