JPS63159276A - 施釉焼成処理した無機質硬化体及びその製造方法 - Google Patents
施釉焼成処理した無機質硬化体及びその製造方法Info
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- JPS63159276A JPS63159276A JP30685886A JP30685886A JPS63159276A JP S63159276 A JPS63159276 A JP S63159276A JP 30685886 A JP30685886 A JP 30685886A JP 30685886 A JP30685886 A JP 30685886A JP S63159276 A JPS63159276 A JP S63159276A
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Landscapes
- Aftertreatments Of Artificial And Natural Stones (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
r技術分野】
本発明は、陶磁器質基材またはセメンF質基材等の無機
質基材にm釉層を形成する施釉焼成処理した無機質硬化
体及びその製造方法に関する発明でふス− [背景技術J 従来、施釉層を形成したセノン)&!品などにありては
、表面の全面に施釉を施して焼成すると裏面に施釉層が
形成されないために反りが大きくなるという問題があっ
た。このため第5図に示すようにセメント質の基材1″
の表面に複数個の突出部6を設けてこの突出部6の表面
にのみ施釉層2′を形成するようにしたものが知られて
いるが、これだと表面の凹WS7には施釉層2′が形成
されず、製品の美観の上から好ましくなかった。またホ
ーロー引き建材においては表面だけでなく裏面の全面に
も施釉して表裏面のバランスをとるようにするものが考
えられているが、表面も裏面も施釉されているので吊り
下げて焼成しなければなす、ローラーキルンやシャトル
キルンでの焼成ができないという問題があった。またこ
のホーロー引き建材における表裏両面に施釉する技術を
セメント質の基材に応用したとしても、施釉セメント製
品においては、ma焼成によりセメント質の基材の強度
が低下するので再水和する必要があるが、表面、裏面の
全面に施釉処理すると吸水が出来なくなってしまい、再
水和に支障が生じてしまうという問題があった。
質基材にm釉層を形成する施釉焼成処理した無機質硬化
体及びその製造方法に関する発明でふス− [背景技術J 従来、施釉層を形成したセノン)&!品などにありては
、表面の全面に施釉を施して焼成すると裏面に施釉層が
形成されないために反りが大きくなるという問題があっ
た。このため第5図に示すようにセメント質の基材1″
の表面に複数個の突出部6を設けてこの突出部6の表面
にのみ施釉層2′を形成するようにしたものが知られて
いるが、これだと表面の凹WS7には施釉層2′が形成
されず、製品の美観の上から好ましくなかった。またホ
ーロー引き建材においては表面だけでなく裏面の全面に
も施釉して表裏面のバランスをとるようにするものが考
えられているが、表面も裏面も施釉されているので吊り
下げて焼成しなければなす、ローラーキルンやシャトル
キルンでの焼成ができないという問題があった。またこ
のホーロー引き建材における表裏両面に施釉する技術を
セメント質の基材に応用したとしても、施釉セメント製
品においては、ma焼成によりセメント質の基材の強度
が低下するので再水和する必要があるが、表面、裏面の
全面に施釉処理すると吸水が出来なくなってしまい、再
水和に支障が生じてしまうという問題があった。
[発明の目的1
本発明は、上記の従来の問題点に鑑みて発明したもので
あって、その目的とするところは、製品の反りの発生を
押え、しかもローラーキルンやシャトルキルンでも焼成
でき、またセメント質の基材の場合など後工程での吸水
や再水和の支障がない施釉焼成処理した無機質硬化体及
びその製造方法を提供するにある。
あって、その目的とするところは、製品の反りの発生を
押え、しかもローラーキルンやシャトルキルンでも焼成
でき、またセメント質の基材の場合など後工程での吸水
や再水和の支障がない施釉焼成処理した無機質硬化体及
びその製造方法を提供するにある。
[発明の開示1
本発明は、無機質基材1の表面の全面に施釉層2が設け
られるとともに裏面の一部に施釉層2が設けられで成る
ことを特徴とする施釉焼成処理した無機質硬化体を特定
発明とし、併せて、無8!質基材1の表面の全面に施釉
するとともに裏面の一部に施釉し、その後、裏面の施り
をしなかった部分3で無機質基材1を支持した状態で焼
成することを特徴とする施釉焼成処理した無機質硬化体
の製造方法を併合発明とする発明に関するものであり、
このような構成を採用することで、上記した従来の問題
点を解決して本発明の目的を達成したものである。すな
わち、本発明にあっては、無機質基材1の表面の全面に
