JPS6317001Y2 - - Google Patents
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- JPS6317001Y2 JPS6317001Y2 JP6439782U JP6439782U JPS6317001Y2 JP S6317001 Y2 JPS6317001 Y2 JP S6317001Y2 JP 6439782 U JP6439782 U JP 6439782U JP 6439782 U JP6439782 U JP 6439782U JP S6317001 Y2 JPS6317001 Y2 JP S6317001Y2
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- carrier gas
- mass flow
- flow controller
- temperature
- nebulizer
- Prior art date
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Landscapes
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Description
【考案の詳細な説明】
本考案は、高周波プラズマ分析装置に係り、特
には溶液試料を霧化し、霧化したその試料をフア
ツセル形トーチ部へ運ぶキヤリヤガス系の安定化
についての高周波プラズマ分析装置に関する。[Detailed Description of the Invention] The present invention relates to a high-frequency plasma analyzer, and more particularly, to a high-frequency plasma analyzer that atomizes a solution sample and stabilizes a carrier gas system that transports the atomized sample to a futsel-shaped torch section. .
従来技術の高周波プラズマ分析装置について、
第１図を参照して説明する。第１図において、
P1は150Kg／cm2の圧力を有するAr（アルゴン）ガ
スを7.5Kg／cm2の圧力に減圧する減圧器、P2は減
圧されたArガスを更に4.5Kg／cm2の圧力にする調
圧器、V1，V2はそれぞれ第１，第２電磁バルブ、
FM1，FM2，FM3はそれぞれ第１，第２，第３
流量計、MC1，MC2，MC3はそれぞれ第１，第
２，第３マスフロコントローラ、THは石英製の
フアツセル形トーチ管、NBは溶液試料収納部SP
からの溶液試料を、キヤリヤガス流入口CRGに
流入するキヤリヤガスの負圧により吸上げて、ノ
ズル先端からその試料を霧状に放出するネブライ
ザ、FGはネブライザNBで霧化された試料をト
ーチ管THに導びくガラス製噴霧管、EDは電極
である。またトーチ管THには、冷却ガス流入口
CLGと、プラズマガス流入口PZGとが設けられ
ている。なお、DRはトーチ管THに導びかれな
かつた試料の排出口であり、PLZはプラズマであ
り、CPはテフロン製キヤツプである。 Regarding conventional high-frequency plasma analysis equipment,
This will be explained with reference to FIG. In Figure 1,
P 1 is a pressure reducer that reduces the pressure of Ar (argon) gas with a pressure of 150Kg/cm 2 to a pressure of 7.5Kg/cm 2 , and P 2 is a pressure reducer that further reduces the pressure of the reduced Ar gas to 4.5Kg/cm 2 . pressure vessel, V 1 and V 2 are first and second electromagnetic valves, respectively;
FM 1 , FM 2 , and FM 3 are the first, second, and third respectively.
Flowmeter, MC 1 , MC 2 , and MC 3 are the first, second, and third mass flow controllers, respectively. TH is a quartz fat cell type torch tube. NB is the solution sample storage part SP.
The nebulizer uses the negative pressure of the carrier gas flowing into the carrier gas inlet CRG to release the sample as a mist from the nozzle tip.The FG transfers the sample atomized by the nebulizer NB to the torch tube TH. Glass spray tube leading, ED is electrode. The torch tube TH also has a cooling gas inlet.
A CLG and a plasma gas inlet PZG are provided. Note that DR is the outlet for the sample not introduced into the torch tube TH, PLZ is the plasma, and CP is the Teflon cap.
