JPS63161183A - Production of reflow-treated tinned material - Google Patents

Production of reflow-treated tinned material

Info

Publication number
JPS63161183A
JPS63161183A JP31357386A JP31357386A JPS63161183A JP S63161183 A JPS63161183 A JP S63161183A JP 31357386 A JP31357386 A JP 31357386A JP 31357386 A JP31357386 A JP 31357386A JP S63161183 A JPS63161183 A JP S63161183A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
tin
manufacturing
formula
electroplating bath
above formula
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP31357386A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kazuhiko Fukamachi
一彦 深町
Ryoichi Nobeyoshi
延吉 良一
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Eneos Corp
Original Assignee
Nippon Mining Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Mining Co Ltd filed Critical Nippon Mining Co Ltd
Priority to JP31357386A priority Critical patent/JPS63161183A/en
Publication of JPS63161183A publication Critical patent/JPS63161183A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)

Abstract

PURPOSE:To make the thickness of a film uniform and to improve the corrosion resistance by using an electrolytic tinning bath obtd. by adding a surfactant selected among compds. each represented by a prescribed molecular formula to a soln. contg. a free acid component and a bivalent Sn salt when tinning followed by reflow treatment is carried out. CONSTITUTION:A soln. contg. a free acid component (alkanesulfonic acid and/or alkanolsulfonic acid) and a bivalent Sn salt is prepd. One or more kinds of surfactants selected among compds. represented by formulae I-IV (where n=5-15, m=5-30, x=5-30, y=1-10, X=1-10 and Y=5-30) are added to the soln. to obtain an electrolytic tinning bath. A layer formed by electrolytic tinning in the bath is heated to the m.p. of the layer or above to carry out reflow treatment.

Description

【発明の詳細な説明】 皇呈上2■亙圀! 本発明は、金属条板に錫を電気めっきした後、めっき層
にリフロー処理を施すことから成る表面処理を行って、
良好な外観、めつき膜厚の均一性を有する品質の優れた
リフロー処理錫めっき材の製造方法に関する。
[Detailed Description of the Invention] Emperor Presentation 2 ■ 亙圀! The present invention performs a surface treatment consisting of electroplating tin on a metal strip and then subjecting the plating layer to a reflow treatment,
The present invention relates to a method for producing a high-quality reflow-treated tin-plated material that has a good appearance and uniform plating film thickness.

l米二茨街 従来、金属材料に錫めっきを施す表面処理法の一つとし
て、各種金属素材に錫を電気めっきした後、めっき層を
溶融させる、いわゆるリフロー処理を行うことにより、
外観や耐食性等の品質を向上させることが知られている
l Yoneni Ibaragai Conventionally, as one of the surface treatment methods for applying tin plating to metal materials, after electroplating tin on various metal materials, the plating layer is melted, which is the so-called reflow treatment.
It is known to improve quality such as appearance and corrosion resistance.

上記方法によりリフロー処理錫めっき材を製造するのに
用いられる電気めっき浴としては、アルカリ浴、ハロゲ
ン浴、フェロスタン浴及び硫酸浴等が知られている。
As electroplating baths used to produce reflow-treated tin-plated materials by the above method, alkaline baths, halogen baths, ferrostane baths, sulfuric acid baths, and the like are known.

これらの電気めっき浴のうち、アルカリ浴は、錫酸カリ
ウム或は錫酸ナトリウムを主成分とするアルカリ性浴で
あって、最も古くから用いられているものの一つである
。このアルカリ浴は、有機添加剤を添加しな(でも錫め
っき層を電着形成することができ、さらにリフロー処理
後の皮膜品質も良好である等の利点を有する反面、4価
の錫イオンを還元して皮膜を形成する必要があり、加う
るに電流効率も低(、生産性が極めて低いという問題が
あるため、アルカリ浴は近年はとんど使用されていない
Among these electroplating baths, the alkaline bath is an alkaline bath containing potassium stannate or sodium stannate as a main component, and is one of the ones that have been used for the longest time. Although this alkaline bath has the advantage of being able to form a tin plating layer by electrodeposition without adding any organic additives and also has good film quality after reflow treatment, it does not contain tetravalent tin ions. Alkaline baths have rarely been used in recent years because they require reduction to form a film and also have low current efficiency (and extremely low productivity).

