JPS6312982A - 強磁性共鳴吸収の測定方法 - Google Patents
強磁性共鳴吸収の測定方法Info
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- JPS6312982A JPS6312982A JP61157275A JP15727586A JPS6312982A JP S6312982 A JPS6312982 A JP S6312982A JP 61157275 A JP61157275 A JP 61157275A JP 15727586 A JP15727586 A JP 15727586A JP S6312982 A JPS6312982 A JP S6312982A
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Landscapes
- Measurement Of Resistance Or Impedance (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、マイクロ波における損失の小さい強磁性体の
強磁性共鳴吸収の測定方法に関するものである。
強磁性共鳴吸収の測定方法に関するものである。
マイクロ波における損失の小さい強磁性体の強磁性共鳴
吸収を測定する場合には、大きく分けて、(1)共振法
と(2)非共振法がある。前者の共振法は、試料を装荷
する部品がマイクロ波共振器である場合をいう。これは
、強磁性共鳴半値幅△Hが比較的大きい場合や試料寸法
が小さい場合、即ち全体としての共鳴信号が小さい場合
に用いられる。測定装置としては、第14図に示すよう
に空胴共振器3からの反射波を測定する装置が用いられ
る。
吸収を測定する場合には、大きく分けて、(1)共振法
と(2)非共振法がある。前者の共振法は、試料を装荷
する部品がマイクロ波共振器である場合をいう。これは
、強磁性共鳴半値幅△Hが比較的大きい場合や試料寸法
が小さい場合、即ち全体としての共鳴信号が小さい場合
に用いられる。測定装置としては、第14図に示すよう
に空胴共振器3からの反射波を測定する装置が用いられ
る。
マイクロ波電力はマイクロ波発振器1よシ導波管8aを
介してサーキュレータ7で方向を変え空胴共振器3に入
力電力Piとして入る。試料4が空胴共振器3の内部に
配される。別の方法としては共振器の側壁に設けられた
結合孔の近傍に、外部から試料4が配される。強磁性共
鳴が生じない場合は、空胴共振器3と測定系はほぼ臨界
結合の状態にあり、反射電力Prは非常に小さく、Pr
(Piが成立する。このときマイクロ波検出器2の出力
はほぼ零となる。電磁石のポールピース5a・5bによ
多空胴共振器が配された空間に必要な静磁界を発生させ
、強磁性共鳴を生じさせると、空胴共振器6からの反射
電力Prが僅かに増加する。これを信号としてマイクロ
波検出器2が検出する。実際には磁界変調コイル6によ
シ、静電界を僅かに高周波で変動させて、その変化分と
して微分波形を観測するようになっている。この構成の
前提条件は、摂動論が成立する範囲、即ち強磁性共鳴状
態でPr(Piが成立することである。従って、この方
法はPrxPiとなる強磁性共鳴の信号が大きい場合に
は適していない。
介してサーキュレータ7で方向を変え空胴共振器3に入
力電力Piとして入る。試料4が空胴共振器3の内部に
配される。別の方法としては共振器の側壁に設けられた
結合孔の近傍に、外部から試料4が配される。強磁性共
鳴が生じない場合は、空胴共振器3と測定系はほぼ臨界
結合の状態にあり、反射電力Prは非常に小さく、Pr
(Piが成立する。このときマイクロ波検出器2の出力
はほぼ零となる。電磁石のポールピース5a・5bによ
多空胴共振器が配された空間に必要な静磁界を発生させ
、強磁性共鳴を生じさせると、空胴共振器6からの反射
電力Prが僅かに増加する。これを信号としてマイクロ
波検出器2が検出する。実際には磁界変調コイル6によ
シ、静電界を僅かに高周波で変動させて、その変化分と
して微分波形を観測するようになっている。この構成の
前提条件は、摂動論が成立する範囲、即ち強磁性共鳴状
態でPr(Piが成立することである。従って、この方
法はPrxPiとなる強磁性共鳴の信号が大きい場合に
は適していない。
これに対して、非共振法は、第15図に示すようKti
l:料を装荷するマイクロ波部品が通常の短絡線路9の
短絡端である。これは、強磁性共鳴半値幅△Hが比較的
小さい場合や試料寸法が大きい場合、即ち全体としての
共鳴信号が大きい場合に用いられる。但し、強磁性共鳴
が生じない状態での反射電力Prは入射電力Piとほぼ
