JPS63130280A - Joining method - Google Patents

Joining method

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JPS63130280A
JPS63130280A JP27545286A JP27545286A JPS63130280A JP S63130280 A JPS63130280 A JP S63130280A JP 27545286 A JP27545286 A JP 27545286A JP 27545286 A JP27545286 A JP 27545286A JP S63130280 A JPS63130280 A JP S63130280A
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Japan
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bonding
materials
joined
joining
vacuum
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JP27545286A
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Toshiaki Fuse
俊明 布施
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Abstract

PURPOSE:To form an HIP processed joining material with sufficient strength by performing the diffusion joining of materials to be joined to each other so that the void remains in a vacuum at the time of carrying out the pre-treatment to prevent gas from penetrating in the joining surface after the materials to be welded are abutted on each other. CONSTITUTION:After the joining surface 17c of the material 17a and 17b to be joined is degreased and subjected to the ultrasonic cleaning, the materials to be joined are set on the mounting base 14 of the materials to be joined in a chamber 11 in a superposed state. After the inside of the chamber 11 is exhausted by a vacuum pump 12, inert gas is introduced and filled therein from a gas introducing device 13 and further, the degree of vacuum is raised and the inside of the chamber 11 is to abt. 10<-4>-10<-5> torr. Then, the pressurizing force is applied to the joining surface 17c by a pressure device 16 and the surface 17c is heated by a heating system 18. The diffusion takes places on the joining surface 17c where there was a gap and the joining surface where the void remains is formed and the inside of the void also becomes vacuum by carrying out the pre-treatment in this way. In this way, the tack-joined materials 17a and 17b to be joined are moved in a pressure vessel and subjected to the HIP processing and joined. In this way, the joining materials with the sufficient strength is formed.

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 (産業上の利用分野) 本発明は例えば異種材料の接合等に適用する接合方法に
係り、特に拡散接合方法の一種であるHIP処理による
接合方法の改良に関する。
[Detailed Description of the Invention] [Object of the Invention] (Industrial Application Field) The present invention relates to a bonding method applied to, for example, bonding different materials, and in particular to a bonding method using HIP processing, which is a type of diffusion bonding method. Regarding improvements.

(従来の技術) 近年、各種材料の特性を有効に利用するために、複数の
異種材料を接合し、複合的構成材を形成する技術が開発
されている。同種材料の接合方法としては、溶融溶接が
一般的であるが、異種材料の接合に溶融溶接を適用した
場合には脆い化合物層が生じて接合部の特性が劣化する
等、問題が多い。このため異種材料を接合する場合には
、接合部を溶融させない、いわゆる固相接合法が多く用
いられている。
(Prior Art) In recent years, in order to effectively utilize the characteristics of various materials, techniques have been developed for joining a plurality of different materials to form a composite component. Melt welding is a common method for joining similar materials, but when it is applied to join dissimilar materials, there are many problems such as the formation of a brittle compound layer and deterioration of the properties of the joint. For this reason, when joining dissimilar materials, so-called solid-phase joining method, which does not melt the joint, is often used.

固相接合法としては接合材を再結晶温度まで加熱して強
圧する高温圧接と、再結晶温度以下で強圧する低温圧接
とがあり、高温圧接の一種として、母材を溶融すること
なく、固相状態で殆ど変形を加えないで加熱圧着する拡
散接合が知られている。
Solid-phase welding methods include high-temperature welding, in which the bonding material is heated to the recrystallization temperature and intensely pressed, and low-temperature welding, in which the bonding material is intensely pressed below the recrystallization temperature. Diffusion bonding is known, in which heat and pressure bonding is performed in a phase state with almost no deformation.

