JPS6316264B2 - - Google Patents

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JPS6316264B2
JPS6316264B2 JP54129816A JP12981679A JPS6316264B2 JP S6316264 B2 JPS6316264 B2 JP S6316264B2 JP 54129816 A JP54129816 A JP 54129816A JP 12981679 A JP12981679 A JP 12981679A JP S6316264 B2 JPS6316264 B2 JP S6316264B2
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JP
Japan
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group
formula
integer
carbon atoms
meth
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Application number
JP54129816A
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Japanese (ja)
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JPS5655253A (en
Inventor
Akihiro Horiie
Yoshihiko Imanaka
Hiroshi Nakamatsu
Juji Mitani
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Teijin Ltd
Original Assignee
Teijin Ltd
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Publication date
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Publication of JPS5655253A publication Critical patent/JPS5655253A/en
Publication of JPS6316264B2 publication Critical patent/JPS6316264B2/ja
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Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

本発明はプラスチツク積層体に関し、更に詳細
には耐スクラツチ性の良好な透明導電性フイルム
に関する。 情報化社会の発展に伴い、エレクトロクロミズ
ムデイスプレイ、液晶デイスプレイ、エレクトロ
ルミネツセンスデイスプレイ等の開発が行われ、
それに関連して透明導電性材料が進歩をとげてき
た。 かかる材料の他の応用として電子写真用の支持
体、帯電防止用フイルム、自動車用窓ガラスフイ
ルムへの適用の検討がなされている。かかる応用
に対しては、古くより知られているネサガラスよ
りもフイルム状の透明導電性フイルムが有効であ
り、その適用に関して検討が行われているが、こ
の方面への適用に対しては該透明導電性フイルム
は耐スクラツチ性、耐薬品性等に於て優れている
事が必要である。 かかる目的の為に例えばネサガラスの表面に
SiO2の蒸着膜を形成させる事は公知である。 一方、透明導電性フイルムはネサガラスと異つ
て可撓性を有し、連続生産、大面積化が容易であ
るばかりでなく、加工性が良好であるという長所
を有する。 かかる加工性の長所を充分発現させる為には耐
スクラツチ、耐薬品性を賦与する為に設けた層も
又適度の伸度を有しなければならない。 本発明者らは工業的に大量生産でき、安価な耐
スクラツチ性を有する透明導電性フイルムにつき
鋭意研究した結果、本発明に到達した。 すなわち、本発明は可撓性フイルム(A)、その上
に積層された透明導電性層(B)及び層(B)上或いはそ
れに対向してフイルム(A)上に設けられた有機耐ス
クラツチ性層(C)とからなり、当該耐スクラツチ性
層(C)が5%伸長時に亀裂を生じない0.01〜100μm
厚さの有機耐スクラツチ性層である耐スクラツチ
性透明導電性フイルムである。 本発明における可撓性フイルム(A)としては、例
えばポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン
ナフタレートなどのポリエステルフイルム;ポ
リ・ε−カプロアミド、ポリヘキサメチレンアジ
パミド、ポリメタフエニレンイソフタラミドなど
のポリアミドフイルム;ポリカーボネートフイル
ム;ポリプロピレンなどのポリオレフインフイル
ム;トリアセテートなどのセルロース系フイル
ム;フツ素含有ポリマーフイルム等を挙げる事が
出来るが、ポリエチレンテレフタレート、ポリエ
チレンナフタレート等に代表されるポリエステル
系フイルムは機械的強度、寸法安定性、耐熱性等
の点から本発明の可撓性フイルムとして特に好ま
しい。 上記フイルムはその透明性を損なわない範囲で
顔料、染料等の着色剤、耐光安定剤、帯電防止剤
等の添加剤を含有していてもよい。 又、フイルムの厚さは可撓性を有する限り、特
に制限されないが通常2μm〜200μmの厚さであ
り、好ましくは6μm〜130μmである。 前記フイルム上に設けられる透明導電性層(B)と
しては、酸化インジウム、酸化スズ等からなる金
属酸化物、金、銀、パラジウムによる金属等の薄
層が一般的である。特に透明性の点より金属酸化
物からなる透明導電層が有効である。 かかる酸化インジウムまたは酸化スズ等の金属
酸化物で構成される透明導電性層の厚さはおよそ
10〜5000Åであり、好ましくは50〜1000Åであ
り、その表面抵抗値はおよそ101〜106Ω/口、好
ましくは102〜105Ω/口であり、また、可視光の
透過率は80〜87%を有している(可視光透過率87
%のポリエステルフイルムに積層した場合)。 金属酸化物の透明導電層の積層法としては、例
えば特公昭51−37667号公報に記載されているよ
うな、金属酸化物を真空蒸着した後、熱酸化す
る方法、高周波スパツタリング法、直流反応
性スパツタリング法、イオンビームスパツタリ
ング法及び高周波イオンプレーテイング法など
公知の方法が採用できる。特に真空蒸着と熱酸化
を組合せる方法が生産効率から好ましい。 前記透明導電性層(B)上、或いはそれと対向して
フイルム(A)上に塗布される耐スクラツチ性層(C)
は、チリ、ゴミによる摩耗或いはスクラツチ等に
よる傷形成に対して強い抵抗を示すものであり、
且つ、その伸度が高いものである。 本発明の耐スクラツチ性層(C)は、テーバー摩耗
10F輪50回の条件で測定した場合のヘーズ値が30
以下、好ましくは0.5〜20、特に好ましくは1〜
10であり、その伸度はインストロン引張試験機を
