JPS6311727B2 - - Google Patents

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JPS6311727B2
JPS6311727B2 JP55026865A JP2686580A JPS6311727B2 JP S6311727 B2 JPS6311727 B2 JP S6311727B2 JP 55026865 A JP55026865 A JP 55026865A JP 2686580 A JP2686580 A JP 2686580A JP S6311727 B2 JPS6311727 B2 JP S6311727B2
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JP
Japan
Prior art keywords
layer
film
insulating film
desired pattern
deposited
Prior art date
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Expired
Application number
JP55026865A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS56123628A (en
Inventor
Moritoshi Nakamura
Kazuo Kikuchi
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Alps Alpine Co Ltd
Original Assignee
Alps Electric Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Alps Electric Co Ltd filed Critical Alps Electric Co Ltd
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Publication of JPS56123628A publication Critical patent/JPS56123628A/en
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  • Manufacture Of Switches (AREA)
  • Push-Button Switches (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はキートツプ複合体の形成方法、詳述す
るなら可撓性を有する1枚の絶縁フイルム上に複
数個のキートツプ(キー釦)を一体に形成したキ
ートツプ複合体の形成方法に関し、薄膜型キーボ
ードスイツチに用いて好適な、操作性が良好で組
立ておよび製造が容易であり、表示記号の消ない
メタリツクな高級感のあるキートツプ複合体を提
供することができることを目的とする。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a method for forming a keytop composite, and more specifically, a method for forming a keytop composite in which a plurality of keytops (key buttons) are integrally formed on a single flexible insulating film. Regarding the formation method, the object is to provide a metallic key top composite body suitable for use in a thin film keyboard switch, which has good operability, is easy to assemble and manufacture, and has a metallic, high-class feel that does not erase display symbols. do.

卓上電子計算機等に用いられるキーボードスイ
ツチとしては、第1図に示すように、記号を彫り
込んだ成型品から成るキートツプ2を個別に形成
し、これをカバー1の穴1a内に封入し、各キー
2を指で押圧して上部電極5を絶縁基台3に設け
た下部電極4に接離させる構成のものが公知であ
る。しかし、第1図の構成では組立てに際して各
キートツプ2を個別にカバー1の穴1aに封入し
なければならないので、組立作業が煩雑であると
いう欠点があつた。
As shown in Fig. 1, a keyboard switch used in a desktop computer etc. is made by separately forming a key top 2 made of a molded product with a symbol engraved on it, and enclosing it in the hole 1a of the cover 1, so that each key A structure in which the upper electrode 5 is brought into contact with and separated from the lower electrode 4 provided on the insulating base 3 by pressing the electrode 2 with a finger is known. However, the configuration shown in FIG. 1 has the disadvantage that each key top 2 must be individually sealed into the hole 1a of the cover 1 during assembly, making the assembly process complicated.

又、第2図に示すように、絶縁スペーサ8を介
して上下に対向配置された絶縁シート6,6′の
対向面に電極9,9′を形成した薄型キーボード
スイツチも公知である。図中、10は基台であ
る。該第2図の構成においては、上方の絶縁シー
ト6をポリエステルフイルム等の可撓性合成樹脂
フイルムで形成し、その上面に記号を印刷などに
よつて表示し、これを押圧部としているが、これ
では押圧部が他の面と一様に平坦であるため、指
でどこを押しているか判らないと言う不安感を使
用者に与えると共に、高級感が出ないと言う欠点
があつた。加えて、指先で押圧した際に、押圧部
全体に押圧力が加わり、押圧部の中心に集中的に
荷重が加わり難く、このため時として接触信頼性
が低下するという欠点もあつた。
Further, as shown in FIG. 2, a thin keyboard switch is also known in which electrodes 9 and 9' are formed on the opposing surfaces of insulating sheets 6 and 6' that are placed vertically opposite each other with an insulating spacer 8 in between. In the figure, 10 is a base. In the configuration shown in FIG. 2, the upper insulating sheet 6 is formed of a flexible synthetic resin film such as a polyester film, and a symbol is displayed on the upper surface by printing or the like, and this is used as a pressing part. In this case, since the pressing part is flat with the other surfaces, it gives the user a feeling of anxiety as he cannot tell where he is pressing with his fingers, and also has the disadvantage that it does not give a luxurious feel. In addition, when pressed with a fingertip, a pressing force is applied to the entire pressing part, making it difficult to apply a concentrated load to the center of the pressing part, and as a result, contact reliability sometimes deteriorates.

