JPS63179358A - Method for processing photosensitive planographic printing plate - Google Patents

Method for processing photosensitive planographic printing plate

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Publication number
JPS63179358A
JPS63179358A JP1207787A JP1207787A JPS63179358A JP S63179358 A JPS63179358 A JP S63179358A JP 1207787 A JP1207787 A JP 1207787A JP 1207787 A JP1207787 A JP 1207787A JP S63179358 A JPS63179358 A JP S63179358A
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JP
Japan
Prior art keywords
surfactant
processing
acid
developer
printing plate
Prior art date
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Pending
Application number
JP1207787A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Minoru Kiyono
清野 実
Masabumi Uehara
正文 上原
Akira Nogami
野上 彰
Mieji Nakano
中野 巳恵治
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Konica Minolta Inc
Original Assignee
Konica Minolta Inc
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Publication date
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Publication of JPS63179358A publication Critical patent/JPS63179358A/en
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  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

PURPOSE:To extent the processing liquid life of an aq. surfactant soln. by executing the processing by the aq. soln. contg. the surfactant in plural stages after a developing stage. CONSTITUTION:The processing stage by the aq. soln. contg. the surfactant is provided continuously with, for example, surfactant processing parts 20, 20'. Part of the processing liquid of another processing stage is intermittently or continuously replenished after the processing in the processing stage where a plate passes first. The unused processing liquid is preferably replenished to the processing liquid of the processing stage of the second half in this case. The processing liquid life of the aq. surfactant soln. is thus increased.

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は感光性平版印刷版の処理方法に関するものであ
り、さらに詳しくは現像後の後処理工程が改良された感
光性平版印刷版の処理方法に関するものである。
Detailed Description of the Invention (Industrial Application Field) The present invention relates to a method for processing a photosensitive lithographic printing plate, and more particularly, to a processing method for a photosensitive lithographic printing plate with an improved post-processing step after development. It is about the method.

(従来の技術) 露光ずみの感光性平版印刷版(以下単にPS版という)
を多数枚処理する場合には自動現像機を用いる事が一般
的であるが、現像後多量の水洗液を用いて流水水洗が行
われていた。この場合水の多量使用による費用の増大、
水洗廃水による環境汚染の問題等の欠点があった。
(Prior art) Exposed photosensitive lithographic printing plate (hereinafter simply referred to as PS plate)
When processing a large number of sheets, it is common to use an automatic developing machine, but after development, washing with running water is performed using a large amount of washing liquid. In this case, increased costs due to the use of large amounts of water,
There were drawbacks such as environmental pollution caused by washing wastewater.

そのため、近年これらの対策として、廃水量が少なく、
かつ環境汚染、公害発生の少ない処理方法について多く
の提案が為されている。
Therefore, in recent years, measures have been taken to reduce the amount of wastewater,
Many proposals have been made regarding treatment methods that cause less environmental pollution and pollution.

例えば界面活性剤水溶液を用いてPS版の現像後の水洗
工程を省いた方法が特開昭54−8002号、同55−
115045号に記載されており、また特開昭57−1
58643号、同59−58431号、及び同59−5
7242号等には水洗水を繰り返し使用する方法が提案
されているが、これらの場合には公害の問題は改善され
ているものの、尚作業性の面を考えると充分な対策とは
いえない0例えば界面活性剤を使用する場合、度々取り
替えて新液と交換する必要があり、作業性が悪く、費用
もかかろ。
For example, a method using an aqueous surfactant solution and omitting the water washing step after development of a PS plate is disclosed in JP-A-54-8002 and JP-A-55-
No. 115045, and JP-A-57-1
No. 58643, No. 59-58431, and No. 59-5
No. 7242, etc., proposes a method of repeatedly using washing water, but although the problem of pollution has been improved in these cases, it is still not a sufficient countermeasure in terms of workability. For example, when using a surfactant, it is necessary to frequently replace it with a new solution, which is not easy to work with and is expensive.

(発明が解決しようとする問題点) 上記のごとき問題点に対して、本発明の目的はPS版の
現像処理後の水洗工程において、まず第1に廃水量が少
なく、しかも公害発生、環境汚染の少ない方法を提供す
ることである。fpJ2には水沈水を使用しないか又は
わずかな水洗水による水洗の後、消去、加筆等の修正作
業を効率よく行える処理方法を提供することである。さ
らに第3の目的は界面活性剤水溶液の処理液寿命を増大
し、製版コストが低減できる処理方法を提供することで
ある。
(Problems to be Solved by the Invention) In order to solve the above-mentioned problems, the purpose of the present invention is to reduce the amount of waste water in the water washing process after developing the PS plate, and to prevent pollution and environmental pollution. The purpose is to provide a method with fewer problems. It is an object of the present invention to provide a processing method for fpJ2 that does not use water submersion or that can efficiently perform correction operations such as erasure and addition after washing with a small amount of washing water. A third objective is to provide a processing method that can increase the life of the processing solution of the surfactant aqueous solution and reduce plate making costs.

(問題点を解決するための手段) 自動現像機を用いて、露光された感光性平版印刷版を自
動的に搬送し、現像処理する方法において、現像工程の
後に界面活性剤を含む水溶液による処理工程を少なくと
も2つ含む事をU徴とする感光性平版印刷版の処理方法
によって、達成し得ることを見い出した。
(Means for solving the problem) In a method in which an exposed photosensitive lithographic printing plate is automatically conveyed and developed using an automatic developing machine, treatment with an aqueous solution containing a surfactant after the development process is performed. It has been found that the present invention can be achieved by a method for processing a photosensitive lithographic printing plate that includes at least two steps.

以下本発明について詳細に説明する。The present invention will be explained in detail below.

本発明において対象とされるPS版は、光照射によって
溶解性の変化する感光層が支持体上に塗布されているも
の、または電子写真方式等に上って画偉様レノスト層を
設は得る溶解性層が支持体上に設けられているものであ
る。
The PS plates covered by the present invention are those in which a photosensitive layer whose solubility changes upon irradiation with light is coated on a support, or in which an image-like Lennost layer is formed using an electrophotographic method or the like. A soluble layer is provided on a support.

前記のPS版に使用される支持体としては、紙、プラス
チックス(例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ
スチレンなど)ラミネート紙、アルミニウム(アルミニ
ウム合金も含む)、亜鉛、銅などのような金属の板、二
酢酸セルa−ス、三酢酸セルロース、プロピオン酸セル
ロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンポ
リプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセター
ルなどのようなプラスチックスのフィルム、上記のごと
き金属がラミネートもしくは蒸着された紙もしくはプラ
スチックフィルム、フルミニツムもしくはクロームメッ
キが施された鋼販などがあげられ、これらのうち特に、
アルミニウムおよびアルミニウム被覆された複合支持体
が好ましい。
Supports used for the above PS plates include paper, plastics (e.g. polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.), laminated paper, aluminum (including aluminum alloys), metal plates such as zinc, copper, etc., and diacetic acid. Films of plastics such as cellulose, cellulose triacetate, cellulose propionate, polyethylene terephthalate, polyethylene polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc., paper or plastic films laminated or vapor-deposited with metals such as those mentioned above, full minitum or chrome Examples include plated steel, and among these,
Aluminum and aluminum-coated composite supports are preferred.