用いてヘツドスピード2cm/分の速度で測定した
場合、5%以上、好ましくは10%〜50%、特に好
ましくは20%〜40%のものである。 伸度を有し、且つ耐スクラツチ性、耐摩耗性を
有する層としては、有機高分子層が好適であり、
特に三次元架橋ポリマー層が好適である。 かかる有機系スクラツチ性剤としては、メラミ
ン−ホルムアルデヒド樹脂、尿素−ホルムアルデ
ヒド樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アルキツド
樹脂、エポキシ樹脂、エチレン−アクリル酸共重
合体の部分金属塩架橋物(例えば“サーリンA”
du pont)、ポリ(メタ)アクリロニトリル、含
フツ素炭化水素重合体、含フツ素重合体とメラミ
ン樹脂の混合物、水酸基含有ポリマーのメラミン
硬化物、トリメチロールプロパントリアクリレー
トの硬化物に代表される多官能(メタ)アクリレ
ート硬化物及びそれらと2官能(メタ)アクリレ
ートとの混合物の硬化物、O、N、S等の異原子
を有してもよい直鎖又は環状の炭化水素基に2又
は3以上の(メタ)アクリロイル基が結合した多
(メタ)アクリロイル化合物の硬化物等が挙げら
れる。尚本明細書中『(メタ)アクリル酸エステ
ル』なる記載は、『メタアクリル酸エステル及
び/又はアクリル酸エステル』を意味する。同様
に『(メタ)アクリロイル基』なる記載は『メタ
アクリロイル基及び/又はアクリロイル基』を意
味する。 これらの中でも、含フツ素重合体のメラミン又
はシリケート架橋物、ポバールやエチレンポバー
ル等の水酸素含有重合体のメラミン架橋物、O、
N等の異原子を有してもよい分子量100以下の脂
肪族基に2ケの(メタ)アクリロイル基が結合し
た化合物の硬化物、O、N等の異原子を有しても
よい分子量100以上の脂肪族基に3ケ以上の(メ
タ)アクリロイル基が結合した化合物((メタ)
アクロイル基1個当りの分子量が30〜500のもの
が好ましい)の硬化物、O、N、S等の異原子を
有してもよい分子量250〜3000の芳香族、脂環族、
ヘテロ環族基に(メタ)アクリロイル基が2個以
上結合した化合物((メタ)アクリロイル基1個
当りの分子量が30〜500のものが好ましい)の硬
化物が挙げられ、特に環状基含有多(メタ)アク
リロイル化合物として、下記一般式()の如き
ものが挙げられる。 〔但し、式中R10は水素原子又はメチル基;R20
は炭素原子数1〜10のアルキレン基又はオキシジ
アルキレン基;R3はN−置換又は非置換のメラ
ミン残基、シアヌル酸残基、イソシアヌル酸残基
又は炭素原子数9〜18の3又は4価の芳香族ポリ
カルボン酸残基;nは3〜6の整数を表わし、
R1、R2は同一分子内のnケがすべて同一でもよ
く、険異なつてもよい。〕 で表わされる(メタ)アクリル酸エステル。 これらの化合物を更に具体的に示せば、下記一
般式()〜()のものが挙げられる。 〔但し、式中R11は水素原子又はメチル基;R21
はエチレン又はプロピレン基;R4
The present invention relates to plastic laminates, and more particularly to transparent conductive films with good scratch resistance. With the development of the information society, electrochromic displays, liquid crystal displays, electroluminescent displays, etc. have been developed.
Related advances have been made in transparent conductive materials. Other applications of such materials include electrophotographic supports, antistatic films, and automobile window glass films. For such applications, a transparent conductive film in the form of a film is more effective than the long-known Nesa glass, and its application is being studied; The conductive film must have excellent scratch resistance, chemical resistance, etc. For such purposes, for example, on the surface of Nesa glass
It is known to form a vapor deposited film of SiO 2 . On the other hand, transparent conductive film is different from Nesa glass in that it has flexibility, and has the advantage of not only being easy to produce continuously and increasing its area, but also having good processability. In order to fully exploit the advantages of such processability, the layer provided to impart scratch resistance and chemical resistance must also have appropriate elongation. The present inventors have arrived at the present invention as a result of extensive research into a transparent conductive film that can be industrially mass-produced, is inexpensive, and has scratch resistance. That is, the present invention provides a flexible film (A), a transparent conductive layer (B) laminated thereon, and an organic scratch-resistant layer provided on the film (A) on or opposite to the layer (B). The scratch-resistant layer (C) has a thickness of 0.01 to 100 μm that does not cause cracks when stretched by 5%.