次に、ハロゲン浴は、塩化第一錫を主成分とする酸性の
浴であって、フェロスタン浴と共に鉄鋼のブリキライン
において多く用いられている。このハロゲン浴は、高電
流密度化が可能(陰極電流密度を5OA /d tyf
で連続操業可能)であるため、生産性が高いという利点
があるが、一方、腐食性が強いため設備コストが嵩み、
さらに錫の有効利用度が低いことから経済性があまり高
(ないという欠点もある。したがって、ハロゲン浴も近
年では新設の錫めっきラインにはほとんど採用されてい
ない。
Next, a halogen bath is an acidic bath containing stannous chloride as a main component, and is often used along with a ferrostane bath in tinplate manufacturing lines for steel. This halogen bath allows for high current density (cathode current density of 5OA/d tyf
It has the advantage of high productivity because it can be operated continuously (at low temperatures), but on the other hand, it is highly corrosive, which increases equipment costs.
Another drawback is that it is not very economical due to the low degree of effective use of tin.Therefore, halogen baths are rarely used in newly constructed tin plating lines in recent years.

また、フェロスタン浴は、上述したようなアルカリ浴及
びハロゲン浴にみられる欠点が少なく、ブリキラインの
過半数に使用されている。しかし、この浴の遊離酸成分
であるフェノールスルホン酸は、公害規制物質であるフ
ェノールを含んでいるため、活性汚泥処理等の処理が必
要であってコスト上の問題がある。さらに、フエロスク
ン浴では、10 A /d rrf以下での比較的低電
流密度部において品質が安定しないため、低速少量生産
のラインやラックタイプ或はバレルタイプのラインには
使用できなかった。
Further, ferrostane baths have fewer drawbacks seen in the above-mentioned alkaline baths and halogen baths, and are used in the majority of tinplate lines. However, since phenolsulfonic acid, which is a free acid component of this bath, contains phenol, which is a pollution control substance, treatment such as activated sludge treatment is required, which poses a cost problem. Furthermore, the Ferroskun bath cannot be used in low-speed, low-volume production lines or rack-type or barrel-type lines because the quality is not stable at relatively low current density areas of 10 A/d rrf or less.

さらに、硫酸浴(硫酸第一錫と硫酸を主成分とする)及
びホウフ・ン化浴(ホウフッ化第−錫とホウフッ酸を主
成分とする)は、主に非鉄金属用の錫めっき浴として知
られているが、これらの浴は、その浴により得られた電
着皮膜のりフロー性を考慮して開発されたものでないた
め、例えば、アミンアルデヒド系化合物、すなわち、シ
ッフ塩基を光沢剤として用いる硫酸浴又はホウフッ化浴
で電気めっきされた錫めっき皮膜をリフロー処理すると
、溶融錫が部分的に集合し、小滴となって表面が粗れる
という欠点がある。この表面粗れは“ヌレ不良“或は“
デウエツテイング1といわれるものであって、これが著
しくなるとめつき厚さが不均一となって、外観のみなら
ず、耐食性等のめつき皮膜の品質を低下させることにな
る。
Furthermore, sulfuric acid baths (mainly composed of stannous sulfate and sulfuric acid) and borofluoride baths (mainly composed of stannous borofluoride and borofluoric acid) are mainly used as tin plating baths for non-ferrous metals. However, these baths were not developed with consideration to the flow properties of the electrodeposited film obtained by the baths, and therefore, for example, amine aldehyde compounds, that is, Schiff bases, are used as brighteners. When a tin plating film electroplated in a sulfuric acid bath or a borofluoride bath is subjected to reflow treatment, the molten tin partially collects and forms small droplets, resulting in a rough surface. This surface roughness is called “wetting failure” or “
This is called dewetting 1, and if this becomes significant, the plating thickness will become uneven, degrading not only the appearance but also the quality of the plating film, such as corrosion resistance.

が ′ しようとする 本発明は、電気めっき後リフロー処理を施す錫めっきに
おける叙上の問題点に鑑みなされたものであって、外観
が良好であって、めつき膜厚が均一性を有し、かつ耐食
性の優れた高品質のリフロー処理錫めっき材を製造する
ための方法を提供することを課題とする。
However, the present invention was developed in view of the above-mentioned problems in tin plating, which is subjected to reflow treatment after electroplating. An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a high-quality reflow-treated tin-plated material with excellent corrosion resistance.

以下本発明の詳細な説明する。The present invention will be explained in detail below.

又里Ω盪底 本発明の特徴は、電気めっきにより形成しためつき層に
リフロー処理を施すことから成るリフロー処理錫めっき
材の製造方法において、アルカンスルホン酸又はアルカ
ノールスルホン酸もしくは両者の混合物からなる遊離酸
成分と2価の錫塩を含有する溶液に、下記式(I)乃至
(rV)で示される化合物からなる界面活性剤の1種又
は2種以上を添加した液から成る電気めっき浴を用いる
ことにある。
A feature of the present invention is that, in a method for producing a reflow-treated tin-plated material, which comprises subjecting a tin plating layer formed by electroplating to a reflow treatment, free tin plating material consisting of alkanesulfonic acid or alkanolsulfonic acid or a mixture of both is used. Using an electroplating bath consisting of a solution containing an acid component and a divalent tin salt, to which one or more surfactants consisting of compounds represented by the following formulas (I) to (rV) are added. There is a particular thing.