本発明は上記の点に鑑み成されたもので、薄膜
型キーボードスイツチのもつ長所、即ち、組立作
業性並びにスペースフアクターが良好である点を
充分に生かした、キートツプ(押釦)付きの薄膜
型キーボードスイツチ用のキートツプ複合体の形
成方法を提供するものである。
The present invention has been made in view of the above points, and is a thin-film type keyboard switch with a key top (push button) that takes full advantage of the advantages of a thin-film type keyboard switch, namely, ease of assembly and good space factor. A method of forming a keytop composite for a keyboard switch is provided.

以下、本発明の詳細を第3図〜第5図に示した
本発明の1実施例について説明する。
Hereinafter, the details of the present invention will be explained with reference to one embodiment of the present invention shown in FIGS. 3 to 5.

第3図において、11は透光性と可撓性とを兼
ね備えた合成樹脂製の絶縁フイルムで、例えば、
ポリエステル、セルロース・アセテトート材料等
が使用される。12…は上記絶縁フイルム11の
下面側に上部電極として形成された接点パターン
で、銀ペースト、カーボンペースト等の導電ペー
ストを印刷、蒸着等の適宜の手段で被着してあ
る。又、この接点パターン12は、場合によつて
は、酸化インジウム、酸化スズ等で形成された透
明電極とすることもある。
In FIG. 3, 11 is an insulating film made of synthetic resin that has both translucency and flexibility, for example,
Polyester, cellulose acetate materials, etc. are used. 12 is a contact pattern formed as an upper electrode on the lower surface side of the insulating film 11, and a conductive paste such as silver paste or carbon paste is applied by appropriate means such as printing or vapor deposition. In some cases, the contact pattern 12 may be a transparent electrode made of indium oxide, tin oxide, or the like.

13…は、前記接点パターン12…と対応する
位置にあるように、前記絶縁フイルム11の上面
上に被着された公知のフオトレジストより成る第
1の層、14…は、該第1の層13…上に被着さ
れた金属薄膜より成る第2の層で、ステンレス、
アルミニウム等のエツチング可能な金属薄板材料
が選定されている。
13... is a first layer made of a known photoresist deposited on the upper surface of the insulating film 11 at a position corresponding to the contact pattern 12..., and 14... is a first layer of the first layer. 13...A second layer consisting of a thin metal film deposited on top of stainless steel,
An etched sheet metal material such as aluminum is selected.

そして、両層13,14でキートツプ15を構
成すると共に、上記第2の層14…は、第1の層
13…よりも大きな面積に形成され、その表面に
は所定の記号16…(第4図参照)がエツチング
によつて形成されている。
Both layers 13 and 14 constitute a key top 15, and the second layer 14 is formed to have a larger area than the first layer 13, and a predetermined symbol 16 (fourth (see figure) is formed by etching.

17は、合成樹脂基板で、ガラス質基板等から
成る硬質の絶縁基板で、その表面には、前記上部
側の接点パターン12…と対応する下部側の接点
パターン18…が、導電性ペーストによつて形成
されている。19は、一枚の絶縁性樹脂基板より
成るスペーサで、上部側と下部側の接点パターン
12,18が対向する位置に孔20…を穿設して
ある。
Reference numeral 17 denotes a synthetic resin substrate, which is a hard insulating substrate made of a glass substrate or the like, and on its surface, contact patterns 18 on the lower side corresponding to the contact patterns 12 on the upper side are formed with conductive paste. It is formed as follows. Reference numeral 19 denotes a spacer made of a single insulating resin substrate, and holes 20 are formed at positions where the upper and lower contact patterns 12 and 18 face each other.

