JPS63160142A - Rotary target for x-ray tube - Google Patents

Rotary target for x-ray tube

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Publication number
JPS63160142A
JPS63160142A JP30748186A JP30748186A JPS63160142A JP S63160142 A JPS63160142 A JP S63160142A JP 30748186 A JP30748186 A JP 30748186A JP 30748186 A JP30748186 A JP 30748186A JP S63160142 A JPS63160142 A JP S63160142A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
target
graphite
ceramic plate
rotating
metal layer
Prior art date
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Pending
Application number
JP30748186A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tadahiko Mitsuyoshi
忠彦 三吉
Satoshi Shimada
智 嶋田
Takeshi Yasuda
健 安田
Akira Tanaka
明 田中
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP30748186A priority Critical patent/JPS63160142A/en
Publication of JPS63160142A publication Critical patent/JPS63160142A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To generate strong X-rays by providing a chamfering section at a corner section formed by the inner face of the center hole of a ceramic plate and the outer face facing a metal layer. CONSTITUTION:A hole is bored at the center section of a laminated body made of a graphite plate 1 and a ceramic plate 3, i.e., a target, and a rotary shaft 5 is inserted into this center hole 4. The rotary shaft 5 and the target are fixed by a collar 7 provided on the rotary shaft 5, a washer 8, and a screw 9, and a fastening body fixing the target to the rotary shaft 5 is formed with the collar 7, washer 8, and screw 9. A chamfering section 10 is provided at the corner section formed by the inner face of the center hole 4 of the ceramic plate 3 and the outer face facing a metal layer 2. This chamfering section 10 could be either flat or polygonal, but a curved surface shape is preferable. Accordingly, the stress concentration caused by the temperature gradient generated at the time of the high-speed rotation or when a strong electron beam is radiated to the metal layer can be mitigated.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、X@CT装置などに用いられるX線管用回転
ターゲットに係り、特に、強力なX線を得るに好適な大
容量のxlIIAw用回転ターゲットに関する。
[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to a rotating target for an X-ray tube used in an X@CT device, etc., and particularly to a rotating target for a large-capacity xlIIAw suitable for obtaining powerful X-rays. Concerning rotating targets.

〔従来の技術とその問題点〕[Conventional technology and its problems]

X線CTなどの医療機器には、回転軸の上部に設けられ
たターゲットを高速回転し、このターゲットの表面に熱
陰極から放出される電子線を照射することによりX線を
発生させる方式のX線管が用いられている。近年、医療
機器の急激な進歩によって、スルーブツト(単位時間当
りの患者数)を大きく、且つ、鮮明な情報を得る等の必
要から、強力な大容量のX線管が求められており、回転
ターゲットとしては大口径、高速回転のものが必要とな
ってきている。
Medical equipment such as X-ray CT uses an X-ray system that generates X-rays by rotating a target on top of a rotating shaft at high speed and irradiating the surface of this target with electron beams emitted from a hot cathode. A wire tube is used. In recent years, with the rapid advancement of medical equipment, there is a need for powerful, large-capacity X-ray tubes to increase throughput (the number of patients per unit time) and to obtain clear information. As a result, a large-diameter, high-speed rotation type is required.

従来回転ターゲットとしては、タングステン(W)板や
W合金板を用いた金属製のものが用いられてきたが、こ
のターゲットは重いために回転軸で負担がかかり、大口
径化や高速回転化が困難であった。
Traditionally, rotating targets have been made of metal such as tungsten (W) plates or W alloy plates, but these targets are heavy and put a strain on the rotating shaft, making it difficult to increase diameters and rotate at higher speeds. It was difficult.

これに替わるターゲットとして、黒鉛板上にWやW合金
層を化学蒸着(CVD)などの方法で設けたターゲット
も一部用いられ始めているが、この場合、黒鉛の強度が
小さいために、高速回転時の信頼性に欠ける欠点がある
As an alternative target, targets in which a W or W alloy layer is formed on a graphite plate using methods such as chemical vapor deposition (CVD) are beginning to be used, but in this case, the strength of graphite is low, so high-speed rotation is required. It has the disadvantage of lack of reliability over time.