また、アルミニウム材の表面は、保水性を高め、感光層
との密着性を向上させる目的で粗面化処理されているこ
とが望ましい。
Further, the surface of the aluminum material is preferably roughened for the purpose of increasing water retention and improving adhesion with the photosensitive layer.

粗面化方法としては、一般に公知のブラシ47F摩法、
ポール研摩法、電解エツチング、化学的エツチング、液
体ホーニング、サンドブラスト等の方法及びこれらの組
合せがあげられ、好ましくはブラシ研摩法、電解エツチ
ング、化学的エフチン、グおよび液体ホーニングがあげ
られ、これらのうちで、特に電解エツチングの使用を含
む粗面化方法が好ましい。
As the surface roughening method, generally known brush 47F rubbing method,
Examples include methods such as pole polishing, electrolytic etching, chemical etching, liquid honing, sandblasting, etc., and combinations thereof, preferably brush polishing, electrolytic etching, chemical etching, and liquid honing. In particular, surface roughening methods involving the use of electrolytic etching are preferred.

さらに、粗面化処理の施されたアルミニウム板は、必要
に応じて酸またはアルカリの水溶液にてデスマット処理
、陽極酸化処理される事がのぞましく、またさらに必要
に応じて、封孔処理、その他弗化ノルフニウム酸カリウ
ム水溶液への浸漬などによる表面処理を行うことができ
る。
Furthermore, the roughened aluminum plate is preferably desmutted with an acid or alkali aqueous solution and anodized, if necessary, and furthermore, if necessary, sealed. , and other surface treatments such as immersion in a potassium fluorinorphinate aqueous solution can be performed.

本発明に使用されるPS版の感光性組成物は必須成分と
して感光性物質を含んでおり、感光性物質として、露光
またはその後の現像処理により、その物理的、化学的性
質が変化するもので、例えば露光により現像液に対する
溶解性に差が生じるもの、露光の前後で分子間の接着力
に差が生じるもの、露光またはその後の現像処理により
水および油に対する親和性に差が生じるもの、更に電子
写真方式により画像部を形成できるもの等が使用できる
The photosensitive composition of the PS plate used in the present invention contains a photosensitive substance as an essential component, and the physical and chemical properties of the photosensitive substance do not change upon exposure or subsequent development treatment. For example, there are differences in solubility in developing solutions due to exposure, differences in intermolecular adhesive strength before and after exposure, differences in affinity for water and oil due to exposure or subsequent development, and A material that can form an image area by electrophotography can be used.

感光性物質の代表的なものとしでは、例えば感光性ノ7
ゾ化合物、感光性アット化合物、エチレン性不飽和二重
結合を有する化合物、酸触媒で重合を起こすエポキシ化
合物、酸で分解するC−〇−C−基を有する化合物等が
あげられる。
Typical photosensitive substances include, for example, photosensitive material No. 7.
Examples include a zo compound, a photosensitive at compound, a compound having an ethylenically unsaturated double bond, an epoxy compound that polymerizes with an acid catalyst, and a compound having a C-〇-C- group that decomposes with an acid.

感光性ノアゾ化合物としては、露光によりアルカリ可溶
性に変化するボッ型のものとして0−キノンノ7シド化
合物、露光により溶解性が減少するネが型のものとして
芳香族ノアゾニウム塩等があげられる。
Examples of the photosensitive noazo compound include an 0-quinone no7side compound, which is a bottom-type compound that changes to be alkali-soluble when exposed to light, and an aromatic noazonium salt, which is a negative-type compound whose solubility decreases when exposed to light.

本発明に用いられる現像液は、水系アルカリ現像液が好
ましく、現像液に用いられるアルカリ剤としては、ケイ
酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、水酸化ナトリウム、水
酸化リチウム、第三リン酸ナトリウム、第二リン酸ナト
リ9ム、第三リン酸カリウム、第ニリン酸カリウム、第
三リン酸アンモニウム、第二リン酸アンモニ7ム、メタ
ケイ酸ナトリウム、重炭酸ナトリウム、炭酸ナトリウム
、炭酸カリウム、炭酸アンモニウムなどのような無機ア
ルカリ剤、モノ、ノ、又はトリエタノールアミン及び水
酸化テトラアルキルアンモニウムのような有機アルカリ
剤及び珪酸アンモニウム等が有用である。
The developer used in the present invention is preferably an aqueous alkaline developer, and the alkaline agents used in the developer include sodium silicate, potassium silicate, sodium hydroxide, lithium hydroxide, tribasic sodium phosphate, Sodium phosphate, potassium triphosphate, potassium diphosphate, ammonium triphosphate, diammonium phosphate, sodium metasilicate, sodium bicarbonate, sodium carbonate, potassium carbonate, ammonium carbonate, etc. Inorganic alkaline agents such as mono-, triethanolamine, and organic alkaline agents such as tetraalkylammonium hydroxide and ammonium silicate are useful.

アルカリ剤の現像液組成物中における含有量は0.05
〜30重量パーセントの範囲で用いるのが好適であり、
より好ましくは0.1〜20重量パーセントである。
The content of alkaline agent in the developer composition is 0.05
It is suitable to use in the range of ~30 weight percent,
More preferably, it is 0.1 to 20 weight percent.

本発明に用いられる現像液には、さらに有機溶剤を含有
させることができる。有機溶剤としてはエチレングリコ
ールモノフェニルエーテル、ベンジルアルコール、n−
プロピルアルコール等が有用である。有機溶剤の現像液
組成物中における含有量としては0.5〜15重量パー
セントが好適であり、より好ましい範囲としては1〜5
重量パーセントである。
The developer used in the present invention can further contain an organic solvent. Examples of organic solvents include ethylene glycol monophenyl ether, benzyl alcohol, n-
Propyl alcohol and the like are useful. The content of the organic solvent in the developer composition is preferably 0.5 to 15% by weight, more preferably 1 to 5% by weight.
Weight percentage.

現像液には更に必要に応じ界面活性剤を含有させること
ができる。
The developer may further contain a surfactant, if necessary.

このような現像液には更に現像性能を高めるために以下
の様な添加剤を加えることができる0例えば、特開昭5
8−75152号記載のNaC1、KCl、KBr等の
中性塩、特開昭58−190952号記載のEDTA。
The following additives can be added to such a developer in order to further improve the developing performance.
Neutral salts such as NaCl, KCl, KBr, etc. described in No. 8-75152, and EDTA described in JP-A-58-190952.

