JPS63146988A - 塩素過剰錯体混合物である汚れ防止組成物およびその使用 - Google Patents

塩素過剰錯体混合物である汚れ防止組成物およびその使用

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JPS63146988A
JPS63146988A JP62239122A JP23912287A JPS63146988A JP S63146988 A JPS63146988 A JP S63146988A JP 62239122 A JP62239122 A JP 62239122A JP 23912287 A JP23912287 A JP 23912287A JP S63146988 A JPS63146988 A JP S63146988A
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 発明の背景 石油、ガスおよび石油化学物質の精製に含まれる過程、
たとえば改質、ハイドロフォーミング、吸着、水素化分
解、異性化、抽出、分解、分別、水素精製、脱塩などで
は、炭化水素の流れは比較的高温にさらされる。これら
の温度は最も一般的にはヒーターおよび熱交換器の使用
によって達成され、これらの中では炭化水素供給4A料
、生成物および中間生成物が加熱された表面に緊密に接
触する。これらの条件は、精製能力および流量を激的に
制限しかねない汚れ付着物の形成を促進することが知ら
れている。
精製作業の多くの領域、たとえば原油ユニットの予熱交
換器、水素脱硫装置、流動接触分解ユニット、塔頂凝縮
器、改質リボイラー、コーキング炉、減圧塔、アルキル
化リボイラーのような領域で汚れが生じる。
汚れに伴う問題は石油精製産業で最も深刻であるが、こ
の問題はガスプラントの精製作業、およびたとえばエチ
レン、スチレン、ブタジェン、イソプレン、アクリロニ
トリル、および他の化学物質を含む石油化学的過程にお
いても根深い問題である。
炭化水素および誘導体の熱的に開始された物理的または
化学的変性に伴って起こる汚れ付着物の形成は、炭化水
素または誘導体の相が加工装置内で高温で保持表面、金
属またはそれ以外のものにさらされたときにいつでも観
察される。このような性質の付着物は、付着物が堆積し
た装置の熱伝導特性を実質的に低下させることが知られ
ており、その除去は一般に相当困難である。その結果こ
の種の付着物の形成および除去に伴って、運転および保
全費用かしばしば相当増大する。このため汚れの問題を
解決する試みに相当の努力が傾けられて来ており、その
結果、汚れの付着を防止したり汚れ付着物を除去したり
するための数多くの方法が提唱されてきた。これらの方
法は様々な程度の成功を収めてきたか、本質的な問題は
未解決である。
高温の作業温度で開始される、炭化水素供給飼料の物理
的および/または化学的変性の結果生じる汚れ付着物は
、粘着性でタール状の高分子材料または炭質材料からな
る。最も一般的な汚れ付着物は、通常、無機塩、腐食生
成物、金属−有機化−B  − 合物、有機重合体、およびコークスに分けられる。
無機塩、たとえば塩化ナトリウム、塩化カルシウムおよ
び塩化マグネシウムは、おそらく未加工の供給原料によ
って作業系にもちこまれたもので、ある。金属−有機化
合物は同じく供給原料中に存在することも、熱伝導表面
上で腐食生成物または系内に導入された他の金属と結合
することによって形成されることもある。有機重合体の
形成は不飽和炭化水素の反応によって生じることが最も
多い。
コークス付着物には、汚れ付着物の蓄積によって生じた
ホットスポットの形成が大抵伴う。結局、これらの過程
では汚れ付着物の金属および有機元素が互いに相互作用
すると表わすことができる。
加工装置中での汚れ物質の蓄積を低減させるためにいく