施釉/12が設けられるとともに裏面の一部に施釉層2
が設けられたことで、表面の美観の低下を防止しながら
反りの防止ができ、また裏面の施釉をしなかった部分3
で無8!質基材1を支持した状態で焼成することで、裏
面にも反り防止のために施釉したにもかかわらず、焼成
1こあたってローラーキルンやシャトルキルン(二よっ
て焼成することが可能となったものであり、また無機質
基材1がセメント質の基材の場合において施釉焼成後に
再水利の支障がなくなったものである。
られるとともに裏面の一部に施釉層2が設けられで成る
ことを特徴とする施釉焼成処理した無機質硬化体を特定
発明とし、併せて、無8!質基材1の表面の全面に施釉
するとともに裏面の一部に施釉し、その後、裏面の施り
をしなかった部分3で無機質基材1を支持した状態で焼
成することを特徴とする施釉焼成処理した無機質硬化体
の製造方法を併合発明とする発明に関するものであり、
このような構成を採用することで、上記した従来の問題
点を解決して本発明の目的を達成したものである。すな
わち、本発明にあっては、無機質基材1の表面の全面に
施釉/12が設けられるとともに裏面の一部に施釉層2
が設けられたことで、表面の美観の低下を防止しながら
反りの防止ができ、また裏面の施釉をしなかった部分3
で無8!質基材1を支持した状態で焼成することで、裏
面にも反り防止のために施釉したにもかかわらず、焼成
1こあたってローラーキルンやシャトルキルン(二よっ
て焼成することが可能となったものであり、また無機質
基材1がセメント質の基材の場合において施釉焼成後に
再水利の支障がなくなったものである。
以下本発明を添付図面に示す実施例により詳述する。
本発明においては無機質基材1としては陶磁器質基材ま
たはセメント質基材が用いられる。この基材1の表面の
全面及び裏面の一部に施釉層2が形成しである。ここで
、無8!質基材1の裏面の一部に施釉7112を形成す
るには例えば第4図(a)(b)(e)のように形成す
る。もちろん、上記の実施例のものにのみ限定されるも
のではないが、裏面の全面にわたり略均等に施釉層2を
形成した部分と施釉/12を形成していない部分(っま
9施釉をしなかた部分3)とが配置されるようにするの
が好ましいものである。またWIJ3図にあっては、裏
面に凹溝部4と突部5とを設け、凹溝部4に施釉層2を
形成し、突部5は施釉/12を形成しない部分(つまり
施釉をしなかった部分3)となった実施例が示しである
。
たはセメント質基材が用いられる。この基材1の表面の
全面及び裏面の一部に施釉層2が形成しである。ここで
、無8!質基材1の裏面の一部に施釉7112を形成す
るには例えば第4図(a)(b)(e)のように形成す
る。もちろん、上記の実施例のものにのみ限定されるも
のではないが、裏面の全面にわたり略均等に施釉層2を
形成した部分と施釉/12を形成していない部分(っま
9施釉をしなかた部分3)とが配置されるようにするの
が好ましいものである。またWIJ3図にあっては、裏
面に凹溝部4と突部5とを設け、凹溝部4に施釉層2を
形成し、突部5は施釉/12を形成しない部分(つまり
施釉をしなかった部分3)となった実施例が示しである
。
しかして、上記のような構成の本発明に係る施釉焼成処
理した無機質硬化体は次のようにして製造するものであ
る。すなわち、陶磁器質基材またはセメント質基材等の
無機質基材1の表面の全面に施釉するとともに裏面の一
部に施釉し、その後、裏面の施釉をしなかった部分3で
無機質基材1を支持した状態でローラーキルンやシャト
ルキルンで悼虚十ムので襄スーーの橙F#L−当か−で
=面ハ施釉しなかった部分3を支持するにはトレーや棚
仮に突起物を突設し、このトレーや棚仮に突設した突起
物により無機質基材1の裏面の施釉をしなかった部分3
を支持し、このようにトレーや棚板にj!!li8!質
基材1を載せた状態でローラーキルンやシャトルキルン
により焼成するのである。また第3図の実施例のように
裏面に凹溝部4と突部5とを設け、凹溝部4にのみ施釉
をするとともに突部5は施釉をしながった部分3とした
ものにあっては、トレーや棚板に突起物を設けて施釉を
しなかった部分3を支持しなくとも、そのままローラー
キルンやシャトルキルンで焼成することができるもので
ある。
理した無機質硬化体は次のようにして製造するものであ
る。すなわち、陶磁器質基材またはセメント質基材等の
無機質基材1の表面の全面に施釉するとともに裏面の一
部に施釉し、その後、裏面の施釉をしなかった部分3で
無機質基材1を支持した状態でローラーキルンやシャト
ルキルンで悼虚十ムので襄スーーの橙F#L−当か−で
=面ハ施釉しなかった部分3を支持するにはトレーや棚
仮に突起物を突設し、このトレーや棚仮に突設した突起
物により無機質基材1の裏面の施釉をしなかった部分3
を支持し、このようにトレーや棚板にj!!li8!質
基材1を載せた状態でローラーキルンやシャトルキルン
により焼成するのである。また第3図の実施例のように
裏面に凹溝部4と突部5とを設け、凹溝部4にのみ施釉
をするとともに突部5は施釉をしながった部分3とした
ものにあっては、トレーや棚板に突起物を設けて施釉を