NTA等のキレート剤、特開昭59−121336号記
載の[C0(N113 )]5Cfz、CoC1z ・
61120等の錯体、特開昭50−51324号記載の
フルキルナフタレンスルホン酸ンーグ、N−テトラデシ
ル−N、N−ジヒドロキシエチルベタイン等の7ニオン
又は両性界面活性剤、米国特許第4374920号記載
のテトラメチルデシンノオール等の非イオン性界面活性
剤、特開昭55−95946号記載のp−ツメチルアミ
ノメチルポリスチレンのメチルクロ2イド4級化物等の
カチオニツクボリマー、特開昭56−142528号記
載のビニルベンジルトリメチルアンモニウムクロライド
とアクリル酸ソーダの共重合体等の両性高分子電解質、
特開昭57−192952号記載の亜硫酸ソーダ等の還
元性無機塩、特開昭58−59444号記載の塩化リチ
ウム等の無fi +7チウム化合物、特公昭50−34
442号記載の安息ff酸リチウム等の有機リチウム化
合物、特開昭59−75255号記載のSi%Ti等を
含む有機金属界面活性剤、特開昭59−84241号記
載の有機はう素化合物、ヨーロッパ特許第101010
号記載のテトラアルキルアン毛ニウムオキサイド等の4
級アン皐ニウム塩等があげられる。
Chelating agents such as NTA, [C0(N113)]5Cfz, CoC1z described in JP-A-59-121336,
complexes such as 61120, 7-ionic or amphoteric surfactants such as flukylnaphthalenesulfonic acid compounds described in JP-A No. 50-51324, N-tetradecyl-N, N-dihydroxyethyl betaine, and tetra-ionic surfactants such as U.S. Pat. No. 4,374,920. Nonionic surfactants such as methyldecynol, cationic polymers such as the quaternized methyl chloride of p-methylaminomethylpolystyrene described in JP-A-55-95946, JP-A-56-142528. an amphoteric polymer electrolyte such as a copolymer of vinylbenzyltrimethylammonium chloride and sodium acrylate as described;
Reducing inorganic salts such as sodium sulfite described in JP-A-57-192952, non-fi +7 tium compounds such as lithium chloride described in JP-A-58-59444, JP-A-50-34
Organolithium compounds such as lithium benzoate described in No. 442, organometallic surfactants containing Si%Ti etc. described in JP-A No. 59-75255, organoborine compounds described in JP-A-59-84241, European Patent No. 101010
4 of the tetraalkylaminium oxide etc. described in No.
Examples include class ammonium salts.

このような現像液で25版を現像する方法としては従来
公知の種々の方法をもちいる事ができる。
Various conventionally known methods can be used to develop the 25th plate with such a developer.

すなわち、画像露光された25版の感光層に対して多数
のノズルから現像液を噴射する方法、多量の現像液中に
浸漬処理する方法、PSS悪感光層表面に現像液をロー
ラーで塗布する方法などが挙げられる。また上記のよう
にして25版の感光層に現像液を供給したのち、あるい
は現像液中に浸漬した状態で感光層の表面をブラシなど
で軽くこするなどの方法を併用することもできる。
That is, a method in which a developer is sprayed from a number of nozzles onto the image-exposed photosensitive layer of the 25th plate, a method in which the developer is immersed in a large amount of the developer, and a method in which the developer is applied to the surface of the PSS photosensitive layer using a roller. Examples include. It is also possible to use a method in which, after supplying the developer to the photosensitive layer of the 25th plate as described above, or by lightly rubbing the surface of the photosensitive layer with a brush or the like while immersed in the developer.

現像条件は上記のような現像の方法、25版、現像液の
性質等に応じて適宜設定すればより%、また現像槽は複
数あっても良く、それぞれ現像液あるいは現像条件を異
にしても良い。
The development conditions can be set appropriately according to the above-mentioned development method, 25 plate size, properties of the developer, etc.Also, there may be multiple development tanks, and even if the developer or development conditions are different. good.

現像液には、25版の処1あるいは空気中の炭酸〃スの
吸収などによる疲労を補うため、疲労の状態に応じて現
像補充液を補充しても良〜・、補充液の組成、補完力法
は従来公知のものを用(1れば良(1゜このようにして
得られた平版印刷版は水洗を行うことなく、あるいは水
洗後界面活性溶液剤を含む水溶液で処理される。
In order to compensate for fatigue due to the 25th edition or absorption of carbon dioxide in the air, developer replenisher may be added to the developer depending on the state of fatigue. The lithographic printing plate thus obtained is treated with an aqueous solution containing a surfactant solution without washing with water or after washing with water.

本発明においては、界面活性剤を含む水溶液は現像済み
の平版印刷版に付着して持ち込まれる現像液成分、溶解
した感光層組成物等を分散安定化し、乾燥後にも平版印
廟版表面に固着させない効果を有するものと考えられる
In the present invention, an aqueous solution containing a surfactant stabilizes the dispersion of the developer components, dissolved photosensitive layer composition, etc. that are brought in by adhering to the developed planographic printing plate, and even after drying, they remain fixed to the surface of the planographic printing plate. This is thought to have the effect of preventing