これらの問題に対処するため、特願昭58−69941
号、同59−102574号及び同59−187743
号において、セラミックスと黒鉛との複合ターゲットが
提案されている。このターゲットは、高強度のセラミッ
クスが回転時の遠心応力を担うため、高速回転に適する
利点がある。しかしながら、この構造のターゲットを試
作して実験した結果、強力な電子線を照射すると、セラ
ミックス内部の熱勾配によってセラミックスに大きな熱
応力が発生し、セラミックス部からターゲットが破損す
る問題のあることがわかった。
In order to deal with these problems, patent application No. 58-69941
No. 59-102574 and No. 59-187743
In this issue, a composite target of ceramics and graphite is proposed. This target has the advantage of being suitable for high-speed rotation because the high-strength ceramics bear the centrifugal stress during rotation. However, as a result of experimenting with a prototype target of this structure, it was found that when irradiated with a powerful electron beam, a large thermal stress is generated in the ceramic due to the thermal gradient inside the ceramic, causing the target to break from the ceramic part. Ta.

このように、従来のX線管用回転ターゲットは、強力な
大容量のX線管に必要な軽量、大口径、高速回転可能、
及び強力な電子線照射可能の全ての条件を満足するもの
ではなかった。
In this way, conventional rotating targets for X-ray tubes are lightweight, large-diameter, capable of high-speed rotation, and
However, it did not satisfy all the conditions for enabling strong electron beam irradiation.

本発明の目的は、上記従来技術の欠点を除き、強力なX
線の発生できる大容量のX線管に適した回転ターゲット
を提供するにある。
The object of the present invention is to eliminate the drawbacks of the prior art and provide a powerful
The object of the present invention is to provide a rotating target suitable for a large-capacity X-ray tube capable of generating rays.

〔問題点を解決するための手段・作用〕本発明は、セラ
ミックス板の、中心孔内面と、前記金属層と対向する外
面との作るコーナー部に面取り部を設けることにより、
高速回転時又は強力な電子線を金属層に照射したときに
生じる温度勾配に起因した応力集中を当該面取り部によ
って緩和するようにしたものである。
[Means and effects for solving the problem] The present invention provides a chamfered portion at the corner formed by the inner surface of the center hole of the ceramic plate and the outer surface facing the metal layer.
The chamfered portion alleviates stress concentration caused by temperature gradients that occur during high-speed rotation or when a strong electron beam is irradiated onto the metal layer.

〔実施例〕〔Example〕

以下、本発明を図面を用いて説明する。第1図において
、1は表面に金属層2を設けた黒鉛板である。金属層2
としては普通W又はW合金が用いられ、これに電子線を
照射することにより、X線が発生する。また、3はセラ
ミックス板であり、黒鉛板1と接合されて積層体を形成
している。すなわち、この積層体によりターゲット6が
形成されている。セラミックスとしては強度、ヤング率
が大きいこと、黒鉛との接合性が良いことから、RaC
、S j、C,VC,Ti Cなどが用いられ、軽量で
あることからB 4 Cp S j−Cが望ましく、軽
量、耐熱、高強度であることから、S 3. Cが特に
望ましい。
Hereinafter, the present invention will be explained using the drawings. In FIG. 1, 1 is a graphite plate with a metal layer 2 provided on its surface. metal layer 2
Generally, W or a W alloy is used as the material, and X-rays are generated by irradiating this with an electron beam. Further, 3 is a ceramic plate, which is joined to the graphite plate 1 to form a laminate. That is, the target 6 is formed of this laminate. As a ceramic, RaC has high strength, high Young's modulus, and good bondability with graphite.
, S j , C, VC, Ti C, etc. are used, and B 4 Cp S j-C is preferable because it is lightweight, and S 3. C is particularly desirable.