つかの方法か行われてきた。ある方法によっては、汚れ
物質に対する親和性を下げんがために、加工装置を磨い
たり被覆したりする。しかし、恒久的な保護塗膜で金属
表面を覆うことによって、塗膜自体に起因する熱伝導能
力損失による加工効率の損失なしに、汚れ付着物の形成
を防止するのは実際には不可能である。
加工装置を被覆する際の支出を必要とせず、熱伝導能力
の損失を伴うことのない別の方法では、炭化水素供給物
質に、汚れ物質の形成を防止するか汚れ物質の加工装置
への密着を防止する作用のある化学物質を加える。加工
装置での汚れ付着物の形成による影響を防止または軽減
する目的で、数多くの組成物が示唆されてきたが、その
どれも完全に成功したとは考えられていない。
発明の分野 本発明は、新規な汚れ防止組成物、および原油、ガスお
よび石油化学物質の精製、および他の有機物質の熱処理
に使用される装置の汚れを防止するだめの上記組成物の
使用に関する。本発明は、より詳細には石油精製所、ガ
スプラントおよび石油化学物質の精製所でのコロイド分
散した塩基過剰錯体汚れ防止剤の使用に関する。本発明
はさらに詳細には、酸化マグネシウムおよび炭酸マグネ
シウムと少なくとも 1種の錯生成剤との塩基過剰錯体
、およびその石油、石油化学物質およびガス精製作業で
の汚れ防止剤としての使用に関する。
従来技術 広範囲の種々の汚れ防止剤か、原油および精製油、ガス
、および石油化学物質の供給材料の流れの分解に伴う汚
れを防止するために使用されてきた。汚れ防止組成物お
よびその使用に関する特許の、一部ではあるが代表的な
リストを以下に説明する。
2.895.9+、3      4,410,418
3.384,130      4,425,2233
.492,219      4,431,5143.
546.097      4,440,6253.8
11ifli、65B       4,444,64
93.772,1,82      4,45G、52
B4.024,051      4,489,586
4.107,030      4,51.0.041
4.200,5111      4,511,457
4.319.0B3      4,529,5004
.397.737      4,552,6484.
404.087      4,558,47にれらの
特許は、油分散性のマグネシウム含有有機組成物の、次
のようなものへの使用を記載している。潤滑油(2,1
195,913) 、石油加工装置力・らのアミド縮合
生成物、高温石油張込原料に使用する金属脱活剤、メタ
クリレート重合体および窒素含有物質の混合物、油溶性
添加型共重合体、窒素含有メタクリレ−1・重合体、シ
・ソフ塩基とジアリールアミンの混合物、燐含有無機酸
および塩、スルファニル酸アミン塩、ポリアルキレンア
ミン、スルホン酸塩、アミンとフェニルヒドラジンの混
合物、ポリ(オキシアルキレン)カルノくメート、金属
、たとえば錫、アンチモンおよびゲルマニウム、ハロゲ
ン含有珪素化合物、亜燐酸エステルと炭化水素スルホン
酸の混合物、ポリアルキレンアミンとヒドロキシ脂肪酸
の反応生成物、ヒドロキシルアミンと有機界面活性剤の
混合物、燐酸塩、ヒドロキシルアミンおよびカテコール
の混合物、飽和スルホキシド、フェノチアジンとフェノ
ールの混合物、フェノチアジン、カテコールとヒドロキ
ノンの混合物、フェノチアジンニ量体、錫、銅およびア
ンチモンの組合せ、フェノチアジンとヒドロキシルアミ
ンの混合物。さらに、英国特許出願第2017747A
号には石油原油の汚れ防止剤としてのジー 2−エチル
へキシルスルホ琥珀酸ナトリウムか記載され、英国特許
第2021144B号には炭化水素供給流れ用精製装置
の汚れ(−1着物を防止し除去するだめのポリアルキレ
ンオキシスルホキシ塩が記載されている。
たとえばマグネシウムおよびカルシウムを含有する錯体