かかる界面活性剤としては、ポリオキシエチレンフルキ
ルエーテル類、ポリオキシエチレンフルキルフェニルエ
ーテル類、ポリオキシエチレンポリスチルフェニルエー
テル、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンフルキ
ルエーテル、グリセリン脂肪酸部分エステル頚、ソルビ
タン脂肪酸部分エステル類、ペンタエリスリトール脂肪
酸部分エステル類、プロピレングリコールモノ脂肪酸エ
ステル、しよ糖脂肪#Ie分エステル、ポリオキシエチ
レンソルビタン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチ
レンソルビトール脂肪酸部分エステル類、ポリエチレン
グリコール脂肪酸エステル類、ポリグリセリン脂肪a部
分エステル類、ポリオキシエチレン化ひまし油類、ポリ
オキシエチレングリセリン脂肪酸部分エステル類、脂肪
酸ジェタノールアミド類、N、N−ビス−2−ヒドロキ
シフルキルアミン類、ポリオキシエチレンアルキル7ミ
ン、トリエタノールアミン脂肪酸エステル、トリフルキ
ルアミンオキシドなどの非イオン性界面活性剤、脂肪酸
塩類、アビチェン酸塩類、ヒドロキシアルカンスルホン
酸塩類、アルカンスルホン酸塩類、ジアルキルスルホこ
は(酸エステル塩類、直鎖アルキルベンゼンスルホン酸
塩類、分岐[フルキルベンゼンスルホン酸塩類、アルキ
ルナフタレンスルホン レンプロビルスルホン レンアルキルスルホフェニルエーテルm類、N−メチル
−N−オレイルタウリンナトリウム類、N−フルキルス
ルホこはく酸モノアミドニナトリウム塩類、石油スルホ
ン酸塩類、硫酸化ひまし油、硫酸化牛脚油、脂肪酸フル
キルエステルの硫酸エステル塩類、アルキル硫酸エステ
ル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エス
テル塩類、脂肪酸モノグリセリド硫酸エステル塩類、ポ
リオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸エステ
ル塩類、ポリオキシエチレンスチリル7ツニルエーテル
硫酸エステル塩類、アルキルりん酸エステル塩類、ポリ
オキシエチレンアルキルエーテルりん酸エステル塩類、
ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテルりん酸エ
ステル塩類、スチレン−無水マレイン酸共重合物の部分
けん化物類、オレフィン−無水マレイン酸共重合物の部
分けん化物類、ナフタレンスルホン酸塩ホルマリン綜合
物類などの7ニオン性界面活性剤、アルキルアミン塩類
、第四級アンモニウム塩類、ポリオキシエチレンアルキ
ルアミン塩類、ポリエチレンポリアミン誘導体などのカ
チオン性界面活性剤、カルボキシベタイン類、アミノカ
ルボン酸類、スルホベタイン類、7ミノ硫酸エステル類
、イミダゾリン類などの両性界面活性剤があげられる。
Such surfactants include polyoxyethylene furkyl ethers, polyoxyethylene furkylphenyl ethers, polyoxyethylene polystylphenyl ether, polyoxyethylene polyoxypropylene furkyl ether, glycerin fatty acid partial ester, and sorbitan fatty acid partial ester. , pentaerythritol fatty acid partial esters, propylene glycol monofatty acid esters, sucrose fat #Ie fraction esters, polyoxyethylene sorbitan fatty acid partial esters, polyoxyethylene sorbitol fatty acid partial esters, polyethylene glycol fatty acid esters, polyglycerin Fatty a partial esters, polyoxyethylenated castor oils, polyoxyethylene glycerin fatty acid partial esters, fatty acid jetanolamides, N,N-bis-2-hydroxyfurkylamines, polyoxyethylene alkyl heptamine, triethanol Nonionic surfactants such as amine fatty acid esters, triflukylamine oxide, fatty acid salts, avicenoates, hydroxyalkanesulfonates, alkanesulfonates, dialkyl sulfo(acid ester salts, linear alkylbenzene sulfonates) , branched [furkylbenzenesulfonates, alkylnaphthalenesulfoneprobylsulfonelenealkylsulfophenyl ethers, N-methyl-N-oleyl taurine sodium, N-furkylsulfosuccinic acid monoamide disodium salts, petroleum sulfonates, Sulfated castor oil, sulfated beef leg oil, sulfate ester salts of fatty acid furkyl esters, alkyl sulfate ester salts, polyoxyethylene alkyl ether sulfate ester salts, fatty acid monoglyceride sulfate ester salts, polyoxyethylene alkyl phenyl ether sulfate ester salts, polyoxy Ethylene styryl 7-tunyl ether sulfate ester salts, alkyl phosphate ester salts, polyoxyethylene alkyl ether phosphate ester salts,
7 such as polyoxyethylene alkyl phenyl ether phosphate ester salts, partially saponified products of styrene-maleic anhydride copolymer, partially saponified products of olefin-maleic anhydride copolymer, naphthalene sulfonate formalin composites, etc. Ionic surfactants, alkylamine salts, quaternary ammonium salts, polyoxyethylene alkylamine salts, cationic surfactants such as polyethylene polyamine derivatives, carboxybetaines, aminocarboxylic acids, sulfobetaines, 7-minosulfate esters Examples include amphoteric surfactants such as imidazolines and imidazolines.

以上挙げた界面活性剤の中でポリオキシエチレンとある
ものは、ポリオキシメチレン、ポリオキシプロピレン、
ポリオキシブチレンなどのポリオキシアルキレン1こ読
み替えることもでき、それらの界面活性剤もまた包含さ
れ、以下の説明においても同様である。
Among the surfactants listed above, polyoxyethylene includes polyoxymethylene, polyoxypropylene,
The term "polyoxyalkylene" such as polyoxybutylene can also be used interchangeably, and surfactants thereof are also included, and the same applies in the following description.

これらの内、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、
ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類、ポリ
オキシエチレンポリスチリルフェニルエーテル類、ポリ
オキシエチレンポリオキシプロピレンフルキルエーテル
類、グリセリン脂肪酸部分エステル類、ソルビタン脂肪
酸S分エステル類、ペンタエリスリトール脂肪酸部分エ
ステル類、プロピレングリコールモノ脂肪酸エステル類
、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸部分エステル類
、ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸部分エステル類
、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル類、ポリオキ
シエチレン化ひまし油、ジアルキルスルホこはく酸塩類
、フルキルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレ
ンスルホンFlkmM、アルキル硫酸エステル塩類、脂
肪酸塩類、アルキルりん酸エステル塩類、ナフタレンス
ルホン酸塩ホルマリン縮合物、ポリオキシエチレンアル
キル7ミン塩類、フルキルアミン塩類、第四級アンモニ
ウム塩類は平版印刷版の画像部の感脂性の低下を抑える
傾向もあるので好ましく、その中でもポリオキシエチレ
ンアルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポ
リスチリルフェニルエーテル類、ホリオキシエチレンフ
ルキルエーテル類、グリセリン脂肪酸部分エステル類、
ソルビタン虞肪PIla!lS分エステル類、ポリオキ
シエチレンソルビタン脂肪酸部分エステル類、ペンタエ
リスリ)−ルWe1MaW=分エステル類、プロピレン
グリコールモノ脂肪酸エステル類、ポリエチレングリコ
ール脂肪酸エステル類、ジアルキルスルホこは(酸エス
テル塩類、アルキル硫酸エステル塩類、アルキルベンゼ
ンスルホン酸塩類は特に好ましい。
Among these, polyoxyethylene alkyl ethers,
Polyoxyethylene alkylphenyl ethers, polyoxyethylene polystyrylphenyl ethers, polyoxyethylene polyoxypropylene furkyl ethers, glycerin fatty acid partial esters, sorbitan fatty acid S-class esters, pentaerythritol fatty acid partial esters, propylene glycol mono Fatty acid esters, polyoxyethylene sorbitan fatty acid partial esters, polyoxyethylene glycerin fatty acid partial esters, polyethylene glycol fatty acid esters, polyoxyethylated castor oil, dialkyl sulfosuccinates, furkylbenzene sulfonates, alkylnaphthalene sulfones FlkmM, alkyl sulfate ester salts, fatty acid salts, alkyl phosphate ester salts, naphthalene sulfonate formalin condensate, polyoxyethylene alkyl 7 amine salts, furkylamine salts, and quaternary ammonium salts are oil-sensitive in the image area of a lithographic printing plate. Among these, polyoxyethylene alkylphenyl ethers, polyoxyethylene polystyrylphenyl ethers, holoxyethylene furkyl ethers, glycerin fatty acid partial esters,
Sorbitan Yufat PIla! lS classification esters, polyoxyethylene sorbitan fatty acid partial esters, pentaerythritol (pentaerythri)-class esters, propylene glycol monofatty acid esters, polyethylene glycol fatty acid esters, dialkyl sulfo(acid ester salts, alkyl sulfate ester salts) , alkylbenzenesulfonic acid salts are particularly preferred.

最も好ましいものは分散力の強いアルキルベンゼンスル
ホン酸塩類及びジアルキルスルホこはく酸エステル塩類
である。
The most preferred are alkylbenzene sulfonic acid salts and dialkyl sulfosuccinate ester salts, which have strong dispersing power.

上記の界面活性剤は、単独もしくは2種以上を組み合わ
せて使用することができ、水溶液中に約0.1重量%か
ら約20重量%、より好ましくは0.5重。
The above-mentioned surfactants can be used alone or in combination of two or more, and the amount in the aqueous solution is about 0.1% to about 20% by weight, more preferably 0.5% by weight.

量%から10重1%の範囲で使用される。It is used in a range of 10% by weight to 1% by weight.

