JPS63164199A - Target unit for x-ray generator - Google Patents
Target unit for x-ray generatorInfo
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- X-Ray Techniques (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、レーザビームを所定のターゲットに照射する
ことによってプラズマ化し、X線の発生を行う装置にお
いて、ターゲット材料をビーム照射位置に連続的に供給
しつつ保持するための装置に関する。[Detailed Description of the Invention] <Industrial Application Field> The present invention is an apparatus that irradiates a predetermined target with a laser beam to turn it into plasma and generates X-rays. The present invention relates to a device for supplying and holding equipment.
〈従来の技術〉
この種のX線発生装置においては、一般に、ターゲット
材料として金属や氷、あるいは不活性ガスの結晶体など
が用いられるが、レーザビームの照射によってターゲッ
ト物質は分解または蒸発して消耗する。そのため、レー
ザビームの照射位置に次々とターゲット材料を供給する
必要がある。<Prior art> In this type of X-ray generator, metal, ice, or an inert gas crystal is generally used as the target material, but the target material is decomposed or vaporized by laser beam irradiation. exhaust. Therefore, it is necessary to supply target materials one after another to the laser beam irradiation position.
従来、この供給を行う手法としては、円筒体のターゲッ
ト材料を回転させる方法、平板状のターゲット材料を平
行移動させる方法、あるいは薄膜(テープ状)のターゲ
ット材料を送る方法等がある。Conventionally, methods for performing this supply include a method of rotating a cylindrical target material, a method of translating a flat target material, and a method of sending a thin film (tape-like) target material.
〈発明が解決しようとする問題点〉
以上のような従来のターゲット材料の供給方法によれば
、いずれも、ターゲット材料を頻繁に交換する必要があ
り、装置の長時間連続運転ができず、また、運転に際し
て人手によるターゲット交操作業を比較的短い周期のも
とに必要とする。更に、レーザビームのスポット径は通
常数10μm〜数100μm程度に設定され、これによ
ってターゲットには数100μm程度の貫通孔が生じる
が、このターゲットのビーム被照射面を更新するために
は、0.5〜l u+程度の移動が必要となる。これが
故に、ターゲット材料は実際の消耗がわずかで大部分が
未使用の状態で交換されることになり、非経済的である
。<Problems to be Solved by the Invention> According to the conventional target material supply methods as described above, it is necessary to frequently replace the target material, the device cannot be operated continuously for a long time, and During operation, manual target interaction work is required at relatively short intervals. Furthermore, the spot diameter of the laser beam is usually set to about several tens of micrometers to several hundreds of micrometers, and this creates a through hole of about several hundred micrometers in the target, but in order to update the beam irradiated surface of this target, it is necessary to A movement of about 5 to l u+ is required. This is therefore uneconomical, as the target material is replaced in largely unused condition with little actual wear.
更にまた、従来の供給方法によると、ターゲット材料を
機械的に移動させるため、ターゲットの位置が変動する
虞れがある。レーザ光はレンズによってターゲット上に
集光されるため、このターゲット位置変動は集光スポッ
トサイズの変化をもたらし、X線発生に悪影否を与え、
また、X線発生位置が変化して線源のサイズが見かけ上
大きくなる等、多(の問題点の原因となっている。Furthermore, according to conventional feeding methods, the target material is mechanically moved, which may cause the position of the target to fluctuate. Since the laser beam is focused on the target by the lens, this target position variation causes a change in the focused spot size, which adversely affects the generation of X-rays.
In addition, the X-ray generation position changes and the size of the radiation source increases in appearance, which causes many problems.
本発明は上記の従来装置の諸欠点を一挙に解決すべくな
されたもので、ターゲット材料を長時間交換する必要が
な(、また、ターゲット材料を無駄なく有効に使用でき
、更に、ターゲットの位置変動の極めて少ない、X線発
生装置用ターゲット装置の提供を目的としている。The present invention has been made to solve the above-mentioned drawbacks of the conventional devices all at once; it eliminates the need to replace the target material for a long time (in addition, it allows the target material to be used effectively without wasting it, and furthermore, it The purpose of the present invention is to provide a target device for an X-ray generator with extremely little fluctuation.