の、塩基過剰で油安定性の流体分散系、すなわち「溶液
」、およびその製造および使用は当業者に周知である。
[塩基過剰な(overbase) Jという用語は歴
史的には、金属塩基/酸反応生成物がこの種の塩基の中
性有機酸塩を形成するのに必要な量より、化学量論的に
過剰な量の金属を含有することを言う。頻繁に使用され
る類義語には「塩基性の」、「高度に塩基性の」および
「塩基超の(hyperbased)Jがある。
塩基過剰な金属含有分散系の製造には多くの方法が知ら
れている。塩基過剰な金属錯体の製造力法を開示する、
代表的な米国特許には以下のようなものがある。
米国特許第2,585,520号には、潤滑油の添加剤
として有用な、高度に塩基性の石油スルホン酸マグネシ
ウムおよび石油スルホン酸カルシウムの製造が開示され
ている。
米国特許第2 、895 、91.3号には、潤滑油の
添加剤として有用な、安定で油分散性で塩基過剰な有機
マグネシウム化合物の製造が開示されている。
米国特許第3,057,896号には、潤滑油の添加剤
として有用な、塩基過剰なスルホン酸カルシウムの製造
が開示されている。
米国特許第3,150,089号には、潤滑油の添加剤
として有用な、塩基過剰な有機マグネシウム化合物の安
定な分散系か開示されている。
米国特許第3,629.109号には、潤滑剤および燃
料の添加剤として有用な、塩基過剰な有機マグネシウム
錯体の製造か開示されている。
米国特許第3.784.53[i号には、潤滑油の分散
剤添加剤として有用な、アルケニルスクシンイミドの塩
基過剰なカルシウム塩の製造が開示されている。
さらに、米国特許第3,778.835号には、高温の
炭化水素の流れによって生じる汚れで汚れ防止剤として
使用される、洗浄剤−分散剤組成物が開示されている。
このような組成物には、スルホン酸塩、特にベンゼンス
ルホン酸の中性および塩基性の金属塩、ホスホン酸およ
びチオホスホン酸の中性および塩基性の塩、フエナート
およびカルボン酸塩およびカルボン酸塩−フェナート塩
の中性および塩基性の塩、アルケニルスクシンイミド、
ナフテン酸およびアミンおよびカルボン酸のアルカリ金
属塩がある。各種の商業的汚れ防止剤、たとえばエトキ
シル化カテコール、ポリヒドロキシルエトキシル化アミ
ン、金属脱活剤、フェノール性アミンおよびスクシンイ
ミドの組合せ、およびモルホリンおよびエトキシル化イ
ミダシリンの水溶性塩の組合せも言及されている。
米国特許第3.!5.737号には、潤滑性組成物の添
加剤として有用な、流体で塩基過剰の有機マグネシウム
錯体分散系が開示されている。
米国特許第4,129,589号には、潤滑剤添加剤と
して有用な、スルホン酸の塩基過剰なマグネシウム塩の
製造が開示されている。
米国特許第4,163,728号には、潤滑油の酸中和
添加剤として有用な、安定で流体の有機マグネシウム錯
体分散系の製造が開示されている。この開示された化合
物は塩基過剰である。
米国特許第4,293,429号には、サブミクロンサ
イズの大きさである酸化マグネシウムの流体分散系の形
態である、カルボン酸マグネシウムと酸化マグネシウム
の塩基過剰な混合物の製造が開示されている。この化合
物は潤滑剤の添加剤として有用である。
米国特許第4,295,981号には、潤滑油添加剤と
して有用な塩基過剰な石炭酸マグネシウムが開示されて
いる。
米国特許第4,298,482号には、極めて小さな粒
子の分散系の形態であるマグネシウム塩と水酸化マグネ
シウムの塩基過剰な混合物の製造が記載されている。こ
の塩基過剰の物質は、潤滑油および燃料の酸中和剤とし
て有用である。
米国特許第4,347,147号には、粒度が小さなス
、ルホン酸マグネシウムおよび酸化マグネシウムの製造
が開示されている。
米国特許第4,474,71.0号には、液体スルホン
酸マグネシウム分散剤への、水酸化マグネシウムまたは