本発明における界面活性剤を含む水溶液のpHは1〜1
0の範囲で使用される。 このpHに該水溶液を調整す
るために、酸および緩衝剤としての水溶性塩のいづれか
または両方を含有させておくことが好ましい。
The pH of the aqueous solution containing the surfactant in the present invention is 1 to 1.
Used in the range 0. In order to adjust the aqueous solution to this pH, it is preferable to contain either or both of an acid and a water-soluble salt as a buffer.

41衝剤の詳細は、例えば「化学便覧基礎編■」日本化
学会扁、昭和47年2月20日f55刷、丸善株式会社
発行、1312〜1320頁に記載されており、これら
はそのまま適用することができる。
Details of 41 shock agents are described in, for example, "Chemical Handbook Basic Edition ■" published by the Chemical Society of Japan, February 20, 1972, f55 edition, published by Maruzen Co., Ltd., pages 1312-1320, and these can be applied as is. be able to.

好適な酸と水溶性塩としては、モリブデン酸、ホウ酸、
硝酸、硫酸、燐酸、ポリ燐酸などの黒磯酸、酢酸、しゅ
う酸、酒石酸、安息香酸、こはく酸、くえん酸、りんご
酸、乳酸、p−)ルエンスルホン酸などの水溶性有機酸
等の酸とその塩があげられる。より好ましい塩は水溶性
アルカリ金属塩およびアンモニウム塩で、特に好ましい
ものはモリブデン酸アンモニウムなどのモリブデン酸塩
、燐酸ナトリウムなどの燐酸塩、テトラポリ燐酸カリウ
ム、トリメタ燐酸ナトリウムなどのポリg4酸塩、しゅ
う酸ナトリウムなどのしゅう酸塩、酒石酸カリウムなど
の酒石酸塩、こはく酸ナトリウムなどのこはく酸塩、く
えん酸アンモニウムなどのくえん酸塩である。かがる酸
と水溶性塩はそれぞれ単独または二種以上組み合わせて
使用することができる。
Suitable acids and water-soluble salts include molybdic acid, boric acid,
Acids such as nitric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, polyphosphoric acid and other water-soluble organic acids such as black isoic acid, acetic acid, oxalic acid, tartaric acid, benzoic acid, succinic acid, citric acid, malic acid, lactic acid, and p-)luenesulfonic acid. I can give you the salt. More preferred salts are water-soluble alkali metal salts and ammonium salts, and particularly preferred are molybdates such as ammonium molybdate, phosphates such as sodium phosphate, polyg4 salts such as potassium tetrapolyphosphate and sodium trimetaphosphate, and oxalic acid. These are oxalates such as sodium, tartrates such as potassium tartrate, succinates such as sodium succinate, and citrates such as ammonium citrate. The acid and the water-soluble salt can be used alone or in combination of two or more.

これらの界面活性剤を含む水溶液のより好ましいD H
は1.5〜8である。最も好ましいpHは2.0〜6.
5であり、この場合に平版印刷版の非画像部の不感脂化
性能がより高いものとなる。
More preferred D H of aqueous solutions containing these surfactants
is 1.5-8. The most preferred pH is 2.0-6.
5, and in this case, the desensitization performance of the non-image areas of the lithographic printing plate becomes higher.

また本発明による製版方法では該水溶液中に現像液成分
が持ち込まれるので、これを中和するために、予定され
たPS版の処理面積に応じた量の塩および、または酸を
あらかじめ含有させておくことが好ましい。
In addition, in the plate making method of the present invention, developer components are brought into the aqueous solution, so in order to neutralize this, an amount of salt and/or acid is added in advance according to the planned treatment area of the PS plate. It is preferable to leave it there.

該水溶液中に含有させる酸と塩の添加量は特に限定され
ないが、該水溶液の総量量に対し酸と塩の総量で約10
重1%以下であることが好ましい。
The amount of acid and salt added to the aqueous solution is not particularly limited, but the total amount of acid and salt is about 10% of the total amount of the aqueous solution.
It is preferable that the weight is 1% or less.

より好ましくは0.01〜6重量%の範囲で使用される
More preferably, it is used in a range of 0.01 to 6% by weight.

本発明における界面活性剤を含む水溶液には更にソルビ
ン酸、p−オキシ安息香酸エチルなどの防腐剤、防黴剤
、没食子酸プロビル、2.6−ジーt−ブチル−4−エ
チルフェノール、2.6−ノーt−ブチル−4−メチル
フェノールなどの酸化防止剤を含有させておくことがで
きる。
In the present invention, the aqueous solution containing the surfactant further includes sorbic acid, preservatives such as ethyl p-oxybenzoate, fungicides, probyl gallate, 2.6-di-t-butyl-4-ethylphenol, 2. An antioxidant such as 6-not-butyl-4-methylphenol may be included.

これらの保存料としての防腐剤、防黴剤、酸化防止剤は
少量添加することにより、該水溶液の保存による変質等
を防止することができるが、好ましい添加量は0.00
1〜5重量%である。
By adding a small amount of these preservatives, antifungal agents, and antioxidants, deterioration in quality due to storage of the aqueous solution can be prevented, but the preferable amount is 0.00.
It is 1 to 5% by weight.

本発明における界面活性剤を含む水溶液には、親油性物
質を含有させておくことが好ましい。
It is preferable that the aqueous solution containing the surfactant in the present invention contains a lipophilic substance.

これにより、平版印刷版の画像部がより高い感脂性を示
すようになり、現像インキ盛りが容易になるばかりでな
く、該水溶液による処理の後、版面保護剤処理を行う場
合は、画像部の感脂性の低下を強く抑えることができる
As a result, the image area of the lithographic printing plate shows higher oil sensitivity, which not only makes it easier to build up the developing ink, but also makes it easier to apply the plate surface protectant after treatment with the aqueous solution. It is possible to strongly suppress the decrease in oil sensitivity.

好ましい親油性物質には、例えばオレイン酸、ラウリン
酸、吉草酸、ノニル酸、カプリン酸、ミスチリン酸、パ
ルミチン酸などのような炭素数が5〜25の有機カルボ
ン酸、ひまし油などが含まれる。これらの親油性物質は
単独もしくは2以上組み合わせて使用することができる
Preferred lipophilic substances include organic carboxylic acids having 5 to 25 carbon atoms, such as oleic acid, lauric acid, valeric acid, nonylic acid, capric acid, mystilic acid, palmitic acid, castor oil, and the like. These lipophilic substances can be used alone or in combination of two or more.

本発明における界面活性剤を含有する水溶液中に含まれ
る親油性物質は、その総数量に討して0、005重皿%
から約10重量%、より好ましくは0.05〜5重量%
の範囲である。
The lipophilic substance contained in the aqueous solution containing the surfactant in the present invention is 0,005% based on the total amount thereof.
from about 10% by weight, more preferably from 0.05 to 5% by weight
is within the range of

本発明において、現像後の平版印刷版面上の現像液はで
きるだけ少なくスキージされる力が好ましい、これは平
板印刷版上の現像液量が少なくなるようスキージされる
ことにより、界面活性剤を含む水溶液の現像液による汚
染が極力阻止され、界面活性剤を含む水溶液による処理
能力が増大するからである。
In the present invention, it is preferable that the amount of the developer on the lithographic printing plate after development be squeegeeed with as little force as possible. This is because contamination caused by the developer is prevented as much as possible, and processing ability with an aqueous solution containing a surfactant is increased.

