JPS63156209A - 集積回路における基準バイアスレベルを発生するバイアス回路 - Google Patents

集積回路における基準バイアスレベルを発生するバイアス回路

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JPS63156209A
JPS63156209A JP62303080A JP30308087A JPS63156209A JP S63156209 A JPS63156209 A JP S63156209A JP 62303080 A JP62303080 A JP 62303080A JP 30308087 A JP30308087 A JP 30308087A JP S63156209 A JPS63156209 A JP S63156209A
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ケネス、ダブリュー、オウヤング
カール、エム・ジェイ、ロフグレン
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    • H03LAUTOMATIC CONTROL, STARTING, SYNCHRONISATION OR STABILISATION OF GENERATORS OF ELECTRONIC OSCILLATIONS OR PULSES
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    • H03L7/06Automatic control of frequency or phase; Synchronisation using a reference signal applied to a frequency- or phase-locked loop
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    • GPHYSICS
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    • G05F1/46Regulating voltage or current wherein the variable actually regulated by the final control device is dc
    • G05F1/462Regulating voltage or current wherein the variable actually regulated by the final control device is dc as a function of the requirements of the load, e.g. delay, temperature, specific voltage/current characteristic
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は全体として、1つの製造バッチと次の製造バッ
チとの間で動作特性が一貫としている集積回路を製造す
る問題に関するものであり、更に詳しくいえば、一括製
造された複数の集積回路のうちの個々の集積回路中に正
確な電流を発生する問題に関するものである。
〔従来の技術] 公知の集積回路製造技術を用いて複雑な電子回路を低コ
ストで大量に製造できる。それらの技術においては、第
1図に示されている基板100のような半導体基板中に
n形とp形の導電形の領域 −が隣り合って形成される
。種々のトランジスタ装置を製造するために、3つまた
はそれ以上のそのような領域の任意の交互配置(NPN
またはPNP)を用いることができるP領域とNil域
は、種々の不純物(ドーピング物質)を基板の1番上の
表面を通じて拡散することにより製造されるの称普通で
ある。公知のフォトリソグラフ法を用いて領域の1番上
の表面の寸法(幅と長さ)を制御し、許容誤差を正確に
できる。コストが適正な製造技術においては、製造過程
の変化(すなわち、炉の温度の変化、不純物濃度レベル
の変化)のために、領域の深さを正確な許容範囲内に保
つことは困難である。このことは、一括製造された1群
のトランジスタの緒特性が、それとは異なる時に一括製
造された別の一群のトランジスタの緒特性と同一である
ように保証できないことを意味する。
〔発明が解決しようとする問題点〕
しかし、一括製造された1群のウェハー、すなわちIC
(集積回路)チップでは、一体に形成された領域がほぼ
同一の製造過程諸条件の下で製造されるから、類似の領
域の深さは全体として一定である。同一のまたほぼ同一
のトランジスタ、抵抗等を個々のICチップ中に形成で
きる。それらの装置の緒特性が同一であることを利用し
て精密な分圧器および精密な分流器を構成できる。その
ような精密な分圧器(または分流器)により発生される
電圧(または電流)の大きさは相対的な意味においての
み正確である。電流または電圧は1つの製造群から次の
製造群の間で、ICチップ内で発生された他の電圧また
は電流に対して一員して決定できるが、チップの外部で
発生される絶対レベルに対してはそうではない。異なる
劃IfからのICにより発生された電圧および電流の出
力の絶対的な大きさのくい違いにより、一括製造された
tC装置から一員した緒特性を青ることか困難であると
いう望ましくない状況が生じる。
第1図には3個の能動装置(トランジスタQ1゜G2.
G3が断面斜視図で示され、金属接点と絶縁ゲートで構
成されている1番上の層110が基板100の1番上の
表面から分解図的に分離されて、能動装置Q、Q2.Q
3を構成している複数のP領域とN領域が見えるように
されている。
第1の能動装置Q と第2の能動装置Q2は一連のほぼ
同一のNPN領域を有する。第3の能動装置Q3はそれ
らの能動装置とは異なる順序のPNP領域で構成される
