JPS63146884A - ピリドピリミジン誘導体 - Google Patents

ピリドピリミジン誘導体

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JPS63146884A
JPS63146884A JP61227316A JP22731686A JPS63146884A JP S63146884 A JPS63146884 A JP S63146884A JP 61227316 A JP61227316 A JP 61227316A JP 22731686 A JP22731686 A JP 22731686A JP S63146884 A JPS63146884 A JP S63146884A
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acid
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Shigeru Matsutani
茂 松谷
Takao Mizushima
水島 敬夫
Masami Tsutsumiuchi
堤内 正美
Yasunobu Ishihara
安信 石原
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Shionogi and Co Ltd
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Shionogi and Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 イ00発明目的 魔1」Jソm! 本発明はすぐれた抗潰瘍作用を示す新規なピリドピリミ
ジン誘導体に関する。
え米五弦オ 従来より、酸分泌抑制作用および粘膜保護作用などを考
慮して抗潰瘍剤の開発が盛んに行われてきた。中でも、
粘膜保護作用により抗潰瘍を示す化合物としてはソファ
ルフン(sofalcon)、カルベノキソロン(ca
rbenoxolone) : (米国特許第3.07
0.623号明細書)の他、特開昭52−83756号
明細書に記載のFPL−52694などが挙げられる。
またピリドピリミジン骨格を有する化合物が米国特許第
4.022.897号明細書に開示されているが、本発
明化合物とは構造が異なるだけでなく、中枢神経系に対
する作用を目標としているため、抗潰瘍作用を対象とす
る本発明化合物とは、その用途も異なる。
明が 決しようとする− 1、 抗潰瘍作用を増大させ、好ましからぬ副作用を軽減許せ
た化合物の開発が望まれている。
口0発明の構成 間 点を 決するための 段 本発明者らは、下記一般式(I)で示きれる化合物また
はその塩がすぐれた抗潰瘍作用を示すことを見出して、
本発明を完成した。
(以下余白) 一般式: [式中、 nは0または1、 Rit式ニーCOR’、−CONR’R’tたtt−C
HAR’を表わし、 R1はCt−Csアルキル、cs−ctシクロアルキル
、アリルチオ、スチリル、フェノキシメチル、チェニル
メチル、置換もしくは非置換のC6−〇 +sアリル、
置換もしくは非置換のベンジルまたは置換もしくは非置
換のへテロ環残基、R2とR3はそれぞれ水素、CI−
Csアルキル、カルボキシ、C,−C,アルフキジカル
ボニル置換もしくは非置換のベンジルオキシカルボニル
を表わし、 R4とR5はそれぞれ水素、c、−Cmアルキル、C,
−C,シクロアルキル、または置換もしくは非置換のフ
ェニル、 R6は置換もしくは非置換のフェニルまたはピリジルを
表わす] 上記定義中で用いた用語について次に説明する。
アルキルとしては、メチル、エチル、n−プロピル、イ
ソプロピル、n−ブチル、5ea−ブチル、イソブチル
、tert−ブチル、n−ペンチル、インペンチル、5
aC−ペンチル、neo−ペンデル等の01〜C,アル
キルなどが挙げられる。
シクロアルキルとしては、シクロプロピル、シクロブチ
ル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル
などのC8〜C,シクロアルキルを例示し得る。
アルコキシカルボニル ニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、ブ
トキシカルボニルなどが挙げられる。
アリールとしてはフェニル、ナフチルなどが挙げられる
ヘテロ環残基としては、フリル、チェニル、ピリジル、
オキサシリル、チアゾリル、インキサゾリルなどが挙げ
られ、またアリール上に存在しうる置換基としては、ハ
ロゲン(例えば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素など)、
C.−C.アルコキシ、C.−C.アルキル、C.−C
.シクロアルキル、トリフルオロメチル、ニトロ、シア
ノ、アセチル、アセチルオキシ、C.−C.アルコキシ
カルボニル、スJレファモイル、C.−C.アルカンス
ルホニル 示される。
ヘテロ環上に存在しうる置換基としてはC,−〇,アル
キル、C.−C.アルコキシ、C s − C iシク
ロアルキルなどが挙げられる.ベンジル基上に存在しう
る置換基としてはC I− C sアルキル、C.−C
.アルコキシ、ハロゲン、ニトロなどが挙げられる。
アルカンスルホニルとしてはメタンスルホニル、エタン
スルホニル、プロパンスルホニルなど01〜C,アルカ
ンスルホニルが挙げられる。
置換もしくは非置換のフェニルにおいて、置換基として
はハロゲン、01〜C,アルキル% Cl〜C,アルレ
フキシ、アルフキジカルボニルロ、トリフルオロメチル
などが挙げられる。
本発明のピリドピリミジン誘導体(1)は次に示す製造
法A、製造法B、製造法Cまたは製造法りにより製造す
ることができる。
ULtA(Rが一Co−NHR ’のとき)(If) 
            (Ia)(式中、R1、R3
、およびR4はそれぞれ前記と同意義である.) 一般式(1)においてRが一Co−NHR ’の化合物
は上記工程図に従って製造し得る.即ち、9−メルカプ
ト−4−オキソ−4H−ピリド[1.2−aコピリミジ
ン体(I[)とインシアナート類(III)を適当な溶
媒中、約0〜約80°C、好ましくは室温付近の温度(
10〜30’C,以下同様)にて約1〜10時間反応さ
せて、目的化合物(Ia)を得る。
反応に用い得る溶媒としてぼ、ジクロロメタン、1.2
−ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロ
ゲン化炭化水素類;シクロペンクン、シクロヘキサン、
n−ヘキサン等の炭化水素系溶媒などの他、ベンゼン、
酢酸エチル、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、あ
るいはアセトン、メチルエチルケトン等のケトン類など
が用いられる。
イソシアナート類(Ill)は対応するアミンとホスゲ
ンとの反応[R.J.Slocombeら、J.Am.