拡散接合は、平滑で清浄な金属面同士を強圧密着さじ、
かつ再結晶温度以上に加熱して原子の拡散を行なわせ、
金属表面の顕微鏡的凹凸部の凸部同士を塑性変形とクリ
ープで圧潰接触させ、接触面に生じる空孔(ボイド)を
次第に消失させて拡rt1.接合を促進させるものであ
る。この拡散接合の加圧手段として高圧の不活性ガスに
よる等方的な加圧力を利用したものにH(p (t)o
t 1sostaticpressina>がある。こ
のHIP処理によれば、等方的な加圧力により高精度、
高品位の接合体が得られる利点がある。
Diffusion bonding involves bonding smooth, clean metal surfaces together under strong pressure.
and by heating above the recrystallization temperature to cause atomic diffusion,
The convex parts of the microscopic irregularities on the metal surface are brought into crushing contact with each other by plastic deformation and creep, and the voids generated on the contact surface are gradually disappeared and expanded rt1. It promotes bonding. As a pressurizing means for this diffusion bonding, H(p (t)o
t 1sostaticpressina>. According to this HIP process, high precision and
There is an advantage that a high-quality joined body can be obtained.

ところで、HI P処理を用いた接合方法では、接合材
の接合面同士を密接状態として、これらの仝休にガス圧
を作用させる方法を採るが、この場合、単に接合させた
だけでは、その接合面のギャップにガスが入り込み、接
合面を拡散接合することができない。このため、HIP
処理の前処理として、互いに当接した接合材の接合面に
外周側からガスが侵入するのを防止する処理を施すのが
一般的である。
By the way, in the bonding method using HIP processing, the bonding surfaces of the bonding materials are brought into close contact with each other, and gas pressure is applied to these gaps. Gas enters the gap between the surfaces and the bonding surfaces cannot be diffusion bonded. For this reason, HIP
As a pretreatment, it is common to carry out a process to prevent gas from entering from the outer circumferential side of the bonding surfaces of the bonding materials that are in contact with each other.

従来、このような前処理の方法としては、例えば第4図
(a)、(b)、(c)に示すように、3種の方法が行
なわれている。
Conventionally, three types of pretreatment methods have been used, as shown in FIGS. 4(a), 4(b), and 4(c), for example.

第4図(a)に示す方法は、キャンニング処理によるも
ので、互いに当接した接合材1a、lb全全体キャンニ
ング材2によって密封し、これにより接合面3にHI 
P処理時にガスが侵入することを防止するものである。
The method shown in FIG. 4(a) is based on a canning process, in which the entire bonding materials 1a and lb that are in contact with each other are sealed with a canning material 2, thereby causing HI on the bonding surface 3.
This prevents gas from entering during P treatment.

第4図(b)に示す方法は、接合材1a、lbの接合面
3の周囲部を電子ビーム溶接(EBW)等でシール溶接
し、そのシール溶接部4によってガスの侵入を防止する
ものである。
The method shown in FIG. 4(b) is to perform seal welding around the joint surfaces 3 of the joint materials 1a and lb by electron beam welding (EBW) or the like, and use the seal weld 4 to prevent gas from entering. be.

第4図(C)に示す方法は、接合材1a、1bの接合面
3の外周部をろう付シール部5によってシールするもの
である。
The method shown in FIG. 4(C) is to seal the outer periphery of the bonding surfaces 3 of the bonding materials 1a and 1b with a brazing seal portion 5.

(発明が解決しようとする問題点) )−11P処理の前処理として、第4図(a>に示ずよ
うに、接合材をキャンニングした場合には、1−11P
処理により拡散接合した後に、機械加工等によってキャ
ンニング材を除去する手間が必要となる。また、キャン
ニング材と接合材とが拡散し、拡散層が生成する場合を
考慮して、予め接合材に礪械加工用の加工代を加える必
要がある。
(Problems to be Solved by the Invention) When the bonding material is canned as shown in Figure 4 (a) as a pre-treatment for the -11P treatment, the
After diffusion bonding by processing, it is necessary to remove the canning material by machining or the like. Furthermore, in consideration of the case where the canning material and the bonding material are diffused and a diffusion layer is generated, it is necessary to add a machining allowance for the groove machining to the bonding material in advance.