。NPNバイポーラトランジスタ、nチャンネルFET
 (電界効果トランジスタ)等のような能動装置は能動
装@Q1゜G2のNPNの配置を用いて製造できるPN
Pバイポーラトランジスタ、PチャンネルFET等のよ
うな相補(非類似の装置はG3を形成する領域のPNP
配置から製造できる。第1図においては、第1の能動装
置Q と第1の能動装置Q2が、それぞれソース端子部
、ゲート端子部およびドレイン端子部S 、G 、Dl
、G2.G2.D2を有する金属−酸化物−半導体電界
効果トランジスタ(MO3FET>として形成されてい
る様子が示されている。それらの端子部は分解された上
部層110内に含まれる。非類似装置Q3はソース端子
S3と、ゲート端子G3と、ドレインD3(第1図には
示されていない)をそれのPNP領域に関連して有する
ものと仮定する。
はぼ同一の(対にされた)第1および第2の能動装置Q
、Q2のn影領域には同一の拡散深さDflが形成され
る。対にされている能動装置にはチャネル長しくソース
領域とドレイン領域の間の距離)とチャネル幅Wが定め
られる。その幅寸法と長さは公知の7オトリソグフ技術
を用いて正確な許容誤差範囲内で形成できる。能動装置
Q1゜G2のような211!lの対となってい能動装置
のそれぞれ幅W  、W  、とL  、L  は同一
である時は、対となっている装置のことをここでは同一
の対と呼ぶこ・とをする。同一の対は同一の電気的特性
を有する。すなわち、2個の同一の対の装置のドレイン
端子とソース端子の間に同一の出力電圧■  、Vp8
2が発生され、等しいゲート電圧SI v  、■  がそれぞれのレート端子へ与えらGSI
   GS2 れるものとすると、それらの装置の出力端子(ドレイン
端子とソース端子)を通ってほぼ同一の電流1 .1 
 が流れる。その理由は、同じチ031   DS2 ツブ上のそれや2個の装置の動作特性に影響を及ぼす動
作温度変数および製造過程変数がほぼ同一だからである
2個の対装置のチャネル幅とチャネル長さを除く全ての
要因が同一に保たれると、それらの装置の出力の電流は
互いに比例する写しであり、その比例定数(換算乗数)
はそれぞれの装置の上面図の寸法により決定される。
第3図の装置Q3 (PNP)のp影領域は基板表面の
下に深さDf3まで拡散する。その深さは、装置Q の
動作特性と対′iA置Q1.Q、2の間に任意の精密な
関係を確保することが困難であるように、NPN領域の
深さDflとは一般に実効的に異なる。これにより、n
チャネルFETG2とnチャネルFETG3のような相
補装置を共に用いる(たとえば0M03回路)と、正確
な駆動電流を必要とする出力阻止を駆動する。
第2図は、一般的な能動装置Q(第4図)の出力電流と
、そっちの端子間の出力電圧V、とバイアス電圧■8と
の関係を示す典型的な動作特性のグラフである。出力電
流ioの大きさは、与えられた電圧VD、V、の関数ば
かりでなく、動作温度、製造過程変数およびp影領域と
n影領域の寸法のような他の要因の関数でもある。
第3図は類似しない能動装置を表わすために通常用いら
れるいくつかの記号を示す。nチャンネルFETおよび
NPNバイポーラトランジスタのような装置はNPN配
置を有する領域から形成できる。nチャンネルFETお
よびNPNバイポーラトランジスタのような装置はPN
P配置を持つ基板領域に形成できる。それらの能動装置
は第4図に一般的な円形記号で表されている。
第4図は多くの可能な用途のうち、能動装置Qからの出
力電流■。の絶対大きさが重要であるような用途の1つ
を示す回路図である。能動装置Qは電流制御ゲートGと
、第1の出力端子01と、第2出力端子02とを有する
ものとして一般的に示されている。そのゲート端子Gヘ
バイアスレベル■BがスイッチSWを通じである持続時
間の間与えられる。電圧源■。0と充電(積分)コンデ
ンサCの間に出力端子0.02が直列接続される。
持続時間tの間スイッチSWが閉じられると、特定の大
きさの出力電流l、が能動装置Qから積分コンデンサC
へ送りこまれる。そのコンデンサCに全電荷が格納され
た結果として、コンデンサCの端子間に積分された電圧
V。が生ずる。出力電流I。によりコンデンサに送りこ
まれた電荷により生じた電圧変化V は、出力電流I、
の大きさの絶対値と持続時間tの積に比例する。それは
次式で表すことができる。
ΔV  =I  ・t/C D ここに、Cはコンデンサの容量(ファラッド)である。
電荷積分コンデンサCの端子間電圧V。
は電子装置のタイミング回路をトリガするためにしばし
ば用いられる。タイミングが非常に正確でなければなら
ない用途では、装置の出力電流IOの大きさを精密な許
容誤差範囲内で予測できることが望ましい。しかし、多
数の集積回路(IC)チップ中の各電流制a装置Qの出
力電流!。が望ましい11装置]の許容誤差範囲内にす
ることは困難である。チップ上の各能動装置の動作特性
に影響を及ぼす各ICの動作温度、および製造過程変数
のような、大きさを決定する要因を考慮に入れなければ
ならない。
本発明の目的は、集積回路中の能動装置の出力電流を正
確な1411Iの許容誤差範囲内に維持することがある
。本発明の別の目的は、能動装置が大量生産された集積
回路(IC)チップの一部である時に、能動装置により
発生された出力電流の精度を確保する妥当なコストの装
置を得ることができる。
〔問題点を解決するための手段] 上記開目的は、本発明において、電流基準素子に直列接
続された典型的な装置を集積回路上に含むバイアス回路
を設けることにより達成される。
典型的な装置はゲート端子と一対の制御端子を有し、そ
のゲート端子へ電流制御バイアスを与えることができる
。それら一対の出力端子からゲート出力端子電流が流れ
出る。典型的な装置にほぼ等しく少くとも1つの動作装
置が、動作温度および製造過程変数とは無関係に2つの
装置の動作時性がほぼ同一であるようにして、集積回路
に設けられる。典型的な装置と電流基準素子は、典型的