前記のキートツプ15を絶縁フイルム11上に
形成するには、先ず第5図aの絶縁フイルム11
上の全面にフオトレジストより成る第1の層13
を均一な厚みで被着し、次いで、金属薄板より成
る第2の層14を被着する(第5図b)。フオト
レジストは材料と厚みにもよるが、70〜80℃で5
〜20分程度暖められて固められ、従つて、第2の
層14は第1の層13上にこれによつて仮固定さ
れる。この図bの状態で、絶縁フイルム11の裏
面(第1、第2の層13,14が被着されていな
い側)から、マスクを介して第1の層13が露光さ
れ、該第1の層13におけるキートツプ15を構
成する部分のみが選択的に硬化される。この第1
の層13の硬化によつて、該第1の層13は絶縁
フイルム11並びに第2の層14に完全に密着さ
れる。
In order to form the key top 15 on the insulating film 11, first the insulating film 11 shown in FIG.
A first layer 13 made of photoresist on the entire surface
is applied to a uniform thickness, and then a second layer 14 of sheet metal is applied (FIG. 5b). Depending on the material and thickness, photoresist has a temperature of 5.
The second layer 14 is heated and hardened for about 20 minutes, and thus the second layer 14 is temporarily fixed on the first layer 13. In the state shown in FIG. Only the portion of layer 13 constituting keytop 15 is selectively hardened. This first
By curing the layer 13, the first layer 13 is completely adhered to the insulating film 11 and the second layer 14.

次いで、第5図Cに示すように、第2の層14
上に、メツキレジストと称される樹脂皮膜21が
スクリーン印刷で形成され、80℃前後で15分程度
加熱・硬化される。この樹脂皮膜21は、硬化状
態のフオトレジストを除去しない溶液で除去可能
で、且つ、耐酸性のあるものが選択され、該実施
例においては、トリクレンで除去可能な太陽イン
キ製造(株)製のメツキレジストM―18が用いられて
いる。該樹脂皮膜21はキートツプ15を構成す
る第2の層14上にのみ、被着され、図示してい
ないが、キートツプ15表面に所定の記号16を
形成するため、記号と対応する箇所には樹脂皮膜
21を被着しないでおく。
Next, as shown in FIG. 5C, a second layer 14 is formed.
A resin film 21 called a plating resist is formed on top by screen printing, and is heated and cured at around 80° C. for about 15 minutes. This resin film 21 is selected from one that can be removed with a solution that does not remove the cured photoresist and is acid-resistant. Metsuki resist M-18 is used. The resin film 21 is deposited only on the second layer 14 constituting the key top 15, and although not shown, in order to form a predetermined symbol 16 on the surface of the key top 15, the resin film 21 is applied to the area corresponding to the symbol. The film 21 is not applied.

この状態で、金属薄板より成る第2の層14を
酸性溶中でエツチングすると、この過程で未硬化
のフオトレジスト(第1の層13)も同時にに除
去され、第5図dに示した状態に至る。なお、第
5図dの状態では、キートツプ15の表面となる
第2の層14…には、記号16も同時にエツチン
グによつて形成されていることは勿論である。然
る後、第2の層14上に被着した樹脂皮膜12を
トリクレンで除去し(第5図e)、最後に、絶縁
フイルム11裏面に接点パターン12を形成すれ
ば、接点パターン12付きのキートツプ複合体が
形成される。
In this state, when the second layer 14 made of a thin metal plate is etched in an acid solution, the uncured photoresist (first layer 13) is also removed at the same time, resulting in the state shown in FIG. 5d. leading to. In the state shown in FIG. 5d, it goes without saying that the symbol 16 is also formed by etching on the second layer 14, which is the surface of the key top 15. After that, the resin film 12 deposited on the second layer 14 is removed using trichloride (FIG. 5e), and finally, the contact pattern 12 is formed on the back surface of the insulating film 11. A keytop complex is formed.

なお、上記工程においては、接点パターン12
を最後に形成しているが、接点パターン12を透
明電極として第5図aの状態で、絶縁フイルム1
1裏面に予め形成しておけば、前記第5図b〜e
の工程は同様に行ない得る。
In addition, in the above process, the contact pattern 12
is formed last, but with the contact pattern 12 as a transparent electrode and in the state shown in FIG. 5a, the insulating film 1 is
1. If formed in advance on the back side, the above-mentioned FIGS.
The steps can be performed similarly.