第4図(b)に示すように、接合材の接合面周囲をシー
ル溶接する方法では、脆い化合物を生成するような組合
せの異種材料の溶融溶接となる場合には適用することが
できない〇 第4図(C)に示すように、接合材の接合面周囲をろう
付シール部で被覆する方法では、l−1I P処理の際
にろう材が接合面に入り込み、接合強度がろう材の強度
まで低下する場合がある。
As shown in Figure 4 (b), the method of seal welding around the joint surfaces of the joint materials cannot be applied when fusion welding of dissimilar materials is combined that would generate brittle compounds. As shown in Figure 4 (C), in the method of covering the joint surface of the joint material with a brazing seal, the brazing material enters the joint surface during the l-1I P treatment, and the joint strength is reduced by the strength of the brazing material. It may drop to

本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、面倒
な後処理等が必要なく、また接合材に加工代を設ける必
要もなく、また溶融溶接により脆い化合物層が生成する
ような異種材料の絹合せにも十分利用することができ、
さらにHIP処理による接合強度が低下するおそれもな
く、十分な接合強度が得られる接合方法を提供すること
を目的とする。
The present invention has been made in view of these circumstances, and does not require troublesome post-processing, does not require processing allowances for the bonded material, and is suitable for dissimilar materials where a brittle compound layer is generated by fusion welding. It can also be used for silk matching,
Furthermore, it is an object of the present invention to provide a bonding method that can provide sufficient bonding strength without the risk of reducing the bonding strength due to HIP treatment.

〔発明の構成〕[Structure of the invention]

(問題点を解決するための手段) 本発明は、接合材を互いに当接し、その接合面に外周側
からガスが侵入するのを防止する前処理を施した後、高
圧の不活性ガスによる等方的な加圧力を前記接合材に高
温下で作用させるHIP処理を施すことにより、拡散接
合を行なわせる接合方法において、前記前処理として、
接合材同士を真空中でボイドが残存する程度の拡散接合
により仮接合することを特徴とする。
(Means for Solving the Problems) The present invention involves bonding materials that are brought into contact with each other, a pretreatment is performed to prevent gas from entering the bonded surfaces from the outer periphery, and then a high-pressure inert gas is applied. In a bonding method in which diffusion bonding is performed by performing HIP treatment in which a lateral pressure is applied to the bonding material at high temperature, the pretreatment includes:
It is characterized in that the bonding materials are temporarily bonded to each other by diffusion bonding in a vacuum to such an extent that voids remain.

(作用) 本発明の接合方法によると、HIP処理の前処理として
接合材同士を真空中で拡散接合することにより、その接
合材同士の接合面において相互拡散および体積拡散を進
行させることができる。
(Function) According to the bonding method of the present invention, by diffusion bonding the bonding materials together in a vacuum as a pretreatment for the HIP process, mutual diffusion and volume diffusion can proceed at the bonding surfaces of the bonding materials.

即ち、拡散接合による仮接合を真空中で行なうことによ
り、接合面に残存する未接合部のボイド内は真空になり
、l−1I P処理の際に使用するガスが接合面のギャ
ップに入り込む等のおそれはなく、1−1 I P処理
により高温、高圧の作用で接合材の等方的な加圧作用が
行なえるようになり、残存するボイドが消滅し、完全な
接合面を有する接合材が1!7られるようになる。
That is, by performing temporary bonding by diffusion bonding in a vacuum, the void in the unbonded portion remaining on the bonding surface becomes vacuum, and the gas used during the l-1I P process enters the gap in the bonding surface. 1-1 I P treatment enables isotropic pressurization of the bonding material by the action of high temperature and high pressure, eliminating remaining voids and creating a bonding material with a perfect bonding surface. will be 1!7.

(実施例) 以下、本発明の一実施例を第1図および第2図を参照し
て説明する。
(Example) An example of the present invention will be described below with reference to FIGS. 1 and 2.

まず、第1図によって本発明の接合方法を実施するため
の装置を説明する。
First, an apparatus for carrying out the joining method of the present invention will be explained with reference to FIG.

第1図(a)は前処理としての拡散接合による仮接合処
理を行なうための装置構成を示している。
FIG. 1(a) shows the configuration of an apparatus for performing a temporary bonding process by diffusion bonding as a preprocess.

密閉型のヂトンバ11に真空ポンプ12およびガス導入
装置13を連通して設けている。なお、チャンバ11に
は図示しないが、開口部J3よび密閉蓋等を設け、その
チャンバ11内への挿入物の出し入れを行なえるように
しである。
A vacuum pump 12 and a gas introduction device 13 are provided in communication with a closed type diton bar 11. Although not shown in the drawings, the chamber 11 is provided with an opening J3, a sealing lid, etc., so that an inserted object can be taken in and out of the chamber 11.