等しい。測定装置と2しては、第15図のような構成の
ものを用いればよい。しかし、通常のE S R(El
ectron 5pin Res。
l:料を装荷するマイクロ波部品が通常の短絡線路9の
短絡端である。これは、強磁性共鳴半値幅△Hが比較的
小さい場合や試料寸法が大きい場合、即ち全体としての
共鳴信号が大きい場合に用いられる。但し、強磁性共鳴
が生じない状態での反射電力Prは入射電力Piとほぼ
等しい。測定装置と2しては、第15図のような構成の
ものを用いればよい。しかし、通常のE S R(El
ectron 5pin Res。
r+ance )の装置では大きな反射波を測定する一
構成になっていないため、この方法をそのまま用いるこ
とは無理がある。又、試料とマイクロ波の結合が共振法
に比較するとかなり小さいが、短絡線路9の場合、定在
波が生ずるため損失の小さい試料ではまだ結合が大きす
ぎる。
構成になっていないため、この方法をそのまま用いるこ
とは無理がある。又、試料とマイクロ波の結合が共振法
に比較するとかなり小さいが、短絡線路9の場合、定在
波が生ずるため損失の小さい試料ではまだ結合が大きす
ぎる。
強磁性共鳴半値幅△Hが比較的小さい場合や試料寸法が
大きい場合、即ち全体としての共鳴信号が大きい場合、
上述したように短絡線路を用いた非共振法は通常のES
Rの装置に回路的に適合しないという問題点が′あった
。
大きい場合、即ち全体としての共鳴信号が大きい場合、
上述したように短絡線路を用いた非共振法は通常のES
Rの装置に回路的に適合しないという問題点が′あった
。
本発明者はこの問題を解決する方法として既に特願昭6
0−175067号で整合負荷付置導波管の方法を提案
した。この方法は非共振法にもかかわらず通常のESR
の装置に極めて良く適合する。
0−175067号で整合負荷付置導波管の方法を提案
した。この方法は非共振法にもかかわらず通常のESR
の装置に極めて良く適合する。
しかし、この方法は帯磁率の実数部と虚数部がいつも混
在した形で測定される不具合があった。また、ΔHの測
定精度を上げようとすると結合度をどんどん下げる必要
があるため検出7!8度も低下するという現象もあった
。
在した形で測定される不具合があった。また、ΔHの測
定精度を上げようとすると結合度をどんどん下げる必要
があるため検出7!8度も低下するという現象もあった
。
本発明の目的は、通常のESRの装置に適合する非共振
法として整合負荷付置導波管法を用い、高感度で帯磁率
の虚数部と実数部を分けて測定する方法を提供すること
である。
法として整合負荷付置導波管法を用い、高感度で帯磁率
の虚数部と実数部を分けて測定する方法を提供すること
である。
本発明は、伝送線路の一方に整合負荷を設け、該伝送線
路のある部分に一個以上の結合孔を設け、測定すべき強
磁性体の試料を該結合孔部分に電磁気的に結合させ、強
磁性共鳴のため外部から静磁界を印加し、該伝送線路の
他方からマイクロ波電力を入射し、その反射波を測定す
る方法において、マイクロ波発振器の出力の一部を分岐
して標準波とし、該反射波と該標準波とを干渉させ、そ
れを整流して出力信号としたことを特徴とする強磁性共
鳴吸収の測一定方性である。
路のある部分に一個以上の結合孔を設け、測定すべき強
磁性体の試料を該結合孔部分に電磁気的に結合させ、強
磁性共鳴のため外部から静磁界を印加し、該伝送線路の
他方からマイクロ波電力を入射し、その反射波を測定す
る方法において、マイクロ波発振器の出力の一部を分岐
して標準波とし、該反射波と該標準波とを干渉させ、そ
れを整流して出力信号としたことを特徴とする強磁性共
鳴吸収の測一定方性である。
又、標準波の位相を変化させることにより、帯磁率の実
数部と虚数部を分けて測定することを特徴とする強磁性
共鳴吸収の測定方法である。
数部と虚数部を分けて測定することを特徴とする強磁性
共鳴吸収の測定方法である。
本発明の測定装置では、第1図に示すような検波方法が
用いられる。試料から反射してくる微少な検出信号6r er=A−cos (ωt+φr> (1
)及びマイクロ波発振器の信号の一部を方向性結合器に
より分岐して導かれる標準信号e。
用いられる。試料から反射してくる微少な検出信号6r er=A−cos (ωt+φr> (1
)及びマイクロ波発振器の信号の一部を方向性結合器に
より分岐して導かれる標準信号e。
e、−+ B−cos (ωを十φ、 >
(2)の両者が合成されetとなシ、検出器2で検波さ
れる。通常の動作状態ではer<elであるので、すな
わちA(Bが成立・する。
(2)の両者が合成されetとなシ、検出器2で検波さ