chem.Soc.。
72、 1888(195G)]あるいは、対応するア
ミンと塩化オキサリルとの反応[1. llrichら
、J. Org. chem.。
34、 3200( 1969 )1などにより製造で
きる。
(以下余白) 1産盈B(Rが−Co−N4:  のとき)(式中、R
1、R1、R1、およびR“は前記と同意義である。) 一般式(!)においてRが−co’−N<H:の化合物
は上記工程図に従って製造し得る。
次に第1工程と第2工aについて説明する。
亀上工1 9−メルカプト−4−才キソー4H−ピリド[1,2−
a]ピリミジン体(I)と1.1°−カルボニルジイミ
ダゾールを反応させて化合物(IV)を得る。
但し、1.1’−カルボニルジイミダゾール以外のカル
ボニル化試薬を用いることもできる0反応に用いられる
溶媒としては、ジクロロメタン、1.2−ジクロロエタ
ン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素
類;ベンゼン、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、
酢酸エチルなどが挙げられる。
反応は約O〜約100℃、好ましくは室温付近の温度で
行えばよい。
基1工1 得られた化合物(IV)と化合物(V)とを反応させれ
ば目的化合物(Ih)が得られる。
溶媒としては、第1工程に用いたのと同様の溶媒を用い
ることができ、本反応は、室温から加熱下の温度(約4
0〜約100°C)で行えば、数時間から数十時間で完
了する。
第1工程と第2工程は連続して行うことも可能゛であり
、また必要に応じて中間体(mV)を単離することがで
きる。
1産羞C(Rが−CHI−R’のとき)(式中、R1、
R1およびR′はそれぞれ前記と同意義であり、Hal
はハロゲン(塩素、臭素、ヨウ素など)を表わす、) 一般式(1)においてRが−CH,−R“の化合物は上
記工程図に従って製造し得る。
次に第1工程および第2工程についてそれぞれ説明を加
える。
墓上工1 9−メルカプト−4−才キソー4H−ピリド[1,2−
ILIピリミジン体(I[)を塩基の存在下に適当な溶
媒中約10〜約100℃で化合物(■)と反応きせれば
、化合物(Ic)が得られる。
反応に用いられ得る塩基としては、炭酸ナトリウム、炭
酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水素
化ナトリウム等の無機塩基、およびトリエチルアミン、
N−メチルピロリジン、N−エチルピペリジン、モルホ
リン、ピリジン、ピコリン等の有機塩基などが挙げられ
る。溶媒としては、メタノール、エタノール、イソプロ
パツール等のアルカノール類;アセトン、メチルエチル
ケトン等のケトン系溶媒;エーテル、テトラヒドロフラ
ン等のエーテル系溶媒;ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルアセトアミド、ジメチルスルホキシドなどを例示し得
る。
第2工程 きらに得られた化合物(1c)を適当な溶媒中、冷却下
の温度(例えば、約−50〜約10℃、以下同様)で過
酸化物を加えた後、冷却下の温度または室温にて数時間
反応させれば目的化合物(Id)得られる0反応に用い
られ得る溶媒としては、クロロホルム、ジクロロメチル
、1.2−ジクロロエタン、四塩化炭素などのハロゲン
化炭化水素系溶媒;エタノール、イソプロパツールなど
のア゛レカノールw4ニジオキサン、ベンゼン、トルエ
ンなどの非プロトン性溶媒などが挙げられ、用いる過酸
化物の性質に応じて適宜選択すればよい、過酸化物とし
ては、過酸化水素、ヒドロ過酸化エチル、ヒドロ過酸化
tart−ブチルなとのヒドロ過酸化物;または過酢酸
、過安息香酸、ハロゲン化過安息香酸(例えば、3−塩
化過安息香酸)などの過酸を用いればよい、ヒドロ過酸
化物を用いる場合は、塩酸、硫酸などの鉱酸:p−トル
エンスルホン酸、メタンスルホン酸などのスルホン酸;
ルイス酸などの酸触媒を加えれば反応が促進される場合
がある。
k盈盈工(Rが−COR’のとき) (式中、xはハロゲン、水酸基または活性エステル基を
表わし、R1、R3およびR1は前記と同意義を有する
。) すなわち、9−メルカプト−4−才キソー4H−ピリド
[1,2−a]ピリミジン(I[)とアシル化剤(■)
を適当な溶媒中、必要により塩基の存在下に約0〜約8
0℃、好ましくは室温付近の温度(10〜30℃)にて
1〜10時間反応させると、目的物質(Ie)が得られ
る0反応に用いる溶媒としては、ジクロロメタン、1,
2−ジクロロエタン、クロロホルムなどのハロゲン化炭
化水素類、シクロペンタン、シクロヘキサン、n−ヘキ
サン、ベンゼンなどの炭化水素系溶媒、アセトン、メチ
ルエチルケトンなどのケトン類、酢酸エチル、アセトニ
トリル、テトラヒドロフランなどが例示移れる。
反応に使用される塩基としては、炭酸ナトリウム、炭酸
カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水素化
ナトリウムなどの無機塩基、トリエチルアミン、N−メ
チルピロリジン、N−エチルピペリジン、モルホリン、
ピリジン、ピッリンなどの有機塩基、ナトリウムメトキ
シド、ナトリウムエトキシド、塩基性イオン交換樹脂な
どが例示される。
有機酸ハロゲニド(■)は常法により相当する有機酸に
塩化デ才二ルなどのハロゲン化剤を反応させて得られる
別法としてカルボン酸(■)によるアシル化は溶媒中D
CC等の脱水剤の存在下に反応を行なうことによって達
成される。さらにカルボン酸(■)−クロロ炭酸低級ア
ルキルエステル−トリエチルアミンによるアシル化は溶
媒中0〜100℃で行なわれる。これらの反応はアシル
化の常法により実施浮れる。
本発明化合物(Ie)を製造する別法としては、9−メ
ルカプト体(I[)と、有機酸(R’Co * H)よ
り誘導された有機酸の活性化エステルとを適当な溶媒中
、約−10〜約80℃、好ましくは室温付近の温度(1
0〜30℃)にて1〜10時間反応さける方法である0
反応に用いる溶媒としては、上記の他に、ジメチルホル
ムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキサ
イドなどを挙げることができる。
(以下余白) 本発明化合物(IC)を製造するもう一つの方法として
、下記の反応式で示すように (式中、R1,R2、R3、R’およびR’gtそれぞ
れ前記と同意義である。) ヨウ化亜鉛、塩化亜鉛、塩化アルミニウムなどのルイス
酸の存在化にカルバモイル体(Ib)にカルボン酸ハラ
イド(■)を反応させる方法がある0本反応は1,2−
ジクロロエタン、塩化メチレン、トルエンなどの適当な
溶媒中で溶媒の沸点程度に加熱還流許せて実施すればよ
い。
原料物質(n)の製造法を以下に説明する。
原料化合 (It)の製造法 原料化合物(I[)におけるチオール基の導入は、1ザ
・ケミストリー・オブ・ザ・チオールグループ(The
 Chemistry of the thiol g