チャンバ11内には接合材載置台14と、この接合材載
置台14上にガイド支柱15を介して昇降可能に設けた
加圧装置16とを収容している。
The chamber 11 accommodates a bonding material mounting table 14 and a pressurizing device 16 provided on the bonding material mounting table 14 so as to be movable up and down via a guide column 15.

そして、接合材178.17bを接合材載置台14上で
上下に積み重ねた状態で加圧装置16により互いに圧接
できるようにしである。また、チャンバ11内には接合
材17a、17bをその周囲から加熱する加熱装置18
を設けている。
Then, the bonding materials 178, 17b are stacked vertically on the bonding material mounting table 14 so that they can be pressed against each other by the pressurizing device 16. Also, a heating device 18 is provided in the chamber 11 to heat the bonding materials 17a and 17b from the surroundings.
has been established.

第1図(b)はHIP処理用の装置構成を示している。FIG. 1(b) shows the configuration of an apparatus for HIP processing.

この装置は、高内圧に耐え19る圧力容器19を備え、
この圧力容器19に高圧ガスを送る加圧装置20を連通
して設(プている。また、圧力容器19内には接合材載
置台21を設け、この接合材載置台21上に接合材17
a、17bを積み重ねた状態で載置Cきるようにしてい
る。さらに、圧力容器1つ内には接合材17a、17b
を加熱するための加熱装置22を設けている。なお、圧
力容器19にも接合材17a、17b等の内装物を搬出
入するための開口部を設GJ、それを塞ぐ密閉蓋を備え
ている。
This device includes a pressure vessel 19 that can withstand high internal pressure,
A pressurizing device 20 for supplying high-pressure gas is installed in communication with this pressure vessel 19. A bonding material mounting table 21 is also provided in the pressure vessel 19, and a bonding material 17 is placed on this bonding material mounting table 21.
A and 17b can be placed in a stacked state. Furthermore, bonding materials 17a and 17b are contained within one pressure vessel.
A heating device 22 for heating is provided. Note that the pressure vessel 19 is also provided with an opening GJ for carrying in and out internal items such as bonding materials 17a and 17b, and is provided with an airtight lid to close the opening GJ.

次に、接合方法について説明する。Next, the joining method will be explained.

接合材17a、17bの接合面17cは、予め機械加工
またはパフ研磨等によって6−3〜25−8程度の粗さ
に仕上げてa3 <。このような仕上げを施した接合材
17a、17bの接合面17cを互いに接触させた場合
、顕微鏡的に拡大した状態では第2図(a)に示すよう
に点接触状態となり、固接合材17a、17bの間には
ギャップ23が生じる。即ち、このままの状態でl(r
 P ffi埋したとしても、高圧ガスが固接合材17
a、17bの接合面17c間のギャップ23に入り込み
、接合できない′状態である。
The bonding surfaces 17c of the bonding materials 17a and 17b are finished in advance to a roughness of about 6-3 to 25-8 by machining or puff polishing, etc., to a roughness of a3<. When the bonding surfaces 17c of the bonding materials 17a and 17b that have been finished in this manner are brought into contact with each other, in a microscopically enlarged state, as shown in FIG. A gap 23 is created between 17b. That is, in this state, l(r
Pffi Even if buried, high-pressure gas will form a solid bonding material 17
It enters the gap 23 between the joining surfaces 17c of the parts a and 17b, making it impossible to join them.

この実施例においては、固接合材17a、17bの接合
面17cを例えばアセトン等で脱脂するとともに、超音
波洗浄し、その後置接合材17a。
In this embodiment, the bonding surfaces 17c of the solid bonding materials 17a and 17b are degreased with, for example, acetone, and are ultrasonically cleaned, followed by the bonding material 17a.

17bを積み重ねた状態で、第1図(a)に示すように
、チャンバ11内の接合材載置台14上にセットする。
17b are stacked and set on the bonding material mounting table 14 in the chamber 11, as shown in FIG. 1(a).