(式中、は5乃至15を表わす) (式中、は5乃至30を表わす) (式中、は5乃至301.はl乃至10をそれぞれ表わ
す) (式中、は1〜10.7は5〜30をそれぞれ表わす)
課 を °するための 本発明において電気めっき浴に用いるアルカンスルホン
酸並びにアルカノールスルホン酸はそれぞれ下記式(V
)並びに(VI)を有する。
(In the formula, represents 5 to 15) (In the formula, represents 5 to 30) (In the formula, represents 5 to 301. respectively) (In the formula, represents 1 to 10.7) 5 to 30 respectively)
In the present invention, the alkanesulfonic acid and alkanolsulfonic acid used in the electroplating bath have the following formula (V
) and (VI).

R−3O3H(V) HO−R−3OsH(Vl) (式中、Rは炭素数1乃至12個のアルキル基であり、
水酸基はアルキル基の任意の位置に結合してもよい) 上記アルカンスルホン酸としては、メタンスルホン酸、
エタンスルホン酸、プロパンスルホン酸、2−プロパン
スルホン酸、ブタンスルホン酸及びペンタンスルホン酸
等を例示し得、これらは単独で又は2種以上の混合物と
して使用できる。
R-3O3H(V) HO-R-3OsH(Vl) (wherein, R is an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms,
(The hydroxyl group may be bonded to any position of the alkyl group) The alkanesulfonic acids mentioned above include methanesulfonic acid,
Examples include ethanesulfonic acid, propanesulfonic acid, 2-propanesulfonic acid, butanesulfonic acid, pentanesulfonic acid, etc., and these can be used alone or in a mixture of two or more.

また、アルカノールスルホン酸としては、2−ヒドロキ
シエタン−1−スルホン酸、2−ヒドロキシプロパン−
1−スルホン酸、2−ヒドロキシブタン−1−スルホン
酸、2−ヒドロキシペンタ−1−スルホン酸等を例示し
得、これは単独で又は2種以上の混合物として使用でき
る。
In addition, examples of alkanolsulfonic acids include 2-hydroxyethane-1-sulfonic acid and 2-hydroxypropane-1-sulfonic acid.
Examples include 1-sulfonic acid, 2-hydroxybutane-1-sulfonic acid, and 2-hydroxypent-1-sulfonic acid, which can be used alone or in a mixture of two or more.

同じく電気めっき浴に用いられる2価の錫塩は、上記ア
ルカンスルホン酸錫もしくはアルカノールスルホン酸錫
或はそれらの混合物の形体でも用いられるが、さらには
硫酸第一錫として添加し用いても良い。めっき浴におけ
る錫イオンの濃度は、5〜100g/ j2であるが、
実際にはLog/ lより低くすると、高電流密度部に
コゲが生ずる問題があり、一方、50g/ lより高く
ても電着速度及び得られるめっきの品質に格別向上がみ
られず、加うるにめっき液の汲み出し等によるコスト高
の原因となるので好ましくない。したがって、上記錫イ
オンの濃度は10〜50g/βが好ましい。
The divalent tin salt that is also used in the electroplating bath can be used in the form of the above-mentioned tin alkanesulfonate, tin alkanolsulfonate, or a mixture thereof, but it may also be added and used as stannous sulfate. The concentration of tin ions in the plating bath is 5 to 100 g/j2,
In reality, if the current density is lower than Log/l, there is a problem of burnt formation in high current density areas, while if the current density is higher than 50g/l, there is no particular improvement in the electrodeposition speed or the quality of the resulting plating, and This is not preferable because it causes high costs due to pumping out the plating solution. Therefore, the concentration of tin ions is preferably 10 to 50 g/β.

本発明において電気めっき浴に添加する前記式(1)乃
至(IV)で示される界面活性剤は式(I)を有するエ
トキシレート(α−又はβ−)ナフトールスルホン酸、
式(n)を有するエトキシレート (α−又はβ−)ナ
フトール及び式(III)を有するエトキシレート(α
−又はβ−)ナフトールのプロピレンオキサイド付加物
及び式(IV)を有する(α−又はβ−)ナフトールの
プロピレンオキサイド・エチレンオキサイド付加物であ
る。
In the present invention, the surfactants represented by formulas (1) to (IV) added to the electroplating bath include ethoxylate (α- or β-)naphtholsulfonic acid having formula (I);
Ethoxylates having the formula (n) (α- or β-)naphthol and ethoxylates having the formula (III) (α- or β-)
- or β-) propylene oxide adduct of naphthol, and a propylene oxide/ethylene oxide adduct of naphthol (α- or β-) having formula (IV).