な装置を流れる出力電流の大きさを電流基準素子を流れ
る電流から正確に決定できる(すなわち、電流基準素子
を流れる電流にほぼ等しい)ように、典型的な装置と電
流基準素子は構成される。典型的な8置の出力電圧はゲ
ート制御器により希望の電圧にされる。ゲート制御器は
典型的な装置の出力電圧を検出し、その検出した出力電
圧を希望電圧と比較し、バイアスレベルを典型的な装置
のゲートへ与えて、その典型的な装置の出力電圧を希望
電圧へ向って駆動する。典型的な装置のゲートへ与えら
れたバイアスレベルはほぼ同一の動作装置のゲートにお
いて複製される。動作装置の出力電流の出力電圧が典型
的な装置の出力電圧にほぼ等しい(それは希望電圧に等
しい、またはほぼ等しい)時に電流基準素子を流れる電
流から正確に決定できる。
電流基準素子をICの能動装置から別々に製造すること
により、妥当なコストの許容誤差1!、IJ御を実現で
きる。
〔実施例〕
以下、図面を参照して本発明の詳細な説明する。
本発明は、集積回路中の能動装置の出力として発生され
る出力電流の大きさを制御する費用有効技術を提供する
ものである。集積回路チップ上の1つ該たは複数の能動
装置の出力電流の大きさを精密に制御する性能から得ら
れる利点は非常に多いから、ここで一般的に述べること
はできない。
第5図は特定のフェーズロック装置500のブロック回
路図である。そのフェーズロック装置に使用するために
本発明を開発したものである。フェーズロック装置はク
ロック信号を発生する。そのクロック信号は入来する非
同期データ信号に位相を一致させるためのものである。
そのデータ信号は、たとえばコンピュータの回転するフ
ロッピーディスクから得ることができる。フェーズロツ
ク装置500においては、データ信号は第1のフリップ
フロップ510のクロック入力端子へ与えられる。フェ
ーズロック装置は電圧制御発振器(VCO)550を含
み、その電圧制御発振器は所定の周波数を有するクロッ
ク信号を出力する。
そのクロック信号は第2のフリップフロップ520へ与
えられる。クロック信号の立上り縁部は第2のフリップ
フロップ520の周波数減少出力FDNを時間t3−t
2の短い間に高くする。
データ信号の立上り縁部筒1のフリップフロップ510
の周波数増大出力FUPを時間t3−t1の短い時間の
間高くする。周波数増大出力FUPと周波数減少出力F
DNは1組の遅延ゲート515.525を通ってフリッ
プフロップ510゜520の出力を相互時刻t3におい
てリセットする。データ信号の立上り縁部に対応するク
ロック信号の縁部が第2のフリップフロップ520に達
する前にデータ信号の立上り縁部が第1のフリップフロ
ップ510に達したとすると、FUP信号の持続時間1
3−11はFDN信号の持続時間t3 t2より長い。
それとは逆に、クロック信号の縁部に対応するデータ信
号の縁部が達する前にそのクロック信号の縁部が達した
とすると、FDN信号の持続時間t3−t2が長いFU
P信号はpチャンネルFET530を起動する。そのF
ET530は第1の電流(ソース電流>rlを誤差積分
コンデンサC1に供給する。FDN信号はr+ftyン
ネルFET540を起動する。そのFETは誤差積分コ
ンデンサCIから第2の電流(吸収電流)12をとる。
積分コンデンサはVCO550の入力端子へ与えられて
入力電圧Vioをそれに与える。VCO550の入力電
圧は次式に従って変えられる。
ΔV − n I ・(t  −t  )−1・(13−12>クロッ
ク信号がデータ信号と正確に同相であると、VCO55
0の入力電圧vinはなるべく一定のままでなければな
らない。11=12の時にソース電流■ と吸収電流I
2の大きさが正確には同じでないとすると、類似誤差が
フェーズロック装置5o○のロック動作中に導入される
先に述べたように、pチャンネルFET530およびそ
れの相補nチャンネルFET540のそれぞれの出力電
流1  、I  の大きさの絶対値は、各装置の出力端
子の間に発生された出力電圧と、各装置のゲート端子へ
与えられたバイアス電圧と、この回路が動作させられて
いる温度と、製造過程変数とを含めた数多くの要因によ
り影響を受けることがある。後の2つの要因は予測がな
かなかできず、制限が最も困難である。不幸なことに、
任意の1枚のチップにおいて、温度とプロセスの変化要
因はほぼ同一の能動装置に対して一定である。
この考えは、ICチップのほぼ同一の能動装置中の基準
素子を流れる1oの等しい写し、または小さくされた写
しである。更に、基準電流の正確な写しを、本発明に従
ってICチップの非類似装置において再生することもで
きる。
第1図を再び参照して、NPN装置Q1.Q2はほぼ同
一の装置であるが、上面図の寸法は異なる(W  /L
  )=(W2/L2)幅/長さ寸法を等しくしたとす
ると、装置Q、Q2は電気的動作性に関して同一の対で
あると考えることかできる。すなわち、それらの装置の
それぞれの出力端子に同じ出力電圧(V   =V  
 )が生じ、DSI   DS2 ゲート端子へ同じバイアス電圧が与えられたとすると(
V   =V   )、それらの装置の出力型51GS
2 流の大きさは等しい(1=1   >。対でありSI 
  DS2 る装置Q 、Q2の幅/長さ寸法が異なっているとして
も、それらの装置のバイアス電圧と出力電圧が等しけれ
ば、比例電流関係1   =(W2/L2)・(L1/
W1)・Io31は全体として真のままである。
第6図は本発明のバイアス回路600の回路図である。
Ql、Q2は共通の半導体基板(ICチ  −ツブ)6
02の上にに形成された「対の」能動装置である。能動
装置Q1の動作特性がこの集積回路全体にわたって、能
動装置Q2のような類似の「対である」装置において常
に繰返されるから、ここではこのQlのことを典型的な
装置と呼ぶことにする。能動装置Q2のことを動作装置
と呼ぶ。
基準素子610を流れる基準電流I。が既知であれば、