ところで、このような構成の従来技術では、そ
の分析精度が、霧化された試料による霧の量やそ
の霧粒の大きさで大きく変動する。この変動をさ
けるためにはその霧の量や霧粒の大きさを一定に
する必要がある。このためにはネブライザNBの
キヤリヤガス流入口CRGにキヤリヤガスを定常
的に流すことが重要である。従来技術では、キヤ
リヤガスを定常時に流してその霧の量や霧粒の大
きさを一定にする目的のため、第１マスフロコン
トローラMC1を設けている。この第１マスフロ
コントローラMC1は、負荷（ネブライザのノズ
ル部分）が変動しても雰囲気温度（ガス温度を含
めて）が一定に保たれているときは、前記目的の
ためキヤリヤガスを常に一定量流すように動作す
る。 By the way, in the conventional technology having such a configuration, the analysis accuracy varies greatly depending on the amount of mist produced by the atomized sample and the size of the mist droplets. In order to avoid this fluctuation, it is necessary to keep the amount of fog and the size of the fog particles constant. For this purpose, it is important to constantly flow the carrier gas into the carrier gas inlet CRG of the nebulizer NB. In the prior art, a first mass flow controller MC 1 is provided for the purpose of keeping the amount of mist and the size of mist droplets constant by flowing carrier gas at a steady state. This first mass flow controller MC 1 always supplies a constant amount of carrier gas for the above purpose when the ambient temperature (including gas temperature) is kept constant even if the load (nebulizer nozzle part) changes. It works as if it were flowing.
ところが、第１マスフロコントローラは、流量
制御部が金属で構成されており、このため、その
流量制御部が雰囲気温度の影響を受けて温度変化
し易くしたがつて流量制御部自体が温度変化する
と、金属の膨張等により上記した動作の性質上そ
の動作に誤差を生じてしまい、その結果、分析精
度に変動をきたすという大きな欠点がある。 However, in the first mass flow controller, the flow rate control section is made of metal, and as a result, the flow rate control section is susceptible to temperature changes due to the influence of ambient temperature. Due to the nature of the operation described above, due to the expansion of the metal, etc., errors occur in the operation, resulting in fluctuations in analysis accuracy, which is a major drawback.
本考案の目的は、上述に鑑み、第１マスフロコ
ントローラを恆温槽内に入れることによりその流
量制御部の雰囲気温度を一定に保つ一方、更に恆
温槽内におけるキヤリヤガスの通過管をコイル状
に配管して通過管の長さを十分確保することによ
り、恆温槽で一定にされた通過管温度にガス温度
を一致させ、そのガス温度下で前記流量制御部が
動作するようにしてキヤリヤガスを定常的に流す
効果が促進されるようにして、第１マスフロコン
トローラの前記動作が常に正確に行われるように
し、これにより常に一定の高い分析精度で試料を
分析することができる高周波プラズマ分析装置を
提供することである。 In view of the above, the purpose of the present invention is to keep the ambient temperature of the flow rate control section constant by placing the first mass flow controller in the toner temperature tank, and to also arrange the carrier gas passage pipe in the toner temperature tank in a coil shape. By ensuring a sufficient length of the passage tube, the gas temperature is made to match the passage tube temperature kept constant in the torturous tank, and the flow rate control section operates under that gas temperature to maintain the carrier gas at a steady state. To provide a high-frequency plasma analyzer that can always accurately perform the operation of the first mass flow controller by promoting the effect of flowing the fluid into the flow, thereby always analyzing a sample with a constant high analysis accuracy. It is to be.
本考案は、上記目的を達成するため、溶液試料
をキヤリヤガスの負圧により霧化するネブライザ
と、ネブライザのキヤリヤガス流入口にキヤリヤ
ガスを定常的に流すようにキヤリヤガス流量を制
御するマスフロコントローラとを有する高周波プ
ラズマ分析装置において、前記マスフロコントロ
ーラの雰囲気温度を一定に保つ恆温槽内に、少な
くとも前記マスフロコントローラを設け、前記恆
温槽内においてそのマスフロコントローラに接続
されたキヤリヤガス通過管をコイル状に配管して
なる高周波プラズマ分析装置で構成される。 In order to achieve the above object, the present invention includes a nebulizer that atomizes a solution sample using negative pressure of a carrier gas, and a mass flow controller that controls the carrier gas flow rate so that the carrier gas is constantly flowing into the carrier gas inlet of the nebulizer. In a high-frequency plasma analyzer, at least the mass flow controller is provided in a thermostatic bath that keeps the ambient temperature of the mass flow controller constant, and a carrier gas passage tube connected to the mass flow controller is coiled in the thermostatic bath. It consists of a high frequency plasma analysis device made up of piping.