〈問題点を解決するための手段〉
上記の目的を達成するための構成を、実施例に対応する
第1図および第2図を参照しつつ説明すると、本発明は
、ターゲット材料を液体の状態で貯留するターゲット溜
め1と、所定の空間2aを中心としてその周囲を囲むよ
う形成されてなるリング状部材(液体膜形成リング)2
と、そのリング状部材2の空間2aとターゲット溜め1
とを連通させるターゲット材料供給管3とを有し、空間
2aに表面張力によって形成された液体膜り、を、レー
ザビームを照射すべきターゲットとしたことによって特
徴づけられる。<Means for Solving the Problems> A configuration for achieving the above object will be described with reference to FIGS. 1 and 2 corresponding to the embodiment. a ring-shaped member (liquid film forming ring) 2 formed to surround a predetermined space 2a as a center;
, the space 2a of the ring-shaped member 2 and the target reservoir 1
It is characterized by having a target material supply pipe 3 that communicates with the space 2a, and using a liquid film formed in the space 2a by surface tension as the target to be irradiated with the laser beam.
〈作用〉
ターゲット溜め1内に貯留する液体ターゲット材料りは
、ターゲット材料供給管3を経て空間2aに供給され、
ここで表面張力により液体膜L3を形成する。この液体
膜Lsは、レーザビームの照射によって破壊されるが、
ターゲット溜め1内の圧力、ターゲット材料供給管3の
断面積および液体ターゲット材料りの粘性を特徴とする
特性等を適宜に設定することより、空間2aには液体タ
ーゲット材料りが順次供給され、液体膜り、は自己再生
する。<Operation> The liquid target material stored in the target reservoir 1 is supplied to the space 2a via the target material supply pipe 3,
Here, a liquid film L3 is formed due to surface tension. This liquid film Ls is destroyed by laser beam irradiation, but
By appropriately setting the pressure inside the target reservoir 1, the cross-sectional area of the target material supply pipe 3, and the viscosity characteristics of the liquid target material, the liquid target material is sequentially supplied to the space 2a, and the liquid The film regenerates itself.
〈実施例〉 本発明の実施例を、以下、図面に基づいて説明する。<Example> Embodiments of the present invention will be described below based on the drawings.
第1図は本発明実施例の要部構成を示す縦断面図で、第
2図はその■−■断面拡大図である。FIG. 1 is a longitudinal cross-sectional view showing the main structure of an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is an enlarged cross-sectional view taken along the line ■-■.
所定の内容量を有するターゲット溜め1の底面には、こ
のターゲット溜め1の内部と連通して下方に伸びる細管
であるターゲット材料供給管3が固着されており、その
ターゲット材料供給管3の下端部に液体膜形成リング2
が支承されている。A target material supply pipe 3, which is a thin tube that communicates with the inside of the target reservoir 1 and extends downward, is fixed to the bottom of the target reservoir 1 having a predetermined internal capacity, and the lower end of the target material supply pipe 3 liquid film forming ring 2
is supported.
液体膜形成リング2は、その内径寸法が例えば0.5乃
至1 ++n程度のリング状部材であって、その内部に
形成される空間2aはターゲット材料供給管3を介して
ターゲット溜め1の内部と連通している。The liquid film forming ring 2 is a ring-shaped member with an inner diameter of, for example, about 0.5 to 1 ++n, and a space 2a formed therein is connected to the inside of the target reservoir 1 via the target material supply pipe 3. It's communicating.
ターゲット溜め1の上部所定部位には、その内部に所定
圧力の気体を供給するためのガス供給源(図示せず)に
連通ずる加圧ガス導入管1aが配設されている。また、
ターゲット溜め1およびターゲット材料供給管3の外周
面にそれぞれ近接して、その内部を所定の高温に保持す
るための加熱用コイル4が配設されている。At a predetermined upper portion of the target reservoir 1, a pressurized gas introduction pipe 1a is provided which communicates with a gas supply source (not shown) for supplying gas at a predetermined pressure into the target reservoir 1. Also,
Heating coils 4 are disposed close to the outer circumferential surfaces of the target reservoir 1 and the target material supply pipe 3, respectively, to maintain the interiors thereof at a predetermined high temperature.
次に、以上の実施例の使用方法および作用を述べる。Next, the usage and operation of the above embodiment will be described.
この実施例では、ターゲット材料として例えば金属が用
いられるが、このターゲット金属は例えば粉体の状態で
ターゲット溜め1の内部に挿入され、加熱用コイル4に
よって加熱溶融されるか、あるいは既に加熱により溶融
された液体状の金属がターゲット溜め1内に挿入される
。ターゲット溜め1内の液体ターゲット材料りは、加圧
ガス導入管1aからのガス圧により、ターゲット材料供
給管3を介して液体膜形成リング2の内部の空間2aに
供給され、ここで第2図に示すような液体膜り、を形成
する。この液体膜り、は、第2図において凹形で示して
いるが、液体膜形成リング2を構成する線材径、空間2
aの寸法、供給される液体ターゲツト材料量、ターゲッ
ト温度および材質等により、膜厚、形状とも変化する。In this embodiment, for example, metal is used as the target material, and this target metal is inserted into the target reservoir 1 in the form of powder, and is heated and melted by the heating coil 4, or is already melted by heating. The liquid metal thus obtained is inserted into the target reservoir 1. The liquid target material in the target reservoir 1 is supplied to the internal space 2a of the liquid film forming ring 2 via the target material supply pipe 3 by the gas pressure from the pressurized gas introduction pipe 1a, and here, as shown in FIG. A liquid film is formed as shown in the figure. This liquid film is shown in a concave shape in FIG.