典型的な装置Q1を流れる出力電流11の大きさが温度
およびプロセス変数とは独立に正確に予測できるように
、典型的な装置Q1の出力端子は電流基準素子610に
直列接続される。図示のバイアス回路600においては
、典型的な装置Q の出力電流11は、キルヒホッフの
法則に従って、電流基準素子610を流れる基準電流I
にほぼ等しい。差動増幅器U1の入力端子620へは電
流は僅かだけ流れこみ、または全く流れこまない。その
差動増幅器の入力端子620は典型的な装置Q1の出力
端子の1つに接続される、電圧源650により希望電圧
VDDが発生される。その電圧源650は、ICチップ
602上に一体に形成され、アースとチップの電源電圧
V。Cの間に接続される正確な分圧器で構成することが
好ましい。1つの変更例においては、電圧源650は、
動作Q の出力電圧■。2への直接結合(第6図に1点
鎖線で示されている)を含むことができる。
典型的な装置の出力電圧V、1は差動増幅器U1により
希望電圧■。0に等しくされる。差動増幅器U1は一対
の電圧検出入力端子を有する。それらの電圧検出入力端
子の1つの620は典型的な装置Q1の出力端子へ接続
され、他方の電圧検出入力端子640は、電圧源650
により発生された希望電圧V へ接続される。差動増幅
器U1の出万端子は典型的な装置Q のゲート端子G1
へ接続される。差動増幅器U1はゲートバイアスレベル
V81を典型的な装置のゲート端子G1に生ずる。
典型的な装置Q と差動増幅器U1は、典型的な装置の
出力電圧■ を希望電圧V。、にほぼ等しくする電圧反
映帰還ループを形成する。典型的な装置Q の出力電流
11は基準電流■。にほぼ等しいことが知られ゛て□お
り、出力電圧V。は希望電圧VDにほぼ等しいことが知
られているから、電流I をほぼ同一の装@Q2におい
て複製するために要するゲートバイアスレベル■G2は
、典型的な装置Q のゲート端子G1において発生され
るバイアスレベル■B1にほぼ等しいということができ
る。「対となついてる」能動装置Q2の出力電圧■ が
希望電圧■Doに等しい時に、その同じパイアスレベル
■ がその能動装置Q2の第2のグー上端子において複
製されるものとすると、その装置Q2を流れる出力電流
I2は1□=(W2/L  )=(L  /W  >1
1であることがわかる。
いいかえると、出力電流■2は典型的な装置の出力電流
11の大きさを変えられた写しであり、その電流I の
精度は電流I2においてそのまま保ま たれる(電流I2の大きさが正確に決定できる比例係数
だけ大きくされたり、小さくされたとしても)。先に述
べたように、−動増幅器U1の適切な入力端子を対とな
っている@@Q2の出力端子660へ接続するだけで(
第6図に1点鎖線で示すように)、希望電圧■DOを装
置Q2の出力電圧■D2に等しくできる。しかし、図示
の第1のバイアス回路600の実施例においては、その
代りに入力端子640が、希望電圧■。、を発生する正
確な分圧器へ接続されることに注意されたい。ある回路
においては、対となっている&fiQ2の出力電圧■0
2が所定(希望)電圧■。0に等しいような特定の電圧
状態を除き、正確な動作電流出力■2を有することは不
要である。たとえば、第5図において、(クロック位相
とデータ位相のロックイン後に)VCO550の定常電
圧Vi0は、電源電圧■ の2分の1に等しくしばしば
セットされる。
Cに のことは、nチャンネルFET530とnチャンネルF
ET540の定常出力電圧も電源V。0の2分の1に等
しいことを意味する。したがって、第5図に示されてい
るFET530.540のためのゲートバイアス電圧■
G1と■G2の少くとも1つを発生するために第6図の
バイアス回路600が用いられるものとすると、差動増
幅器U1の入力端子640と、FET530.540の
それぞれのドレイン端子D  、D  を直接接続する
必要なしに、正確な分圧器650により希望電圧■。。
を電源電圧VCoの2分の1に等しく設定できる。
第6図に示されている対にされている動作装置Q の出
力端子660と差動増幅器U1の入力端子640を直接
接続することを止めることは別にして、その入力端子6
40に望ましくないノイズ□が結合する危険が最小限に
なるように、差動増幅器U1の入力端子640に接続さ
れている入力線の長さを、分圧器650を差動増幅器U
1に非常に近く配置することにより、非常に短くできる
という利点も得られる。
差動増幅器U と、典型的な装置Q1と、正確な電圧源
650とは、集積回路チップ上の半導体基板602の周
縁部近くに一緒に形成することが好ましい。電流基準素
子610は、基板の接続バッド615を介してバイアス
回路600へ接続される外部精密抵抗とすることが好ま
しい。その電流基準素子すなわち外部精密抵抗610の
他端子は、集積回路の電圧源(VCo)バンド605へ
接続できる。そうすると、電流基準素子610を流れる
基準電RI oは式IQ  (Vco−V、、)/R,
により計算できる。この式で、R8xは電流基準素子す
なわち外部精密抵抗610の抵抗値である。
第6図の技術的思想を理解したら、それを変更すること
は数多くできる。対にされている動作装置Q2が飽和モ
ードで動作しているものとすると(第2図)、それの出
力電流I2は動作装置Q2の出力電圧Vo2の小さい変
化は全体として感じない。典型的な装置Q1はそれの特
性カーブ(第2図)の対応する飽和点(同じ一定のバイ
アスレベルVGS””81)で動作する。典型的な装置
の出力Vo1と動作装置の出力電圧■o2の間の小さい
差のために、各装置を流れる出力電流の精度に小さい差
を生ずる。特定の回路においてそれらの小さい差を許容
できるものとすると、VolとV、2を正確に一致させ
る必要はない。典型的な装置の出力電流■2は、典型的
な装置を流れる出力電流11の大きさを変えられたもの
にほぼ等しい。
第7図は集積回路チップ700を示す。この集積回路チ