roup)」、サウル・パタイ(Saul Patai
)編、インターサイエンス出版(An Intersc
ience Publication)、 p163〜
269(1974)に記載のいずれかの方法により行え
ばよいが、以下にヒドロキシ基からチオール基に導く方
法を例示する。
(以下余白) 」す辷L」立上l (式中、R1、R3は前記と同意義であり、Xは/10
ゲン(塩素、臭素、ヨウ素など)、メトキシ、エトキシ
、トシルオキシ、メシルオキシ、ンメチルアミノ、アル
キルチオ(メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、ブ
チルチオなど)などの脱離基、AI、A2は低級アルキ
ルを表わす、)亀上工1 化合物(■)に適当な溶媒中、適当な塩基の存在下にチ
オカルバモイルクロリド体(IX)と反応許せ化合物(
X)を得る0反応に用いられる塩基としては、炭酸ソー
ダ、炭酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム
、水素化ナトリウム等の無機塩、トリエチルアミン、N
−メチルピロリジン、N−エチルピペリジン、モルホリ
ン、ピリジン、4−ジメチルアミノピリジン、4−ピロ
リジルピリジン等の有機塩基、ナトリウムメトキシド、
ナトリウムエトキシド、塩基性イオン交換樹脂等が例示
される0本反応は0〜80℃、好ましくは室温にて行な
えばよい、溶媒としては、アセトン、トルエン、エーテ
ル、ジオキサン、ジメチルスルホキシド、メチルエチル
ケトン、酢酸エチル、テトラヒドロフランなどが例示さ
れる。
第2工程 アミノピリジン体(X)と化合物(XI)を溶媒の存在
下もしくは不存在下に、室温から加熱下の温度(例えば
、約40〜約100℃)で反応移せてエナミン体(Xl
l)を得る工程である。
溶媒の存在下に反応を行う場合には、製造法Cの第2工
程で用い得るのと同様の非プロトン性溶媒が用いられる
0本反応では、必要に応じて製造法Cの第1工程で用い
得る塩基を使用してもよい。
ぶ料化合物<xx>rよR,M、 Carlsonら、
τetrahedronLetters、 4819(
1973)、およびG、 H,Po5narら、Che
w。
Commun、 907(1973)に記載の方法、な
いし、それらに引用きれている方法により製造し得る。
第3工程 エナミン体(X I )を閉環反応に付して目的化合物
(Ib)を得る工程である。
反応は溶媒の加熱還流下に行えば数分間乃至数時間で達
成きれる。
溶媒としては、トルエン、キシレン、あるいはジフェニ
ルエーテルの沸点が約100℃以上、好ましくは約20
0°C以上の溶媒を用いればよい。
亀土工1 化合物(Ib)に適当な溶媒中プロピルメルカプトナト
リウムを反応させて、化合物(I[)に導く工程である
0本反応は窒素気流中0〜80℃、好ましくは0℃〜室
温にて行なえばよい、溶媒としてはTHF、ジオキサン
、エタノール、トルエン、ジメチルスルホキシドなどが
例示される。
(以下余白) 」す辷1え立l】 0  (Ib)         (If)(式中、R
1、Rj、AI、A’、およびXはそれぞれ前記と同意
義である A3は低級アルキルを表わす、) 1上工1 アミノピリジン類(■)とβ−オキソカルボン酸エステ
ル類(XIV)を酸性縮合剤の存在下に適当な溶媒中で
反応させて目的化合物(XV)を得る工程である。
酸性縮合剤としては、ポリリン酸や、酢酸、プロピオン
酸等のアルカン酸などおよびそれらの混合物を用いれば
よく、溶媒としては、水;メタノール、エタノール、イ
ンプロパツール、ブタノール停のフルカノール類な′ど
およびそれらの混合溶媒が用いられる。
原料β−オキソカルボン酸エステル類(XIV)itC
,R,Hauserら、Organic Reacti
ons i、266(1942)に記載の方法に従って
製造できる。
別法として上記β−オキソカルボン酸エステル類(XI
V)の代わりに、化合物(XI)を使用して化合物CX
V)に導いてもよい。本反応は、製法(1)の第2工程
と同様に塩基の存在下に行なえばよい。
第2工程 本工程は製法(1)の第1工程と同様にして行なうこと
ができる。
第3工稈 本工程は製法(1)の第3工程より低い温度で行なうこ
とができる。
溶媒としては、トルエン、キシレン、アニソール、ジエ
チレングリコール、テトラクロルエタン等の沸点が10
0℃〜170℃の溶媒を用いて行なう事ができる。
第4工程 本工程は製法(1)の第4工程と同様にして行なうこと
ができる。
上記AからDの各製造法で得られた目的化合物において
R1および/またはR3がアルコキシカルボニル ボキシル基に導くことができる。
本発明目的化合物(I)は塩に変換可能であり、置換基
等の種類によりアルカリ金属塩(リチウム、ナトリウム
、またはカリウム塩など)、アルカリ土類金属塩(カル
シウムまたはマグネシウム塩など)に変換できる.また
目的化合物(I)を酸付加塩に変換可能な場合もあり、
この場合使用してもよい酸としては塩酸、臭化水素酸、
リン酸などの無機酸、酢酸、シュウ酸、マレイン酸、フ
マル酸、クエン酸、リンゴ酸、アジピン酸、フハク酸な
どの有機酸などが挙げられる。
本発明目的化合物<1>および/またはその塩はヒトま
たは動物に経口または非経口的に投与し得る.例えば、
化合物(I)は錠剤、顆粒剤、散剤、カプセル剤、液剤
などとして経口的に、また注射剤、坐剤などとして非経
口的に投与される.これらの製剤は賦形剤、結合剤、崩
壊剤、滑沢剤、安定剤、矯味矯臭剤、懸濁化剤、分散剤
、溶解補助剤、防腐剤などの添加剤を用いて濁知の方法
に従って製造される.賦形剤としては、乳糖、ショ糖、
でんぷん、セルロース、ソルビットなど;結合剤として
は、アラビアゴム、ゼラチン、ポリビニルピロリドンな
ど;滑沢剤としては、ステアリン酸マグネシウム、タル
ク、シリカゲルなどがそれぞれ例示される。
本発明目的化合物(I)を成人の消化性潰瘍疾患の治療
に使用する場合、1日約1〜1 0 0 mg/kgを
1回または数回に分けて経口的または非経口的に投与す
ればよい。
以下に実施例、参考例、および製剤例を示して本発明実
施の態様を明らかにする。
但し、実施例、参考例、および表中で使用する略号は次
の意味を有するものとする。
Me=メチルHEt:エチル; n−Pr8n−プロピ
ル;t−Bust−ブチル; CHtC1* ニジクロ
ロメタン:CHCl. :クロロホルム; AcOEt
 :酢酸エチル;THF :テトラヒドロフラン; K
xCOs : 炭Wlkカリウム;DMFニジメチルホ
ルムアミド; NaH :水素化すlJウム(60%油
性懸濁液) ; m−CPBA : 3−クロロ過安息
香酸;(d):分解点。
(以下余白) 衷】己1−1 ピリド 1 2−a ピリミジンIa−1の製造:R 3−エトキシカルボニル− −才キソー4H−ピリド[1.2−aコビリミジンn−
10.4gを乾燥CHsC1m 1 0 mlに懸濁し
、4−メチルフェニルイソシアナートIII−10、3
5gを加え、室温にて4時間攪拌した。