れる。通常の動作状態ではer<elであるので、すな
わちA(Bが成立・する。
e t= e f + 6 。
=co8ωt(Acosφ、 十B C!O8φ、)−
ainωt (A sinφ、 + B sinφ、)
=Acosωt−Bcosωt (3a)ただ
し、 A=Acosφr十B cosφa (3b
)B’ = A sinφ、 十B sinφs
(lc)である。
ainωt (A sinφ、 + B sinφ、)
=Acosωt−Bcosωt (3a)ただ
し、 A=Acosφr十B cosφa (3b
)B’ = A sinφ、 十B sinφs
(lc)である。
半波整流の場合には、笑際には実効値の半分が検波され
るので出力信号は となるo (3a)、(3b)、(3e)を(4)式に
代入しA(Bを考慮して計算すると =B/(2σ)× を得る。この検波の出力信号は反射電界e、の振幅と標
準波と反射波の位相差の関数である。
るので出力信号は となるo (3a)、(3b)、(3e)を(4)式に
代入しA(Bを考慮して計算すると =B/(2σ)× を得る。この検波の出力信号は反射電界e、の振幅と標
準波と反射波の位相差の関数である。
(5)式において、試料の強磁性共鳴の情報を含んでい
るものはAとφ、である。通常のESRの検出信号は磁
界変調されたものである。そこで、(5)式を磁界で微
分すると となる。ここでσは(10)式で示すように外部磁界に
比例する無次元数でσ=γH/ωである。(6)式を変
形すると次のようになる。
るものはAとφ、である。通常のESRの検出信号は磁
界変調されたものである。そこで、(5)式を磁界で微
分すると となる。ここでσは(10)式で示すように外部磁界に
比例する無次元数でσ=γH/ωである。(6)式を変
形すると次のようになる。
標準信号の位相φ3がいろいろ変化すると出力信号も上
式に従って変化する。特別な場合として次の二つについ
て計算結果を示す。
式に従って変化する。特別な場合として次の二つについ
て計算結果を示す。
1)φ3=Ooこの場合は、(7)式の第2項が零とな
る。
る。
2)φ、=π/2゜この場合は、(7)式の第1項が零
となる。
となる。
ただし、上式の第2項目の微分は
とも表される。
本発明において、測定すべき試料と伝送線路との結合状
態は第2図の等価回路で表される。zoは伝送線路の特
性インピーダンスである。rZc+は整合負荷の実数部
分の特性インピーダンスからのずれを示す。点線のLC
共振回路は整合負荷のりアクタンス部分を表す。測定周
波数をこの共振周波数に選べばこのLC共振回路は無視
できる。直列に接続されたブロック内の回路定数は装荷
された強磁性試料を示す。βは線路と試料の結合状態を
表す定数である。
態は第2図の等価回路で表される。zoは伝送線路の特
性インピーダンスである。rZc+は整合負荷の実数部
分の特性インピーダンスからのずれを示す。点線のLC
共振回路は整合負荷のりアクタンス部分を表す。測定周
波数をこの共振周波数に選べばこのLC共振回路は無視
できる。直列に接続されたブロック内の回路定数は装荷
された強磁性試料を示す。βは線路と試料の結合状態を
表す定数である。
この等価回路は、第6図に示すように、強磁性共鳴の有
効磁界Ho=0.Ha=ωで帯磁率χの実数部χ′(図
中点線)と虚数部χ(図中実線)の両方が零になること
を考慮している。
効磁界Ho=0.Ha=ωで帯磁率χの実数部χ′(図
中点線)と虚数部χ(図中実線)の両方が零になること
を考慮している。
ここで、強磁性共鳴近傍での複素帯磁率χの実数部と虚
数部はそれぞれ次式で表される(参考文献;小西著「フ
ェライトを用いた最近のマイクロは技術」電子通信学会
編 昭和40年pp、10)。
数部はそれぞれ次式で表される(参考文献;小西著「フ
ェライトを用いた最近のマイクロは技術」電子通信学会
編 昭和40年pp、10)。
ただし、ωm=r4πM8.ω1=γHo +αはG1
1bert型の緩和定数である。ωはマイクロ波の角周
波数、4πMsは膜の飽和磁化、HoはKittelの
共鳴条件式より得られる有効磁界、γはgyromag
neticratioである。
1bert型の緩和定数である。ωはマイクロ波の角周
波数、4πMsは膜の飽和磁化、HoはKittelの
共鳴条件式より得られる有効磁界、γはgyromag
neticratioである。
このとき上記の特定周波数で入力端からみたインピーダ
ンス2は Z = Z o (r + B X + jβZ )
(11)で表される。このときの反射係数
は これを実数部と虚数部に分けて指数表示すると(12)
式は /’=Aexp(jφr) (13)