It is a scratch resistant transparent conductive film that is a thick organic scratch resistant layer. Examples of the flexible film (A) in the present invention include polyester films such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate; polyamide films such as poly·ε-caproamide, polyhexamethylene adipamide, and polymetaphenylene isophthalamide; Examples include polycarbonate films; polyolefin films such as polypropylene; cellulose films such as triacetate; and fluorine-containing polymer films; however, polyester films such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate have poor mechanical strength and dimensional stability. It is particularly preferred as the flexible film of the present invention in terms of properties, heat resistance, etc. The above-mentioned film may contain additives such as colorants such as pigments and dyes, light stabilizers, and antistatic agents to the extent that the transparency thereof is not impaired. Further, the thickness of the film is not particularly limited as long as it has flexibility, but it is usually 2 μm to 200 μm, preferably 6 μm to 130 μm. The transparent conductive layer (B) provided on the film is generally a thin layer of a metal oxide such as indium oxide or tin oxide, or a metal such as gold, silver, or palladium. In particular, a transparent conductive layer made of a metal oxide is effective from the viewpoint of transparency. The thickness of the transparent conductive layer made of metal oxide such as indium oxide or tin oxide is approximately
It is 10 to 5000 Å, preferably 50 to 1000 Å, its surface resistance is approximately 10 1 to 10 6 Ω/mouth, preferably 10 2 to 10 5 Ω/mouth, and its visible light transmittance is Has 80-87% (visible light transmittance 87
% polyester film). Lamination methods for transparent conductive layers of metal oxides include, for example, the method described in Japanese Patent Publication No. 51-37667, in which a metal oxide is vacuum-deposited and then thermally oxidized, a high-frequency sputtering method, and a direct current reactivity method. Known methods such as sputtering, ion beam sputtering, and high frequency ion plating can be used. In particular, a method combining vacuum deposition and thermal oxidation is preferred from the viewpoint of production efficiency. a scratch-resistant layer (C) coated on the film (A) on or opposite to the transparent conductive layer (B);
shows strong resistance to abrasion caused by dirt and dust, or damage formation caused by scratches, etc.
Moreover, its elongation is high. The scratch-resistant layer (C) of the present invention
The haze value is 30 when measured under the conditions of 10F wheels 50 times.
Below, preferably 0.5 to 20, particularly preferably 1 to
10, and its elongation is 5% or more, preferably 10% to 50%, particularly preferably 20% to 40%, when measured using an Instron tensile tester at a head speed of 2 cm/min. It is. An organic polymer layer is suitable as a layer having elongation, scratch resistance, and abrasion resistance.
A three-dimensionally crosslinked polymer layer is particularly suitable. Such organic scratching agents include melamine-formaldehyde resins, urea-formaldehyde resins, unsaturated polyester resins, alkyd resins, epoxy resins, and partially metal salt crosslinked ethylene-acrylic acid copolymers (for example, "Surlyn A").
du pont), poly(meth)acrylonitrile, fluorine-containing hydrocarbon polymers, mixtures of fluorine-containing polymers and melamine resins, melamine cured products of hydroxyl group-containing polymers, and cured products of trimethylolpropane triacrylate. Functional (meth)acrylate cured products and cured products of mixtures thereof with bifunctional (meth)acrylates, linear or cyclic hydrocarbon groups that may have different atoms such as O, N, S, etc. Examples include cured products of poly(meth)acryloyl compounds to which the above (meth)acryloyl groups are bonded. In this specification, the term "(meth)acrylic ester" means "methacrylic ester and/or acrylic ester." Similarly, the description "(meth)acryloyl group" means "methacryloyl group and/or acryloyl group." Among these, melamine or silicate crosslinked products of fluorine-containing polymers, melamine crosslinked products of water oxygen-containing polymers such as poval and ethylene poval, O,