炭酸マグネシウムの塩基過剰な混合物の分散液の製造が
開示されている。この物質は潤滑剤添加剤として有用で
ある。
上述の特許のどれにも、本発明に記載したような塩基過
剰な金属の錯体を、精製作業に伴う汚れの問題を軽減す
るために使用することは開示されていない。
上述の特許のうち、米国特許第3,865,737号、
第4,163,728号、第4,293,429号、お
よび第4,298.482号の開示内容は、技術の状況
、および分散系の形態での塩基過剰な金属錯体の製造の
説明に関して特に有用である。したがってこれらの特許
の開示内容を、塩基過剰な金属化合物の製造および組成
についての説明に関して、本発明に参考内容として組み
込む。特に米国特許第3,865,787号のカラム 
1〜9、そして米国特許第4,163,728号のカラ
ム1〜4、米国特許第4,293,429号のカラム 
1〜3、および米国特許第4,298,482号のカラ
ム 1〜4も同様に、本発明に参考内容として組込む。
発明の概要 本発明は、酸化マグネシウムおよび炭酸マグネシウムの
微粒子と錯生成剤の、油室定性でコロイド状の分散系か
らなる塩基過剰な錯体混合物である、新規な汚れ防止剤
組成物、および精製過程で汚れ、特に500〜1,20
0′Fというような高温での汚れを防止するにあたって
の汚れ防止剤組成物の使用に関する。
発明の詳細な説明 以上で説明したように、石油、ガスおよび石油化学物質
の精製における汚れの防止は特に面倒な問題であった。
この問題が複雑なのは、汚れ物質の性質のせいばかりで
なく、精製作業の種々の領域によって異なった環境、異
なった供給原料および異なった対象を示すからである。
精製所のある領域での汚れの問題は精製所の異なった領
域に対応した汚れ防止処理に対応するとは限らない。し
たがって、精製作業での処理はユニット毎に区切る必要
があり、各ユニットに特有の汚れの特性を明確にし適切
に処理する必要がある。
石油精製所での汚れ防止化学物質の使用は、以下の領域
で特に重要である。
■、脱塩作業の後であるが原油(crude)ユニット
に入る前の未加工原油の流れ、すなわち予熱系列に入り
つつある脱塩した加工流れへの汚れ防止剤の添加。
2、流出液交換器系列(常圧残油)、すなわち原油ユニ
ットの常圧原油カラムからの流出液への汚染防止剤の添
加。
3、水素精製(hydrotreating)ユニット
およびハイドロプロセシングユニットへの反応器の流入
および流出流れへの汚れ防止剤の添加。
4、ポンプ循環回路を含む常圧原油カラムからの流出液
(塔底油)と、ガスおよび石油の減圧炉およびカラムへ
の汚れ防止剤の添加。
5、コーキング炉(ディレードまたは流動式)への供給
材料およびコーキング炉そのもの、およびコーキング炉
に装着されたトランスファーラインおよびポンプ循環回
路への汚れ防止剤の添加。
6、リボイラーおよびリボイラーのポンプ循環回路に入
る前の、アルキル化ユニットの主精製塔からの流出液へ
の汚れ防止剤の添加。汚れ防止剤はりボイラーそのもの
にも添加する必要がある。
7、流動(フルード)接触分解ユニットの予熱器への供
給材料、および分解ユニットからスラリー交換装置への
、主精留塔およびポンプ循環回路および接触分解ユニッ
トのポンプ循環回路からの塔底油を含む流出液への汚れ
防止剤の添加。
精油所の上記各領域は、各領域に特殊な環境に応じてそ
れぞれに特徴的な方法で作動する。各領域の環境は精油
所の他の領域と必ずしも同じ性質を有するものではない
以下は、汚れ防止化学物質の添加を必要とする、−15
= 石油精油所の重要なユニットの例の概要を示す。
原油ユニット予熱交換器、 水素精製装置、原油ユニッ
ト減圧残油交換器、水素化分解装置、原油ユニット減圧
蒸留加熱器および残油、リボイラー、 流動接触分解予