と書ける。又、入射波の振幅が1とすれば(13)式は
反射波e r ”A cos (ωt+φr)の指数表
示でもある。ここで、a=r+βχ′ 、b=βχ と
すると である。
ンス2は Z = Z o (r + B X + jβZ )
(11)で表される。このときの反射係数
は これを実数部と虚数部に分けて指数表示すると(12)
式は /’=Aexp(jφr) (13)
と書ける。又、入射波の振幅が1とすれば(13)式は
反射波e r ”A cos (ωt+φr)の指数表
示でもある。ここで、a=r+βχ′ 、b=βχ と
すると である。
〈検出信号が非常に小さい場合〉
ここで特殊な場合として結合が極めて弱い状態(a 、
b (1)及びoff −resonanceの整合
が良好である状態(r<1)を考えてみよう。この条件
のもとでは(14)〜(17)式は簡単になシe r
= (1/2) 2 cos (ωを十φF)tanφ
r = b / a e08φr=a/1 sinφr=b/1 となる。
b (1)及びoff −resonanceの整合
が良好である状態(r<1)を考えてみよう。この条件
のもとでは(14)〜(17)式は簡単になシe r
= (1/2) 2 cos (ωを十φF)tanφ
r = b / a e08φr=a/1 sinφr=b/1 となる。
これを用いて(8a) 、 (8b)式を計算する。
この場合の信号は帯磁率の虚数部にのみ関係している。
この場合の信号が帯磁率の実数部にのみ関係している。
このように検出信号が非常に小さい場合には標準信号の
位相を変えることによシ帯磁率の実数部と虚数部を分け
て測定できる。第6図はω。=1゜α=0.001の場
合に計算した共鳴吸収曲線−である。φ1=0の場合に
はχ“の微分曲線であるが、φ、=π/2の場合にはχ
′の微分曲線となる。それぞれの特異点から△Hは計算
できる。
位相を変えることによシ帯磁率の実数部と虚数部を分け
て測定できる。第6図はω。=1゜α=0.001の場
合に計算した共鳴吸収曲線−である。φ1=0の場合に
はχ“の微分曲線であるが、φ、=π/2の場合にはχ
′の微分曲線となる。それぞれの特異点から△Hは計算
できる。
すなわちφ、=0の場合には、曲線の山と谷の磁界間隔
△「から真の△Hは △H判τ△H’ (20)となる。
△「から真の△Hは △H判τ△H’ (20)となる。
また、φ、=π/2の場合には、曲線が零を切る磁界間
隔△H“と真の△Hは △H=△H’ (21)と同じにな
る。
隔△H“と真の△Hは △H=△H’ (21)と同じにな
る。
〈一般的取シ扱い〉
結合が強い場合には、(14)〜(17)式は簡単にな
らずそのまま数値計算しなければならない。
らずそのまま数値計算しなければならない。
1)φ、=0の場合、検出信号は次のようになる0((
a”(a +2)”−b’+ 4b”(1+a) )
a’+2b (2(a”+b”)+ab”+a”)
b’ )[−2b (2(a”+b”)+a’+ab”
) a’十(4b’(1+a) +a”(2+a”)
−b’)b’) (25)第5図は(22)式を結合係
数βと残留抵抗rをパラメータにして数値計算した結果
である。曲線は点対称のため半分しか示していない。結
合係数βが大きくなるにつれて見かけ上の△Wが次第に
大きくなってゆくのが分かる。また、残留抵抗rの存在
は△Hの測定値にはほとんど影響を与えない。第6図は
結合係数βから計算した反射電力を横軸に、継輪に△H
の補正係数を取った場合の曲線を示す。反射電力比が1
0以上になると急激に補正係数が大きくなることがわか
る。
a”(a +2)”−b’+ 4b”(1+a) )
a’+2b (2(a”+b”)+ab”+a”)
b’ )[−2b (2(a”+b”)+a’+ab”
) a’十(4b’(1+a) +a”(2+a”)
−b’)b’) (25)第5図は(22)式を結合係
数βと残留抵抗rをパラメータにして数値計算した結果
である。曲線は点対称のため半分しか示していない。結
合係数βが大きくなるにつれて見かけ上の△Wが次第に
大きくなってゆくのが分かる。また、残留抵抗rの存在
は△Hの測定値にはほとんど影響を与えない。第6図は
結合係数βから計算した反射電力を横軸に、継輪に△H
の補正係数を取った場合の曲線を示す。反射電力比が1
0以上になると急激に補正係数が大きくなることがわか
る。
第1図は、本発明の第4図の原理等価回路を実現するだ
めの一実施例を示す測定装置のブロック図である。電導
波管10が測定腕となシ、電磁石のポールピース5 a
+ 5 bの間に入る。整合負荷11が電導波管10
の終端に接続されている。試料4は、磁界分布のできる