これらの界面活性剤は、いずれも上記錫めっき液に対し
て0.3〜30g/ It添加することにより、そのめ
っき液を用いて得られる電着錫は均一な無光沢乃至半光
沢の外観を呈し、リフロー処理を行った後のめっき材の
品質も安定したものが得られる。
By adding 0.3 to 30 g/It of each of these surfactants to the above tin plating solution, the electrodeposited tin obtained using the plating solution has a uniform matte to semi-glossy appearance. The quality of the plating material after reflow treatment is also stable.

なお、この場合、界面活性剤の錫めっき液に対する添加
量が0.3g/ 41未満では、そのめっき浴を用いて
得られるめっきのレベリング効果が低く、電着粒子が荒
れるため、めっき層のりフロー処理が困難となるので好
ましくない。一方、30g/ IIを越えると界面活性
剤の添加効果が飽和になるので経済上得策でない。
In this case, if the amount of surfactant added to the tin plating solution is less than 0.3 g/41, the leveling effect of the plating obtained using that plating bath will be low, and the electrodeposited particles will become rough, resulting in poor flow of the plating layer. This is not preferable because it makes processing difficult. On the other hand, if the amount exceeds 30 g/II, the effect of adding the surfactant becomes saturated, which is not economically advantageous.

これらの界面活性剤は単独でも用いられるが、2種組合
わせて用いると一層優れたレベリング効果を示す。特に
、式(I)で示されるエトキシレート(α−又はβ−)
ナフトールスルホン酸0.5〜15g/ lと式(n)
で示されるエトキシレート(α−又はβ−)ナフトール
0.5〜15g/ IIを組合わせて添加しためつき浴
、もしくは上記エトキシレート(α−又はβ−)ナフト
ールスルホン酸0.5〜15g/ Nと式(III)で
示されるエトキシレート (α−又はβ−)ナフトール
のプロピレンオキサイド付加物0.5〜15g/ lを
組合わせて添加しためつき浴、もしくは、上記エトキシ
レート(α−又はβ−)ナフトールスルホン酸0.5〜
15g/βと式(TV)で示される(α−又はβ−)の
プロピレンオキサイド・エチレンオキサイド付加物0.
5〜15g/ 7!を組合わせて添加しためつき浴から
電析した錫めっき層は均一な半光沢面を形成し、該めっ
き層をリフロー処理した後の光沢、膜厚の均−性及び耐
食性において特に優れている。
These surfactants can be used alone, but when used in combination, they exhibit even better leveling effects. In particular, ethoxylates (α- or β-) of formula (I)
Naphtholsulfonic acid 0.5-15g/l and formula (n)
ethoxylate (α- or β-)naphthol 0.5 to 15 g/II, or the above ethoxylate (α- or β-) naphthol sulfonic acid 0.5 to 15 g/ N and the ethoxylate represented by formula (III) (α- or β-) A propylene oxide adduct of naphthol (0.5 to 15 g/l) is added in combination to a soaking bath, or the above ethoxylate (α- or β-) Naphtholsulfonic acid 0.5~
15 g/β and the (α- or β-) propylene oxide/ethylene oxide adduct represented by formula (TV) 0.
5-15g/7! The tin plating layer electrodeposited from a matting bath containing a combination of the above forms a uniform semi-glossy surface, and is particularly excellent in gloss, film thickness uniformity, and corrosion resistance after reflow treatment. .

本発明では、電着面をさらに緻密にし、リフロー処理後
のめっきの品質を向上させるために、錫めっき浴に上記
界面活性剤に加えてホルマリンを0.1〜20+ 1 
/ 1程度添加してもよい。この場合、ホルマリンの添
加量が0.1mj!/J未満では電着粒子微細化の効果
がなく、また、2抛J/Jより多くても効果が飽和する
ので、不経済である。
In the present invention, in order to make the electrodeposited surface more dense and improve the quality of plating after reflow treatment, 0.1 to 20+1 formalin is added to the tin plating bath in addition to the above surfactant.
/ You may add about 1. In this case, the amount of formalin added is 0.1 mj! If it is less than /J, there is no effect of making the electrodeposited particles finer, and if it is more than 2 J/J, the effect will be saturated, which is uneconomical.