この黒鉛板1とセラミックス板3との積層体すなわちタ
ーゲット6の中心部には孔が貫設されており、この中心
孔4には回転軸5が挿通されている。回転軸5とターゲ
ット6とは該回転軸5に設けたツバ7、ワッシャ8及び
ねじ9で固定されている。ツバ7、ワッシャ8及びねじ
9によってターゲット6を回転軸5に固定する締結体が
形成されている。このセラミックス板3の中心孔4内面
と金属層2に対向する外面との作るコーナー部には面取
り部10が設けられている。この面取り部10は、平面
形状又は多角形状いずれでもよいが、曲面形状とするの
が望ましい。
A hole is provided in the center of the laminate of the graphite plate 1 and the ceramic plate 3, that is, the target 6, and a rotating shaft 5 is inserted through the center hole 4. The rotating shaft 5 and the target 6 are fixed by a collar 7, a washer 8, and a screw 9 provided on the rotating shaft 5. The collar 7, washer 8, and screw 9 form a fastening body that fixes the target 6 to the rotating shaft 5. A chamfered portion 10 is provided at a corner formed by the inner surface of the center hole 4 of the ceramic plate 3 and the outer surface facing the metal layer 2. The chamfered portion 10 may have either a planar shape or a polygonal shape, but is preferably curved.

次に作用を説明する。まず、比較のために第1−図で面
取り部10のない従来構造について説明する。本発明者
達が種々検討の結果、金属層2に電子線が照射されると
この部分が瞬間的には2000℃位、平均的には1. 
OOO’Cを超える温度まで加熱される結果、使用時に
はターゲット6の回転軸5側すなわち内側よりも外側が
高温で、且つ、金属層2から離れた下面よりも上面が高
温となる温度勾配を生ずることがわかった。このため、
ターゲット6には外側へ引張る応力と上側から下側へ曲
げる応力が働き、この二つの応力の重合わせでセラミッ
クス板3の中では本発明の面取り部10を設けた部位に
最も大きな応力がかかり、この部位の鋭角的な角部分に
応力集中して、セラミックス板3が破損しやすい。なお
、黒鉛板1のヤング率は一般に84c、S i、C,V
C,TiCなどのセラミックスの1/40〜1/10で
あるため、黒鉛板1中に発生する熱応力は小さく、電子
線照射によって黒鉛板1が破壊する恐れは少ない。
Next, the effect will be explained. First, for comparison, a conventional structure without a chamfered portion 10 will be described with reference to FIG. As a result of various studies, the inventors of the present invention found that when the metal layer 2 is irradiated with an electron beam, this part momentarily reaches a temperature of about 2,000 degrees Celsius, and on average rises to 1.
As a result of being heated to a temperature exceeding OOO'C, a temperature gradient occurs in which during use, the outside of the target 6 on the rotation axis 5 side, that is, the outside is hotter than the inside, and the upper surface is hotter than the bottom surface away from the metal layer 2. I understand. For this reason,
Stress that pulls outward and stress that bends from the upper side to the lower side act on the target 6, and due to the superposition of these two stresses, the largest stress is applied to the portion of the ceramic plate 3 where the chamfered portion 10 of the present invention is provided, Stress is concentrated on the acute corner portion of this portion, and the ceramic plate 3 is likely to be damaged. In addition, the Young's modulus of graphite plate 1 is generally 84c, Si, C, V
Since the thermal stress is 1/40 to 1/10 that of ceramics such as C and TiC, the thermal stress generated in the graphite plate 1 is small, and there is little possibility that the graphite plate 1 will be destroyed by electron beam irradiation.

これに対して、本発明の構造では、面取り部10を設け
ているために、この応力集中が緩和され、セラミックス
板3の破損を防ぐことができる。
In contrast, in the structure of the present invention, since the chamfered portion 10 is provided, this stress concentration is alleviated and damage to the ceramic plate 3 can be prevented.