そして、真空ポンプ12およびガス導入装置13を用い
てチャンバ11内を真空にする。即ち、まず真空ポンプ
12を作動させ、チャンバ11内の空気を排出させて、
まず所定の真空度にする。次に、ガス導入装置13を作
動させ、チャンバ11内に不活性ガスを充満させる。そ
の後再び真空ポンプ12を作動さゼ、きらに真空度を高
める。これにより、チャンバ11内の真空度を拡散接合
に一般的に用いられる10−4〜1O−5TOrr稈度
とする。チャンバ11内をこのような真空状態にした後
、加圧装置16により接合材17a、17bの接合面1
7cに垂直方向の加圧力を加える。この加圧力は、数に
9 f / tryA以下に設定する。また、この加圧
作用とともに加熱装置18により、固接合材17a、1
7bを加熱する。加熱温度は接合材の材質に応じて適宜
異ならせるが、接合材の融点をTmとした場合、約0 
、7 Tm(K)とする。
Then, the inside of the chamber 11 is evacuated using the vacuum pump 12 and the gas introduction device 13. That is, first, the vacuum pump 12 is activated to exhaust the air in the chamber 11,
First, create a predetermined degree of vacuum. Next, the gas introducing device 13 is activated to fill the chamber 11 with inert gas. Thereafter, the vacuum pump 12 is operated again to further increase the degree of vacuum. Thereby, the degree of vacuum in the chamber 11 is set to 10-4 to 10-5 TOrr, which is generally used for diffusion bonding. After the inside of the chamber 11 is brought into such a vacuum state, the bonding surface 1 of the bonding materials 17a and 17b is pressed by the pressurizing device 16.
Apply vertical pressure to 7c. This pressing force is set to 9 f/tryA or less. In addition to this pressurizing action, the heating device 18 also causes the solid bonding materials 17a, 1
Heat 7b. The heating temperature will vary depending on the material of the bonding material, but if the melting point of the bonding material is Tm, it will be approximately 0.
, 7 Tm(K).

加圧力、温度、保持時間の例を以下に示す。Examples of applied pressure, temperature, and holding time are shown below.

接合材17a、17bがアルミニウム、チタンの場合、
加圧力は0.1に!if/InIA、 A度は900に
1保持時間は30m1nに設定することが望ましい。
When the bonding materials 17a and 17b are aluminum or titanium,
Pressure force is 0.1! If/InIA, it is desirable to set the A degree to 900 and the retention time to 30 m1n.

また、接合材17a、17bがチタンおよび軟鋼である
場合は加圧力を0.2Kgf/s、温度を1100に、
保持時間が2Qmin、!:する。
In addition, when the bonding materials 17a and 17b are titanium and mild steel, the pressing force is 0.2 Kgf/s, the temperature is 1100,
Holding time is 2Qmin! :do.

また、接合材17a、17bが軟11445よびタフピ
ッチ胴の場合には、加圧力を0.5に9f/mrA、温
度を1000に、保持時間をlQminとする。
Further, when the bonding materials 17a and 17b are soft 11445 and tough pitch cylinders, the pressing force is 0.5, 9 f/mrA, the temperature is 1000, and the holding time is 1Qmin.

以上の前処理を施すことにより、第2図(a)に示すよ
うに接合面17Cにギャップ23が存在してたいた固接
合材17a、17bは第2図(b)に示すように、接合
面17cで拡散が起こり、ボイド24が残存する接合面
を有するものとなる。
By performing the above pretreatment, the solid bonding materials 17a and 17b, which had a gap 23 on the bonding surface 17C as shown in FIG. 2(a), can be bonded as shown in FIG. 2(b). Diffusion occurs at the surface 17c, resulting in a bonding surface in which voids 24 remain.

以上の処理は1o 〜10 ’丁orr程度の真空中で
行なっているので、残存するボイド24内も真空になっ
ている。つまり、このような状態の接合材17a、17
bを高圧ガス雰囲気中に置いたとしても、接合面17C
に高圧ガスが入ることはない。
Since the above processing is carried out in a vacuum of about 1 to 10' orr, the remaining void 24 is also in a vacuum. In other words, the bonding materials 17a, 17 in such a state
Even if b is placed in a high pressure gas atmosphere, the bonding surface 17C
No high pressure gas can enter.