従って、スキージされた後の平板印刷版上の好ましい現
像液の残留量は12m1’/m2以下が好ましく、より
好ましくは9m1/m2以下、最も好ましくは5m//
 n2以下である。
Therefore, the amount of developer remaining on the lithographic printing plate after squeegeeing is preferably 12 m/m2 or less, more preferably 9 m1/m2 or less, and most preferably 5 m//m2 or less.
It is less than or equal to n2.

界面活性剤を含む水溶液による処理方法は、浸漬する方
法、ローラーで塗布する方法、多数のノズルから噴出し
て平板印刷版あるいはローラーに吹きつける方法等種々
可能であるが、該界面活性剤を含む水溶液を連続的にく
り返し使用すると共に同時に多数のノズルから噴出する
ことにより、製版処理するPS版当りの該界面活性剤を
含む水溶液の使用量を大きく減少することが可能となり
、印刷汚れ発生を防止する効果がより高くなるので好ま
しい。
There are various methods of treatment with an aqueous solution containing a surfactant, such as immersion, application with a roller, and spraying from multiple nozzles onto a planographic printing plate or roller. By repeatedly using the aqueous solution and ejecting it from multiple nozzles at the same time, it is possible to greatly reduce the amount of aqueous solution containing the surfactant used per PS plate to be processed, thereby preventing printing stains. This is preferable because the effect of

該界面活性剤水溶液は平版印刷版上へ供給する流量とし
ては、if/win、以上401/etin、以下が好
ましく、さらに好ましくは3〜20ffi/win、で
ある。
The flow rate of the aqueous surfactant solution supplied onto the lithographic printing plate is preferably if/win, 401/etin or more, and preferably 3 to 20ffi/win.

界面活性剤を含む水溶液で処理された平版印刷版は、該
水溶液の塗布量、塗布膜厚が極力均一、適量になるよう
にスキージされることが望ましい。
It is desirable that the lithographic printing plate treated with an aqueous solution containing a surfactant be squeegeeed so that the amount and thickness of the aqueous solution coated are as uniform and appropriate as possible.

望ましい塗布量はl+*1/輸2以上、20m1/輸2
以下である。
Desired application amount is 1+*1/2 or more, 20m1/2
It is as follows.

より好ましい塗布量は2ml/m”以上、平版印刷版の
端の部分(俗にいう耳の部分)を含めて塗布むらが減少
する10m1’/m”以下である。
A more preferable coating amount is 2 ml/m" or more and 10 ml/m" or less, which reduces coating unevenness including the edge portions (commonly called selvedges) of the lithographic printing plate.

平版印刷版の版面をスキージする方法としては例えばエ
アーナイフによって液体をかき出す方法、あるいはゴム
などの弾性材料をローラー表面に被覆した弾性ローラ一
対の間に平版印刷版を通して、そのニップ圧力によって
版面の液体をしぼり取る方法、あるいは表面の滑らかな
弾性材を平版印刷版の搬送路に沿わせた状態で配置し、
その版面を摺接させることにより版面の液体をかき取る
方法等を採用することが可能である。
Methods of squeegeeing the plate surface of a planographic printing plate include, for example, using an air knife to scrape out the liquid, or passing the planographic printing plate between a pair of elastic rollers whose surfaces are coated with an elastic material such as rubber, and using the nip pressure to squeeze out the liquid on the plate surface. or by placing an elastic material with a smooth surface along the transport path of the lithographic printing plate.
It is possible to adopt a method of scraping off the liquid on the plate by bringing the plates into sliding contact.

さらに効果的なスキージ方法としては弾性ローラ一対の
間に平版印刷版を通す方法において、ローラ一対問に荷
重をかける方法であり、さらに好ましくはローラ一対の
上にさらに第3の荷重ローラーを乗せる方法である。
A more effective squeegee method is a method in which a planographic printing plate is passed between a pair of elastic rollers, and a load is applied to the pair of rollers, and more preferably a third load roller is placed on top of the pair of rollers. It is.

上記弾性材としては天然ゴム、シス−ポリイソプレンゴ
ム、スチレンブタノエンゴム、シス−ポリブタジェン、
クロロプレン、ブチルゴム、ニトリルブタジェンゴム、
エチレンプロピレンゴム、ハイパロン (クロロスルホ
ン化ポリエチレン)、アクリルゴム、ウレタンゴム、シ
リコンゴム、ふっ素ゴム、ネオプレンゴム、多硫化ゴム
、プラスチックス等が挙げられる。
The above elastic materials include natural rubber, cis-polyisoprene rubber, styrene-butanoene rubber, cis-polybutadiene,
Chloroprene, butyl rubber, nitrile butadiene rubber,
Examples include ethylene propylene rubber, Hypalon (chlorosulfonated polyethylene), acrylic rubber, urethane rubber, silicone rubber, fluororubber, neoprene rubber, polysulfide rubber, and plastics.

ブチルゴム、ニトリルブタジェンゴム、エチレンプロピ
レンゴム、アクリルゴム、シリコンゴム、ふっ素ゴム、
多硫化ゴムは耐油性がすぐれているため、界面活性剤水
溶液処理部のローラーに適していて好ましい。
Butyl rubber, nitrile butadiene rubber, ethylene propylene rubber, acrylic rubber, silicone rubber, fluorine rubber,
Since polysulfide rubber has excellent oil resistance, it is suitable and preferable for rollers in the surfactant aqueous solution treatment section.

また、弾性ローラ一対の間に平版印刷版を通してスキー
ジする方法、さらに好ましくは多数のノズルから噴出さ
せて界面活性剤水溶液処理をする方法において、平版印
刷版が該界面活性剤水溶液処理を終了して通過した後、
処理装置は該ローラ一対による搬送およびノズルによる
噴出の少な(とも一方が休止するように(以下単に休止
と記す、)設計されていることが無駄な動力を節減する
上で好ましい。
Furthermore, in a method of passing a lithographic printing plate between a pair of elastic rollers with a squeegee, and more preferably a method of treating the lithographic printing plate with an aqueous surfactant solution by spraying it from a number of nozzles, the lithographic printing plate may be treated with an aqueous surfactant solution. After passing through
In order to save unnecessary power, it is preferable that the processing device be designed so that the conveyance by the pair of rollers and the ejection by the nozzle are small (both one is stopped (hereinafter simply referred to as "stop")).