以下、本考案を図面に示す実施例に基づいて詳
細に説明する。 Hereinafter, the present invention will be described in detail based on embodiments shown in the drawings.
第２図は、本考案の一実施例の要部の構成図で
あり、第１図と対応する部分には同一の符号が付
される。第１図と同一の符号が付されている部分
の言及は説明の重複を避けるため省略する。本実
施例で第１に注目すべきは、第１流量計FM1と
第１マスフロコントローラMC1とが恆温槽TC内
に設けられていることである。即ち、恆温槽TC
内に第１流量計FM1と共に第１マスフロコント
ローラMC1が設けられていることにより、第１
マスフロコントローラMC1の雰囲気温度が常に
一定に保たれることになる。このため、負荷が変
動しても第１マスフロコントローラMC1は、常
に一定量のキヤリヤガスをネブライザNBのキヤ
リヤガス流入口CRGに流す動作を行うことがで
きる。 FIG. 2 is a block diagram of essential parts of an embodiment of the present invention, and parts corresponding to those in FIG. 1 are given the same reference numerals. References to parts with the same reference numerals as in FIG. 1 will be omitted to avoid duplication of explanation. The first thing to note about this embodiment is that the first flow meter FM 1 and the first mass flow controller MC 1 are provided in the temperature tank TC. That is, the hot tank TC
Since the first flow meter FM 1 and the first mass flow controller MC 1 are provided in the
The ambient temperature of the mass flow controller MC 1 is always kept constant. Therefore, even if the load fluctuates, the first mass flow controller MC 1 can always perform an operation to flow a constant amount of carrier gas into the carrier gas inlet CRG of the nebulizer NB.
本実施例で第２に注目すべきは、恆温槽TC内
におけるキヤリヤガスの通過管CLがコイル状に
配管されていることである。このコイル状通過管
CLにより、恆温槽TC内におけるキヤリヤガスの
通過管路長が十分確保されることになる。したが
つて、コイル状通過管CL内をキヤリヤガスが流
れていく間に、そのガス温度は通過管の温度にな
る。一方、通過管CLの温度は、恆温槽TCにより
常に一定に保たれている。したがつて、第１マス
フロコントローラMC1には、恆温槽TCの雰囲気
温度に一致したガス温度を有するキヤリヤガスが
流れることになる。このため、第１マスフロコン
トローラMC1は、ガス温度の変化による影響を
受けることなく所期の動作を行うことができる。 The second thing to note about this embodiment is that the carrier gas passage pipe CL in the toner temperature tank TC is arranged in a coil shape. This coiled passage tube
The CL ensures a sufficient passage length of the carrier gas in the temperature tank TC. Therefore, while the carrier gas flows through the coiled passage tube CL, the gas temperature becomes the temperature of the passage tube. On the other hand, the temperature of the passage tube CL is always kept constant by the temperature tank TC. Therefore, a carrier gas having a gas temperature matching the atmospheric temperature of the temperature control tank TC flows through the first mass flow controller MC1 . Therefore, the first mass flow controller MC 1 can perform the intended operation without being affected by changes in gas temperature.
このようにして、本実施例では、第１マスフロ
コントローラMC1が恆温槽TC内に設けられてい
ることにより、第１マスフロコントローラMC1
自体をその雰囲気温度にする一方、キヤリヤガス
通過管CLをコイル状に配管することにより、第
１マスフロコントローラMC1に、雰囲気温に一
致したガス温度のキヤリヤガスを流すことができ
るので、負荷が変動してもネブライザのキヤリヤ
ガス流入口に対して常に定常的にキヤリヤガスを
流すことができる。 In this way, in this embodiment, since the first mass flow controller MC 1 is provided in the temperature tank TC, the first mass flow controller MC 1
By piping the carrier gas passage pipe CL in a coiled manner, it is possible to flow the carrier gas at the gas temperature that matches the ambient temperature to the first mass flow controller MC 1 , thereby reducing the load fluctuation. However, the carrier gas can always be constantly supplied to the carrier gas inlet of the nebulizer.