以上、詳述したように本発明に係るキートツプ
複合体の形成方法は、複数のキートツプを同時に
一体に形成できるので、組立てが容易であると共
に、キートツプ15が第1と第2の層13,14
から成り、且つ、手指で押圧する側の第2の層1
4の面積がその下の第1の層13の面積よりも大
きいので、押圧力が集中的に中心に荷重され、従
つて、上部電極が集中的に荷重されて、接触信頼
性を高めることができる。また、第2の層14は
金属薄膜よりなつているので、メタリツクな高級
感を出せ、且つ、記号をエツチングで形成してい
るので、摩耗によつて記号が消滅する恐れもない
等の利点があり、総じて、薄膜型キーボードスイ
ツチとして、製造容易で且つ操作性の良いキート
ツプ付きの製品を提供でき、その実用的価値は顕
著である。
As described above in detail, the method for forming a keytop composite according to the present invention allows a plurality of keytops to be integrally formed at the same time.
and a second layer 1 on the side to be pressed with fingers.
4 is larger than the area of the first layer 13 therebelow, the pressing force is concentrated on the center, and therefore the upper electrode is loaded intensively, increasing contact reliability. can. In addition, since the second layer 14 is made of a thin metal film, it has the advantage of giving a metallic, luxurious feel, and since the symbol is formed by etching, there is no risk of the symbol disappearing due to wear. Overall, it is possible to provide a product with a key top that is easy to manufacture and has good operability as a thin film keyboard switch, and its practical value is remarkable.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図及び第2図はそれぞれ異なる従来例を示
す要部断面図、第3図〜第5図は本発明の一実施
例に係り、第3図は要部断面図、第4図は要部平
面図、第5図a〜fはキートツプ複合体の製造工
程を示す説明図である。 11…絶縁フイルム、12…接点パターン、1
3…第1の層(フオトレジスト)、14…第2の
層(金属薄板)、15…キートツプ、16…記号。
1 and 2 are sectional views of essential parts showing different conventional examples, FIGS. 3 to 5 relate to an embodiment of the present invention, FIG. 3 is a sectional view of essential parts, and FIG. 4 is a sectional view of essential parts. The partial plan view and FIGS. 5a to 5f are explanatory diagrams showing the manufacturing process of the keytop composite. 11... Insulating film, 12... Contact pattern, 1
3... First layer (photoresist), 14... Second layer (metal thin plate), 15... Key top, 16... Symbol.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 透光性と可撓性とを有する一枚の絶縁フイル
ム上にフオトレジストによる成る第1の層を被着
すると共に、該第1の層上に金属薄膜より成る第
2の層を被着し、次いで絶縁フイルムの裏面から
マスクを介して第1の層を露光して所望のパター
ンになるように硬化したのち、上記第2の層上に
所望のパターンでメツキレジストによる樹脂被膜
を印刷形成し、この状態で金属被膜より成る第2
の層を所望のパターンでエツチングすると共に、
このエツチング過程で末硬化のフオトレジストに
よる第1の層をも所望のパターンで除去し、しか
るのち上記第2の層上に被着した樹脂被膜を溶融
除去して、上記絶縁フイルム上に上記第1の層と
第2の積層から成る複数個のキートツプをそれぞ
れ所定の間隔を以つて形成し、上記各キートツプ
における第1の層の面積を第2の層の面積より小
さくすることを特徴とするキートツプ複合体の形
成方法。
1 A first layer made of photoresist is deposited on a single insulating film having translucency and flexibility, and a second layer made of a metal thin film is deposited on the first layer. Then, the first layer is exposed to light through a mask from the back side of the insulating film and cured into a desired pattern, and then a resin film made of a plating resist is printed in a desired pattern on the second layer. In this state, the second layer made of metal film is removed.
In addition to etching the layer in a desired pattern,
In this etching process, the first layer of partially cured photoresist is also removed in a desired pattern, and then the resin film deposited on the second layer is melted and removed, and the second layer is placed on the insulating film. A plurality of key tops each consisting of a first layer and a second laminated layer are formed at predetermined intervals, and the area of the first layer in each of the key tops is smaller than the area of the second layer. How to form a keytop complex.
JP2686580A 1980-03-04 1980-03-04 Key top composite unit Granted JPS56123628A (en)

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JPS56123628A JPS56123628A (en) 1981-09-28
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JPH0244534A (en) * 1988-08-05 1990-02-14 Ricoh Co Ltd Optical pick-up device

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