熱、 水素脱硫装置、 熱交換器、 流動接触分解スラリーポンプ循環、 流動接触分解炉、 高温分離器、 ディレートコ−キング装置、 ポンプ循環回路、流動コ
ーキング装置、 加工流れ管、 本発明によれば、マグネシウムの酸化物および炭酸塩を
有機酸錯生成剤とともに製造すると、極めて微細な、好
ましくはサブミクロンの粒度である酸化マグネシウムお
よび炭酸マグネシウムと、錯生成剤のマグネシウム金属
塩との塩基過剰な錯体である生成物が得られることが見
出された。理論的には、金属の酸化物または炭酸塩の製
造中に錯生成剤か存在することにより、金属の酸化物ま
たは炭酸塩の微粒子が凝集するのが防止され、微粒子が
反応に使用した分散剤中、その後は炭化水素の流れの中
で安定に分散したままでいることが可能となる。
過剰塩基の正確な性質はわかっていない。−説にはこれ
らは、酸性物質を塩基として反応する金属化合物、たと
えば金属水酸化物と接触させることにより形成された塩
の分散系ではないかと示唆されている。また−説にはこ
れらは「塩型合体」からなると示唆されている。どちら
の説も間違ってはいないが、完全に正しくもないと考え
られる。
本発明によれば、「塩基過剰な」物質を製造した結果、
金属の酸化物または炭酸塩と有機酸分散剤または安定剤
(すなわち「錯生成剤」)の「塩基過剰な錯体」が生じ
るのだと考えられる。こうして形成された錯体の性質は
完全にはわかっていない。
したがって本明細書で使用する場合には、「塩基過剰な
錯体」とは、マグネシウムの酸化物または炭酸塩と、有
機酸「錯生成剤」の金属塩との錯体である。塩基過剰な
錯体は、特定の金属塩基と酸の通常の化学量論に基づい
て、塩基性金属化合物と反応して錯体を形成する酸鉛生
成剤の当量数に対して化学量論的に過剰な金属を含有す
る。たとえば酸の「中性」または「正」金属塩が金属対
酸の当量比が】: 1であることによって特徴づけられ
るのに対し、塩基過剰な塩はもっと高い比、たとえば1
.1:  ]、2;1.5・ 1.10:1.15:1
.20: ]、30:  1などで特徴づけられる。「
金属比」という用語は、 (a)塩基過剰な塩中の金属
対酸の当量、対(b)塩中に含まれる金属と塩中に存在
する酸の通常の化学量論に基づいて正塩中に存在するこ
とが予想される当量数の比を示すために使用される。し
たがって、 2当量の酸と20当量のマグネシウムを含
有する塩基過剰のマグネシウム塩の油分散系の金属比は
10(すなわち20÷(1+1))となる。
本明細書では、たとえばマグネシウムは1原子量当り 
2当量を有するとみなされ、酸化マグネシウム(MgO
)と水酸化マグネシウム(Mg (0H)2)は1モル
当り 2当量を有するとみなされる。有機酸は酸性水素
または酸根当り 1当量の酸を有するとみなされる。し
たがって、モノカルボン酸またはモノスルホン酸または
これらの同等の誘導体、たとえばエステルおよびアンモ
ニウム塩および金属塩は、1モルの酸、エステルまたは
塩当り 1当量を有し、ジスルホン酸またはジカルボン
酸または同等の誘導体は1モル当り 2当量を有する。
塩基として反応する金属化合物、たとえばマグネシウム
の酸化物または炭酸塩は1モル当り2当量(すなわち、
金属の原子量当り 2当量)を有する。
本発明の錯体汚れ防止剤は、酸化マグネシウムおよび炭
酸マグネシウム、および有機酸錯生成剤のマグネシウム
塩の塩基過剰な錯体である。
本発明で使用する塩基過剰錯体混合物は、得られた塩基
過剰な錯体が、石油中で安定な分散系を形成する、好ま
しくはサブミクロンである微細な粒子の形態である限り
、従来技術で塩基過剰な塩の製法として公知であった任
意の方法で製造する=  19 − ことができる。
本発明の酸化マグネシウム/錯生成剤の塩基過剰錯体の
好適な製造方法では、マグネシウム塩基、たとえばMg
 (OH)2 、錯生成剤、たとえばトール浦脂肪酸の
ような脂肪酸、および不揮発性希釈剤の混合物を形成す