本発明によって、上述したごとき錫めっき浴を用い、金
属条板を陰極とすることにより該めっき浴より錫が電気
めっきされる。次いで、本発明では、電気めっきにした
後のめつき層にリフロー処理を施すが、このリフロー処
理錫めっき材の用途としては鉄鋼に施して食品用缶等に
加工するための、いわゆるブリキ、もしくは銅又は銅合
金に施してプレス加工等により形成される端子、コネク
ター等の弱電部品等が例示される。
According to the present invention, tin is electroplated from the tin plating bath as described above by using the metal strip as a cathode. Next, in the present invention, the plated layer after electroplating is subjected to a reflow treatment, but the reflow treatment tin plating material is used for so-called tin plate, which is applied to steel to be processed into food cans, etc. Examples include light electrical parts such as terminals and connectors formed by press working or the like on copper or copper alloys.

本発明によるリフロー処理錫めっき法を各種の金属条板
について適用してみた結果では、特に、銅又は銅合金を
母材とする場合、従来法に比べて耐食性及び半田付与性
等において優れていることがわかった。なお、ここでい
う銅合金としては、銅−亜鉛合金である黄銅と丹銅、銅
−錫合金であるリン青銅、銅−ニッケルー亜鉛合金であ
る洋白、銅−チタン合金であるチタン銅等が挙げられ、
これら合金のうち銅成分が30w t%以上の合金の場
合上記効果が認められる。
The results of applying the reflow tin plating method of the present invention to various metal strips show that it is superior in corrosion resistance and solderability compared to conventional methods, especially when copper or copper alloy is used as the base material. I understand. The copper alloys mentioned here include copper-zinc alloys such as brass and red bronze, copper-tin alloys such as phosphor bronze, copper-nickel-zinc alloys such as nickel silver, and copper-titanium alloys such as titanium copper. mentioned,
Among these alloys, the above effect is observed when the copper content is 30 wt% or more.

なお、母材が銅系以外の場合であっても、下地めっき或
はクラッド等として錫めっきの下地に銅又は銅合金を含
む場合には、上記と同様な効果が得られる。因に、この
場合には、錫と下地銅により形成される金属間化合物層
(Cu*SnとCu4Snlより成る)の厚みと均一性
がリフロー処理の条件に影響されることなく安定してい
るため、前記と同様な耐食性と半田付与性の向上の効果
が得られるものと考えられる。
Note that even if the base material is not copper-based, the same effect as described above can be obtained if copper or copper alloy is included in the base of tin plating as base plating or cladding. Incidentally, in this case, the thickness and uniformity of the intermetallic compound layer (consisting of Cu*Sn and Cu4Snl) formed by tin and underlying copper is stable without being affected by the reflow processing conditions. It is thought that the same effects of improving corrosion resistance and solderability as described above can be obtained.

本発明で行うリフロー処理については、従来、電気めっ
きして電着させた後、各種遊離酸、塩基あるいは界面活
性剤を含む水溶液に浸漬させ、さらにリフローする方法
が知られている。この方法は、通常、錫めっき後のドラ
ッグアウトタンクで処理するものであるが、この処理は
、フラックス処理と呼ばれるもので、錫めっき層を融点
直上まで加熱してリフローする過程において、SnO及
び5nO1の発生を抑え、錫電着粒が溶融した後、速や
かに平滑面になるよう流動させる機能を有する。
Regarding the reflow treatment performed in the present invention, a method is conventionally known in which the material is electroplated and electrodeposited, then immersed in an aqueous solution containing various free acids, bases, or surfactants, and further reflowed. This method is usually processed in a drag-out tank after tin plating, but this process is called flux treatment, and in the process of heating the tin plating layer to just above the melting point and reflowing, SnO and 5nO1 It has the function of suppressing the generation of tin particles and causing them to flow quickly to form a smooth surface after the tin particles are melted.

本発明においても上述したフラックス処理について検討
したところ、下記の結果が得られた。
In the present invention, the above-mentioned flux treatment was also studied, and the following results were obtained.

電気めっき浴の遊離酸成分として用いたアルカンスルホ
ン酸又はアルカノールスルホン酸もしくは両者の混合物
を0.5〜100g/ l、さらに電気めっき浴に添加
して用いた界面活性剤の1種又は2種以上の混合物を0
.01〜Log/Jを含む水溶液をフラックスとして、
電気めっき後の錫めっき層に塗布してリフロー処理する
と、一層外観、光沢に優れ、品質も向上する。なお、本
発明によると、広範囲の電流密度、温度及び攪拌条件に
おいても有効に処理できる。
0.5 to 100 g/l of alkanesulfonic acid or alkanolsulfonic acid or a mixture of both used as the free acid component of the electroplating bath, and one or more surfactants used by adding to the electroplating bath. 0 mixture of
.. Using an aqueous solution containing 01 to Log/J as a flux,
When applied to the tin plating layer after electroplating and subjected to reflow treatment, the appearance and gloss are even better, and the quality is also improved. Note that, according to the present invention, effective treatment can be performed even under a wide range of current density, temperature, and stirring conditions.