ップにおいては、典型的な装置nfヤンネルFETQ1
と、それと対にされているnチPンネルFETQ2がそ
れぞれの特性カーブの出力電圧に感じない飽和領域また
はそれの近くにおいて動作させられる。正確に知られた
既知抵抗値Rexを有する外部電流基11!素子610
が、第1の基板接触バッド615を介してチップ700
の内部部品へ接続される。典型的な装置Q1を流れる電
流は、キルヒホッフの法則により、電流基準素子610
を流れる電流にほぼ等しい。典型的な装置Q の出力電
圧VD1は、静電気入力保護バッド618を介して差動
増幅器U1の第1の入力端子620へ結合される。差動
増幅器U1は電圧■ を検出し、それを希望電圧V。、
(この場合には1.7Vに等しく設定される)と比較し
、バイアスレベルV を典型的な装置Q1ゲート端子G
 へ出力して、装置fQ1の出力電圧■、1を希望電圧
V。0へ向けて駆動する。望ましくない発振を禁止する
ために、典型的な装置Q のゲートG1へ集積回路コン
デンサC1が接続される。バイアスレベルV は動作装
置Q2の第2のゲートG2へも与えられる。対にされて
いる装flQ2は典型的な装置Q と同じバイアスカー
ブVGS= VB2に沿って動作する。一般的にいえば
、飽和または飽和の近くにおいては、能動装置の出力電
流I。
(第2図)は出力電流VDに対して非常にわずか変化す
るから、装置Q2を流れる出力電流I2は定できる許容
誤差内で、典型的な装置Q1を流れる出力電流11の大
きさを変えられた複製にほぼ等しく、または等しく決定
できる。典型的な装置Q1は、図示のIC700におい
ては幅/長さ寸法104/3を有する。対にされている
装置Q2の幅/長さ寸法は16/3である。したがって
、装置Q2を流れる電流はほぼ12 = 11/6.5
である。
第7図のnチャネル装置Q2にpfやネルFETQ3が
直列接続される。FETQ3は装置Q とQ2己類似し
ていないが、FETQ3の出力電流I3は、キルヒホッ
フ′の法則により、装置Q2の出力電流I2にほぼ等し
くされる。装置Q3のゲートV。3は、それのゲート端
子G3をドレイン端子D3へ接続することにより、それ
の出力電流I3に合致するように自己調整される。その
同じゲート電圧■63は半分の寸法のpfヤネル装置の
Q4のゲートへ与えられる。装置Q4を流れる電流1 
 =I2/2は差動増幅器U7o1を介して出力nfヤ
ネルFETQ5に反映させられる。
差動増幅器U701が平衡していると、すなわち、それ
の入力端子の1つ702に入力パッド720と静電気保
護パッド718を介して結合されている入力電圧Vio
が、内部に設けられている基準電圧VREF=2.5V
に等しいと、pチャネル装置Q4により供給される電流
I4は、差動増幅器U7゜1の鏡像対称半分により対称
的に分割される。
電流I4の半分は差動増幅器U701の右側のnチャネ
ル8置707を流れ、他の半分は差動増幅器U7o1の
左側の第2のnチャネル装置707のゲートがそれ自身
のドレインへ結合されて、そのゲートにおける電圧■6
5′を自己調節するようになっている。自己調節された
ゲート電圧VG5′は左側のnチャネル装@705のゲ
ートへ与えられる。
nチャネル出力FETQ5のゲートは左側のnチャネル
8@705のドレインへ交差結合されて、装置Q を流
れる出力電流I  を装置の寸法5         
 ADJ (幅/長さ寸法)を基にして決定できるように、鏡像ゲ
ート電圧■。5を形成する。装置Q5のドレインへ電流
調節パッド725が接続される。そのパッド725はた
とえば電流/電圧帰M装置730へ接続できる。その帰
還装置730は出力電流1  の大きさに従って入力電
圧■ioを変化DJ する。(V・はI  の関数である。すなわち、In 
   ADJ V、 =f (1)。)そのような電流/電圧帰+n 
       ADJ 運装置730の一例が、第4図と第5図を参照して説明
した電荷積分コンデンサCIである。パッド720にお
ける入力電圧■inがV、、、=2.5V以上に高くな
ると、より小さい電流が差動増幅器U7o1の右側(F
ET707)を流れ、より大きい電流が差動増幅器U7
01の左側のFET705に反射される。右側のFET
707のドレイン電圧■G5′はその結果として低くな
る。したがって左側FET705の鏡像電圧■65は高
くなり、装ftQ  を流れる電流I  を増加させる
5        ADJ それとは逆に出力電圧Vioが2.5V以下に低下する
と、装置Q5を流れる電流I  は逆に手動DJ 順序で減少する。V、、=2.5Vにおいては、装置Q
5を流れる出力電流ハIA、、 = (40/10 )
・(3/16)・■4/2である。その理由は、■65
′であり、右側のFET707を流れる電流が出力FE
TQ5に写されるからである。第4図および第5図のコ
ンデンサC1のような電荷蓄積コンデンサの電圧を精密
に制御するためにその電流を使用できる。
2つの分岐を持つ実施例800が第8図に示されている
。典型的な装置Q1の対にされている装置Q2に非類似
の能動装置Q3が直列接続される。
その能動装置Q3が他の2つ能動装置Q1.Q2と対を
成さないことを示すために、その能動装置Q3のゲート
G3に白丸が示されている。装置Q3は装置Q2に直列
接続されているから、それの出力電流■3は第2図の装
置Q2の出力電流I2にほぼ等しい。装置Q2の出力電
圧VD2を希望電圧V。、まで駆動するために、非類似
Q3のゲートに差動増幅器U3が接続される。装置Q2
の出力電圧V。2は典型的な装置Q1の出力電圧VD1
に等しいことが知られているから、装置Q2の出力電流
I2は装置2Q1と02が飽和しているか、出力電圧の
変動に敏感である飽和していないレベルで動作している
かとは無関係に、装置Q1の出力電流11の大きさが変
えられた写しである(12=W2/L2・W1/L−1
1>。電圧VccとVO2が既知であるから、非類似装
WIQ3の出力電Jfv、3もわかる。非類似装置Q3