そこで、このような仮接合を施した接合材17a、17
bを第1図(b)に示す圧力容器19内にレットして、
以後Hr P処理を施す。1−IIP処理を行なう場合
には、加圧装置20から圧力容器19内に不活性ガスを
挿入して圧力容器19内のガス圧を上界させるとともに
、加熱装置22によって圧力容器19内の温度を上界さ
せ、高温高圧状態で接合材17a、17bを一定時間圧
力容器19内に保持した後、その圧力容器19内を降温
および減圧させる。圧力容器19内の圧力、温度、保持
時間は接合材17a、17bの材質に応じて適宜設定づ
る。その−例を次に示す。接合材17a、17bがアル
ミニウムおよびチタンである場合は、圧ノコ容器19内
の圧力を10〜18/(yf/−1温度を830K、保
持時間を30m1nとする・また、接合材17a、17
bが軟鋼およびタフピッチ胴である場合は、圧力を10
Kgf/s、温度を1000に、保持時間を60Ill
inとする。
Therefore, the bonding materials 17a, 17 subjected to such temporary bonding
Let b into the pressure vessel 19 shown in FIG. 1(b),
Thereafter, HrP treatment is performed. 1-When performing IIP processing, inert gas is inserted into the pressure vessel 19 from the pressurizing device 20 to raise the gas pressure in the pressure vessel 19, and the temperature in the pressure vessel 19 is increased by the heating device 22. After holding the bonding materials 17a and 17b in the pressure vessel 19 for a certain period of time under high temperature and high pressure conditions, the temperature and pressure inside the pressure vessel 19 are lowered. The pressure, temperature, and holding time in the pressure vessel 19 are appropriately set depending on the materials of the bonding materials 17a and 17b. An example of this is shown below. When the bonding materials 17a and 17b are aluminum and titanium, the pressure in the pressure saw container 19 is set to 10 to 18/(yf/-1, the temperature is 830K, and the holding time is 30mln. Also, the bonding materials 17a, 17
If b is mild steel and tough pitch cylinder, increase the pressure to 10
Kgf/s, temperature 1000, holding time 60Ill
In.

このようなH(P処理を行なう際、前処理として両接合
材17a、17bの接合面17Cを拡散接合したことか
ら、その接合面17cには高圧ガスが入る込むことがな
く、HIP処理が確実に行なわれるようになる。即ち、
第2図(C)に示すように、)」IP処理後の接合材1
7a、17bの接合面17Cにはボイドが消滅し、完全
な拡散接合が得られるものである。
When performing such H(P treatment, since the bonding surfaces 17C of both bonding materials 17a and 17b are diffusion bonded as a pretreatment, high-pressure gas does not enter the bonding surfaces 17c, and the HIP treatment is performed reliably. It will be carried out in the future, i.e.
As shown in Fig. 2 (C), the bonding material 1 after IP treatment
The voids disappear in the bonding surface 17C of 7a and 17b, and a perfect diffusion bonding is obtained.

このような実施例の接合方法によれば、前処理から後処
理に至るまで拡散接合の状態で接合1稈を進行するもの
であるから、余分な後処理や加工代が必要なく、十分高
い接合強度が得られるようになる。叩も、(妄合材をキ
ャンニングする従来方法と異なり、HIP処理の後に機
械加工によってキャンニング材を除去する必要がなく、
またキャンニング材と接合材とが拡散するような事態も
なく、したがって拡散層が生成するようなこともないの
で、接合材に特に加工代を加えておく必要もない。また
、接合材を、溶融溶接によって晩い化合物層が生成され
るような異種材料の組合せとしても、従来のように電子
ビーム溶接等でシール溶接するものと異なり、脆い化合
物が生成することも4家い。さらに、ろう材によって接
合面をシールする従来例と異なり、接合面にろう材が残
留し、接合強度がろう付のレベルまで低下する等のおそ
れもない。
According to the joining method of this embodiment, since one culm is joined in the state of diffusion joining from pre-treatment to post-treatment, there is no need for extra post-treatment or processing cost, and a sufficiently high joining rate can be achieved. You will gain strength. Unlike conventional methods of canning material, there is no need to remove the canning material by machining after HIP treatment.
Further, since there is no situation where the canning material and the bonding material diffuse, and therefore no diffusion layer is generated, there is no need to add processing allowance to the bonding material. Furthermore, even if the bonding material is a combination of dissimilar materials in which a slow compound layer is generated by fusion welding, brittle compounds may also be generated, unlike conventional seal welding using electron beam welding etc. Home. Furthermore, unlike conventional examples in which the joint surfaces are sealed with brazing filler metal, there is no risk that the brazing filler metal will remain on the bonding surfaces and the joint strength will drop to the level of brazing.