Cured product of a compound in which two (meth)acryloyl groups are bonded to an aliphatic group with a molecular weight of 100 or less which may have a different atom such as N, a molecular weight of 100 which may have a different atom such as O or N Compounds in which three or more (meth)acryloyl groups are bonded to the above aliphatic groups ((meth)
(preferably those with a molecular weight of 30 to 500 per acroyl group); aromatic and alicyclic compounds with a molecular weight of 250 to 3000, which may have different atoms such as O, N, and S;
Examples include cured products of compounds in which two or more (meth)acryloyl groups are bonded to a heterocyclic group (preferably those with a molecular weight of 30 to 500 per (meth)acryloyl group), and in particular, compounds containing cyclic groups ( Examples of the meth)acryloyl compound include those represented by the following general formula (). [However, in the formula, R 10 is a hydrogen atom or a methyl group; R 20
is an alkylene group or oxydialkylene group having 1 to 10 carbon atoms; R 3 is an N-substituted or unsubstituted melamine residue, cyanuric acid residue, isocyanuric acid residue, or 3 or 4 having 9 to 18 carbon atoms aromatic polycarboxylic acid residue; n represents an integer of 3 to 6;
R 1 and R 2 in the same molecule may all be the same, or may be radically different. ] A (meth)acrylic acid ester represented by More specific examples of these compounds include those represented by the following general formulas () to (). [However, in the formula, R 11 is a hydrogen atom or a methyl group; R 21
is ethylene or propylene group; R 4 is

【式】【formula】

【式】又は[Formula] or

【式】で あり、nは3又は4である。R1、R2は同一分子
中のnケがすべて同一でもよく、又異なつてもよ
い。〕 〔但し、式中R12は夫々水素原子又はメチル基で
あり、R22は夫々炭素原子数2〜4のアルキレン
基であり、R50は夫々2〜4価の炭素原子数2〜
6の飽和炭化水素基である。この飽和炭化水素基
は炭素原子の一部が酸素原子に置換されたエーテ
ル結合を有することができる。mは1〜3の整数
であり、lは0又は1、2の整数であり、且つ
(l+m+1)は2〜4の整数である。nは0又
は1〜3の整数であり、好ましくは0又は1であ
る。qは1〜3の整数であり、pは0又は1、2
の整数であり、且つ(p+q+1)は2〜4の整
数である。rは0又は1〜3の整数であり、好ま
しくは0又は1である。 〔但し、R13は前記式()の定義の通りであ
り、R23は同一若しくは異なり、エチレン、プロ
ピレン又は
[Formula] and n is 3 or 4. In R 1 and R 2 , all n atoms in the same molecule may be the same or different. ] [However, in the formula, R 12 is a hydrogen atom or a methyl group, R 22 is an alkylene group having 2 to 4 carbon atoms, and R 50 is a divalent to tetravalent alkylene group having 2 to 4 carbon atoms, respectively.
6 saturated hydrocarbon group. This saturated hydrocarbon group can have an ether bond in which some of the carbon atoms are replaced with oxygen atoms. m is an integer of 1 to 3, l is an integer of 0, 1, or 2, and (l+m+1) is an integer of 2 to 4. n is 0 or an integer of 1 to 3, preferably 0 or 1. q is an integer from 1 to 3, p is 0, 1, 2
is an integer of , and (p+q+1) is an integer of 2 to 4. r is 0 or an integer of 1 to 3, preferably 0 or 1. [However, R 13 is as defined in the above formula (), and R 23 is the same or different and is ethylene, propylene or

【式】(但し、 結合手(a)が酸奏原子と、結合手(b)が窒素原子と結
合する。)であり、R61、R62及びR63は同一若し
くは異なり、水素原子、炭素原子数1〜4のアル
キル基、炭素原子数1〜4のヒドロキシアルキル
基、炭素原子数2〜6のアルコキシアルキル基又
[Formula] (However, bond (a) is bonded to an acid atom and bond (b) is bonded to a nitrogen atom.), and R 61 , R 62 and R 63 are the same or different, and are hydrogen atoms, carbon an alkyl group having 1 to 4 atoms, a hydroxyalkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkoxyalkyl group having 2 to 6 carbon atoms, or

【式】(但し、R1、R2は前記 式()の定義の通り)なる基である。 但し、R61、R62及びR63が(メタ)アクリロイ
ル基を有する場合には、それらは同時には(メ
タ)アクリル基を含有しない事が好ましく、特に
どれか1個が(メタ)アクリル基を含有するもの
である事が好ましい。〕 これら()〜()の一般式で表わされる化
合物の中でも、特に式()で表わされる化合物
が好ましく、その中でも下記式(−a)で表わ
されるものが好ましい。 〔但し、式中R12は夫々水素原子又はメチル基で
あり、R22は夫々炭素原子数2〜4のアルキレン
基であり、R50は夫々2〜4価の炭素原子数2〜
6の飽和炭化水素基である。この飽和炭化水素基