る。この際錯生成剤は、化学量論的に水酸化物と反応す
るのに必要な量よりはるかに少ない量とする。混合物を
約250〜350℃の温度に加熱すると、錯生成剤のマ
グネシウム塩を伴った、酸化マグネシウムの塩基過剰な
錯体か得られる。炭酸マグネシウム/錯生成剤の塩基過
剰な錯体は、二酸化炭素を最初の反応混合物に通気する
以外は、以上に説明したのと同様にして製造される。
本発明の塩基過剰な錯体の上述の製造方法は米国特許第
4,163,728号に詳しく説明されており、この特
許は本発明に参考内容として組込んである。
この特許では、たとえばM g (OH) 2とカルボ
ン酸錯生成剤の混合物を、適当な不揮発性希釈剤中で約
280〜330°Cの温度に加熱している。
−20一 本発明で使用する錯生成剤は、脂肪酸、たとえばh−ル
油脂肪酸、およびスルホン酸である。本質的に油溶性の
スルホン酸が特に有用である。これらの酸の油溶性誘導
体、たとえばこれらの金属塩、アンモニウム塩、および
エステル(特に、炭素原子数6以下の低級脂肪族アルコ
ール、たとえば低級アルカノールとのエステル)を遊離
酸の代わり、または遊離酸と組合わせて使用することも
できる。酸について言及するときには、酸だけを意味す
ることがはっきりしていない限り、その酸に相当する誘
導体も暗黙のうちに包含する。
適当な油溶性スルホン酸は一般式; %式%) で表わされる。式■てはTは単核または多核型の環状核
、たとえばペンセノイド、脂環成核または複素環式核、
たとえばベンゼン、ナフタレン、アントラセン、]、 
、 2 、3 、4−テトラヒドロナフタレン、チアン
トレン、シクロペンテン、ピリジンまたはビフェニル核
なとである。しかし通常、Tは芳香族炭化水素核、特に
ベンゼンまたはナフタレン、核を表わす。Rx基中のR
基は、たとえば脂肪族基、たとえばアルキル、アルケニ
ル、アルコキシ、アルコキシアルキル、カルボアルコキ
シアルキル、アルアルキル基、または他の炭化水素また
は本質的に炭化水素である基とすることかでき、Xは1
以上で、ただしR8基で表わされる基は酸が油溶性とな
るようなものである。このことは、Roで表わされる基
か約8個以上の脂肪族の炭素原子を含有する必要かあり
、好ましくは約12個以」二の脂肪族の炭素原子を含む
ことを意味する。一般にXは1〜3の整数である。式■
および■の変数rおよびyは、 1分子当り 1〜約4
の平均値を有する。
式■中のR′基は脂肪族、脂肪族置換脂環式炭化水素ま
たは本質的に炭化水素である基である。
R′が脂肪族基である場合は、R′は8以上〜約20個
の炭素原子を含有する必要があり、そしてR′が脂肪族
置換脂環式基である場合には脂肪族置換基は約4〜16
個の炭素原子を含む必要がある。
R′の例には、アルキル、アルケニルおよびアリオキシ
アルキル基、および脂肪族置換基がアルコキシ、アルコ
キシアルキル、カルボアルコキシアルキルなどである脂
肪族置換脂環式基がある。一般に脂環式基は、シクロア
ルカン核またはンクロアルケン核、たとえばシクロペン
タン、シクロヘキサン、シクロヘキセン、シクロペンテ
ンなどである。R′の具体例には、セチル−シクロヘキ
シル、ラウリルシクロヘキシル、セチル−オキシエチル
、およびオクタデセニル基、および石油、飽和および不
飽和パラフィンワックスから誘導した基、およびポリオ
レフィン、たとえばオレフィン単量体単位当り約1〜8
個の炭素原子を含むモノオレフィンおよびジオレフィン
を重合したものがある。式■および■のT、RおよびR
′基は、基の本質的に炭化水素である特性が損われない
限り、他の置換基、たとえばヒドロキシ、メルカプト、
ハロゲン、ニトロ、アミノ、ニトロソ、カルボキシ、低
級カルボアルコキンなどを含むこともできる。
本発明で使用するのか好ましいスルホン酸には、アルキ
ルスルホン酸、アルカリールスルホン酸、ジアルキルス