のゲートG3に発生されたバイアス電圧vB3は、Q3
の対にされている装置のそれぞれの出力電圧がVO2に
等しい時に、装!fQ3の対を駆動して電流I3の大き
さが変えられた複写を発生させるために必要な電圧に正
確に等しい。■D2−Vo3となるように、希望電圧V
DOはVCCの正確に2分の1にすることが好ましい。
ここで第5図と第8図を参照して、装ff1Q3がpチ
ャネルFET530の対にされた装置であり、装置Q2
がnチャネルFET540の対にされた装置である場合
には、装置Q3とQ2のゲートに発生されたそれぞれの
ゲート電圧V83.V81を用   ゛いて、相補FE
T530.540 (第4図)のゲートをバイアスでき
る(VG1=■B1にセットして)。その場合には、フ
ェーズロック装置500において相補FET530.5
40により与えられる吸収電流とソース電流は、Vin
”” DDの時に、同一である。ソース電流は吸収電流
にほぼ等しいから、クロック信号がデータ信号と同相に
ロックされると、電荷積分コンデンサCIの出力はこの
電圧Vin”■DDに留まる。
第8図のみを参照して、2分岐実施例800の右側分岐
L は左側L1を単に逆にしたものであす、対にされて
いる能動装置Q2は現在の電流基準素子610の代りと
なる。集積回路チップ上で、装置Q と03に非類似で
ある負荷装置のためのバイアス電圧を発生するために、
上記の構造を繰返すことができることがわかるであろう
。先に少し説明したが、差動増幅器U 、U のそれぞ
れの分岐り、L2における直列電流関係11=1o、I
3=■2が差動増幅器U1とU3の入力インピーダンス
によりほとんど影響されないように、差動増幅器U1と
U3の内部インピーダンスは比較的高くされる。
第9図において、非類似装置Q3の出力電流13を増加
させるために、第2の対にされた装置Q4が利得スイッ
チにより装@Q2に並列に制■できるようにして接続さ
れる。利得スイッチが閉じられると、差動増幅器U の
出力VB3が変化しで、増加した装置電流I3を受は容
れる。その電流増加は第9図に示されている回路中に反
映される。第3の差動増幅!lU と能動装置Q6とで
構成された帰還ループにより新しいバイアス@号■86
が発生される。バイアス信号V86とV83は、対にさ
れている装ff1Q(nチャネル)とQ7(pチャンネ
ル)のゲートへ与えられて、一致させられた吸収電流■
6とソース電流I5を発生する。この装置の利得は低利
得モードから高利得モードへ、利1クスイッチを差動さ
せて装置Q7とU8の出力電流を増加させるだけで、切
替えることができる。
電流1 ′と■ ′はどのモードにおいても正しく一致
させられたままである。
第6図、第8図および第9図を参照して、差動増幅器U
 とU3の目的は、能動装置の出力電圧■ が希望電圧
■DOにほぼ等しいように、その出カミ圧V。を駆動す
ることである。第10図はこの目的のために構成した特
殊な増幅器U*を示すものである。この増幅器U1のこ
とをここでは自己反射増幅器と呼ぶことにする。この自
己反射増幅器U8は電流反射分岐’10を有する。この
電流基準分岐LIOを、前記精密バイアス回路の考えを
用いて第1の電流11゜が制御できるようにして通るよ
うにすることが好ましい。すなわち、基準分岐L10中
のnチャネル装@Q1oにバイアス電圧■ が与えられ
て、第1の電圧■1oの大きさを設定する。基準分岐し
、。内の2つのρチャネル装置Q とQ を流れる。装
置Q11のゲートへ希望光圧■ が結合される。装置Q
1゜のゲートは装置Q10のドレインへ接続されて、電
流’10を装置Q1゜を通じて流すようにするために必
要な自己調節ゲート電圧■BPを発生させる。自己調節
ゲート電圧■BPは装置Q12に電流■1oを流せるよ
うにするためである。特殊な差動増幅器U1の2つの対
称的な分岐L2oと’30に、より共用されている別の
pチャネル装置Q22へ与えられる。説明を簡単にする
ために、電流’22が、1番目上の022を流れる電流
’10の2倍に等しいように、装置Qは2倍の寸法にさ
れていると仮定とする。その電流I22は、それぞれh
oに等しい2つの電流’20とI30に分けられる。2
つの電流’20とI3oは増幅器U の対称的な分岐部
分’20と’30を流れる。このように対象形となる理
由は、左側分岐’20中のpチャンネルFETQ21が
右側の対にされた装置Q31と鏡像関係にあり、左下の
nチャネルFETQ が右下の装置Q3oのI像関係に
あるからである。各対象分岐L とL (装置Q2□は
両方の分岐により共用されている)は第1の分岐’10
の鏡像である。すなわち、装置Q22は装置Q12と対
をなし、装置Q は、装@Q21と031と対を成し、
装 冒Q は装置。。およびQ3oと対を成す。装置U
21とU31のゲート電圧が不釣合であると、電流’2
0と’30が釣合いを求めて調節される。装置Q のゲ
ートと装置Q2oのドレインへ電流制御能動装置Q が
交差結合される。装置Q4oは装置Qlo、Q2o、Q
10と対を成すことに注意されたい。
装@Q のドレインは、装置Q31のゲートに電圧V、
=f(14o)を発生する帰還装置内730をn 介して装@Q へ結合でき、または装置Q31のゲ一ト
ヘ直結できる(破線)。この場合には、装置Q31のゲ
ートにおける電圧Vioは電流制御ll装置Q の出力
電圧VD4oに等しい。装置fQ31のグート電圧■、
が装置Q のゲート電圧■00より低い(n     
  21 方へ動くと、右側の装置Q31により多くの電流が流れ
る。それに対応して、左側の対称的な相補分岐L を流
れる電流1□0が減少する。増加した右側電流■ のた
めに装置Q3のドレイン電圧が高くなる。それに対応し
て、装ff1Q2oのドレイン電圧V  が低くなる。
この電圧低下は装置ffQ4oのゲートへ伝えられるた
めに、装置Q40を流れる電流は減少する。電圧V が
高くなって(この場合n にはV、<V)電圧VDoにに一致するようにし+n 