面取り部10を曲面形状とした場合その半径は大きいほ
ど応力集中の緩和効果は大きく、事実上は0.3 +n
m以上あれば、応力熱中緩和に充分有効に働くことを確
認した。
When the chamfered portion 10 has a curved shape, the larger the radius, the greater the effect of alleviating stress concentration, and in fact, 0.3 + n
It was confirmed that if it is at least m, it works sufficiently effectively to relieve stress during heating.

また黒鉛板1としては、第1図のように外周部にテーパ
を設け、このテーパ部分に金属層2を設けるのが一般的
である。電子線は普通この金属層2の中心部に照射され
るが、この部分の黒鉛板1の厚さは3m以上程度である
ことが望ましい。黒鉛板lの厚さが薄いと、電子線照射
のON −OFFによる熱歪の影響が黒鉛板1とセラミ
ックス板3との接合部に加わって、この部分が剥離する
という問題を生じやすい。
Further, as shown in FIG. 1, the graphite plate 1 is generally provided with a taper on its outer periphery, and a metal layer 2 is provided on this tapered portion. The electron beam is normally irradiated onto the center of the metal layer 2, and the thickness of the graphite plate 1 in this area is preferably about 3 m or more. If the thickness of the graphite plate 1 is thin, the effect of thermal distortion due to ON and OFF of electron beam irradiation is applied to the joint between the graphite plate 1 and the ceramic plate 3, and this part tends to peel off.

第2図は本発明の他の実施例を示す。同図において第1
図と同一部分には同一符号を付して説明を省略する。同
図でセラミックス板3と回転軸5との間に黒鉛層11が
介在している。この黒鉛層1工と黒鉛板1とは別体に形
成されている。本実施例では回転軸5とセラミックス板
3の間にヤング率の小さい黒鉛層11が介在しているた
め、セラミックス層と熱膨張率の異なる回転軸5の伸び
縮みによってセラミックス板3に加わる応力が緩和され
、回転軸5の伸び縮みによってセラミックス板3が破損
するのを防ぐことができる。回転軸5としては普通耐熱
性の大きいMo、W、Taなどが用いられるのが一般的
であるため、この黒鉛層11はセラミックスとして比較
的熱膨張率の小さいSiCやB10 を用いた場合に特
に有効である。
FIG. 2 shows another embodiment of the invention. In the same figure, the first
Components that are the same as those in the drawings are given the same reference numerals and their explanations will be omitted. In the figure, a graphite layer 11 is interposed between the ceramic plate 3 and the rotating shaft 5. This graphite layer 1 and graphite plate 1 are formed separately. In this embodiment, since the graphite layer 11 with a small Young's modulus is interposed between the rotating shaft 5 and the ceramic plate 3, the stress applied to the ceramic plate 3 due to the expansion and contraction of the rotating shaft 5, which has a different coefficient of thermal expansion than the ceramic layer, is This can prevent the ceramic plate 3 from being damaged due to expansion and contraction of the rotating shaft 5. Since the rotating shaft 5 is generally made of Mo, W, Ta, etc., which have high heat resistance, this graphite layer 11 is particularly suitable when SiC or B10, which has a relatively small coefficient of thermal expansion, is used as the ceramic. It is valid.

第3図は本発明の更に他の実施例を示す。同図のように
、黒鉛板1と黒鉛層11とは一体化することができる。
FIG. 3 shows yet another embodiment of the invention. As shown in the figure, the graphite plate 1 and the graphite layer 11 can be integrated.

この場合、第2図のように別体になっている場合と比べ
て部品数が少なくなり、製造が容易であること、黒鉛板
1と黒鉛層11が接合された場合に比べて信頼性が高い
等の利点がある。
In this case, the number of parts is reduced compared to the case where they are separated as shown in Fig. 2, and manufacturing is easier, and the reliability is improved compared to the case where the graphite plate 1 and the graphite layer 11 are joined. It has the advantage of being expensive.