ルホン酸、ジアルキルアリールスルホン酸、アリールス
ルホン酸、たとえばエチルスルホン酸、ベンゼンスルホ
ン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、およびもつと複雑
なスルホン酸混合物、たとえばマホガニースルホン酸お
よび石油スルホン酸がある。
さらに、スルホン酸の具体例には、マホガニースルホン
酸、ペトロラタムスルホン酸、モノおよびポリ−ワック
ス置換ナフタレンスルホン酸、セチルクロロベンゼンス
ルホン酸、セチルフェノールスルホン酸、セチルフェノ
ールジスルフィドスルホン酸、セトキシ力プリルヘンゼ
ンスルホン酸、ジセチルチアントレンスルホン酸、ジラ
ウリル−β−ナフトールスルホン酸、シカプリルニトロ
ナフチレンスルホン酸、パラフィンワックススルホン酸
、不飽和パラフィンワックススルホン酸、ヒドロキシ置
換パラフィンワックススルホン酸、テトライソブチレン
スルホン酸、テトラアミレンスルホン酸、り四日置換パ
ラフィンワックススルホン酸、ニトロシル置換パラフィ
ンワックススルホン酸、石油ナフテンスルホン酸、セチ
ルシクロペンチルスルホン酸、ラウリルンクロへキシル
スルホン酸、モノおよびポリ−ワックス置換シクロへキ
シルスルホン酸などがある。
「石油スルホン酸(petroleum 5ulfon
ic acjdまたはpetrosulfonjc a
cid) Jという用語を本発明で用いた場合には、石
油生成物から従来法によって誘導した周知の一群のスル
ホン酸を包含するものである。この種の従来法は、米国
特許第2,480.838号、第 2,483,800
号、第 2.71.7.265号、第2.726,2[
i1号、第 2,794,829号、第 2,832,
801号、第 3,225,086号、第 3.337
.613号、第 3,351.655号なとに開示され
ている。式■および■の範囲に含まれるスルホン酸は、
従来の米国特許第2 、 [i ]、 6 。
904号、第2.81B、905号、第2,723,2
34号、第2.。
723.235号、第 2.723.23B号、第 2
,777.874号、およびこれらの各特許に引用され
た他の米国特許に説明されている。したかって、これら
の油溶性スルホン酸は当業界に十分公知であり、本明細
書でこれ以上説明する必要はないだろう。
もちろん、本発明の汚れ防止剤の製造にあたっては、上
述の有機酸およびその誘導体の混合物を用いることがで
きる。
本発明の汚れ防止剤は、(A)粒度の細かい酸化マグネ
シウムと脂肪酸のマグネシウム塩の塩基過剰な錯体、お
よび(B)粒度の細かい炭酸マグネシウムとスルホン酸
またはスルホン酸の混合物のマグネシウム塩の塩基過剰
な錯体の混合物である。
酸化マグネシウムとトール油脂肪酸のマグネシウム塩の
塩基過剰な錯塩は、米国特許第4 、1.63 、72
8号に記載された方法にしたがって製造することができ
る。
炭酸マグネシウムとスルホン酸のマグネシウム塩の塩基
過剰な錯体は、Mg(OH)2のスルホン酸との反応の
間にCO2を導入することにより同様にして製造するこ
とができる。また、炭酸マグネシウムとスルホン酸のマ
グネシウム塩の塩基過剰な錯体はライトコ(W 1tc
o) M 400として市販されている。
片方の塩基過剰な錯体のもう一方に対する重量比は約0
.25/ 10から約10/ 0.25である。
以下の実施例は、塩基過剰錯体の混合物の汚れ防止剤と
しての使用を例示する。
実  施  例 原油とLPGのブレンドを加工するオーストラリアの新
しい精留プラントがひどい汚れて難渋し、2ケ月操業し
た後故障した。脱エタン塔のりボイラーを清浄したが汚
れはどんどん進行した。6ケ月後生産は停止した。プラ
ントを清浄してリボイラーおよび脱エタン塔のlGれの
堆積物を除去した。