は炭素原子の一部が酸素原子に置換されたエーテ
ル結合を有することができる。mは1又は2の整
数であり、lは0又は1である。nは0又は1で
ある。qは1であり、pは0である。rは0であ
る。但し、式中全てのR12、R22及びR50は同一で
もよく、異なつてもよい。〕 かかる化合物の一部の具体例を下記に示す。 〔ここで上記(−b)〜(−k)の各式中、
R12、R22及びR50は前記式()で定義したもの
と同義である。〕 上記の耐スクラツチ性剤は単一組成であつても
よく、又、お互いの混合物であつてもよい。更に
は本発明の目的を損なわない範囲で前記以外のも
のを含有していてもよい。この場合、前記化合物
は少なくとも70重量%以上、好ましくは85重量%
以上含有される。特に一般式()更には()
〜()特に()で表わした化合物を硬化物は
耐スクラツチ性が非常に優れているために、他の
化合物や硬化用樹脂及び接着向上等の性能調整の
為の樹脂等と混合して使用することが可能であ
る。 これら耐スクラツチ性剤の塗布される厚さは、
耐スクラツチ性剤の物性特にそのヘーズ値と伸度
とによつて変化しうるのであるが、通常0.01μ〜
100μ、好ましくは0.1μ〜30μ、更に好ましくは
0.5μ〜10μであり、特に好ましくは2μ〜5μである。 かかる耐スクラツチ性層を設ける方法として
は、通常のコーテイング方法が好適に用いられ
る。 例えば耐スクラツチ性剤を含有する硬化性組成
物を主成物とするコーテイング液を前記の被塗布
面に塗布し、溶媒を含む場合には乾燥後硬化させ
る事によつて得られる。 該コーテイング液として、前記一般式()で
表わされる(メタ)アクリル酸エステル中から選
ばれる少くとも1種の化合物を用いる場合には、
必要に応じてラジカル重合開始剤、例えばベンゾ
フエノン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテ
ル、ベンゾインエチルエーテル等のベンゾインエ
ーテル類;ベンジル、ベンジルジメチルケター
ル、ベンジルジエチルケタール等のベンジルケタ
ール類;2−アルキルアントラキノン類、ジアセ
チル等アゾビスイソブチロニトリル等のアゾ化合
物;ベンゾイルパーオキシド、ラウリルパーオキ
シド、ジ−tert−ブチルパーオキシド、ジクミル
パーオキシド、クメンヒドロペルオキシド等の過
酸化物等を0.01〜10重量%、又重合禁止剤とし
て、例えばハイドロキノン、ハイドロキノンモノ
メチルエーテル、カテコール、2,6−ジ−tert
−ブチルフエノール、N−ニトロソジフエニルア
ミン、フエノチアジン等を通常該(メタ)アクリ
ル酸エステルに対して10〜1000ppm用いたコーテ
イング液を上記方法により硬化せしめればよい。 その他各種添加剤として、例えば紫外線吸収
剤、酸化防止剤等の安定剤、顔料、螢光増白剤、
ガラス繊維等のフイラー等を添加してもよい。 又、コーテイング液は通常の溶剤によつて任意
に希釈使用する事が出来る。 硬化反応は一般的に加熱或いは活性光線(紫外
線等)電子線、γ線等の放射線の照射によつて行
われる。(メタ)アクリル系化合物を用いて紫外
線照射による硬化により得られた耐摩耗性剤は有
利である。 コーテイング液を塗布する方法は、フイルムの
コーテイング液への浸漬又はフイルムへのコーテ
イング液のスプレー等による吹きつけ、はけ、ド
クターナイフ、バーコーター、ロール等による塗
布、ロール転写等があり、いずれの方法も好まし
く使用される。 又、密着性を一層向上させるためにフイルムの
表面処理をしても差支えない。かかる表面処理法
としては、接着層をコーテイングする方法等が挙
げられる。 かくして得られた透明導電性フイルムは、優れ
た耐アブレージヨン性を有しており、しかも可撓
性に富んでいる為折り曲げたりする条件下でもヒ
ビ割れを生ぜず、又、曲面状物体に貼付する場合
に於ても取り扱い容易である。その為本発明の構
成体は室内壁、窓等の静電防止用フイルムとし
て、静電気を嫌う電子部品の保護フイルムとし
て、また、テレビ前面板として、外気に接する静
電防止用途に好適に使用出来る。 更に又、透明導電性フイルムの導電性を利用し
たデバイスに対してその透明導電性の保護、すな
わち後加工等における薬品に対する保護用として
有用である。又、かかる構成体は透明導電性層の
腐蝕に対して有効に働らき、耐久性を増大させ
る。 以上のごときに用途が挙げられるが、本発明は
これに限定されるものではない。 以下実施例により本発明を更に説明する。 尚、実施例中の部は重量部を意味する。 実施例 1 塩化シアヌル1モルに対し2−ヒドロキシエチ
ルアクリレート3モルを反応して得られたトリス
アクリロイルオキシエチルシアヌレート10部、ベ
ンジルジメチルケタール0.15部及びメチルイソブ
チルケトン10部よりなるコーテイング液を、1.0μ
の接着層を有する25μ厚の二軸延伸ポリエチレン
テレフタレートフイルム上に設けた表面抵抗値2
×104Ω/口、可視光透過率87%(550mμ)の酸
化インジウム層上に、グラビアコーターを用いて
塗布し、120℃で溶剤除去した後、2kw高圧水銀
灯25cm下2分間照射して、3.0μmの厚さの耐スク
ラツチ性層を有する耐スクラツチ性透明導電性フ
イルムを得た。このフイルムはASTM−D1044
−56に基づくテーバー摩耗テスト(CS−10F摩耗
輪、荷重500g×2、50回転)の結果、被覆面の
ヘイズ値は5.0%であつた。又、該フイルムをイ
ンストロン引張り試験機を用いて引張り速度2
cm/mmで操作し、クラツクを生じるまでの伸度を
測定した所30%の伸度を有していた。 実施例 2 硬化剤としてシアヌレート環1ケ当り、平均し
てアクリロイルオキシエチル基2ケ、3価のアル
コールであるトリメチロールプロボンに由来する
シアヌル酸エステル残基0.33ケの割合で結合する
化合物を実施例1のトリスアクリロイルオキシエ
チルシアヌレートのかわりに用いる以外、同様に
して3.0μmの耐スクラツチ性層を有する耐スクラ
ツチ透明導電性フイルムを作つた。このもののテ
ーバー摩耗のヘーズ値(実施例1の測定法によ
る)は4%であり、伸度は32%であつた。 比較としてジペンタエリスリトールヘキサアク
リレートを硬化剤として用いた耐摩耗性フイルム
を作つた。このものは伸度が3%であつた。 上記各フイルムを静電防止の目的でテレビのブ
ラウン管に貼付した所、本願発明のフイルムは良
好に加工出来、長期使用に耐えた。 一方、比較のものは貼付け時ブラウン管端部の
テーパー部に於てクラツクを生じた。 実施例 3 ヘキサキスアクリロイルオキシエチルメラミン
10部、ベンゾインエチルエーテル0.2部、過酸化
ベンゾイル0.1部及びメチルイソブチルケトン10
部よりなるコーテイング液を酸化インジウムの透
明導電層を有する25μm厚さのポリエチレンテレ
フタレートフイルム上に塗布し、140℃乾燥ゾー
ンを通過させ3.0μの厚さの塗布層を得た。これを
80W/cmの高圧水銀灯2灯を用いて3m/mmのフ
イルム速度で光硬化させた。 このもののフイルム物性はテーバー摩耗(実施
例1の測定法)ヘーズ値3.0、伸度10%であつた。 このフイルムを実施例2と同様にブラウン管の
保護フイルムとして使用した所良好な性能を示し
た。 しかし、耐スクラツチ性層を有しない透明導電
性フイルムを単独に使用したものは1日1回のか
らぶきによつてきずを生じ、3ケ月後には画像が
見づらくなつた。
[Formula] (wherein R 1 and R 2 are as defined in the above formula ()). However, when R 61 , R 62 and R 63 have a (meth)acryloyl group, it is preferable that they do not contain a (meth)acrylic group at the same time, and especially if any one of them contains a (meth)acrylic group. It is preferable that it contains ] Among these compounds represented by the general formulas () to (), the compounds represented by the formula () are particularly preferred, and among these, the compound represented by the following formula (-a) is preferred. [However, in the formula, R 12 is a hydrogen atom or a methyl group, R 22 is an alkylene group having 2 to 4 carbon atoms, and R 50 is a divalent to tetravalent alkylene group having 2 to 4 carbon atoms, respectively.