だけ均一な部分に配され、本実施例の図では導波管の内
部に置かれている。
めの一実施例を示す測定装置のブロック図である。電導
波管10が測定腕となシ、電磁石のポールピース5 a
+ 5 bの間に入る。整合負荷11が電導波管10
の終端に接続されている。試料4は、磁界分布のできる
だけ均一な部分に配され、本実施例の図では導波管の内
部に置かれている。
試料は結合孔を介した導波管の外部であってもかまわな
い。
い。
又、標準波はマイク四波発振器の出力の一部を分岐して
、移相拠13を介して検出部2で反射波と混合される。
、移相拠13を介して検出部2で反射波と混合される。
第1図の本発明の原理ブロック図から分かるように、強
硼性共鳴が生じない場合、入射電力P1はそのまま整合
負荷11で消費されるので、反射電力Prは著しく小さ
い。即ち、Pr<Piが成立する。ポールピース5a*
5bにより磁界が発生し、試料4がマイクロ波と強磁性
共鳴状態になると、電導波管のインピーダンスが変化し
て反射波が生じ、検出部の出力に信号が現れる。第7図
は、第1図の実施例で用いられた電導波管と整合負荷の
実際の寸法を示す。約611Ilφの結合孔が導波管の
H面に開けられている。
硼性共鳴が生じない場合、入射電力P1はそのまま整合
負荷11で消費されるので、反射電力Prは著しく小さ
い。即ち、Pr<Piが成立する。ポールピース5a*
5bにより磁界が発生し、試料4がマイクロ波と強磁性
共鳴状態になると、電導波管のインピーダンスが変化し
て反射波が生じ、検出部の出力に信号が現れる。第7図
は、第1図の実施例で用いられた電導波管と整合負荷の
実際の寸法を示す。約611Ilφの結合孔が導波管の
H面に開けられている。
試料の保持の仕方としては、治具に試料を取υ付けて該
結合孔から直溝波管の中に挿入することが考えられる。
結合孔から直溝波管の中に挿入することが考えられる。
又、別の方法としては第8図に示すように板状の試料4
aを結合孔12に外部から近接もしくは接触させるとい
うことも考えられる。
aを結合孔12に外部から近接もしくは接触させるとい
うことも考えられる。
一般のプロセスでは、LPE膜付きウエーノ・−を加工
することなく、できるだけ早くその物性を調べる必要が
あるので第8図の方法が実用的である。
することなく、できるだけ早くその物性を調べる必要が
あるので第8図の方法が実用的である。
又、他の実施例として、導波管のE面に同じような結合
孔を開けた実験を行ったが、前述の実施例のH面の場合
に比較して両者に大きな差を見いだすことができなかっ
た。
孔を開けた実験を行ったが、前述の実施例のH面の場合
に比較して両者に大きな差を見いだすことができなかっ
た。
約1WφのGa置換YIG球(4式Ms 400G)を
用いて本方式によシ強磁性共鳴吸収曲線を測定した。直
溝波管の結合孔の寸法は6mφを用い、第9図のように
球状試料4bはスライドガラス16の上にセロテープ1
5で貼シ付けた0第10図がとの測定結果である。主共
鳴は約3170(Oe)で起こる。他の吸収は、約25
(Oe〕の低磁界側に僅かな信号が見られるだけで、そ
れ以外はなにも観測されなかった。
用いて本方式によシ強磁性共鳴吸収曲線を測定した。直
溝波管の結合孔の寸法は6mφを用い、第9図のように
球状試料4bはスライドガラス16の上にセロテープ1
5で貼シ付けた0第10図がとの測定結果である。主共
鳴は約3170(Oe)で起こる。他の吸収は、約25
(Oe〕の低磁界側に僅かな信号が見られるだけで、そ
れ以外はなにも観測されなかった。
前述の第4図でφ、を変えた場合の検出波形の計算結果
を述べた。これを確認するために、このGa置換YIG
球を用いて同様な実験を行った。第11図がこの結果で
ある。装置の関係で移相器の位相変化量は数値として測
定できなかったが、図中に移相器のツマミの回転数を示
す。−1,−2,−5゜−4はそれぞれ基準状態より半
時針方向に回転した数である。第4図と第12図を比較
してみると分かるように両者の変化の仕方は定性的に極
めてよく似ている。特に、測定された△Hと△Hは祠T
倍の違いがあシ、理論的予測とほとんど同じである。こ
のことは本発明の計算モデルがかなり正しいことを裏付
けている。
を述べた。これを確認するために、このGa置換YIG
球を用いて同様な実験を行った。第11図がこの結果で
ある。装置の関係で移相器の位相変化量は数値として測
定できなかったが、図中に移相器のツマミの回転数を示
す。−1,−2,−5゜−4はそれぞれ基準状態より半
時針方向に回転した数である。第4図と第12図を比較
してみると分かるように両者の変化の仕方は定性的に極
めてよく似ている。特に、測定された△Hと△Hは祠T