このとき反応混合物は、一旦溶解した後、再び結晶する
ので、これを濾取し、Ac0Etにて洗浄後、Ac0E
tから再結晶して、標記化合物Ia−10,441gを
得た。
収率ニア2% m、p、:170〜172℃ 元素分析(C+sH+tO−NsSとして):計算値<
X) FC,59,52; H,4,47: N、10
.96; S、8.38実測値m:c、59.52; 
H,4,55、N、10.84 、 S、8.47(I
I)            (Ia)(式中、R’、
R”、 およびR1は前記と同意義である。) 9−メルカプト−4−才キソー4H−ピリド[1,2−
a]ピリミジン体(I[)を適当な溶媒に懸濁し、イン
シアナート類(III)を加え、室温にて約1〜5時間
攪拌した。析出する結晶を濾取し、Ac0Etにて洗浄
後、Ac0Etから再結晶して、目的化合物(Ia)を
得た。
表1に化合物(Ia)の製造のための反応条件の詳細(
反応物の構造およびその仕込量、溶媒、反応時間など)
ならびに得られた目的化合物(Ia)の構造および物理
恒数(融点、元素分析値)を示す。
(以下余白) X遍」[−り且 裂盪; b−20 3−エトキシカルボニル−9−メルカプト−4−才キソ
ー4H−ピリド[1,2−ミコピリミジン[−10,4
13gを乾燥CHtC1* 10 mlに懸濁し、攪拌
下に1.1′−カルボニルジイミダゾール0.3gを加
え、1時間攪拌した。混液にN−エチルアニリンV−1
0,2gを加え16時間攪拌した0反応終了後、溶媒を
留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、
標記化合物旦−200,33gを粘稠油状物として得た
NMR(CDCIs>δ: 111 (3H,t、J=
7)1z) 、 1.27 (3H。
d、、C7Hz) 、 3.22 (2H,qJ=7)
1z) 。
4、15 (2H,q、J=7Hz> 、 6.80−
7.80(8H,m) 、 7.98 (IHI)゛質
量スペクトル M責%):397 (以下余白) 宜」■L 2工 3−エトキシカルボニル−9−メルク。ブドー4−オキ
ソー4H−ピリド[1,2−a]ピリミジンlニュ 0
.3gを無水DMF 4 mlに懸濁し、臭化ベンジル
亘ニュ 0.3gとKsCOs O、5gを加え、室温
にて5時間攪拌した0反応混合物を水で希釈し、析出す
る結晶を濾取した後、CHCl、に溶解した。無水硫酸
ナトリウムにて乾燥し、溶媒を留去して原2化合物1c
m21 0.389gを得た。収率:95.3% m、p、:173〜174℃(Ac0Etより再結晶)
元素分析(C1aH+ 5OsNt5として〉2計算値
(%)FC,63,51、H,4,74、N、8.23
 ; S、9.42実測値(%)ic、63.48 、
 H,4,63、N、8.17 ; S、9.30−a
 ピリミジンId−22の製造: 前記(1)で得た3−エトキシカルボニル−9−ベンジ
ルメルカプト−4−才キソー4H−ピリド[1,2−a
コピリミジンIc−21をCHC1゜25m1に溶かし
、0℃に冷却した。攪拌下にm−σBA0.5gを固形
のまま加え、同温度で4時間攪〜 拌した0反応混合物を5%チオ硝酸ナトリウム水溶液、
5%炭酸水素ナトリウム水溶液で順次洗浄し、さらに水
洗した。これを無水硫酸ナトリウムにて乾燥後、溶媒を
留去し、残渣(1g)をフラッシュクロマトグラフィー
に付し、 Ac0Etにて溶出した。溶出液から得られ
た固体をAc0Etより再結晶して標記化合物1d−2
20,6gを得た。
収率:81.9% m、p、:175〜176℃ 元素分析(C+aH+5O4NnSとして〉:計算値(
%) C,80,66、1(,4,53、N、7.86
 、 S、9.00実測値(%) C,60,72; 
H,4,64,N、7.75;5.8.80施f 22
〜23 n−1(1)   (Ic) (式中、R′は前記と同意義である。)(1)3−エト
キシカルボニル−9−メルカプト−4−才キソー4H−
ピリド[1,2−alピリミジンlニュを無水DMFに
懸濁し、化合物(VI)とK * Co sを加え、室
温にて数時間攪拌した0反応混合物を水で希釈し、析出
する結晶を濾取した後、C1(C1,に溶解した。無水
硫酸ナトリウムにて乾燥し、溶媒を留去して化合物(I
c)を得た。
表2に化合物(Ic)の製造のための反応条件の詳細(
反応物の構造およびモの仕込量、溶媒の使用量、反応時
間など)ならびに得られた化合物(I c)の構造およ
び物理恒数(融点、元素分析値)を示す。
(以下余白) (2)化合物(Ic)をCHCl Aに溶かし、冷却、
攪拌下にm−CPBAを加え、同温にて数時間攪拌した
0反応混合物を5%デチオ酸ナトリウム水溶液、5%炭
酸水素ナトリウム水溶液で順次洗浄し、きらに水洗した
。これを無水硫酸ナトリウムにて乾燥後、溶媒を留去し
、残渣をフラッシュクロマトグラフィーに付し、Ac0
Etにて溶出した。溶出液から得られた固体をAc0E
tより再結晶して化合物(Id)を得た。
表3に化合物(Id)の製造のための反応条件の詳細(
反応物の構造およびその仕込量、溶媒、反応時間など)
ならびに得られた目的化合物(Id)の構造および物理
恒数(融点、元素分析値)を示す。
(以下金白) 大JLI玉 澁: 3−エトキシカルボニル−9−メルカプト−4−才キソ
ー4H−ピリド[1,2−a]ピリミジンI[−10,
8g、細粉化した炭酸カリウム0.5g、アセトン25
m1の混合物に、攪拌下に、4−n−ブトキシベンゾイ
ルクロライド0.7gを加え室温にて2時間攪拌する。
得られる沈殿を濾取し、水−クロロホルムに分配する。
クロロホルム層を飽和食塩水で洗浄後、芒硝で乾燥し、
溶媒を留去する。残渣1.1gをシリカゲルを用いたカ
ラムクロマトグラフィーに付し、酢酸エチルにて溶出す
ると、0.7gの標題化合物Ie−27を得る。収率5
1%、融点14B−149℃。
元素分析(C* * H* * Oa N t Sとし
て):計算値(X) : C,61,96i H,5,
20i N、6.57;S、7.52 実測値(χ): C,61,73; H,5,22; 
N、6.47iS、7.65 寒1」目口Q−51 9−メルカプト−4−才キソー4H−ピリド[1,2−
aコピリミジン体(IF)を適当な溶媒に懸濁ないし溶
解し、適当な塩基、次いで、酸塩化物類(III)を加
え、室温にて約1〜5時間攪拌する。
反応混合物を減圧下に乾固し、残分を水−クロロホルム
に分配し、有機層を水洗し、乾燥後溶媒を留去し、残分
を適当な溶媒にて再結晶あるいはクロマトグラフィーに
よって精製して、目的化合物(Ie)を得る。
表1に化合物(Ie)の製造のための反応条件の詳細(
反応物の構造およびその仕込量、溶媒、反応時間など)
ならびに得られた目的化合物(I e)の構造および物
理恒数(融点、元素分析値)を示す・        
       (以下余白)叉1[L−11 1s−54の製造: 3−カルボキシ−5−メチルイソキサゾール■ 0.2
3gを乾燥ベンゼン5mlにとかし、塩化チオニル0.
