JPS63127972U - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS63127972U JPS63127972U JP2001687U JP2001687U JPS63127972U JP S63127972 U JPS63127972 U JP S63127972U JP 2001687 U JP2001687 U JP 2001687U JP 2001687 U JP2001687 U JP 2001687U JP S63127972 U JPS63127972 U JP S63127972U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- tray
- masking
- opening
- sputtering
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 11
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 claims description 7
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims description 7
- 230000037431 insertion Effects 0.000 claims description 4
- 238000003780 insertion Methods 0.000 claims description 4
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims 1
Description
第１図は本考案の第１の実施例に係るスパツタ
リング用トレイの基板支持部を示す断面図、第２
図は第１図のスパツタリング用トレイにおける基
板支持部を示す平面図、第３図は前記基板支持部
のマスキング開口部、収納用凹部および挿入用凹
部を示す平面図、第４図は第３図の―線に沿
つて得たトレイにおける基板支持部の断面図、第
５図は本考案の第２の実施例に係るスパツタリン
グ用トレイにおける基板支持部の平面図、第６図
は第５図に示されたスパツタリング用トレイにお
ける基板支持部を構成する押圧装置の一つを示す
斜視図、第７図は第５図の―線に沿つて得た
他の押圧装置を示す正面図、第８図は第５図の
―線に沿つて得た前記他の押圧装置の縦断面図
、第９図は情報記録デイスクを一部破断して示す
斜視図である。 １……情報記録デイスク、２……基板、１０，
２０……スパツタリング用トレイ、１０ａ……基
板支持部、１１……板状部材、１２……マスキン
グ開口部、１３……収納用凹部、１４……挿入用
凹部、１５……基板押え部。
リング用トレイの基板支持部を示す断面図、第２
図は第１図のスパツタリング用トレイにおける基
板支持部を示す平面図、第３図は前記基板支持部
のマスキング開口部、収納用凹部および挿入用凹
部を示す平面図、第４図は第３図の―線に沿
つて得たトレイにおける基板支持部の断面図、第
５図は本考案の第２の実施例に係るスパツタリン
グ用トレイにおける基板支持部の平面図、第６図
は第５図に示されたスパツタリング用トレイにお
ける基板支持部を構成する押圧装置の一つを示す
斜視図、第７図は第５図の―線に沿つて得た
他の押圧装置を示す正面図、第８図は第５図の
―線に沿つて得た前記他の押圧装置の縦断面図
、第９図は情報記録デイスクを一部破断して示す
斜視図である。 １……情報記録デイスク、２……基板、１０，
２０……スパツタリング用トレイ、１０ａ……基
板支持部、１１……板状部材、１２……マスキン
グ開口部、１３……収納用凹部、１４……挿入用
凹部、１５……基板押え部。
Claims (1)
- 円盤状基板を垂直に保持し、その外周部をマス
キングしてスパツタリングにより薄膜を形成する
ために用いるトレイであつて、前記基板よりマス
キング分だけ小径のマスキング開口部と、前記ト
レイの一方の表面側において前記マスキング開口
部の周縁部に該開口部のほぼ半分の円弧に沿つて
該開口部と同心で形成された収納用凹部および他
の半分の円弧に沿つて形成された挿入用凹部と、
前記収納用凹部を覆うように前記トレイに設けら
れた基板押え部とを含み、前記挿入用凹部の内周
縁が形成する半円形の中心部が前記マスキング開
口部の中心位置に対して前記挿入用凹部形成側に
偏心していることを特徴とするスパツタリング用
トレイ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001687U JPS63127972U (ja) | 1987-02-16 | 1987-02-16 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001687U JPS63127972U (ja) | 1987-02-16 | 1987-02-16 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63127972U true JPS63127972U (ja) | 1988-08-22 |
Family
ID=30815135
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001687U Pending JPS63127972U (ja) | 1987-02-16 | 1987-02-16 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63127972U (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS616274A (ja) * | 1984-03-27 | 1986-01-11 | ライボルト−ヘレ−ウス・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツング | 基板用の保持装置 |
-
1987
- 1987-02-16 JP JP2001687U patent/JPS63127972U/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS616274A (ja) * | 1984-03-27 | 1986-01-11 | ライボルト−ヘレ−ウス・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツング | 基板用の保持装置 |
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