   DO て、装置Q のドレインが装置Q3のゲートへ結合され
る。装置Q のドレインが装置Q31のグートヘ直結さ
れる場合には、電流制御装置Q40の出力電圧V。4o
は装置Q21のゲート電圧V。0に等しくされる。装置
Q のゲート電圧VG40は、差動増幅器U4が平衡状
態にある時は、装置Q3oのゲート電圧V63oにほぼ
等しい。この状態(VO2゜がVB2にほぼ同一である
)においては、右側対称分岐し3゜は基準分岐’10の
ほぼ鏡像であるから、装置Q30を流れる電流■30は
、基準分岐し1oの非常に似た複製である。、電流M像
の原理により電流I3゜は装@Q4゜に反映させられる
から、電流’40も電流’10の非常に似た複製ある。
第7図を参照して、チップ700の増幅器U7o1にお
いて類似の原理等が用いられていることがわかる。増幅
器U6は、増幅器U7o1が装置Q1の端子間に生じさ
せられた1、7Vの基準電圧で動作している間に、希望
電圧■DDが基準分岐し において複製される点が増幅
器U  とは異10               7
0する。
増幅器U”  (第10図)の利点は、各鏡像対称分岐
L  、L  が電圧V1oに平衡させるばかりでなく
、分岐り、。@流れる正確な電流’10が、装置Q が
装置Q1o、Q2o、Q3oとtlH11対称であり、
装置Q が装@Q12と鏡像対称であり、更に装置Q2
1. Q  が装置Q11と鏡像対称であるために、装
置Q40においてより高い精度で複製されることである
。そのために、電流’10は右側の分岐’30へもつと
高い精度で写されることになる。すなわち、第10図に
示す回路は、電流の精度を高くするためには、「飽和」
状態にある装置Q22に頼る必要はなく、装@Q22が
装置Q1□に対して鏡像対称である(装置Q の出力電
圧が装置Q2□の端子間に反映される)という事実に異
存できるから、電圧■BPは電流I2゜を電流’10の
大きさが異る複製にする。電圧V  が電圧■DDと平
衡されると、Q を流れる負荷電流1  −1  は基
準電流40          LOAD   40’
10の大きさが変えられた複製である。自己反映増幅器
U4は増幅器U とU6 (第9図)の代りつに用いる
ことができる。自己反映増幅器U1の最初の分岐し に
おける電流’10を制御する電圧■ を発生するために
増幅器U1としては従来の差動増幅器を用いることが好
ましい。
【図面の簡単な説明】
第1図は上部の層を分解して示す集積回路の一部を示す
斜視図、第2図は能動装置の出力電流と加えられたバイ
アスとその能動装置の出力電圧との関係を示すグラフ、
第3図は種々の能動装置を表す記号を示す図、第4図は
典型的なタイミング回路を示す回路図、第5図は本発明
を応用できるフェーズロック装置を示す回路図、第6図
は本発明の第1のバイアス回路を示す回路図、第7図は
本発明の第2の実施例が組込まれている集積回路を示す
厩念図、第8図は第3の実施例を示す回路図、第9図は
第4の実施例を示す回路図、第10図は自己反射増幅器
を示す回路図である。 510.520・・・フリップフロップ、550・・・
VCO1602・・・IC基板、600・・・第1のバ
イアス回路、610・・・電流基準素子、650・・・
電圧源、Q ・・・典型的な装置、Q2・・・動作a置
、Q3・・・非類似装置、U・・・差動増幅橢、L・・
・分岐。 ’I’ic、 i? ろ ム、5

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)集積回路において動作する能動装置の第1ゲート
    へ与えられることができて、その動作装置の第1の出力
    端子と第2の出力端子を通る電流の大きさを制御する基
    準バイアスレベルを発生するバイアス回路において、 動作装置とほぼ同一にするようにして、動作装置と一緒
    に集積回路中に一体に形成され、第2のゲート端子と第
    3の出力端子および第4の出力端子を含む典型的な能動
    装置と、 この典型的な装置の第3の出力端子と第4の出力端子へ
    直列に接続され、典型的な装置の第3の出力端子と第4
    の出力端子の間に出力電圧を生ずる第1の大きさの基準
    電流を典型的な装置を通じて流す電流基準手段と、 希望の電圧を発生する電圧源手段と、 第3の出力端子と第4の出力端子の間に発生された出力
    電圧を検出し、検出した電圧を希望の電圧と比較し、バ
    イアスレベルを典型的な装置の第2のゲート端子へ与え
    て、典型的な装置の出力電圧を希望の電圧へ向って駆動
    する制御手段と、第2のゲート端子におけるバイアスレ
    ベルとそっくりのバイアスレベルを動作装置の第1のゲ
    ートへ供給することにより、第3のゲートおよび第4の
    ゲートを流れる動作電流の大きさが、典型的な装置の出
    力電圧にほぼ類似する動作電圧が動作装置の第1の出力
    端子と第2の出力端子の間に生じた時に、基準電流のほ
    ぼ大きさを変えられた写しであるような条件を構成する
    結合手段と、を備えることを特徴とする集積回路におけ
    る基準バイアスレベルを発生するバイアス回路。
  2. (2)各典型的な動作装置は電界効果トランジスタを含
    むことを特徴とする特許請求の範囲第(1)項記載の集
    積回路における基準バイアスを発生するバイアス回路。
  3. (3)電流基準手段は予め選択された許容範囲内の抵抗
    値を有する抵抗を備えることを特徴とする特許請求の範
    囲第(1)項記載の集積回路における基準バイアスレベ
    ルを発生するバイアス回路。
  4. (4)電流基準手段は接続パッドを備え、この接続パッ
    ドは集積回路中に一体に形成されて、集積回路の外部に
    設けられている電流基準素子へ接続されるようになつて
    いることを特徴とする特許請求の範囲第(1)項記載の