しかし、この休止期間に該ローラ一対の接触部分に該界
面活性剤水溶液が集積し、乾燥固化することが少なくな
く、この場合次の平版印刷版の処理再開時に界面活性剤
水溶液の塗布膜厚が不均一となりやすい、この事態を避
ける方法として、界面活性剤水溶液処理の休止している
間も該ローラ一対を回転させておく方法、処理している
間および、または休止している間、多数のノズルから該
ローラ一対じ該界面活性M水溶液を噴出させて該ローラ
一対の乾燥を遅らせる方法等の少なくとも一つの方法を
講することが好ましい。
However, during this pause period, the aqueous surfactant solution often accumulates on the contact area between the pair of rollers and dries and solidifies, and in this case, the coating film thickness of the aqueous surfactant solution is As a method to avoid this situation, which tends to result in non-uniformity, there is a method of keeping the pair of rollers rotating even while the surfactant aqueous solution treatment is paused, and a method of rotating the pair of rollers during the treatment and/or while the treatment is paused. It is preferable to use at least one method, such as a method of delaying the drying of the pair of rollers by jetting the aqueous surface-active M solution onto the pair of rollers from a nozzle.

本発明においては、界面活性剤を含む水溶液による処理
工程は2つ以上ある必要があるが、これらは連続してい
ることが好ましい。
In the present invention, there must be two or more treatment steps using an aqueous solution containing a surfactant, but these steps are preferably continuous.

又、現像後水洗工程を経ずに界面活性剤を含む水溶液に
よる処理を直接行なう場合、特に有利である。更に連続
した2つの界面活性剤を含む水溶液による処理工程を有
し、版が最初に通過する処理工程の処理液に、もう一方
の処理工程の処理液の一部を間欠的あるいは連続的に補
充する形態が特に好ましい、この場合後半の処理工程の
処理液に未使用の処理液を補充するのが更に好ましい。
Further, it is particularly advantageous when the treatment with an aqueous solution containing a surfactant is directly performed without a washing step after development. Furthermore, it has two consecutive processing steps using aqueous solutions containing surfactants, and the processing solution of the first processing step through which the plate passes is intermittently or continuously replenished with a portion of the processing solution of the other processing step. In this case, it is more preferable to replenish the processing solution in the latter half of the treatment process with unused processing solution.

界面活性剤を含む水溶液で処理された平版印刷版はゴミ
などの付着しないように、ある−1は取り扱いが容易と
なるように乾燥されることが好ましν1 。
It is preferable that the lithographic printing plate treated with an aqueous solution containing a surfactant be dried to prevent dust from adhering thereto and to facilitate handling.

好ましい乾燥温度は20〜120℃である。 このよう
にして処理されで得られた平版印刷版は、現像インキ盛
り、加筆、消去等の修正、版面保護剤処理などの種々の
工程に供することができる。
The preferred drying temperature is 20-120°C. The lithographic printing plate thus obtained can be subjected to various steps such as development ink application, addition, correction such as erasure, and treatment with a plate surface protectant.

以下、本発明を実施例により更に詳細に説明する。Hereinafter, the present invention will be explained in more detail with reference to Examples.

(実施例) 実施例1 厚さ0,3部mのアルミニウム板を硝酸溶液中で電気化
学的に粗面化し、よ(洗浄した後、硫酸溶液中で陽極酸
化を行って2.5g/a2の酸化皮膜を上記アルミニウ
ム板表面上に形成させjこ。
(Example) Example 1 An aluminum plate with a thickness of 0.3 parts m was electrochemically roughened in a nitric acid solution, washed, and anodized in a sulfuric acid solution to give a roughness of 2.5 g/a2. Form an oxide film on the surface of the aluminum plate.

水洗、乾燥後、特開昭56−1044号の実施例に従っ
て合成したレゾルシンベンズアルデヒド樹脂とす7トキ
ノン1.2−)7ノドー5−スルホニルクロライドとの
エステル化物3部、クレゾールホルマリンノボラック樹
脂9部およびビクトリア・ピュア・ブルー8011(保
土谷化学工業株式会社製、染料)0.12部を2−ノド
キシエタノール100部に溶解した感光液を上記支持体
上に塗布乾燥し、2.8g/a2の感光性層を有するP
S版を得た。
After washing with water and drying, 3 parts of the esterified product of resorcin benzaldehyde resin synthesized according to the example of JP-A-56-1044 and 7-toquinone 1,2-)7-nodo-5-sulfonyl chloride, 9 parts of cresol-formalin novolak resin, and A photosensitive solution prepared by dissolving 0.12 parts of Victoria Pure Blue 8011 (manufactured by Hodogaya Chemical Industry Co., Ltd., dye) in 100 parts of 2-nodoxyethanol was applied onto the above support and dried. P with photosensitive layer
I got the S version.

このようにして得られた版を800zzX 100h+
jの大きさに断裁し多数枚用意した。
The plate obtained in this way is 800zzX 100h+
A large number of sheets were prepared by cutting them into J-sized pieces.

次に、この試料に網点画像面積率が約80%である網点
画像を全面に均一にもつ透明陽画を通じて80cmの距
離から2部Mのメタルハライドランプを用いて60秒間
露光を与えた。i尤済試料を第1図に示す自動現像機に
よって現像した。
Next, this sample was exposed to light for 60 seconds using a 2 part M metal halide lamp from a distance of 80 cm through a transparency having a uniform halftone image over the entire surface with a halftone image area ratio of about 80%. The processed sample was developed using an automatic developing machine shown in FIG.

該図において10は現像部、20 、20 ’は界面活
性剤処理部である。搬送ローラ対1に導かれて現像部に
搬入されたPS版に対して、現像液貯蔵槽11よりポン
プを介して送られた現像液を現像液供給7ズル13より
18版面上に供給し、次いでブラシローラ3を経て現像
され、絞りローラ2でスキージされ、次の界面活性剤処
理部!部20に入る。界面活性剤液貯蔵ff121より
ポンプを介して界面活性剤供給/ズル23より18版面
上に供給され、絞りローラ2でスキージされ、次の界面
活性剤処理部20′に入り、第1の界面活性剤処理部!
部20と同様に処理される。但し、第2の界面活性剤処
理液貯蔵槽21′には新鮮な液を供給し、第2の界面活
性剤液槽22′をオーバ70−した液を第1の界面活性
剤液貯a槽21に供給している。同種をオーバーフロー
した界面活性剤液は廃液槽24に送られる。
In the figure, 10 is a developing section, and 20 and 20' are surfactant processing sections. For the PS plate guided by the transport roller pair 1 and carried into the developing section, a developer sent from the developer storage tank 11 via a pump is supplied onto the 18th plate surface from the developer supply nozzle 13, Next, it is developed via a brush roller 3, squeegeeed by a squeezing roller 2, and then transferred to the next surfactant processing section! Enter section 20. The surfactant is supplied from the surfactant liquid storage ff121 via a pump onto the 18th plate surface from the slurry 23, squeegeeed by the squeezing roller 2, enters the next surfactant processing section 20', and is treated with the first surfactant. Agent processing department!
It is processed in the same way as part 20. However, fresh liquid is supplied to the second surfactant treatment liquid storage tank 21', and the liquid that has exceeded the second surfactant liquid tank 22' is transferred to the first surfactant liquid storage tank a. 21. The surfactant liquid that has overflowed the same kind is sent to the waste liquid tank 24.

この場合使用した現像液、現像補充液、界面活性剤液の
処方は下記の通りである。
The formulations of the developer, developer replenisher, and surfactant solution used in this case are as follows.