以上説明したように、本考案によれば、上述し
た構成を有するので、負荷が変動しても第１マス
フロコントローラを一定の雰囲気温度下でしかも
その雰囲気温度に一致したガス温度のキヤリヤガ
スでもつてそのキヤリヤガスの流量を制御するの
で、所期の動作目的であるキヤリヤガスを定常的
に流すという動作を常に確実に行うことができ、
したがつて一定の高い分析精度で常に安定的に分
析を行うことができる等の効果が発揮される。 As explained above, according to the present invention, since it has the above-mentioned configuration, even if the load fluctuates, the first mass flow controller can be operated under a constant ambient temperature and with a carrier gas having a gas temperature that matches the ambient temperature. Since the flow rate of the carrier gas is controlled, the intended purpose of the operation, which is a steady flow of the carrier gas, can always be carried out reliably.
Therefore, effects such as always being able to stably perform analysis with a constant high analysis accuracy are exhibited.
第１図は従来技術の構成図、第２図は本考案の
一実施例の構成図である。
NB……ネブライザ、CRG……キヤリヤガス流
入口、TC……恆温槽、MC1……第１マスフロコ
ントローラ、CL……コイル状キヤリヤガス通過
管。
FIG. 1 is a block diagram of a conventional technique, and FIG. 2 is a block diagram of an embodiment of the present invention. NB... Nebulizer, CRG... Carrier gas inlet, TC... Temperature tank, MC 1 ... First mass flow controller, CL... Coiled carrier gas passage tube.
Claims (1)
ネブライザと、ネブライザのキヤリヤガス流入口
にキヤリヤガスを定常的に流すようにキヤリヤガ
ス流量を制御するマスフロコントローラとを有す
る高周波プラズマ分析装置において、前記マスフ
ロコントローラの雰囲気温度を一定に保つ恆温槽
内に、少なくとも前記マスフロコントローラを設
け、前記恆温槽内においてそのマスフロコントロ
ーラに接続されたキヤリヤガス通過管をコイル状
に配管してなることを特徴とする高周波プラズマ
分析装置。 A high-frequency plasma analysis apparatus comprising a nebulizer that atomizes a solution sample using a negative pressure of a carrier gas, and a mass flow controller that controls a carrier gas flow rate so that the carrier gas constantly flows into a carrier gas inlet of the nebulizer, wherein the mass flow controller A high-frequency plasma characterized in that at least the mass flow controller is provided in a thermostatic chamber that maintains a constant ambient temperature, and a carrier gas passage pipe connected to the mass flow controller is arranged in a coil shape in the thermostatic bath. Analysis equipment.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6439782U JPS58167450U (en) | 1982-04-30 | 1982-04-30 | High frequency plasma analyzer |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6439782U JPS58167450U (en) | 1982-04-30 | 1982-04-30 | High frequency plasma analyzer |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58167450U JPS58167450U (en) | 1983-11-08 |
| JPS6317001Y2 true JPS6317001Y2 (en) | 1988-05-13 |
Family
ID=30074427
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6439782U Granted JPS58167450U (en) | 1982-04-30 | 1982-04-30 | High frequency plasma analyzer |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58167450U (en) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH052846Y2 (en) * | 1985-02-22 | 1993-01-25 | ||
| JP2007114063A (en) * | 2005-10-20 | 2007-05-10 | Horiba Ltd | Nebulizer and sample liquid atomizer |
-
1982
- 1982-04-30 JP JP6439782U patent/JPS58167450U/en active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58167450U (en) | 1983-11-08 |
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