6 saturated hydrocarbon group. This saturated hydrocarbon group can have an ether bond in which some of the carbon atoms are replaced with oxygen atoms. m is an integer of 1 or 2, and l is 0 or 1. n is 0 or 1. q is 1 and p is 0. r is 0. However, in the formula, all R 12 , R 22 and R 50 may be the same or different. ] Some specific examples of such compounds are shown below. [Here, in each of the above formulas (-b) to (-k),
R 12 , R 22 and R 50 have the same meanings as defined in the formula () above. ] The above-mentioned scratch-resistant agents may be in a single composition or in mixtures with each other. Furthermore, materials other than those described above may be contained within a range that does not impair the object of the present invention. In this case, said compound is at least 70% by weight, preferably 85% by weight.
Contained above. Especially the general formula () and even ()
~() In particular, the cured product of the compound represented by () has excellent scratch resistance, so it is used by mixing it with other compounds, curing resins, and resins for performance adjustment such as improving adhesion. It is possible to do so. The applied thickness of these scratch-resistant agents is
The physical properties of the scratch resistant agent can vary depending on its haze value and elongation, but it is usually 0.01μ~
100μ, preferably 0.1μ to 30μ, more preferably
It is 0.5μ to 10μ, particularly preferably 2μ to 5μ. As a method for providing such a scratch-resistant layer, a conventional coating method is suitably used. For example, it can be obtained by applying a coating liquid mainly composed of a curable composition containing a scratch-resistant agent to the surface to be coated, and drying and curing the coating liquid if it contains a solvent. When at least one compound selected from (meth)acrylic esters represented by the general formula () is used as the coating liquid,
If necessary, a radical polymerization initiator, for example, benzoin ethers such as benzophenone, benzoin, benzoin methyl ether, and benzoin ethyl ether; benzyl ketals such as benzyl, benzyl dimethyl ketal, and benzyl diethyl ketal; 2-alkylanthraquinones, diacetyl, etc. Azo compounds such as azobisisobutyronitrile; 0.01 to 10% by weight of peroxides such as benzoyl peroxide, lauryl peroxide, di-tert-butyl peroxide, dicumyl peroxide, cumene hydroperoxide, and polymerization As inhibitors, for example hydroquinone, hydroquinone monomethyl ether, catechol, 2,6-di-tert
A coating solution containing -butylphenol, N-nitrosodiphenylamine, phenothiazine, etc., usually in an amount of 10 to 1000 ppm relative to the (meth)acrylic ester, may be cured by the above method. Various other additives include, for example, ultraviolet absorbers, stabilizers such as antioxidants, pigments, fluorescent brighteners,
A filler such as glass fiber or the like may be added. Further, the coating liquid can be diluted as desired with a common solvent. The curing reaction is generally carried out by heating or irradiation with radiation such as actinic light (ultraviolet rays, etc.), electron beams, gamma rays, etc. Anti-wear agents obtained using (meth)acrylic compounds by curing by UV irradiation are advantageous. Methods for applying the coating liquid include dipping the film in the coating liquid, spraying the film with the coating liquid, coating with a brush, doctor knife, bar coater, roll, etc., and roll transfer. The method is also preferably used. Furthermore, the film may be surface-treated to further improve adhesion. Examples of such surface treatment methods include a method of coating with an adhesive layer. The transparent conductive film thus obtained has excellent abrasion resistance and is highly flexible, so it does not crack even under bending conditions and can be attached to curved objects. It is easy to handle in any case. Therefore, the structure of the present invention can be suitably used in antistatic applications that come in contact with the outside air, such as as an antistatic film for indoor walls