黒鉛層11の外径としては、ツバ7やワッシャ8の外径
よりも小さいことが望ましい。すなわち、ツバ7やワッ
シャ8の外径(半径)は、ターゲット6の中心からセラ
ミックス板3の中心孔4内面までの距離よりも大きいこ
とが望ましい。この場合、ワッシャ8を介してねじ9で
締付けた応力によって、セラミックス板3が締付けられ
るため、回転時の遠心応力に対してセラミックス板3の
強度、剛性が有効に働き、ターゲット6の高速回転に対
しても信頼性の高いものとなる。
The outer diameter of the graphite layer 11 is desirably smaller than the outer diameters of the collar 7 and washer 8 . That is, it is desirable that the outer diameter (radius) of the collar 7 and the washer 8 be larger than the distance from the center of the target 6 to the inner surface of the center hole 4 of the ceramic plate 3. In this case, the ceramic plate 3 is tightened by the stress tightened by the screw 9 through the washer 8, so the strength and rigidity of the ceramic plate 3 work effectively against the centrifugal stress during rotation, and the target 6 rotates at high speed. It is also highly reliable.

なお、同図においては、ターゲット6の下側にも別の黒
鉛板12が設けられており、セラミックス板3は両黒鉛
板1,12に接合し、黒鉛板によって挾み込まれた構造
を有している。この場合、ターゲット6の上下外面が熱
輻射率の大きい黒鉛層で形成されるため、ターゲット6
の冷却が容易となり、大容量化しゃいすという利点があ
る。また、ツバ7とセラミックス板3の間に黒鉛板12
が介在しているため、ねじ9を締付けた時セラミックス
板3に局部的に応力が加わってセラミックス板3が割れ
るのを防ぐことができ、ターゲット6の信頼性が向上す
る。
In the same figure, another graphite plate 12 is provided below the target 6, and the ceramic plate 3 is bonded to both graphite plates 1 and 12 and has a structure in which it is sandwiched between the graphite plates. are doing. In this case, since the upper and lower outer surfaces of the target 6 are formed of graphite layers with high thermal emissivity, the target 6
This has the advantage of making cooling easier and increasing the capacity of the chassis. In addition, a graphite plate 12 is provided between the collar 7 and the ceramic plate 3.
is present, it is possible to prevent the ceramic plate 3 from being cracked due to local stress being applied to the ceramic plate 3 when the screw 9 is tightened, and the reliability of the target 6 is improved.

また、本発明のターゲット6は、第4図(a)(b)(
c)に示したような黒鉛型にセラミックス13をつめ(
同図(a)) 、これをポットプレス焼結してセラミッ
クス板3を焼結すると共に黒鉛板1と接合した後(同図
(b)) 、加工することにより容易に製造できる(同
図(C))。予め面取り部10があれば、このホットプ
レス時にその部分に加わる応力が緩和され、ホットプレ
ス時の黒鉛の破損を防1Fできる利点もある。ここで、
14は黒鉛ダイスである。
Further, the target 6 of the present invention is shown in FIGS. 4(a) and (b) (
Fill the graphite mold shown in c) with ceramics 13 (
This can be easily manufactured by pot press sintering to sinter the ceramic plate 3 and bonding it to the graphite plate 1 (see figure (b)), followed by processing (see figure (a)). C)). If there is a chamfered portion 10 in advance, the stress applied to that portion during hot pressing is alleviated, and there is also the advantage that breakage of the graphite during hot pressing can be prevented. here,
14 is a graphite die.