現像液 珪酸カリウム水溶液(si02/に、0モル比1.2、
SiO含有fi4重量%)   ・・・50重量部イソ
プロピルナ7タレンスホン酸 ナトリウム         ・・・0.05重11部
ノスチレン化フェノールポリエチレン オキシド付加物 (商品名A−500、正正(株)製)  、、・Q、Q
5fi 41部水                 
       ・・・50重1部現像液補充液 珪酸カリウム水溶液(SiO□/に20モル比1.2、
SiO2含有fi4重量%) 界面活性剤水:/#液 ノー(2−エチルヘキシル)スルホこはく酸エステルナ
トリウム塩      ・・・ 30部リン酸二水素ナ
トリウム・二水塩  ・・・ 10部クエン酸・−水塩
          ・・・  2部水       
                   ・・・100
0部現像液貯蔵槽11に現像液401、界面活性剤液貯
蔵Wj21.21’に上記界面活性剤水溶液を各101
仕こみ、さらに現像液貯蔵槽には補充液を1版毎に40
11%界面活性剤液貯蔵!fJ21’には界面活性剤溶
液を1版毎に1011夫々補充する。したがって第1の
界面活性剤液、1ilW!21には第2の界面活性剤槽
22′より同量の液が補充される。この様にしてPS版
を2000枚処理したがいずれも良好な印刷物を得るこ
とが出来た。
Developer potassium silicate aqueous solution (to si02/, 0 molar ratio 1.2,
(SiO content 4% by weight) 50 parts by weight Sodium isopropylna-7-talensulfonate 0.05 parts by weight 11 parts Nostyrenated phenol polyethylene oxide adduct (trade name A-500, manufactured by Seisho Co., Ltd.)・Q,Q
5fi 41 parts water
...50 weight 1 part developer replenisher potassium silicate aqueous solution (20 molar ratio 1.2 to SiO□/
SiO2 content (fi4% by weight) Surfactant water: /#liquid no (2-ethylhexyl) sulfosuccinic acid ester sodium salt...30 parts Sodium dihydrogen phosphate dihydrate...10 parts citric acid-water Salt... 2 parts water
...100
0 parts 401 developer solution in the developer storage tank 11, 101 parts each of the above surfactant aqueous solution in the surfactant solution storage Wj21.21'
In addition, the developer storage tank is filled with replenisher at 400ml for each plate.
11% surfactant liquid storage! fJ21' is replenished with 1011 surfactant solutions for each plate. Therefore, the first surfactant liquid, 1ilW! 21 is replenished with the same amount of liquid from the second surfactant tank 22'. In this way, 2000 PS plates were processed, and good printed matter was obtained in all cases.

比較例2 第1図において第2の界面活性剤処理部20′のない場
合で、他は実施例1と同条件で処理した結果、400枚
目の版で刷った印刷物に汚れを生じた。
Comparative Example 2 In the case shown in FIG. 1, the second surfactant treatment section 20' was not provided, but the other conditions were the same as in Example 1. As a result, the printed matter printed with the 400th plate was stained.

実施例2 実施例2においては12図に示した自動現(v8!を用
いた。該図は現像部10の曲に現像部10′を設置し、
2+所の現像部を設けた。界面活性剤処理部はPt51
図と同じである。PA2図は先づ第1の現像部10″に
おいて、現像液供給ノズル13′より2枚の板材よりな
るベーススリット15を介して、傾斜板16にそって搬
送される18版面上に現像液を供給し、液溜り17を通
って串ローラ18を介して次のディップ槽14により現
像され、ブラシローラ3を通って次の現像R10に入る
。この場合該処理部10にはブラシロー2は省いている
Example 2 In Example 2, the automatic developer (v8!) shown in Figure 12 was used. In this figure, the developing unit 10' is installed in the song of the developing unit 10,
2+ developing sections were provided. Surfactant treated part is Pt51
Same as the figure. Figure PA2 shows that in the first developing section 10'', a developer is supplied from a developer supply nozzle 13' onto a 18-plate surface conveyed along an inclined plate 16 through a base slit 15 made of two plates. The liquid is supplied, passes through the liquid reservoir 17, passes through the skewer roller 18, is developed in the next dip tank 14, passes through the brush roller 3, and enters the next development R10.In this case, the brush row 2 is omitted in the processing section 10. There is.

以下の工程は第1図と同じである。The following steps are the same as in FIG.

本叉施例2において現像液は前記実施例1と同じであり
、現像液を1販出9200m1を現像n Ol:給ノズ
ル13′よりベーススリットを介して供給した。
In this Example 2, the developer was the same as in Example 1, and 9200 ml of the developer was supplied from the supply nozzle 13' through the base slit.

界面活性剤液は下記の水溶液を使用した。The following aqueous solution was used as the surfactant solution.

ラウリルアルコール硫酸 エステルナトリウム塩      ・・・ 30部リン
酸二水素ナトリウム・二水塩  ・・・ 10部クエン
酸・−水塩          ・・・  2部水  
                 ・・・1000部
この場合PS版を2200枚処理し、良好な結果を得る
ことが出来だ。
Lauryl alcohol sulfate ester sodium salt...30 parts Sodium dihydrogen phosphate dihydrate...10 parts Citric acid-hydrate...2 parts water
...1000 copies In this case, 2200 PS plates were processed and good results were obtained.

(発明の効果) 本発明により28版の現像処理後の水洗工程において、
まず廃水量が少なく、しかも公害発生、環境汚染の少な
い方法であり、又水洗水を使用しないか又はわずかな水
洗水による水洗の後、消去、加筆等のイ1正作業を効率
よく行える処理方法であり、さらに界面活性剤水溶液の
処J![!液寿命を増大し、製版コストが低減できる処
理方法を提供することが出来な。
(Effect of the invention) According to the present invention, in the water washing step after the development treatment of the 28th plate,
First of all, it is a method that uses less wastewater and causes less pollution and environmental contamination, and it is also a treatment method that does not use washing water or can efficiently carry out corrective work such as erasing and adding after washing with a small amount of washing water. And, furthermore, the surfactant aqueous solution J! [! It is not possible to provide a processing method that can increase the life of the solution and reduce the cost of plate making.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図及び第2図は本発明の実施態様を示す自動現像機
の構成を示す概略側断面図である。 1O110′:現像部、 11:現像液貯蔵槽、 12.12′:現像液槽、 13.13′:現像液供給ノズル、
1 and 2 are schematic side sectional views showing the structure of an automatic developing machine showing an embodiment of the present invention. 1O110': Developing section, 11: Developer storage tank, 12.12': Developer tank, 13.13': Developer supply nozzle,

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 自動現像機を用いて、露光された感光性平版印刷版を自
動的に搬送し、現像処理する方法において、現像工程の
後に界面活性剤を含む水溶液による処理工程を少なくと
も2つ含む事を特徴とする感光性平版印刷版の処理方法
A method of automatically transporting and developing an exposed photosensitive lithographic printing plate using an automatic developing machine, characterized by including at least two treatment steps with an aqueous solution containing a surfactant after the development step. A method of processing photosensitive lithographic printing plates.
JP1207787A 1987-01-20 1987-01-20 Method for processing photosensitive planographic printing plate Pending JPS63179358A (en)

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