and windows, as a protective film for electronic components that dislike static electricity, and as a front panel for televisions. . Furthermore, it is useful for protecting the transparent conductivity of a device that utilizes the conductivity of a transparent conductive film, that is, for protection against chemicals during post-processing. Moreover, such a structure effectively acts against corrosion of the transparent conductive layer and increases durability. Although the above uses are listed, the present invention is not limited thereto. The present invention will be further explained below with reference to Examples. In addition, parts in the examples mean parts by weight. Example 1 A coating liquid consisting of 10 parts of trisacryloyloxyethyl cyanurate obtained by reacting 1 mole of cyanuric chloride with 3 moles of 2-hydroxyethyl acrylate, 0.15 parts of benzyl dimethyl ketal, and 10 parts of methyl isobutyl ketone was mixed into 1.0 μ
Surface resistance value 2 provided on a 25μ thick biaxially stretched polyethylene terephthalate film with an adhesive layer of
×10 4 Ω/mouth, visible light transmittance 87% (550 mμ) on an indium oxide layer using a gravure coater, and after removing the solvent at 120°C, irradiated with a 2kw high pressure mercury lamp 25cm below for 2 minutes. A scratch-resistant transparent conductive film having a scratch-resistant layer with a thickness of 3.0 μm was obtained. This film is ASTM-D1044
As a result of the Taber abrasion test (CS-10F abrasion wheel, load 500g x 2, 50 rotations) based on -56, the haze value of the coated surface was 5.0%. In addition, the film was tested at a tensile speed of 2 using an Instron tensile tester.
When the elongation was measured at cm/mm until cracking occurred, the elongation was 30%. Example 2 As a curing agent, a compound was used that binds on average 2 acryloyloxyethyl groups and 0.33 cyanuric acid ester residues derived from trimethylolprobone, a trihydric alcohol, per cyanurate ring. A scratch-resistant transparent conductive film having a 3.0 μm scratch-resistant layer was prepared in the same manner as in Example 1, except that trisacryloyloxyethyl cyanurate was used instead. The Taber abrasion haze value (according to the measurement method of Example 1) of this product was 4%, and the elongation was 32%. As a comparison, an abrasion resistant film was made using dipentaerythritol hexaacrylate as a hardening agent. This material had an elongation of 3%. When each of the above films was attached to a cathode ray tube of a television for the purpose of preventing static electricity, the film of the present invention could be processed well and withstood long-term use. On the other hand, the comparison product had cracks at the tapered end of the cathode ray tube when it was pasted. Example 3 Hexakisacryloyloxyethylmelamine
10 parts, benzoin ethyl ether 0.2 parts, benzoyl peroxide 0.1 parts and methyl isobutyl ketone 10 parts
A coating solution consisting of 3.0 μm was applied onto a 25 μm thick polyethylene terephthalate film having a transparent conductive layer of indium oxide, and passed through a 140° C. drying zone to obtain a 3.0 μm thick coating layer. this
Photocuring was carried out at a film speed of 3 m/mm using two high-pressure mercury lamps of 80 W/cm. The physical properties of this film were as follows: Taber abrasion (measurement method in Example 1) haze value of 3.0 and elongation of 10%. When this film was used as a protective film for a cathode ray tube in the same manner as in Example 2, it showed good performance. However, when a transparent conductive film without a scratch-resistant layer was used alone, scratches were caused by dusting once a day, and the image became difficult to see after three months.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 可撓性フイルム(A)、当該フイルム(A)上に積層
された透明導電性層(B)及び当該透明導電性層(B)上
に或いはそれと対向して可撓性フイルム(A)上に積
層された有機耐スクラツチ性層(C)とからなり、当
該有機耐スクラツチ性層(C)が5%伸長時に亀裂を
生じない0.01〜100μmの厚さをもつ、下記式 〔但し、式中R10は水素原子又はメチル基;R20
は炭素原子数1〜10のアルキレン基又はオキシジ