〈実施例〕〉 第4図に示す方法に従って、黒鉛板1−とセラミックス
板3との積層体からなるターゲット6を作製した。面熱
鉛板1及び12としては、引張強度2.5〜3 kg 
/ mm 2.比重約1.8.熱膨張係数4.5〜5 
x 10””/’Cのものを用いた。セラミックス粉1
3としては5粒径1〜2μmのα−8iC粒子に1%の
Be0粒子又はAQ、N粒子を加えた混合粉を用い、真
空中温度2000〜2200 ′C1−軸加圧力300
 kg / *の条件でホットプレス焼結して、黒鉛板
1,12とSjCセラミックス板3との積層体を得た。
<Example>> A target 6 consisting of a laminate of a graphite plate 1- and a ceramic plate 3 was produced according to the method shown in FIG. The surface hot lead plates 1 and 12 have a tensile strength of 2.5 to 3 kg.
/ mm2. Specific gravity approximately 1.8. Thermal expansion coefficient 4.5-5
x 10''/'C was used. ceramic powder 1
For 3, a mixed powder of 5 α-8iC particles with a particle size of 1 to 2 μm and 1% Be0 particles or AQ, N particles was used, and the mixture was heated in vacuum at a temperature of 2000 to 2200'C1-axial pressure of 300.
Hot press sintering was performed under the conditions of kg/* to obtain a laminate of graphite plates 1 and 12 and SjC ceramic plate 3.

次に、これを機械加工した後、上部黒鉛板1の傾斜部に
Re及びW−Re合金層を厚さ約300μmCVDL、
第3図に示す構造のターゲラ1−を得た。得られたター
ゲット6の大きさは外径が140mn、内孔径がllm
n、厚さの最高値が28m(回転軸5の締め付は部のタ
ーゲット厚さは20mm)、SiCセラミックス板3の
厚さは5+m+であり、1500XO,7X 10’j
oule以上の大きな熱容量を有している。
Next, after machining this, a Re and W-Re alloy layer is applied to the inclined part of the upper graphite plate 1 to a thickness of about 300 μm.
Targetera 1- having the structure shown in FIG. 3 was obtained. The size of the obtained target 6 is 140 mm in outer diameter and 11 mm in inner hole diameter.
n, the maximum thickness is 28 m (the target thickness for tightening the rotating shaft 5 is 20 mm), the thickness of the SiC ceramic plate 3 is 5 + m +, 1500XO, 7X 10'j
It has a large heat capacity greater than that of ole.

得られた回転ターゲットを管状にセットし、11000
0rpの速度で回転しながら電圧120kW、電流60
0mA、パルス幅2.2m秒、パルス回数134回/秒
の条件で9秒間ずつ計180000秒間電子ビームを当
てて、X線を発生した結果、SiCセラミックス板3に
半径0.3 +a以上の面取り部]0がある場合には、
電子線照射に基づく熱勾配によってターゲット6が破損
するという問題はまったく生じなかった。なお、この結
果は、ターゲット6の全体の厚さを一定にして、SiC
セラミックス板3の厚さを3〜l1mnまで変化させて
実験した場合も同様であった。
The obtained rotating target was set in a tubular shape and heated at 11,000 yen.
While rotating at a speed of 0 rpm, the voltage is 120 kW and the current is 60 kW.
As a result of generating X-rays by applying an electron beam for 9 seconds each for a total of 180,000 seconds under the conditions of 0 mA, pulse width of 2.2 m seconds, and pulse number of 134 times/second, a chamfer with a radius of 0.3 + a or more was formed on the SiC ceramic plate 3. ] If there is 0,
There was no problem that the target 6 was damaged due to thermal gradients caused by electron beam irradiation. Note that this result is based on the SiC
The same result was obtained when the experiment was conducted by changing the thickness of the ceramic plate 3 from 3 to 11 mm.

また、この場合、金属層2の下の黒鉛板]の厚さが信頼
性向上に関係しており、電子線照射部(普通は金属層2
の中心部)下の黒鉛板厚さが3m以上の場合、電子線照
射による金属層2の伸縮の影響が下の黒鉛板]に吸収さ
れて、該黒鉛板1とセラミックス板3の接合が剥離など
の問題を生じないという結果が得られた。
In this case, the thickness of the graphite plate under the metal layer 2] is related to reliability improvement, and the thickness of the electron beam irradiation part (usually the graphite plate under the metal layer 2) is related to improving reliability.
When the thickness of the lower graphite plate (at the center of The results showed that such problems did not occur.