39gを加え、次いで、乾燥N、N−ジメチルホルムア
ミド3滴を加えて油浴上5時間加熱還流する。減圧下に
溶媒を留去し、残渣をアセトン10m1に溶かし、細粉
化した炭酸カリウム1.1g、チオールイ本(If)0
.4gを加えて室温にて1時間攪拌する。減圧下に溶媒
を留去したのち、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー
に付し、酢酸エチル溶出し、0.2gの標記化合物を得
る。融点147−150℃、(クロロホルム−n−ヘキ
サンより再結晶)収率33.8%元素分析(Cr s 
H+ s Os N s S−’ / s H* Oと
して):計算値(%) : C,’52.17;H,3
,93;N、11.41;S、8.71実測値(X) 
: C,52,42;H,3,69iN、 11.3s
;s、 a、 873−カルボキシ−5−シクロプロピ
ルインキサゾール0.28gを乾燥ベンゼン5mlにと
かし、塩化チオニル0.39gを加え、次いで、乾燥N
、N−ジメチルホルムアミド3滴を加えて油浴上5時間
加熱還流する。減圧下に溶媒を留去し、残渣をアセトン
10m1にとかしたのち、細粉化した炭酸カリウム1.
1g、チオール体(1)0.4gを加え、室温にて1時
間攪拌する。減圧下に溶媒を留去し、残渣をクロロホル
ムに溶かし、不溶物を除去し、クロロホルム溶液を減圧
下に乾固し、残分ヲクロロホルムーn−ヘキサンより再
結晶して、0.32gの標記化合物Ie−55を得る。
収率52% 融点189−191°C(分解)元素分析
(CraHlsoaNss−’/sH*o とLr)二
計算値(X) : C,55,57:1.3.99:N
、 10.80iS、 8.24実測値(X) : C
,55,sagH,3,99;N、 10.72:5.
8.17(以下余白) 叉11し−11 −ピリド 1.2−*  ピリミジンIe−56の 造
:R 4−エトキシカルボニル安息香酸(■)1.47g(2
,4ミリモル)、DMF3滴、ベンゼン10m1の混合
物に、塩化チオニル0.52 g(4,4ミリモル)を
加え、攪拌下に3時間加熱還流する0反応混合物を減圧
下に乾固し、残渣をアセトン10m1に溶解し、固形炭
酸カリ1.4gを加えたのち、3−エトキシカルボニル
−9−メルカプト−4−オキソ−4H−ピリド[1,2
−a]ピリミジン(If−1)0.5g(2ミリモル)
を加えて、室温で20分間激しく攪拌する。
反応混合物を減圧下に乾固し、残渣をクロロホルム−水
に分配する。有機層を芒硝で乾燥し、減圧下に溶媒を留
去する。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、
酢酸エチルにて溶出し、標記化合物1e−560,9g
を得る。
収率:約100% 融点:146〜148°C(クロロホルム−n−ヘキサ
ン) 元素分析 C* lHt * N t O* Sとして
:計算値(X) : C,59,14; H,4,25
i N、 6.57 iS、 7.52 実測値(%) : C,5g、92 ; H,4,23
; N、 6.55 ;S、 7.44 族イタ−54−57 S)I I[−1 υ 置換アリールカルボン酸(■)を適当な溶媒(溶媒a)
に懸濁ないし溶解し、触媒量のDMF。
次いで塩化チオニルを加え、加熱下約1〜5時間還fi
(反応時間h+)する6反応混合物を減圧下に乾固し、
残渣を適当な溶媒(溶媒b)に溶解する。適当な塩基、
および9−メルカプト−4−オキソ−4H−ピリド[1
,2−a]ピリミジンエニュを加え、室温にて約0.5
〜3時間(反応時間り、)攪拌する0反応混合物を減圧
下に乾固し、残渣をクロロホルム−水に分配する。有機
層を水洗し、乾燥後溶媒を留去する。残渣を適当な溶媒
にて再結晶、あるいはシリカゲルクロマトグラフィーを
付して精製し、目的化合物(Ie)を得る。
表5に化合物(Ie)の製造のための反応条件の詳細(
反応物の構造およびその仕込量、溶媒、反応時間など)
、ならびに得られた目的化合物(Ie)の構造および物
理恒数(融点、元素分析値)を示す。
(以下余白) 太1」L−Ll リド 12−a ピリミジンm5−61の ゛ :5)
I (It−1) 4−スルファモイル安息香酸o、asg(2゜4ミリモ
ル)をDMFlomlに溶かし、EtsNO,29gを
加えたのち、室温にてクロル炭酸エチル0゜28gを加
えて、1時間攪拌する。9−メルカプト−4−オキソ−
4H−ピリド[1,2−alピリミジン(1−1)0.