アルキレン基;R3はN−置換又は非置換のメラ
ミン残基、シアヌル酸残基、イソシアヌル酸残基
又は炭素原子数9〜18の3又は4価の芳香族ポリ
カルボン酸残基を有する基;nは3〜6の整数を
表わす。R10、R20については分子内のnケがす
べて同一でもよく、また異なつてもよい。〕 で表わされる(メタ)アクリル酸エステルを架橋
反応させて得られた有機耐スクラツチ性層である
耐スクラツチ透明導電性フイルム。 2 上記(メタ)アクリル酸エステルが下記式; 〔但し、式中R11は水素原子又はメチル基;R21
はエチレン又はプロピレン基;R4
【式】【式】又は【式】で あり、nは3又は4である。R11、R21は同一分
子中のnケがすべて同一でもよく、又異なつても
よい。〕 下記式; 〔但し、式中R12は夫々水素原子又はメチル基で
あり、R22は夫々炭素原子数2〜4のアルキレン
基であり、R50は夫々2〜4価の炭素原子数2〜
6の飽和炭化水素基である。この飽和炭化水素基
は炭素原子の一部が酸素原子に置換されたエーテ
ル結合を有することができる。mは1〜3の整数
であり、lは0又は1、2の整数であり、且つ
(l+m+1)は2〜4の整数である。nは0又
は1〜3の整数である。qは1〜3の整数であ
り、pは0又は1、2の整数であり、且つ(p+
q+1)は2〜4の整数である。rは0又は1〜
3の整数である。〕 及び下記式; 〔但し、R13は前記R12の定義の通りであり、R23
は同一若しくは異なり、エチレン、プロピレン又
は【式】(但し、結合手 (a)が酸素原子と、結合手(b)が窒素原子と結合す
る。)であり、R61、R62及びR63は同一若しくは
異なり、水素原子、炭素原子数1〜4のアルキル
基、炭素原子数1〜4のヒドロキシアルキル基、
炭素原子数2〜6のアルコキシアルキル基又は
【式】(但し、R1、R2は前記式 のR11、R12の定義の通り)なる基である。 但し、R61、R62及びR63が(メタ)アクリロイ
ル基を有する場合には、それらは同時には(メ
タ)アクリロイル基を含有しない事が好ましく、
特にどれか1個が(メタ)アクリロイル基を含有
するものである事が好ましい。〕 で表わされる化合物群から選ばれたものである特
許請求の範囲第1項記載の耐スクラツチ性透明導
電性フイルム。
[Scope of Claims] 1. A flexible film (A), a transparent conductive layer (B) laminated on the film (A), and a flexible film on or opposite the transparent conductive layer (B). The organic scratch-resistant layer (C) is laminated on a flexible film (A), and the organic scratch-resistant layer (C) has a thickness of 0.01 to 100 μm that does not cause cracks when stretched by 5%. formula [However, in the formula, R 10 is a hydrogen atom or a methyl group; R 20
is an alkylene group or oxydialkylene group having 1 to 10 carbon atoms; R 3 is an N-substituted or unsubstituted melamine residue, cyanuric acid residue, isocyanuric acid residue, or 3 or 4 having 9 to 18 carbon atoms a group having a valent aromatic polycarboxylic acid residue; n represents an integer of 3 to 6; Regarding R 10 and R 20 , all n digits in the molecule may be the same or different. ] A scratch-resistant transparent conductive film which is an organic scratch-resistant layer obtained by subjecting a (meth)acrylic acid ester represented by the following formula to a crosslinking reaction. 2 The above (meth)acrylic acid ester has the following formula; [However, in the formula, R 11 is a hydrogen atom or a methyl group; R 21
is an ethylene or propylene group; R 4 is [Formula] [Formula] or [Formula], and n is 3 or 4. In R 11 and R 21 , all n's in the same molecule may be the same or different. ] The following formula; [However, in the formula, R 12 is a hydrogen atom or a methyl group, R 22 is an alkylene group having 2 to 4 carbon atoms, and R 50 is a divalent to tetravalent alkylene group having 2 to 4 carbon atoms, respectively.
6 saturated hydrocarbon group. This saturated hydrocarbon group can have an ether bond in which some of the carbon atoms are replaced with oxygen atoms. m is an integer of 1 to 3, l is an integer of 0, 1, or 2, and (l+m+1) is an integer of 2 to 4. n is 0 or an integer of 1-3. q is an integer of 1 to 3, p is an integer of 0 or 1, 2, and (p+
q+1) is an integer from 2 to 4. r is 0 or 1~
It is an integer of 3. ] and the following formula; [However, R 13 is as defined in R 12 above, and R 23
are the same or different, and are ethylene, propylene, or [Formula] (however, bond (a) is bonded to an oxygen atom and bond (b) is bonded to a nitrogen atom), and R 61 , R 62 and R 63 are The same or different, hydrogen atom, alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, hydroxyalkyl group having 1 to 4 carbon atoms,
It is an alkoxyalkyl group having 2 to 6 carbon atoms or a group represented by the formula (where R 1 and R 2 are as defined for R 11 and R 12 in the above formula). However, when R 61 , R 62 and R 63 have a (meth)acryloyl group, it is preferable that they do not simultaneously contain a (meth)acryloyl group,
In particular, it is preferable that one of them contains a (meth)acryloyl group. ] The scratch-resistant transparent conductive film according to claim 1, which is selected from the group of compounds represented by the following.
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