また、本実施例においては、第3図に見られるように、
回転軸5とセラミックス板3の間に厚さ約5rLrrl
の黒鉛層11が介在している。このため、回転軸5(本
実施例ではMOを使用)が熱膨張しても、その影響が黒
鉛層11によって緩和され、セラミックス板3に大きな
応力が加わるのを防止できた。事実、第3図の構造のタ
ーゲット6に室温、−1200℃の熱サイクルをくり返
してもまったく破損などの問題は生じなかった。
In addition, in this example, as seen in FIG.
There is a thickness of approximately 5rLrrl between the rotating shaft 5 and the ceramic plate 3.
A graphite layer 11 is interposed therebetween. Therefore, even if the rotating shaft 5 (MO is used in this embodiment) thermally expands, the influence of the thermal expansion is alleviated by the graphite layer 11, and it is possible to prevent large stress from being applied to the ceramic plate 3. In fact, even when the target 6 having the structure shown in FIG. 3 was subjected to repeated thermal cycles at room temperature and -1200° C., no problems such as breakage occurred.

さらに、本実施例ではワッシャ8(Tail)の外径が
黒鉛層11よりも5m外側にくる構造を取ったため、ワ
ッシャ8による締付力は黒鉛板1゜12を介してセラミ
ックス板3に及び、回転体としての信頼性を高めること
ができる。このターゲット6は定格1−0000rpm
の2倍の20000rpmで回転しても破損はまったく
おこらなかった6〈実施例2〉 第5図(a)に示すような形状の黒鉛板11゜12及び
セラミックス板3を用意し、セラミックス板3の表面に
Si層15を設け、これらを重ねて、真空中1800℃
でホットプレスすることにより、黒鉛板1とセラミック
ス板3を接合した(同図(b))。次に、これを機械加
工して、同図(c)に示す構造のターゲット6を作製し
た。
Furthermore, in this embodiment, since the outer diameter of the washer 8 (Tail) is located 5 m outside the graphite layer 11, the tightening force by the washer 8 is applied to the ceramic plate 3 via the graphite plate 1°12. The reliability of the rotating body can be improved. This target 6 is rated at 1-0000 rpm
Even when rotated at 20,000 rpm, which is twice the speed of A Si layer 15 is provided on the surface of the
The graphite plate 1 and the ceramic plate 3 were joined by hot pressing (FIG. 2(b)). Next, this was machined to produce a target 6 having the structure shown in FIG. 6(c).

なお、この場合、セラミックス板3としては84CとC
を助剤として添加した常圧焼結のSiCセラミックスを
用い、その面取り部10は半径0.3m以上の曲面形状
とした。
In this case, the ceramic plates 3 are 84C and C.
A pressureless sintered SiC ceramic to which was added as an auxiliary agent was used, and the chamfered portion 10 thereof had a curved shape with a radius of 0.3 m or more.