以下に実施例を示して本発明とその効果を具体的に説明
する。なお、下記実施例に示しためつき組成及びめっき
作業条件は、例示的なものであって、本発明では、それ
に限定されるものでなく、畝上の目的に沿って任意に変
更できるものと理解すべきである。
EXAMPLES The present invention and its effects will be specifically explained below with reference to Examples. It should be noted that the plating composition and plating work conditions shown in the following examples are merely exemplary, and it is understood that the present invention is not limited thereto and can be arbitrarily changed according to the purpose of the ridge. Should.

実施例 下記第1表に示した0、2m−厚の各種金yA板に、ア
ルカリ脱脂、電解脱脂及び酸洗・中和処理を行った後、
第1表に示した各めっき組成及びめっき条件で、1.5
μ閑の錫めっきを施した。
Examples Various gold YA plates of 0.2 m thickness shown in Table 1 below were subjected to alkaline degreasing, electrolytic degreasing, and pickling/neutralization treatment.
For each plating composition and plating condition shown in Table 1, 1.5
μ-white tin plating is applied.

ただし、SUS 304については、密着性を向上させ
るために、ウッド浴(IViC1z・6Hz0240g
 、塩酸10(1wj!ム0を用い5A/d耐で1分間
のストライクめっきを施した。また、錫の下地めっきと
しての銅めっきは、上記各処理を行った後、硫酸浴(C
uSO4’5)1zo 250g/ l、HtSO41
00g/ jりを用いて1μ霧の厚さに施した。
However, for SUS 304, in order to improve the adhesion, a wood bath (IViC1z・6Hz0240g
, Hydrochloric acid 10 (1 wj!mu0) was used to perform strike plating at 5 A/d resistance for 1 minute. Also, for copper plating as the base plating for tin, after performing the above treatments, sulfuric acid bath (C
uSO4'5)1zo 250g/l, HtSO41
A mist thickness of 1 μm was applied using 00 g/j.

錫めっき層のりフロー処理は、電気炉内(大気中)で7
00℃に5〜10秒保持する方法で行った。
The tin plating layer glue flow treatment is performed in an electric furnace (in the atmosphere) at 7
The temperature was maintained at 00°C for 5 to 10 seconds.

次に、得られたリフロー処理錫めっき材の評価は、外観
については光沢が均一で良好なもの、さらにヌレ性が発
生していない錫めっきを良と判定した。また、半田付与
性は、めっき試験片を1時間エージング(MILSTD
−202E208 Cに準拠して行った)後、ロジンメ
タノールフラックスを塗布し230±5℃に保持した6
0Sn/40Pbの半田浴に漫潰し、メニスコグラフ法
によるヌレに至るまでの時間t2を測定して評価した。
Next, the obtained reflow-treated tin-plated material was evaluated as good if it had a uniform gloss and good appearance, and if the tin plating did not cause wetting. In addition, solderability was determined by aging the plated test piece for 1 hour (MILSTD).
-202E208 C), then applied rosin methanol flux and maintained at 230 ± 5 °C.
It was evaluated by crushing it in a solder bath of 0Sn/40Pb and measuring the time t2 until it became wet using the meniscograph method.

塩水噴霧試験はJIS Z 2371に準拠して行い、
12時間の噴霧で白錆が発生しないものを良と判定した
The salt spray test was conducted in accordance with JIS Z 2371.
Those in which white rust did not occur after 12 hours of spraying were judged to be good.

上述により評価した結果を併せて第1表に示した。なお
、比較例についてはめつき浴組成、めっき条件及び評価
の結果を併せて第2表に示した。
The results of the evaluation as described above are also shown in Table 1. For the comparative examples, the plating bath composition, plating conditions, and evaluation results are also shown in Table 2.

第1表及び第2表にみられるとおり、本発明による漱1
〜9では、比較例の阻1〜3に比べて品質良好な錫めっ
き材が得られる。
As seen in Tables 1 and 2, Sou 1 according to the present invention
In samples 1 to 9, tin-plated materials with better quality than Comparative Examples 1 to 3 can be obtained.

また、下地は銅又は銅合金(実施例のl1m1、Na3
と!lh4、N1)5及び阻8と比較)において品質が
良好であり、さらに、フラックス処理及びめっき液への
ホルマリン添加による品質向上の効果も認められる。
In addition, the base is copper or copper alloy (l1m1 in the example, Na3
and! The quality was good in comparison with lh4, N1)5, and Ih8), and furthermore, the effect of quality improvement by flux treatment and addition of formalin to the plating solution was observed.