倍の違いがあシ、理論的予測とほとんど同じである。こ
のことは本発明の計算モデルがかなり正しいことを裏付
けている。
第12図は、1インチの直径のGGG (Gadoli
nium Gallium Garnet )ウェーハ
ーの上に作製された約20 μmの厚みのY I G
(Yttrium Iron Garnet)のLPE
(Liquid Phase Epitaxial)
厚膜を結合孔の外側から第8図のように接触させて9.
03GHzの周波数で測定したデータである0結合孔の
直径は6gmφを用いた。この図から見かけ上の△H′
は0.42(Oe)と測定され、真の△Hは3倍し、0
.73〔Oe〕となる。又、強磁性共鳴磁界が5000
(Oe〕であることから、Kittelの共鳴条件式
0式%) より、4式Mgを求めると4式Ms = 1756[O
e]が得られる。この値はYIGの飽和磁化として他の
文献値1800Gとほぼ等しい。
nium Gallium Garnet )ウェーハ
ーの上に作製された約20 μmの厚みのY I G
(Yttrium Iron Garnet)のLPE
(Liquid Phase Epitaxial)
厚膜を結合孔の外側から第8図のように接触させて9.
03GHzの周波数で測定したデータである0結合孔の
直径は6gmφを用いた。この図から見かけ上の△H′
は0.42(Oe)と測定され、真の△Hは3倍し、0
.73〔Oe〕となる。又、強磁性共鳴磁界が5000
(Oe〕であることから、Kittelの共鳴条件式
0式%) より、4式Mgを求めると4式Ms = 1756[O
e]が得られる。この値はYIGの飽和磁化として他の
文献値1800Gとほぼ等しい。
第15図は、本発明の他の実施例である該伝送線路とし
て同111!]線路を用いた場合である。約2GHz以
下の周波数帯での測定に適した伝送線路である0 〔発明の効果〕 本発明の測定方法によれば、従来、測定困難であった低
△Hの試料や寸法の大きい試料の強磁性共鳴吸収を比較
的簡単に測定できる0又、標準波の位相を変化させるこ
とにより強磁性体のマイクロ波帯a率の虚数部と実数部
を分りて測定できる0
て同111!]線路を用いた場合である。約2GHz以
下の周波数帯での測定に適した伝送線路である0 〔発明の効果〕 本発明の測定方法によれば、従来、測定困難であった低
△Hの試料や寸法の大きい試料の強磁性共鳴吸収を比較
的簡単に測定できる0又、標準波の位相を変化させるこ
とにより強磁性体のマイクロ波帯a率の虚数部と実数部
を分りて測定できる0
第1図は本発明の根幹を成す検波方法と整合負荷打直導
波管法の組み合わせプ四ツク図、第2図は本発明に用い
た非共振法の等価回路図、第6図はマイクロ波帯磁率の
実数部と虚数部の外部磁界依存図、第4図及び第5図は
本発明による検出信号の外部磁界依存図、第6図は反射
電力比と△Hの補正係数の関係図、第7図は本発明の一
実施例を示す整合負荷打直導波管の組み立て図、第8図
及び第9図は本発明の実施例による試料の取υ付は図、
第10図、第11図及び第12図は本発明による検出信
号の外部磁界依存図、第13図は本発明の他の実施例を
示す伝送線路と試料の配置図、γ転命;第14図は従来
技術による共県法を用いた測定装置のブロック図、第1
5図は従来技術による非共振法を用いた測定装置のブロ
ック図である。 第 l 図 第2図 第3図 算 4 図 第 6 回 んdムdeci Power Ra〆r’a Pr/
II第 7 図 第8図 4b−一一疎敦試料 浄IO図 Ext!ernal Field (Oe)竿 l1図 沸12 図 悴73図 17−−−寛河釉諜發外善泳 /a−亥司軸諜B内導詠 第74 図 /−一一マイクロヲiゼ」反巻 2−一一マイクロシ決検出昼 3−一一竺月阿共11昼 4−−一泡り濁l走4式岸十 〇a、61)−−−ポールピーX θ−−−長調コオル 7−−−サーキユを一夕 ゐ、l!b、l/c −一一尊べ良奪 察!5図 ク クーーー短椿導液嘴 事件の表示 昭和61年 特許願 第157275号発明の名称
強磁性共鳴吸収の測定方法補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所 東京都千代田区丸の内二丁目1番2号名称 (5
08)日立金属株式会社 補正の対象 明細書の「発明の詳細な説明」の欄、およ
び「図面」。 補正の内容 別紙の通り 補正の内容 ■、明廁雪の1発明の詳細な説明」の欄の記載を、次の
通り訂iニする。 1、第7頁第(4)式を 2)同頁箱〈6)式を に訂正する。 3、ff18頁第(7)式を に訂正する。 4、同頁箱(8a)式を に訂正する。 5、同頁箱(8b)式を に訂正する。 6、第12頁第2行の「第6図は」を「第5図は」に訂