    集積回路における基準バイアスレベルを発生するバイア
    ス回路。
  5. (5)電圧源手段は、集積回路中に一体に形成された分
    圧源を備えることを特徴とする特許請求の範囲第(1)
    項記載の集積回路における基準バイアスレベルを発生す
    るバイアス回路。
  6. (6)制御手段は差動増幅器を含み、この差動増幅器は
    、典型的な装置の出力電圧と希望の電圧の差を検出する
    ために第1の入力端子と第2の入力端子を有し、その入
    力端子は典型的な装置の第3の出力端子へ接続され、第
    2の入力端子へは希望の電圧が供給され、差動増幅器は
    バイアス出力端子を更に有し、そのバイアス出力端子は
    、バイアスレベルを典型的な装置へ与えるために、典型
    的な装置の第2のゲートへ接続されることを特徴とする
    特許請求の範囲第(1)項記載の集積回路における基準
    バイアスレベルを発生するバイアス回路。
  7. (7)結合手段はそっくりのバイアスレベルを第1の接
    続時間の間動作装置へ供給するためのスイッチング手段
    を含むことを特徴とする特許請求の範囲第(1)項記載
    の集積回路における基準バイアスレベルを発生するバイ
    アス回路。
  8. (8)典型的な装置および動作装置にはほとんど類似で
    はない非類似の能動装置を更に備え、動作装置を通る動
    作電流の大きさを変えられた部分が非類似の装置を流れ
    るように、動作装置は非類似の装置に直列接続されるこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第(1)項記載の集積回
    路における基準バイアスレベルを発生するバイアス回路
  9. (9)動作装置に結合され、動作装置の電圧を典型的な
    装置にほぼ等しくさせる動作電圧制御手段を更に備える
    ことを特徴とする特許請求の範囲第(1)項記載の集積
    回路における基準バイアスレベルを発生するバイアス回
    路。
  10. (10)動作電圧制御手段は、典型的な装置および動作
    装置にほとんど類似ではなく、第3ゲート端子と、第5
    の出力端子および第6の出力端子を有する非類似の能動
    装置と、 第3ゲートへ結合され、動作装置の第1の出力端子と第
    2の出力端子の間に典型的な装置の出力電圧にほぼ等し
    い動作電圧を発生させるための非類似の装置を駆動する
    駆動バイアスを第3のゲートに発生するゲートバイアス
    手段と、 を含み、動作電流の大きさを変えられた部分が非類似の
    能動装置を流れるように、非類似の動作電流の第5の出
    力端子と第6の出力端子は動作装置の出力端子に直列接
    続されることを特徴とする特許請求の範囲第(9)項記
    載の集積回路における基準バイアスレベルを発生するバ
    イアス回路。
  11. (11)非類似の装置にほぼ等しいように集積回路中に
    一体に設けられ、第4のゲートを有する非類似の動作装
    置と、 第4のゲートへ結合され、第3のゲートへ与えられる駆
    動バイアスを非類似の動作装置の第4のゲートにおいて
    複製するゲートバイアス複製手段と、 を備えることを特徴とする特許請求の範囲第(10)項
    記載の集積回路における基準バイアスレベルを発生する
    バイアス回路。
  12. (12)制御手段は自己反射増幅器を含み、この自己反
    射増幅器は、 所定の電流を通すようにされ、直列に配置された第1の
    複数の能動装置を含む電流基準分岐と、全体としてこの
    電流基準分岐の鏡像であり、直列に配置された第2の複
    数の能動装置を含む第1の対称的な分岐と、 この第1の対称的な分岐に全体として、直列に配置され
    た第3の複数の能動装置を含む第2の対称的な分岐と、 第1の対称的な分岐と第2の対称的な分岐に結合され、
    自己反射増幅器の第1の入力端子と鏡像である第1の入
    力端子に与えられた希望の電圧に典型的な装置の出力電
    圧がほぼ等しい時に、それぞれ基準分岐と、第1の対称
    的分岐および第2の対称的な分岐における第2の能動装
    置の同環境がほぼ類似するように、第1の対称的な分岐
    にほぼ同一の電流の流れを発生する電流平衡手段と、で
    構成され、第1の複数の能動装置中の1つの能動装置の
    第1の入力端子へ希望の電圧が与えられ、第1の複数の
    能動装置の第2の能動装置に所定の電流が流れることを
    許すために自身で調節する自己調節バイアスレベルを第
    1の複数の能動装置の第2の能動装置の第2の入力端子
    に発生するように、第1の複数の能動装置の第2の能動
    装置の第2の入力端子が第1の複数の能動装置の別の能
    動装置へ再生的に結合され、 第1の複数の能動装置なかの1つの能動装置の鏡像であ
    る第2の複数の能動装置中の1つの能動装置の鏡像第1
    の入力端子へ希望の電圧が与えられ、第1の複数の能動
    装置中の第2の能動装置の鏡像である第2の複数の能動
    装置中の第2の複数の能動装置中の第2の能動装置の鏡
    像第2の入力端子の基準分岐の第2の入力端子へ結合さ
    れて、第2の入力端子に発生された自己調節バイアスレ
    ベルを複製し、 第2の複数の能動装置中の1つの能動装置の鏡像である
    第3の複数の能動装置中の1つの能動装置電圧検出入力
    端子が典型的な装置の第3の出力端子と第4の出力端子
    の1つに接続されて典型的な装置の出力電圧を検出する
    ことを特徴とする特許請求の範囲第(1)項記載の集積
    回路における基準バイアスレベルを発生するバイアス回
    路。
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