なお、前記実施例では接合面17Gが平坦な接合材17
a、17bの接合について例示したが、本弁明はそのよ
うなものに限らず、接合面が種々の形状のものであって
も適宜実施できるものである。
In the above embodiment, the bonding material 17 has a flat bonding surface 17G.
Although the examples have been given with respect to the joints a and 17b, the present invention is not limited to such a case, and can be implemented as appropriate even when the joint surfaces have various shapes.

即ち、第3図は接合材25a、25bの外周側接合面2
6aと内方側接合面26bとで段差を右する場合につい
て例示したものである。このような接合材25a、25
bを接合する場合には、HIP処理の前処理としての拡
散接合による仮接合を外周側接合面26aのみに施すよ
うにすればよい。
That is, FIG. 3 shows the outer peripheral side joint surface 2 of the joint materials 25a and 25b.
6a and the inner joint surface 26b have a step on the right side. Such bonding materials 25a, 25
In the case of bonding b, temporary bonding by diffusion bonding as a pre-treatment for the HIP process may be performed only on the outer peripheral side bonding surface 26a.

即ち、接合面仕上げの状態としては、外周側接合面26
aを6−8程度の仕上げとし、内包側接合面26bは2
5−8またはそれ以下の程度の粗仕上げで十分である。
That is, as for the state of the joint surface finish, the outer peripheral side joint surface 26
A has a finish of about 6-8, and the inner capsule side joint surface 26b has a finish of 2
A rough finish of 5-8 or less is sufficient.

そして、前処理に当っては、第1図(a)と同様の状態
で拡散接合による仮接合処理を施すものであるが、この
場合に拡散接合するのは外周側接合面26aのみである
。即ち、外周側接合面26aのみをギャップのない状態
まで接合する。この外周側接合面26aに内部まで貫通
する連続的なギャップが消失するようにすれば、内包側
接合面26bにギャップが残存していても、そのギャッ
プ内は真空状態に保持され、したがって、外周側接合面
26aにボイドが残留している不完全な接合でも十分な
前処理となる。
In the pretreatment, a temporary bonding process by diffusion bonding is performed in a state similar to that shown in FIG. 1(a), but in this case, only the outer peripheral side bonding surface 26a is diffusion bonded. That is, only the outer circumferential joint surface 26a is joined until there is no gap. If the continuous gap penetrating the outer circumference side joint surface 26a is made to disappear, even if a gap remains on the inner capsule side joint surface 26b, the inside of the gap is maintained in a vacuum state, and therefore, the outer circumference Even incomplete bonding in which voids remain on the side bonding surface 26a is sufficient pretreatment.

なお、内包側接合面26bは荒加工仕上げとなっている
ので、仮接合の段階では殆ど接合しない。
Note that since the inner capsule side joint surface 26b has a rough finish, it is hardly joined at the stage of temporary joining.

しかして、後に1−1 I P処理づる場合には、第1
図(b)と同様の状態で処理を行なうものであるが、接
合材25a、25bに外部から作用する高圧ガスは外周
側接合面26aの仮接合によるシール効果により、内包
側接合面26bのギilツフニ入り込むことはない。即
ち、+1 I P処理により、接合材25a、25bの
外周側接合面26aJよび内包側接合面26bでは小イ
ドが完全に消失し、接合を完了させることができる。
Therefore, when performing 1-1 IP processing later, the first
Although the process is carried out in the same condition as shown in FIG. Il Tsufuni will not get into it. That is, by the +1 I P treatment, the small ids completely disappear on the outer peripheral side joint surface 26aJ and the inner capsule side joint surface 26b of the joining materials 25a and 25b, and the joining can be completed.