正する。 7、第14頁第5行から第7行を下記の通りの訂正する
。 記 [本実施例の図では試料tよ結合孔を介した導波管の外
部に置かれている。当然試J”l 4は導波管の内部に
あってもかまわない。」 8、第15頁第14行)r (4πMs 400G
) Jを「(4πMS = 4000 ) Jに訂正す
る。 9、同頁第18行の「セロテープ15」を「セロテープ
15a」に訂正する。 10、第17頁第3行の「真のΔHは3倍し、」を「真
のΔHはff倍し、」に訂正する。 悌 2 図 第3 回
波管法の組み合わせプ四ツク図、第2図は本発明に用い
た非共振法の等価回路図、第6図はマイクロ波帯磁率の
実数部と虚数部の外部磁界依存図、第4図及び第5図は
本発明による検出信号の外部磁界依存図、第6図は反射
電力比と△Hの補正係数の関係図、第7図は本発明の一
実施例を示す整合負荷打直導波管の組み立て図、第8図
及び第9図は本発明の実施例による試料の取υ付は図、
第10図、第11図及び第12図は本発明による検出信
号の外部磁界依存図、第13図は本発明の他の実施例を
示す伝送線路と試料の配置図、γ転命;第14図は従来
技術による共県法を用いた測定装置のブロック図、第1
5図は従来技術による非共振法を用いた測定装置のブロ
ック図である。 第 l 図 第2図 第3図 算 4 図 第 6 回 んdムdeci Power Ra〆r’a Pr/
II第 7 図 第8図 4b−一一疎敦試料 浄IO図 Ext!ernal Field (Oe)竿 l1図 沸12 図 悴73図 17−−−寛河釉諜發外善泳 /a−亥司軸諜B内導詠 第74 図 /−一一マイクロヲiゼ」反巻 2−一一マイクロシ決検出昼 3−一一竺月阿共11昼 4−−一泡り濁l走4式岸十 〇a、61)−−−ポールピーX θ−−−長調コオル 7−−−サーキユを一夕 ゐ、l!b、l/c −一一尊べ良奪 察!5図 ク クーーー短椿導液嘴 事件の表示 昭和61年 特許願 第157275号発明の名称
強磁性共鳴吸収の測定方法補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所 東京都千代田区丸の内二丁目1番2号名称 (5
08)日立金属株式会社 補正の対象 明細書の「発明の詳細な説明」の欄、およ
び「図面」。 補正の内容 別紙の通り 補正の内容 ■、明廁雪の1発明の詳細な説明」の欄の記載を、次の
通り訂iニする。 1、第7頁第(4)式を 2)同頁箱〈6)式を に訂正する。 3、ff18頁第(7)式を に訂正する。 4、同頁箱(8a)式を に訂正する。 5、同頁箱(8b)式を に訂正する。 6、第12頁第2行の「第6図は」を「第5図は」に訂
正する。 7、第14頁第5行から第7行を下記の通りの訂正する
。 記 [本実施例の図では試料tよ結合孔を介した導波管の外
部に置かれている。当然試J”l 4は導波管の内部に
あってもかまわない。」 8、第15頁第14行)r (4πMs 400G
) Jを「(4πMS = 4000 ) Jに訂正す
る。 9、同頁第18行の「セロテープ15」を「セロテープ
15a」に訂正する。 10、第17頁第3行の「真のΔHは3倍し、」を「真
のΔHはff倍し、」に訂正する。 悌 2 図 第3 回
Claims (2)
- (1)伝送線路の一方に整合負荷を設け、該伝送線路の
一部分に一個以上の結合孔を設け、測定すべき強磁性体
の試料を結合孔部分に電磁気的に結合させ、強磁性共鳴
のため外部から静磁界を印加し、該伝送線路の他方から
マイクロ波電力を入射し、その反射波を測定するマイク
ロ波装置において、マイクロ波電力を発生するマイクロ
波発振器の出力の一部を分岐して標準波とし、反射波と
標準波とを干渉させ、この干渉波を整流して出力信号と
したことを特徴とする強磁性共鳴吸収の測定方法。 - (2)特許請求の範囲第1項記載の方法において、上記
標準波の位相を変化させてマイクロ波帯磁率の実数部と
虚数部を分離して測定することを特徴とする強磁性共鳴
吸収の測定方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61157275A JPH0641970B2 (ja) | 1986-07-04 | 1986-07-04 | 強磁性共鳴吸収の測定方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61157275A JPH0641970B2 (ja) | 1986-07-04 | 1986-07-04 | 強磁性共鳴吸収の測定方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6312982A true JPS6312982A (ja) | 1988-01-20 |