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)金属条板に錫を電気めつきした後、めつき層を融
点以上に加熱して溶融させるリフロー処理を施すことか
ら成るリフロー処理錫めつき材の製造方法において、電
気めつき浴として、アルカンスルホン酸又はアルカノー
ルスルホン酸もしくは両者の混合物からなる遊離酸成分
と2価の錫塩を含有する溶液に、下記式( I )乃至(
IV)で示される化合物からなる界面活性剤の1種もしく
は2種以上を添加した液を用いることを特徴とするリフ
ロー処理錫めつき材の製造方法。 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中nは5乃至15を表わす) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (式中mは5乃至30を表わす) ▲数式、化学式、表等があります▼(III) (式中xは5乃至30、yは1乃至10を それぞれ表わす) ▲数式、化学式、表等があります▼(IV) (式中xは1乃至10を、yは5乃至30をそれぞれ表
わす)
(1) In a method for manufacturing reflow-treated tin-plated materials, which consists of electroplating tin on a metal strip and then performing a reflow treatment in which the plating layer is heated above its melting point and melted, the method is used as an electroplating bath. , the following formulas (I) to (
A method for producing a reflow-treated tin-plated material, characterized by using a solution containing one or more surfactants consisting of the compound shown in IV). ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼(I) (In the formula, n represents 5 to 15) ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼(II) (In the formula, m represents 5 to 30) ▲Mathematical formula , chemical formulas, tables, etc. ▼ (III) (In the formula, x represents 5 to 30, and y represents 1 to 10, respectively) ▲ There are numerical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ (IV) (In the formula, x represents 1 to 10 , y represents 5 to 30, respectively)
(2)電気めつき浴が、上記式( I )で示されるエト
キシレート(α−又はβ−)ナフトールスルホン酸0.
5〜10g/l及び上記式(II)で示されるエトキシレ
ート(α−又はβ−)ナフトール0.5〜10g/lを
界面活性剤成分として添加した液から成る特許請求の範
囲第(1)項記載の製造方法。
(2) The electroplating bath contains ethoxylate (α- or β-)naphtholsulfonic acid represented by the above formula (I).
Claim (1) consisting of a liquid to which 5 to 10 g/l and 0.5 to 10 g/l of ethoxylate (α- or β-) naphthol represented by the above formula (II) are added as a surfactant component. Manufacturing method described in section.
(3)電気めつき浴が、上記式( I )で示されるエト
キシレート(α−又はβ−)ナフトールスルホン酸0.
5〜15g/l及び上記式(III)で示されるエトキシ
レート(α−又はβ−)ナフトールのプロピレンオキサ
イド付加物0.5〜15g/lを界面活性剤成分として
添加した液から成る特許請求の範囲第(1)項記載の製
造方法。
(3) The electroplating bath contains ethoxylate (α- or β-)naphtholsulfonic acid represented by the above formula (I).
5 to 15 g/l and 0.5 to 15 g/l of a propylene oxide adduct of ethoxylate (α- or β-) naphthol represented by the above formula (III) is added as a surfactant component. The manufacturing method described in scope item (1).
(4)電気めつき浴が上記式( I )で示されるエトキ
シレート(α−又はβ−)ナフトールスルホン酸0.5
〜10g/l及び上式(IV)で示される(α−又はβ−
)ナフトールのプロピレンオキサイド・エチレンオキサ
イド付加物0.5〜10g/lを界面活性剤成分として
添加して成る特許請求の範囲第(1)項記載の製造方法
(4) The electroplating bath is an ethoxylate (α- or β-)naphtholsulfonic acid represented by the above formula (I) with 0.5
~10 g/l and the above formula (IV) (α- or β-
2.) The manufacturing method according to claim 1, wherein 0.5 to 10 g/l of a propylene oxide/ethylene oxide adduct of naphthol is added as a surfactant component.
(5)電気めつき浴が、10〜50g/lの第一錫イオ
ンを生成する錫塩を含有する液から成る特許請求の範囲
第(1)項乃至第(4)項のいずれかに記載の製造方法
(5) The electroplating bath comprises a liquid containing a tin salt that produces 10 to 50 g/l of stannous ions. manufacturing method.
(6)電気めつき浴が、0.1〜20ml/lのホルマ
リンを添加した液から成る特許請求の範囲第(1)項乃
至第(5)項のいずれかに記載の製造方法。
(6) The manufacturing method according to any one of claims (1) to (5), wherein the electroplating bath comprises a liquid to which 0.1 to 20 ml/l of formalin has been added.
(7)金属条板が銅又は銅合金である特許請求の範囲第
(1)項記載の製造方法。
(7) The manufacturing method according to claim (1), wherein the metal strip is made of copper or a copper alloy.
(8)錫を電気めつきして得られる錫めつき層を、電気
めつき浴に遊離酸成分として用いたアルカンスルホン酸
又はアルカノールスルホン酸もしくは両者の混合物0.
5〜100g/lと、電気めつき浴に添加する上記式(
I )乃至(IV)で示される界面活性剤成分の1種又は
2種以上の混合物0.01〜10g/lとを含む水溶液
をフラツクスとして用いて上記錫めつき層に塗布してリ
フロー処理を施す特許請求の範囲第(1)項記載の製造
方法。
(8) The tin-plated layer obtained by electroplating tin was mixed with alkanesulfonic acid or alkanolsulfonic acid or a mixture of both, which was used as a free acid component in the electroplating bath.
5 to 100 g/l and the above formula (
An aqueous solution containing 0.01 to 10 g/l of one or a mixture of two or more of the surfactant components shown in I) to (IV) is applied as a flux to the tinned layer and subjected to reflow treatment. A manufacturing method according to claim (1).
JP31357386A 1986-12-24 1986-12-24 Production of reflow-treated tinned material Pending JPS63161183A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP31357386A JPS63161183A (en) 1986-12-24 1986-12-24 Production of reflow-treated tinned material