The film thickness and shape vary depending on the size of a, the amount of liquid target material supplied, target temperature, material, etc.
この形状等を求める計算はプラトー問題と称され、微分
方程式を解くことによって求められるが、実際には、実
験により最適な条件の組み合わせを決定する必要がある
。この実施例においては、加圧ガス導入管1aからの加
圧ガス圧力および供給速度、並びに加熱用コイル4によ
る液体ターゲット材料りの温度を変化させることによっ
て、液体膜り、の形状、膜厚をコントロールすることが
できる。Calculations to determine this shape, etc. are called a plateau problem, and are determined by solving differential equations, but in reality, it is necessary to determine the optimal combination of conditions through experiments. In this embodiment, the shape and thickness of the liquid film are controlled by changing the pressure and supply rate of the pressurized gas from the pressurized gas introduction pipe 1a and the temperature of the liquid target material by the heating coil 4. can be controlled.
以上のような液体膜り、をターゲットとしてレーザビー
ムが照射され、X&’iを発生する。このビーム照射に
より、ターゲット材料は局部的に分解・蒸発し、液体膜
り、は破壊されるが、加圧ガス導入管1aからターゲッ
ト溜め1内に流入するガスの圧力により液体ターゲット
材料りがターゲット材料供給管3を介して順次空間2a
に供給され、液体膜り、は再生する。すなわち、レーザ
ビーム照射により消耗した量だけ適宜に液体ターゲット
材料りが空間2aに供給される。A laser beam is irradiated onto the liquid film as described above to generate X&'i. By this beam irradiation, the target material is locally decomposed and evaporated, and the liquid film is destroyed, but the liquid target material film is destroyed by the pressure of the gas flowing into the target reservoir 1 from the pressurized gas introduction pipe 1a. Space 2a sequentially via material supply pipe 3
The liquid film is supplied to the membrane and regenerated. That is, the liquid target material is appropriately supplied to the space 2a by the amount consumed by the laser beam irradiation.
なお、以上の実施例においては、液体膜り、形成するた
めの空間2aを円形としたが、他の形状、例えば四角形
、三角形等の任意の空間に膜を形成するよう構成するこ
ともできる。In the above embodiment, the space 2a for forming the liquid film is circular, but the film may be formed in any other shape, such as a square or a triangle.
また、以上は液体金属をターゲット材料とした場合につ
いて説明したが、加熱用コイル4を冷凍装置に置換する
ことにより、例えば不活性ガスの液化物をターゲット材
料として使用することができ、また、常温近辺で液体の
材料を使用する場合は、ターゲットの液化状態を維持す
るための熱的手段は必ずしも必要ではない。In addition, although the case where liquid metal is used as the target material has been described above, by replacing the heating coil 4 with a freezing device, for example, a liquefied inert gas can be used as the target material. If liquid materials are used in the vicinity, thermal means to maintain the target in a liquefied state are not necessarily required.
更に、例えば回転自在の円盤に複数個の微少孔す
を設けてそれぞれ液体膜を形成し得るよう構成し、レー
ザビーム照射位置以外において形成された液体膜を順次
照射位置に供給するような装置としても応用できる。Furthermore, for example, a rotatable disk may be provided with a plurality of microscopic holes, each of which is configured to form a liquid film, and the liquid film formed at a position other than the laser beam irradiation position may be sequentially supplied to the irradiation position. can also be applied.