5gを固型のまま加え2時間攪拌する0反応混合物を水
100m1で希釈し、酢酸エチルで抽出する。有機層を
水洗後乾燥し、減圧下溶媒を留去する。残渣を酢酸エチ
ルで洗浄し、0.68gの標記化合物Ie−61を得る
。収率ニアg、5%、酢酸エチルーテトラヒドロフラン
より再結晶して結晶を得る。融点:214−217℃(
分解) 元素分析 CI−H1s N s O@ S *として
:計算値(X) : C,49,87i H,3,49
i N、 9.70 ;S、 14.80 実測値(%) : C,49,86; H,3,57;
 N、 9.49 iS、14.64 例59−62 置換アリールカルボン酸(■)を適当な溶媒に懸濁ない
し溶解し、適当な塩基、次いでクロル炭酸エチルを加え
て0℃〜室温にて約0.5〜2時間(反応時間り、)攪
拌する。9−メルカプト−4−才キソー4H−ピリド[
1,2−aコピリミジン1ニユを固形のまま、ないし適
当な溶媒に溶かして加え、0〜100℃にて約0.5〜
5時間(反応時間り、)攪拌る0反応部合物を水と適当
な有機溶媒に分配し、有機層を水洗後乾燥し、減圧下で
乾固する。残渣を再結晶、あるいはシリカゲルクロマト
グラフィーを付して精製し目的化合物(Ie)を得る。
表6に化合物(IC)の製造のための反応条件の詳細(
反応物の構造およびその仕込量、溶媒、反応時間など)
、ならびに得られた目的化合物(Ie)の構造、および
物理恒数(融点、元素分析値)を示す。
(以下余白) 大ffiユ 3−エトキシカルボニル−9−メルカプト−4−才キソ
ー4H−ピリド[1,2−a]ピリミジン(II−1)
30g、#B粉化した炭酸カリウム2.49g、アセト
ン500m1の混合物に、攪拌下4−メトキシカルボニ
ルベンゾイルクロライド23.8gを加え、室温にて1
時間撹拌する0反応混合物を減圧下に乾固し、残渣を水
−クロロホルムに分配する。クロロホルム層を飽和食塩
水で洗浄後、芒硝で乾燥し、1lilEE下に溶媒を留
去する。残渣を酢酸エチルで再結晶し、標記化合物Ie
−6643gを得る。
収率: 86 、9 (1)融点:174〜176(”
C)元素分析 C* * Ht s N * O@ S
として計算値(X) : C,58,24; H,3,
91; N、 6.79 ;S、 7.78 実測値(1) : C,57,88; H,3,83、
N、 6.62゜S、  7.57 流側 64−74 R (II) 9−メルカプト−4−オキソ−4H−ピリド[1,2−
a]ピリミジン(I)を適当な溶媒に懸濁ないし溶解し
、適当な塩基、次いで醜塩化物(■)を加え、室温にて
約1〜5時間攪拌する0反応混合物を減圧下に乾固し、
残渣を水−クロロホルムに分配し、有機層を水洗後乾燥
し、溶媒を留去する。残渣を適当な溶媒で再結晶あるい
は、シリカゲルクロマトグラフィーによって精製して、
目的化合物(Ie)を得る0表7は化合物の製造のため
の反応条件の詳細(反応物の構造、およびその仕込量、
溶媒、反応時間等)ならびに得られた目的化合物(Ie
)の構造及び物理恒数(融点、元素分析値)を示す。
(以下余白) 叉3j[−Li 78の製造: (1)2.2−ジメチル−1,3−ジオキサン−4,6
−シオン6、Og、オルト蟻酸エチル30m1の混合物
を油浴上2時間加熱還流したのち、2−アミノ−3−ジ
メチルチオカルバモイルオキシ−ピリジン8.0gを加
え、さらに、2時間還流下に加熱攪拌する。冷後、析出
する結晶を濾取、エーテルにて洗浄して、6.4gの2
−(2、2−ジメチル−4,6−シオキソー1,3−ジ
オキサン−5−イリデンメチル)アミノ−3−ジメチル
チオカルバモイルオキシピリジンを得る。酢酸エチルよ
り再結晶して結晶を得る。 融点=223〜225℃(
分解) 元素分析 CI−H、y O* N s Sとして計算
値(X) : C,51,27; H,4,8g 、 
N、 11.96 FS、 9.12 実測値(X) : c: 51.29: )1.4.7
8; N、 11.84;S、 8.99 (2)上記精製物2.5gをダウサーム(Dowthe
rmA ダウケミカル社製)100mlに溶かし、5分
間還流下に加熱する。
冷却後、反応混合物を、シリカゲルクロマトグラフィー
に付し、最初、n−ヘキサンにて溶出してダウサームを
除去したのち、酢酸エチルにて溶出して、1.4gの標
記化合物1b−78を得ろ。
融点=151〜152℃(酢酸エチル)元素分析 Cr
 lH、O! N s Sとして計算値(X) : C
,53,00、H,4,45、N、 16.86 ;S
、 12.86 実測値(X) : C,52,89; H,4,36、
N、 16.74 。
S、 12.83 ピリミジンIe−80の製造: 9−(ベンジルカルボニル)チオ−3−(4−メトキシ
ベンジルオキシカルボニル)−4−才キソー4H−ピリ
ド[1,2−a]ピリミジン1ヱ−790,872g、
アニソール2.5g、乾燥塩化メチレン10m1の混合
物を氷水にて冷却し、トリフルオロ酢酸5mlを加えて
、3時間氷水冷却下に攪拌する。/I!圧下に反応混合
物を乾固し、残渣(0,494g)を酢酸エチルより再
結晶し、標記化合物1e−80を得る。
融点;143〜144°C 元素分析 Clt Hlt O−N * Sとして計算
値(X) : C,59,99,H,3,55,N、 
8.23゜S、 9.42 実測値(X) : C,60,00,H,3,68,N
、 8.20゜S、 9.27 9−(ジメチルカルバモイル)チオ−3−(4−メトキ
シベンジルオキシカルボニル)−4−才キソー4H−ピ
リド[1,2−aコピリミジンIb−810,508g
、アニソール2.5g、乾幽塩化メチレン5mlの混合
物を氷水にて冷却し、トリフルオロ酢酸5mlを加え3
時間氷水冷却下に攪拌する。減圧下に反応混合物を乾固
し、残渣をエーテルで洗浄して得られる粗生成物(0,
32g)を95%エタノールより再結晶して、標記化合
物1b−82を得る。
、融点:223〜224℃ 元素分析 Cls H+ r O−N s Sとして計
算値(%):C,49,14i)1.3.7B、N、 
14.33iS、 10.93 実m(直(X):  C,49,08;  )l、  
3.80.N、  14.24゜S、 10.98 (以下余白) 衷1」L−−1 a ピリミジンIf−2の製造= 工l I[−2 H)4−メトキシベンジルオキシメチレンマロン酸ジー
(4−メトキシベンジル)エステル14.4g、2−ア
ミノ−3−(ジメチルチオカルバモイルオキシ)ピリジ
ンX−I  5.9gの混合物を油浴上、120−’C
で1時間攪拌下、加熱する。シリカゲルクロマトグラフ
ィーに1寸して、n−ヘキサン−酢酸エチル(1: 1
)の混液で精製し、3−ジメチルチオカルバモイルオキ
シ−2−[2,2−ビス(4−メトキシベンジルオキシ
カルボニル)エチニルアミノコピリジン1113.3g
を得る。
融点:117〜118°C(酢酸エチル−エーテル) 元素分析 C* a H* * Ot N s Sとし
て計算値(X) : C,60,97: n、 5.3
0. N、 7.62゜S、  5.81 実測値(X) : C,60,91: H,5,31、
N、 7.55 。
S、  5.80 く2)上記精製物Xn[11gをジフェニールエーテル
100m1に溶かし、還流下に30分間加熱する。冷後
、これをn−ヘキサンにて充填したシリカゲルカラムに
てクロマトグラフィーに付す、最初n−ヘキサンでジフ