JPH0641970B2 JPH0641970B2 (ja) | 1994-06-01 |
Family
ID=15646091
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61157275A Expired - Lifetime JPH0641970B2 (ja) | 1986-07-04 | 1986-07-04 | 強磁性共鳴吸収の測定方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0641970B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018017630A (ja) * | 2016-07-28 | 2018-02-01 | 国立大学法人京都大学 | 緩和時間測定方法及び磁気共鳴測定装置 |
CN113466755A (zh) * | 2020-03-31 | 2021-10-01 | 横河电机株式会社 | 磁检测设备和磁检测方法 |
CN113820034A (zh) * | 2020-12-11 | 2021-12-21 | 中冶长天国际工程有限责任公司 | 一种微波场中在线测温方法 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10761154B2 (en) * | 2018-01-19 | 2020-09-01 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Ferromagnetic resonance (FMR) electrical testing apparatus for spintronic devices |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5180284A (ja) * | 1975-01-09 | 1976-07-13 | Nippon Electron Optics Lab | Denshisupinkyomeisochi |
JPS6038671A (ja) * | 1983-08-10 | 1985-02-28 | Nec Corp | Esr測定自動化システム |
JPS6235275A (ja) * | 1985-08-09 | 1987-02-16 | Hitachi Metals Ltd | 強磁性共鳴吸収の測定方法 |
-
1986
- 1986-07-04 JP JP61157275A patent/JPH0641970B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5180284A (ja) * | 1975-01-09 | 1976-07-13 | Nippon Electron Optics Lab | Denshisupinkyomeisochi |
JPS6038671A (ja) * | 1983-08-10 | 1985-02-28 | Nec Corp | Esr測定自動化システム |
JPS6235275A (ja) * | 1985-08-09 | 1987-02-16 | Hitachi Metals Ltd | 強磁性共鳴吸収の測定方法 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018017630A (ja) * | 2016-07-28 | 2018-02-01 | 国立大学法人京都大学 | 緩和時間測定方法及び磁気共鳴測定装置 |
CN113466755A (zh) * | 2020-03-31 | 2021-10-01 | 横河电机株式会社 | 磁检测设备和磁检测方法 |
CN113820034A (zh) * | 2020-12-11 | 2021-12-21 | 中冶长天国际工程有限责任公司 | 一种微波场中在线测温方法 |
CN113820034B (zh) * | 2020-12-11 | 2023-09-29 | 中冶长天国际工程有限责任公司 | 一种微波场中在线测温方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0641970B2 (ja) | 1994-06-01 |
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