〈発明の効果〉
以上説明したように、本発明によれば、ターゲット材料
を液相状態で貯留するターゲット溜めと、所定の空間を
中心としてその周囲を囲むよう形成されてなるリング状
部材を備えるとともに、上記の空間をターゲット材料供
給管によりターゲット溜めと連通させ、この空間に表面
張力によって形成される液体ターゲット材料による膜を
ターゲットとしてレーザビームを照射するよう構成した
から、ターゲット材料のビーム照射による分解・蒸発で
消耗した量だけの空間への追加供給によって液体膜が自
己再生され、ターゲット材料を効率的に使用できる結果
、従来のようなターゲット材料の交換装着が不要となり
、交換作業を行うことなく長時間にわたって連続的な運
転が可能となる。<Effects of the Invention> As described above, the present invention includes a target reservoir for storing target material in a liquid phase, and a ring-shaped member formed to surround a predetermined space around the target reservoir. At the same time, the above-mentioned space is communicated with the target reservoir through a target material supply pipe, and the laser beam is irradiated with a film of the liquid target material formed by surface tension in this space as a target. The liquid film is self-regenerated by supplying an additional amount to the space corresponding to the amount consumed by decomposition and evaporation, and the target material can be used efficiently. As a result, there is no need to replace and attach the target material as in the past. Continuous operation for long periods of time is possible.
同様な理由により、高価な金属薄膜を用いることなく、
かつ、無駄なくターゲット材料を使用できて経済的であ
る。For the same reason, without using expensive metal thin films,
Moreover, it is economical because the target material can be used without waste.
更に、固定的に設けられたリング状部材に順次形成され
る膜をターゲットとしているので、従来のように機械的
な材料の送り機構が不要となって、ターゲット位置変動
を少くできるとともに、可動部がないが故に信頼性の高
い装置とすることができる。Furthermore, since the target is a film that is sequentially formed on a ring-shaped member that is fixedly provided, there is no need for a conventional mechanical material feeding mechanism, which reduces target position fluctuations and reduces the need for moving parts. Because there is no such thing, the device can be highly reliable.
第1図は本発明実施例の要部構成を示す縦断面図、 第2図はその■−■断面拡大図である。 1・・・ターゲット溜め 2・・・液体膜形成リング 3・・・ターゲット材料供給管 4・・・加熱用コイル FIG. 1 is a longitudinal cross-sectional view showing the main structure of an embodiment of the present invention; FIG. 2 is an enlarged cross-sectional view taken along the line ■-■. 1...Target reservoir 2...Liquid film forming ring 3...Target material supply pipe 4...Heating coil
Claims (1)
X線を発生する装置において、ターゲット材料をレーザ
ビーム照射位置に供給しつつ保持するための装置であっ
て、ターゲット材料を液体の状態で貯留するターゲット
溜めと、所定の空間を中心としてその周囲を囲むよう形
成されてなるリング状部材と、そのリング状部材の上記
空間と上記ターゲット溜めとを連通させるターゲット材
料供給管とを有し、上記空間に表面張力によって形成さ
れた液体膜を、レーザビームを照射すべきターゲットと
したことを特徴とする、X線発生装置用ターゲット装置
。In a device that generates X-rays by irradiating a target material with a laser beam, it is a device for supplying and holding the target material at a laser beam irradiation position, and a target reservoir that stores the target material in a liquid state. , a ring-shaped member formed to surround a predetermined space as a center, and a target material supply pipe that communicates the space of the ring-shaped member with the target reservoir, and has a surface tension in the space. A target device for an X-ray generator, characterized in that a liquid film formed by the method is used as a target to be irradiated with a laser beam.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31419686A JPS63164199A (en) | 1986-12-25 | 1986-12-25 | Target unit for x-ray generator |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31419686A JPS63164199A (en) | 1986-12-25 | 1986-12-25 | Target unit for x-ray generator |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63164199A true JPS63164199A (en) | 1988-07-07 |
Family
ID=18050424
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP31419686A Pending JPS63164199A (en) | 1986-12-25 | 1986-12-25 | Target unit for x-ray generator |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63164199A (en) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003066200A (en) * | 2001-06-19 | 2003-03-05 | Koninkl Philips Electronics Nv | X-ray source provided with liquid metal target |
JP2009537943A (en) * | 2006-05-16 | 2009-10-29 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | Method for increasing the conversion efficiency of EUV lamps and / or soft X-ray lamps and corresponding devices |
JP2017049614A (en) * | 2008-12-19 | 2017-03-09 | ギガフォトン株式会社 | Target supply device |
JP2018185548A (en) * | 2013-03-14 | 2018-11-22 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | Method of and apparatus for supply and recovery of target material |
-
1986
- 1986-12-25 JP JP31419686A patent/JPS63164199A/en active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2003066200A (en) * | 2001-06-19 | 2003-03-05 | Koninkl Philips Electronics Nv | X-ray source provided with liquid metal target |
JP2009537943A (en) * | 2006-05-16 | 2009-10-29 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | Method for increasing the conversion efficiency of EUV lamps and / or soft X-ray lamps and corresponding devices |
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JP2018185548A (en) * | 2013-03-14 | 2018-11-22 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | Method of and apparatus for supply and recovery of target material |
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