ェニールエーテルを1出して除いたのち、酢酸エチルで
溶出し、9−ジメチルカルバモイルチオ− ルオキシカルボニル)−4−オキソ−4H−ピリド[1
.2−a]ピリミジンIb−81  4.3gを得る。
融点:153〜154℃(酢酸エチル)元素分析 C 
a * H lt O s N s Sとして計算値(
χ):C. ss.to;u, 4.63.N, io
.ta;S. 7.75 実測値(X) : C. 57.98. H. 4.7
5. N. 10.07。
S, 7.64 (3)水素化ナトリウム(60%油性)0.5gを乾燥
し、テトラヒドロフラン50m1に懸濁する。
窒素気流中、室温にてn−プロピルメルカプタン1.1
3m1を滴下後、1時間攪拌する0次いで、上記精製物
1b−814,3gをテトラヒドロフラン300m1に
溶かし、一度に加える1反応混合物を室温にて24時間
攪拌したのち、酢酸0.9gを加え、減圧下に乾固する
。残渣をクロロホルム−水に分配して、有機層を集め、
水洗し、乾燥後、減圧下で溶媒を留去する。残渣をエー
テル−酢酸エチルで洗浄し、赤褐色の標記化合物に遣 
1.8gを得る。
融点=230℃以上。
9−(ジメチルカルバモイル キシカルボニル−4−オキソ−4H−ピリド[1、2−
a]ピリミジンIb−83  0.129gを1,2−
ジクロロエタン5mlに溶かし、フェニルアセチルクロ
ライド65μm、ヨウ化亜鉛0。
13gを加え、窒素気流中45分間還流下で加熱する.
反応混合物を冷却後、N−MC I水溶液を振とうし、
有機層を飽和量ソウ水、次いで飽和食塩水で洗浄する.
乾燥後、減圧下に溶媒を留去する.残渣をシリカゲルク
ロマトグラフィーに付し、酢酸エチルにて溶出し、標記
化合物1e−84  0、118gを得る。
収率:58% 融点:126〜128℃ 元素分析 C1.H.IN.0.8として:計算値(X
) : C. 61.94 、 H. 4.38 ; 
N. 7.60 i5、 8。70 実測値(X) : C. 62.09 ; H, 4.
29 ; N, 7.48 。
5、 8.64 豊」111 I[−1 (l)2−アミノ−3−ジメチルチオ力ルバモイルピリ
ジンl二1の製造 2−アミノ−3−ヒドロキシピリジン■45gをアセト
ン700mlに溶解し、K*COs 5 8 gを加え
て攪拌した.これにジメチルチオカルバモイルクロリド
49息を加えた後、室温にて48時間攪拌した.不溶物
を濾別し、アセトンで洗浄後、濾液を合わせて溶媒を留
去した.残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し,
 AcOEtにて溶出する両分より標記化合物又ニュ4
4.2g(収率;54、8%)を得た。
m.p.:134〜136℃( AcOEtより再結晶
)元素分析 6 計算値(%) (C.H,、ON.Sとして):C. 
48. 71 iH. 5. 62:N, 21. 3
obs, ts. 25実測値(%) : C. 48
. 43;H. 5. 59;N. 20. 77;s
. 16. 29(2)2−( 2’,2°−ビス(エ
トキシカルボニル)エチレンアミノ)−3−(N.N’
−ジメチルチオカルバモイルオキシ)ピリジンXI[−
1の製造 (1)で得た化合物X二1 13.7gとジエチル請エ
トキシメチレンマロナートXl−114gを100°C
にて1時間加熱した0反応混合物をシリカゲルクロマト
グラフィーに付し、ベンゼン/Ac0Et = /i 
(v//)にて溶出する画分より標記化合物XU−11
9,3gを得た。
m、p、 : 9 i〜92.5℃(エーテルより再結
晶)元素分析(C+sH*+0JsSとして):計算値
(%’): C,52,30;H,5,76;N、11
.44;S、8.73実測値(%) : C,52,a
7;u、 s、 82iN、 11.48iS、 8.
50(3)3−エトキシカルボニル−9−ジメチル力ル
バモイルデオー4−オキソー4H−ピリド[1,2−a
コピリミジンIb−13の製造      − (2)テ得た化合物xi−t  8.0gをジフェニル
エーテル20m1に溶かし、油浴上で30分間加熱還流
した1反応混合物をn−ヘキサン1リツトル中に加え、
析出する結晶を濾取し、シリカゲルクロマトグラフィー
に付してAc0Etにて溶出する画分より標記化合物I
b−834,0gを得た。(収率:53%) m、p、: 133=134℃(Ac0Etより再結晶
)元素分析(C,、)1. io、N、sとして):計
算値(%’) : C,52,33;H,4,71;N
、13.08;S、9.98実測値(%) : C,5
2,ts;u、 4. as;u、 12.99iS、
 9.75(4)3−エトキシカルボニル−9−メルカ
プト−4−才キソー4H−ピリド[1,2−a]ピリミ
ジンlニュの製造 NaHo 、 3 gを無水rHF30mlに懸濁し、
窒素気流中、0℃にてn−プロピルメルカプタンmlを
滴下し、15分間攪拌した.混液に(3)で得た化合物
Ib−83  2.0gの無水THFI O 0wl溶
液を加え、室温に戻して8時間攪拌し、さらに−夜装置
した.反応混合物に酢酸0.5gを加え、減圧下に乾固
し、残分に約150mlの水を加え、攪拌して標記化合
物1ニュ1.3g(収率:81%)を得た。
m.p.: 151〜152℃( AcOEtより再結
晶)元素分析(C.Ht*OJ*Sとして):計算値(
%) : C. 52. 79;H. 4. 03iN
. 11. 19;S. 12. 81実測値(%) 
: C.52.88:H.3.97iN.11.24;
S.12.66奢2目i主 H 〈l)9−ヒドロキシ−2−メチル−4−才キソー4H
−ピリド[t.2−alピリミジンXV−1の製造 2−アミノ−3−ヒドロキシピリジン■1、1gおよび
エチルアセトアセテート1.3gを酢酸4mlとポリリ
ン酸4mlの混液に加え、100℃の油浴上で4時間、
加熱攪拌した.反応混合物を氷水中に加え、2N*酸化
ナトリウム水溶液でpH4とし、さらに炭酸ナトリウム
を加えてpH7に調節した. CHCI,にて抽出し、
有機層を水洗し、無水硫酸ナトリウムにて乾燥後、溶媒
を留去して標記化合物xv−1 0.9g(収率:55
、5%)を得た。
(2)2−メチル−9−ジメチルチオカルバモイルオキ
シ−4−才キソー4H−ピリド[1、2−a]ピリミジ
ンXVI−1の製造前記(1)で得た化合物XV−10
.3gとアセトン15mlの混液にKmCOso 、 
3 gおよびジメチルチオカルバモイルクロリド0.3
gを加え、室温にて8時間攪拌した.固形物を濾別し、
アセトンにて洗浄後、濾液を合わせて溶媒を留去した。
残渣を水洗後、乾燥して標記化合物XVI−10,3g
(収率:66.9%)を得た。
m、p、:1B6〜187℃(Ac0Etより再結晶)
元素分析(C1J+*0JsSとして):計算値(%)
 : C,54,79;H,4,88:N、 15.9
4;S、 12.07実1flllf直(%ン: C,
54,7C)1.4.98:N、15.96;5,12
.18NMR(CDCIs) 8 : 2.37 (3
H,s) 、 3.46 (6H,5)(3) 2−メ
チル−9−ジメチルカルバモイルチオ−aコビリミジン
Ib−85の製造 前記(2)で得た化合物XVI−1  5.2gをダウ
サーム( Dowtherm A.ダウケミカル社製)
 4 0 mlに懸濁し、還流下に20分間加熱した.