脱エタン塔を閉塞していた汚れは厚さが4フイ一ト以上
であった。直径16インチの配管が、流れ面積が直径2
インチとなるまで縮小していた。リボイラーから除去し
た汚れのテキスチャーは、軟らかなパラ状から結晶状の
無煙炭まで各種あった。
洗浄後、本発明の汚れ防止剤を脱エタン塔への供給材料
中に、炭化水素の流れの重量に基づいて100 ppm
の比率で注入した。汚れ防止剤は(A)酸化マグネシウ
ムとトール油脂肪酸のマグネシウム塩との塩基過剰錯体
、および(B)炭酸マグネシウムとスルホン酸のマグネ
シウム塩との塩基過剰な錯体(ライトコM 400)の
重量比的1/1の混合物とした。
汚れの監視は、リボイラーの全熱伝導を測定することに
よって行った。プラントは現在、汚れの問題を生じるこ
となく15ケ月間運転されている。
さきに言及した米国特許第4,163,728号に記載
されているように、金属塩基と酸の反応の結果生じた生
成物は、さらに分解して金属の酸化物または炭酸塩の微
粒子と、それに伴う酸の金属塩を生じる。微粒子は直ち
に、酸の金属塩によって懸濁し、安定化する。金属酸化
物または金属の炭酸塩の粒子の大きさは、直径約2μ未
満、たとえば約1μ未満、好ましくは約0,1μ未満で
あり、特に直径0.1μ未満とすべきである。
汚れの領域で汚れを防止するのに使用する汚れ防止剤の
量は、その領域の環境、汚れの程度および使用する特定
の汚れ防止剤に応じて変化する。
一般に、使用する汚れ防止剤の量は、ある領域の汚れを
防止するのに十分な量である。したがって、特定の状況
に応じて、炭化水素の流れの重量に基づいて、約5 p
pm〜約1,000 ppm以上の量を使用することが
できる。約25 ppm〜約500 ppmが通常有効
で、約50 [1m〜約300 ppmが特に有効であ
る。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、石油精製過程で汚れを防止するにあたり、上記過程
    のビスブレーキング装置以外の汚れ領域に、(A)酸化
    マグネシウムと脂肪酸のマグネシウム塩との塩基過剰な
    錯体と(B)炭酸マグネシウムとスルホン酸のマグネシ
    ウム塩との塩基過剰な錯体とからなる汚れ防止剤を、汚
    れ防止に有効な量加える工程からなる方法。 2、前記脂肪酸がトール油脂肪酸である特許請求の範囲
    第1項記載の方法。 3、ガス精製過程で汚れを防止するにあたり、上記過程
    の汚れ領域に、(A)酸化マグネシウムと脂肪酸のマグ
    ネシウム塩との塩基過剰な錯体と(B)炭酸マグネシウ
    ムとスルホン酸のマグネシウム塩との塩基過剰な錯体と
    からなる汚れ防止剤を、汚れ防止に有効な量加える工程
    からなる方法。 4、前記脂肪酸がトール油脂肪酸である特許請求の範囲
    第3項に記載の方法。 5、石油化学物質の精製過程で汚れを防止するにあたり
    、上記過程の汚れ領域に、(A)酸化マグネシウム塩と
    脂肪酸のマグネシウム塩との塩基過剰な錯体と(B)炭
    酸マグネシウムとスルホン酸のマグネシウム塩との塩基
    過剰な錯体とからなる汚れ防止剤を、汚れ防止に有効な
    量加える工程からなる方法。 6、前記脂肪酸がトール油脂肪酸である特許請求の範囲
    第5項記載の方法。 7、(A)酸化マグネシウムと脂肪酸のマグネシウム塩
    との塩基過剰な錯体と(B)炭酸マグネシウムとスルホ
    ン酸のマグネシウムとの塩基過剰な錯体とからなる汚れ
    防止組成物。
JP62239122A 1986-09-30 1987-09-25 塩素過剰錯体混合物である汚れ防止組成物およびその使用 Pending JPS63146988A (ja)

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