本実施例では、回転応力の大きい内孔側でセラミックス
板3が厚くなっているため、回転体としての信頼性が特
に大きい、という効果が得られた。
In this example, since the ceramic plate 3 is thicker on the inner hole side where the rotational stress is greater, the reliability as a rotating body is particularly high.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上、説明してきたように、本発明のターゲットは面取
り部を設けたので、高速回転や強力な電子線照射に対す
る信頼性が高く、これを用いて強力なX線の発生できる
大容量X線管を実現できる。
As explained above, since the target of the present invention has a chamfered part, it has high reliability against high-speed rotation and powerful electron beam irradiation, and can be used to create a large-capacity X-ray tube that can generate powerful X-rays. can be realized.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図乃至第3図は本発明のそれぞれ異なる実施例を示
す断面図、第4図は第3図に示すターゲットの製造工程
説明図、第5図は異なるターゲットの製造工程説明図で
ある。 1.12・・・黒鉛板、2・・・金属層、3・・・セラ
ミックス板、4・・・中心孔、5・・・回転軸、6・・
・ターゲット、(7,8,9)・・・締結体、10・・
・面取り部、11・・・黒鉛層。
1 to 3 are sectional views showing different embodiments of the present invention, FIG. 4 is an explanatory diagram of the manufacturing process of the target shown in FIG. 3, and FIG. 5 is an explanatory diagram of the manufacturing process of a different target. 1.12... Graphite plate, 2... Metal layer, 3... Ceramic plate, 4... Center hole, 5... Rotating shaft, 6...
・Target, (7, 8, 9)... fastener, 10...
- Chamfered portion, 11... graphite layer.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、ターゲットが表面に金属層が設けられている黒鉛板
と、セラミックス板との積層体として形成され、該ター
ゲットの前記両板に貫設した中心孔に回転軸が挿入固定
されたX線管用回転ターゲットにおいて、前記セラミッ
クス板の、中心孔内面と前記金属層と対向する外面との
作るコーナー部に面取り部を設けたことを特徴とするX
線管用回転ターゲット。 2、特許請求の範囲第1項において、面取り部を曲面形
状とし、その半径を0.3mm以上としたX線管用回転
ターゲット。 3、特許請求の範囲第1項又は第2項において、セラミ
ックス板と回転軸との間に黒鉛層が介在するX線管用回
転ターゲット。 4、特許請求の範囲第3項において、黒鉛層と前記黒鉛
板とが一体成形されているX線管用回転ターゲット。 5、特許請求の範囲第3項又は第4項において、ターゲ
ットを回転軸に締付固定する締結体の半径を軸芯から前
記セラミックス板の中心孔内面までの距離よりも大きく
したX線管用回転ターゲット。 6、特許請求の範囲第1項、第2項、第3項、第4項又
は第5項において、セラミックス板の前記金属層と対向
する外面及び反対外面とを黒鉛板で挾持したX線管用回
転ターゲット。 7、特許請求の範囲第1項、第2項、第3項、第4項、
第5項又は第6項において、セラミックス板がSiC、
B_4C、VC又はTiCを主体とするX線管用回転タ
ーゲット。 8、特許請求の範囲第1項において、金属層を設けた黒
鉛板の電子線照射部の厚さが3mm以上であるX線管用
回転ターゲット。
[Claims] 1. The target is formed as a laminate of a graphite plate with a metal layer on its surface and a ceramic plate, and a rotating shaft is inserted into a central hole penetrating both plates of the target. In the fixed rotating target for an X-ray tube, a chamfered portion is provided at a corner formed by an inner surface of the center hole of the ceramic plate and an outer surface facing the metal layer.
Rotating target for wire tube. 2. The rotating target for an X-ray tube according to claim 1, wherein the chamfered portion has a curved shape and a radius of 0.3 mm or more. 3. A rotating target for an X-ray tube according to claim 1 or 2, in which a graphite layer is interposed between the ceramic plate and the rotating shaft. 4. A rotating target for an X-ray tube according to claim 3, wherein the graphite layer and the graphite plate are integrally molded. 5. A rotating X-ray tube according to claim 3 or 4, wherein the radius of the fastening body that tightens and fixes the target to the rotating shaft is larger than the distance from the shaft center to the inner surface of the center hole of the ceramic plate. target. 6. Claims 1, 2, 3, 4, or 5, for an X-ray tube in which an outer surface of a ceramic plate facing the metal layer and an opposite outer surface are sandwiched between graphite plates. rotating target. 7. Claims 1, 2, 3, 4,
In item 5 or 6, the ceramic plate is SiC,
B_4C, VC or TiC rotating target for X-ray tubes. 8. The rotating target for an X-ray tube according to claim 1, wherein the electron beam irradiation part of the graphite plate provided with the metal layer has a thickness of 3 mm or more.
JP30748186A 1986-12-23 1986-12-23 Rotary target for x-ray tube Pending JPS63160142A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005100818A (en) * 2003-09-25 2005-04-14 Kyocera Corp Fuel cell

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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