反応混合物を冷却後、n−ヘキサン800ml中に加え
、析出する標記化合物Ib−85  5.0gを濾取し
た。
m.p.:165〜167°C (AcOEtより再結
晶)元素分析Cc..u.so*NsSとして):計算
値(%) : C, 54. 74;H, 4. 91
N. 15. 95;5, 12. 18実測値〈%)
 : C, 54. 78iH. 4. 90FN. 
15. 94;S. 12. 1ONMR (CDC1
.) l; : 2.43 (3H.s) 、 3.1
0 (6H.s)(4)9−メルカプト−2−メチル−
4−オキソ−4Hーピリド[1.2−alピリミジンl
ニュの製造 NaHo 、 4 gを無水rHF20mlに懸濁し、
0℃に冷却してn−プロピルメルカプタン1.4mlを
滴下し、20分間攪拌した.混液に前記(3)で得た化
合物1b−85  4.1gの無水THF130ml溶
液を加え、室温に戻して24時間攪拌した.反応混合物
を減圧下に乾固し、残分に水100mlを加えて溶解し
、酢酸2gを加え、析出する結晶を濾取した.これを乾
燥して標記化合物1[−33。
0gを得た。
m.p. : 2 4 0〜2 4 1℃(CHCIs
より再結晶)元素分析(C.H.ONISとして):計
算値(%) : C. 56. 23;H. 4. 1
9;N, 14. s7;s, 16. 59実測値(
%) : C.56.11:)1.4.11;N.14
.52;S.16.59(以下余白) 1亙] 3−エトキシカルボニル−9−(4−メチルフェニルカ
ルバモイルチオ)−4−才キソー4H−ピリド[1.2
−aEピリミジンIa−1・・・・・・・・・・25f
f@ 乳糖           甲申・・100mg小麦粉
でんぷん       ・・・山中・15@ゼラチン 
         ・山・・山・・・5■ステアリン酸
マグネシウム  ・・・・・・・・・・・5■計  1
50mg 以上を充填してカプセル剤とする。
(以下余白) ハ.発明の効果 − 例1(ストレス潰 に対する作用 m羞 24時間絶食したSD系雄性ラット(体重:260〜2
90g)を金網拘束ストレスケージに入れ、23℃の水
中に胸部まで浸漬した.7時間後に動物を殺し、胃を摘
出、切開し、腺胃部に発生した潰瘍の長さの総和を求め
、対照群と比較して潰瘍発生抑制率を算出した.被験化
合物は5%アラビアゴム懸懸濁として、ストレス負荷の
30分前に経口投与した。
1象上皇1 結果の表中に示す化合物番号は実施例中で用いた化合物
番号に対応する。
対照薬としてはシメチジン( cimetidine 
)を用いた。
泉丞韮 ストレス負荷による潰瘍発生を 70%以上抑制する場合     ++50〜70%抑
制する場合     十試験結果は表8に示す。
表8 (表8のつづき) 上記の結果から、本発明化合物(1)は、優れた抗潰瘍
作用を示すことが明らかである。従って、本発明化合物
(I)は消化器系潰瘍の治療、手助、投与中止後の再発
防止などに有効である。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)一般式: ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、 nは0または1、 Rは式:−COR^1、−CONR^4R^5または−
    CH_2R^6を表わし、 R^1はC_1−C_5アルキル、C_3−C_7シク
    ロアルキル、アリルチオ、スチリル、フェノキシメチル
    、チエニルメチル、置換もしくは非置換のC_6−C_
    1_0アリル、置換もしくは非置換のベンジルまたは置
    換もしくは非置換のヘテロ環残基、 R^2とR^3はそれぞれ水素、C_1−C_5アルキ
    ル、カルボキシ、C_2−C_6アルコキシカルボニル
    または置換もしくは非置換のベンジルオキシカルボニル
    を表わし、 R^4とR^5はそれぞれ水素、C_1−C_6アルキ
    ル、C_3−C_7シクロアルキル、または置換もしく
    は非置換のフェニル、 R^6は置換もしくは非置換のフェニルまたはピリジル
    を表わす] で示される化合物またはその塩。
  2. (2)一般式: ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、 nは0または1、 R^は式:−COR^1、−CONR^4R^5または
    −CH_2R^6を表わし、 R^1はC_1−C_6アルキル、C_3−C_7シク
    ロアルキル、アリルチオ、スチリル、フェノキシメチル
    、チエニルメチル、置換もしくは非置換のC_6−C_
    1_0アリル、置換もしくは非置換のベンジルまたは置
    換もしくは非置換のヘテロ環残基、 R^2とR^3はそれぞれ水素、C_1−C_6アルキ
    ル、カルボキシ、C_2−C_6アルコキシカルボニル
    または置換もしくは非置換のベンジルオキシカルボニル
    を表わし、 R^4とR^5はそれぞれ水素、C_1−C_6アルキ
    ルC_3−C_7シクロアルキル、または置換もしくは
    非置換のフェニル、 R^6は置換もしくは非置換のフェニルまたはピリジル
    を表わす] で示される化合物またはその塩を有効成分として含有す
    ることを特徴とする抗潰瘍剤。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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