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP31357386A JPS63161183A (en) 1986-12-24 1986-12-24 Production of reflow-treated tinned material

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS63161183A true JPS63161183A (en) 1988-07-04

Family

ID=18042936

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP31357386A Pending JPS63161183A (en) 1986-12-24 1986-12-24 Production of reflow-treated tinned material

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS63161183A (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04247893A (en) * 1990-12-26 1992-09-03 Nikko Kyodo Co Ltd Production of reflowing tin and reflowing soldering material
US5174887A (en) * 1987-12-10 1992-12-29 Learonal, Inc. High speed electroplating of tinplate
JPH05311484A (en) * 1991-12-20 1993-11-22 Nikko Kinzoku Kk Reflow tin or tin alloy plating bath

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5967387A (en) * 1982-10-08 1984-04-17 Hiyougoken Tin, lead and tin-lead alloy plating bath
JPS59182986A (en) * 1983-04-01 1984-10-17 Keigo Obata Tin, lead and tin-lead alloy plating bath
JPS6173896A (en) * 1984-09-18 1986-04-16 Nippon Steel Corp Additive for acidic tinning bath

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5967387A (en) * 1982-10-08 1984-04-17 Hiyougoken Tin, lead and tin-lead alloy plating bath
JPS59182986A (en) * 1983-04-01 1984-10-17 Keigo Obata Tin, lead and tin-lead alloy plating bath
JPS6173896A (en) * 1984-09-18 1986-04-16 Nippon Steel Corp Additive for acidic tinning bath

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5174887A (en) * 1987-12-10 1992-12-29 Learonal, Inc. High speed electroplating of tinplate
JPH04247893A (en) * 1990-12-26 1992-09-03 Nikko Kyodo Co Ltd Production of reflowing tin and reflowing soldering material
JPH05311484A (en) * 1991-12-20 1993-11-22 Nikko Kinzoku Kk Reflow tin or tin alloy plating bath

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US3193474A (en) Plating on aluminum
US4331518A (en) Bismuth composition, method of electroplating a tin-bismuth alloy and electroplating bath therefor
JP6054676B2 (en) Adhesion promotion of cyanide-free white bronze
JP4812365B2 (en) Tin electroplating solution and tin electroplating method
US20060065538A1 (en) Alloy composition and plating method
US5698087A (en) Plating bath and method for electroplating tin and/or lead
JP4675626B2 (en) Bronze electrodeposition method and electrolyte
JP2012229492A (en) High speed tin plating process
JP3388759B2 (en) Flux agent for electrodeposition tin plating reflow
EP1091023A2 (en) Alloy composition and plating method
JPH0119000B2 (en)
JPS63161183A (en) Production of reflow-treated tinned material
US2734025A (en) Twatktnw att
JPS63161186A (en) Production of reflow-treated tin-lead alloy plated material
US4440608A (en) Process and bath for the electrodeposition of tin-lead alloys
JPS63161184A (en) Production of reflow-treated tined material
JPS582598B2 (en) Manufacturing method of Cu-Sn composite material
JPS63161185A (en) Production of reflow-treated tinned material
JPS61117297A (en) Tin metal plating liquid
JP2001040497A (en) Electronic parts coated with tin-bismuth alloy plated film
JPH0253519B2 (en)
JPS63161188A (en) Production of reflow-treated solder plated material
US11280014B2 (en) Silver/tin electroplating bath and method of using the same
JPS63161187A (en) Production of reflow-treated solder plated material
JP2732947B2 (en) Method for producing reflow tin and reflow solder plating material