しなかった部分3を支持しなくとも、そのままローラー
キルンやシャトルキルンで焼成することができるもので
ある。
なお、無機質基材1がセメント質の基材の場合、施釉に
よりセメント質の基材の強度が低下するので、再水利処
理する必要があるが、本発明にあっては、裏面に部分的
に施釉しなかった部分3を設けであるので、後工程での
吸水及び再水利の支障がないものである。
よりセメント質の基材の強度が低下するので、再水利処
理する必要があるが、本発明にあっては、裏面に部分的
に施釉しなかった部分3を設けであるので、後工程での
吸水及び再水利の支障がないものである。
[発明の効果1
本発明にあっては、叙述のように無機質基材の表面の全
面に施釉層が設けられるとともに裏面の一部に施釉層が
設けられているので、表面の全面に施釉層が存在して製
品の美貌を損なうことがないのは勿論のこと、反りが防
止で終るものであり、また無機質基材の表面の全面に施
釉するとともに裏面の一部に施釉し、その後、裏面の施
釉をしなかった部分で無機質基材を支持した状態で焼成
するので、焼成にあたってa−ラーキルンやシャトルキ
ルンによって焼成することが可能となったものであり、
また無機質基材がセメント貿の基材の場合において施釉
焼成後に再水和の支障がなくなったものである。
面に施釉層が設けられるとともに裏面の一部に施釉層が
設けられているので、表面の全面に施釉層が存在して製
品の美貌を損なうことがないのは勿論のこと、反りが防
止で終るものであり、また無機質基材の表面の全面に施
釉するとともに裏面の一部に施釉し、その後、裏面の施
釉をしなかった部分で無機質基材を支持した状態で焼成
するので、焼成にあたってa−ラーキルンやシャトルキ
ルンによって焼成することが可能となったものであり、
また無機質基材がセメント貿の基材の場合において施釉
焼成後に再水和の支障がなくなったものである。
第1図は本発明の一実施例の斜視図、第2図は本発明の
他の実施例の斜視図、第3図は本発明の更に他の実施例
の斜視図、第4図(aHbHa)は本発明において無機
質基材の裏面の施釉した部分と施釉をしなかった部分と
の配置例を示す下面図、第5図は従来例を示す斜視図で
あって、1は無機質基材、2は施釉層、3は施釉をしな
かった部分である。
他の実施例の斜視図、第3図は本発明の更に他の実施例
の斜視図、第4図(aHbHa)は本発明において無機
質基材の裏面の施釉した部分と施釉をしなかった部分と
の配置例を示す下面図、第5図は従来例を示す斜視図で
あって、1は無機質基材、2は施釉層、3は施釉をしな
かった部分である。
Claims (2)
- (1)無機質基材の表面の全面に施釉層が設けられると
ともに裏面の一部に施釉層が設けられて成ることを特徴
とする施釉焼成処理した無機質硬化体。 - (2)無機質基材の表面の全面に施釉するとともに裏面
の一部に施釉し、その後、裏面の施釉をしなかった部分
で無機質基材を支持した状態で焼成することを特徴とす
る施釉焼成処理した無機質硬化体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30685886A JPS63159276A (ja) | 1986-12-23 | 1986-12-23 | 施釉焼成処理した無機質硬化体及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30685886A JPS63159276A (ja) | 1986-12-23 | 1986-12-23 | 施釉焼成処理した無機質硬化体及びその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63159276A true JPS63159276A (ja) | 1988-07-02 |
Family
ID=17962095
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP30685886A Pending JPS63159276A (ja) | 1986-12-23 | 1986-12-23 | 施釉焼成処理した無機質硬化体及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63159276A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007209057A (ja) * | 2006-01-31 | 2007-08-16 | Toyo Giken Kk | 短絡板 |
-
1986
- 1986-12-23 JP JP30685886A patent/JPS63159276A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007209057A (ja) * | 2006-01-31 | 2007-08-16 | Toyo Giken Kk | 短絡板 |
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