JPS63159276A - 施釉焼成処理した無機質硬化体及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ｒ技術分野】 本発明は、陶磁器質基材またはセメンＦ質基材等の無機
質基材にｍ釉層を形成する施釉焼成処理した無機質硬化
体及びその製造方法に関する発明でふス− ［背景技術Ｊ 従来、施釉層を形成したセノン）＆！品などにありては
、表面の全面に施釉を施して焼成すると裏面に施釉層が
形成されないために反りが大きくなるという問題があっ
た。このため第５図に示すようにセメント質の基材１″
の表面に複数個の突出部６を設けてこの突出部６の表面
にのみ施釉層２′を形成するようにしたものが知られて
いるが、これだと表面の凹ＷＳ７には施釉層２′が形成
されず、製品の美観の上から好ましくなかった。またホ
ーロー引き建材においては表面だけでなく裏面の全面に
も施釉して表裏面のバランスをとるようにするものが考
えられているが、表面も裏面も施釉されているので吊り
下げて焼成しなければなす、ローラーキルンやシャトル
キルンでの焼成ができないという問題があった。またこ
のホーロー引き建材における表裏両面に施釉する技術を
セメント質の基材に応用したとしても、施釉セメント製
品においては、ｍａ焼成によりセメント質の基材の強度
が低下するので再水和する必要があるが、表面、裏面の
全面に施釉処理すると吸水が出来なくなってしまい、再
水和に支障が生じてしまうという問題があった。

［発明の目的１ 本発明は、上記の従来の問題点に鑑みて発明したもので
あって、その目的とするところは、製品の反りの発生を
押え、しかもローラーキルンやシャトルキルンでも焼成
でき、またセメント質の基材の場合など後工程での吸水
や再水和の支障がない施釉焼成処理した無機質硬化体及
びその製造方法を提供するにある。

［発明の開示１ 本発明は、無機質基材１の表面の全面に施釉層２が設け
られるとともに裏面の一部に施釉層２が設けられで成る
ことを特徴とする施釉焼成処理した無機質硬化体を特定
発明とし、併せて、無８！質基材１の表面の全面に施釉
するとともに裏面の一部に施釉し、その後、裏面の施り
をしなかった部分３で無機質基材１を支持した状態で焼
成することを特徴とする施釉焼成処理した無機質硬化体
の製造方法を併合発明とする発明に関するものであり、
このような構成を採用することで、上記した従来の問題
点を解決して本発明の目的を達成したものである。すな
わち、本発明にあっては、無機質基材１の表面の全面に
施釉／１２が設けられるとともに裏面の一部に施釉層２
が設けられたことで、表面の美観の低下を防止しながら
反りの防止ができ、また裏面の施釉をしなかった部分３
で無８！質基材１を支持した状態で焼成することで、裏
面にも反り防止のために施釉したにもかかわらず、焼成
１こあたってローラーキルンやシャトルキルン（二よっ
て焼成することが可能となったものであり、また無機質
基材１がセメント質の基材の場合において施釉焼成後に
再水利の支障がなくなったものである。

以下本発明を添付図面に示す実施例により詳述する。

本発明においては無機質基材１としては陶磁器質基材ま
たはセメント質基材が用いられる。この基材１の表面の
全面及び裏面の一部に施釉層２が形成しである。ここで
、無８！質基材１の裏面の一部に施釉７１１２を形成す
るには例えば第４図（ａ）（ｂ）（ｅ）のように形成す
る。もちろん、上記の実施例のものにのみ限定されるも
のではないが、裏面の全面にわたり略均等に施釉層２を
形成した部分と施釉／１２を形成していない部分（っま
９施釉をしなかた部分３）とが配置されるようにするの
が好ましいものである。またＷＩＪ３図にあっては、裏
面に凹溝部４と突部５とを設け、凹溝部４に施釉層２を
形成し、突部５は施釉／１２を形成しない部分（つまり
施釉をしなかった部分３）となった実施例が示しである
。

しかして、上記のような構成の本発明に係る施釉焼成処
理した無機質硬化体は次のようにして製造するものであ
る。すなわち、陶磁器質基材またはセメント質基材等の
無機質基材１の表面の全面に施釉するとともに裏面の一
部に施釉し、その後、裏面の施釉をしなかった部分３で
無機質基材１を支持した状態でローラーキルンやシャト
ルキルンで悼虚十ムので襄スーーの橙Ｆ＃Ｌ−当か−で
＝面ハ施釉しなかった部分３を支持するにはトレーや棚
仮に突起物を突設し、このトレーや棚仮に突設した突起
物により無機質基材１の裏面の施釉をしなかった部分３
を支持し、このようにトレーや棚板にｊ！！ｌｉ８！質
基材１を載せた状態でローラーキルンやシャトルキルン
により焼成するのである。また第３図の実施例のように
裏面に凹溝部４と突部５とを設け、凹溝部４にのみ施釉
をするとともに突部５は施釉をしながった部分３とした
ものにあっては、トレーや棚板に突起物を設けて施釉を
しなかった部分３を支持しなくとも、そのままローラー
キルンやシャトルキルンで焼成することができるもので
ある。

なお、無機質基材１がセメント質の基材の場合、施釉に
よりセメント質の基材の強度が低下するので、再水利処
理する必要があるが、本発明にあっては、裏面に部分的
に施釉しなかった部分３を設けであるので、後工程での
吸水及び再水利の支障がないものである。

［発明の効果１ 本発明にあっては、叙述のように無機質基材の表面の全
面に施釉層が設けられるとともに裏面の一部に施釉層が
設けられているので、表面の全面に施釉層が存在して製
品の美貌を損なうことがないのは勿論のこと、反りが防
止で終るものであり、また無機質基材の表面の全面に施
釉するとともに裏面の一部に施釉し、その後、裏面の施
釉をしなかった部分で無機質基材を支持した状態で焼成
するので、焼成にあたってａ−ラーキルンやシャトルキ
ルンによって焼成することが可能となったものであり、
また無機質基材がセメント貿の基材の場合において施釉
焼成後に再水和の支障がなくなったものである。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例の斜視図、第２図は本発明の
他の実施例の斜視図、第３図は本発明の更に他の実施例
の斜視図、第４図（ａＨｂＨａ）は本発明において無機
質基材の裏面の施釉した部分と施釉をしなかった部分と
の配置例を示す下面図、第５図は従来例を示す斜視図で
あって、１は無機質基材、２は施釉層、３は施釉をしな
かった部分である。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）無機質基材の表面の全面に施釉層が設けられると
   ともに裏面の一部に施釉層が設けられて成ることを特徴
   とする施釉焼成処理した無機質硬化体。
2. （２）無機質基材の表面の全面に施釉するとともに裏面
   の一部に施釉し、その後、裏面の施釉をしなかった部分
   で無機質基材を支持した状態で焼成することを特徴とす
   る施釉焼成処理した無機質硬化体の製造方法。