このような第3図に示す接合材25a、25bについて
の実施例の場合は、接合面全体を精密に仕上げる必要が
なく、また内包側接合面にギャップが存在する状態であ
ってもよく、比較的寸法精度が低い状態でも十分な接合
が行なえるようになる。
In the case of the embodiment of the bonding materials 25a and 25b shown in FIG. Sufficient bonding can be achieved even with low dimensional accuracy.

なお、図示しないが、その他種々の複雑な形状の接合面
を有する接合材に対してb本発明の接合方法は適宜実施
できることは勿論である。
Although not shown, it goes without saying that the bonding method of the present invention can be applied to bonding materials having bonding surfaces of various other complicated shapes.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上のように、本発明の接合方法によれば、HIP処理
の際に接合材の接合面にガスが侵入するのを防止覆るた
めに施す前処理として、真空中でボイドが残存する程度
の拡散接合による仮接合を施すので、何らの後処理が必
要となることもなく、また加工代を接合材に加える必要
もなく、また溶融溶接によって脆い化合物が生じる可能
性のある異種材料の接合等についても何ら問題なく、十
分な強度のHIP処理による接合物が得られるという効
果が奏される。
As described above, according to the bonding method of the present invention, the pretreatment performed to prevent gas from entering the bonding surface of the bonding material during the HIP process is performed by diffusion in a vacuum to the extent that voids remain. Temporary joining is performed by welding, so there is no need for any post-processing, and there is no need to add machining allowance to the joining material. Also, it is suitable for joining dissimilar materials where brittle compounds may be produced by fusion welding. However, there is no problem and the effect is that a bonded product with sufficient strength can be obtained by HIP treatment.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図(a)は本発明に係る接合方法を実施するための
前処理用装置の構成例を示す図、第1図(b)はHIP
処理用装置の構成例を示す図、第2図(a>、(b)、
(c)は本発明の接合方法により接合される接合材の状
態変化の例を順次に示す図、第3図は接合面が複雑な形
状の接合材に本発明の接合方法を適用する場合の前処理
状態を説明する図、第4図(a)、(b)、(c)はそ
れぞれ異なる従来の接合方法の前処理状態を示ず図であ
る。 17a、17b、25a、25b・・・接合材、17C
,26a・・・接合面、24・・・ボイド。 出願人代理人   波 多 野   久第1図 第2図 第3図
FIG. 1(a) is a diagram showing an example of the configuration of a pretreatment device for carrying out the bonding method according to the present invention, and FIG.
A diagram showing an example of the configuration of a processing device, FIG. 2 (a>, (b),
(c) is a diagram sequentially showing examples of changes in the state of bonding materials joined by the bonding method of the present invention, and FIG. FIGS. 4(a), 4(b), and 4(c), which are diagrams for explaining the preprocessing state, are diagrams that do not show the preprocessing states of different conventional bonding methods. 17a, 17b, 25a, 25b...bonding material, 17C
, 26a...Joint surface, 24...Void. Applicant's agent Hisashi Hatano Figure 1 Figure 2 Figure 3

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 接合材を互いに当接し、その接合面に外周側からガスが
侵入するのを防止する前処理を施した後、高圧の不活性
ガスによる等方的な加圧力を前記接合材に高温下で作用
させるHIP処理を施すことにより、拡散接合を行なわ
せる接合方法において、前記前処理として、接合材同士
を真空中でボイドが残存する程度の拡散接合により仮接
合することを特徴とする接合方法。
After the bonding materials are brought into contact with each other and a pretreatment is performed to prevent gas from entering the bonding surfaces from the outer periphery, an isotropic pressurizing force of high-pressure inert gas is applied to the bonding materials at high temperatures. A bonding method in which diffusion bonding is performed by performing a HIP treatment, characterized in that, as the pretreatment, the bonding materials are temporarily bonded to each other by diffusion bonding in a vacuum to such an extent that voids remain.
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