JPS6311504A - Gas separation material - Google Patents

Gas separation material

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JPS6311504A
JPS6311504A JP61151798A JP15179886A JPS6311504A JP S6311504 A JPS6311504 A JP S6311504A JP 61151798 A JP61151798 A JP 61151798A JP 15179886 A JP15179886 A JP 15179886A JP S6311504 A JPS6311504 A JP S6311504A
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oxygen
gas
membrane
separation material
group
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Yoshiteru Kobayashi
芳照 小林
Isao Konno
勲 今野
Junichi Matsuura
松浦 恂一
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  • Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
  • Gas Separation By Absorption (AREA)
  • Oxygen, Ozone, And Oxides In General (AREA)
  • Solid-Sorbent Or Filter-Aiding Compositions (AREA)

Abstract

PURPOSE:To obtain the title separation material having a high oxygen adsorption and desorption rate and capable of efficiently concentrating oxygen by bringing a composition consisting of a Co salt and an amine compd. having a skeleton shown by a specified formula into contact with a silicon halide compd. CONSTITUTION:A composition consisting of (A) a Co salt (e.g., cobalt thiocyanate) and (B) an amine compd. (e.g., tripropylentetramine and a compd. shown by formula II) having a skeleton expressed by formula I [(n) is 2-10<5> or preferably 2-1,000] is brought into contact with (C) a silicon halide compd. (e.g., silicon tetrafluoride) to obtain the gas separation material. Since the separation performance of the material is high even when the material is used as a gas permselective membrane or as a material for selectively separating gases, oxygen can be highly concentrated. Since the oxygen adsorption and desorption rate of the material is high, oxygen can be concentrated extremely efficiently.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は気体の分離材、特に酸素の分離、濃縮に有用な
気体の選択分離材に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a gas separation material, particularly to a gas selective separation material useful for separating and concentrating oxygen.

酸素は最も広範囲、かつ多世に使用されている気体であ
り、その利用分野として、鋼材の溶接や切断用、高炉、
転炉、平炉への吹き込み等!JA鉄用、窯朶におけるセ
メント、耐火物、ガラス等の尖造用、都市下水や一般産
業廃水の活性汚泥処理用、医療用等への用途が酸素富化
空気の利用も含めて知られている。日本の酸素の使用量
はデ0〜ioo億dに達しそのほとんどは製鉄工業用と
l−て使用されている。
Oxygen is the most widely used gas and has been used for many generations, and its fields of use include welding and cutting steel materials, blast furnaces,
Blow into converter, open hearth, etc.! It is known to be used for JA iron, for sharp construction of cement, refractories, and glass in kilns, for activated sludge treatment of urban sewage and general industrial wastewater, and for medical purposes, including the use of oxygen-enriched air. There is. The amount of oxygen used in Japan has reached 0 to 1 billion yen, and most of it is used for the steel industry.

〔従来の技術およびその問題点〕[Conventional technology and its problems]

酸素の工業的製造は既に今世紀の始めから深冷分離iK
よって行われてきた。この方法は。
Industrial production of oxygen has already been carried out since the beginning of this century using cryogenic separation iK.
Therefore, it has been done. This method is.

大量の酸素を製造するためには都合が良いが。It is convenient for producing large amounts of oxygen.

極めて多11のエネルギーを必要とする。又、オンサイ
トで酸素を利用する場合には、一旦耐圧容器に充填し【
運搬する必要があり、その結果著しく高何なガスを使用
することになり不利である。
It requires an extremely large amount of energy. In addition, when using oxygen on-site, first fill it in a pressure-resistant container [
It is disadvantageous that the gas must be transported, which results in the use of extremely expensive gas.

父、比較的中小規模の酸素の製造方法としては、ゼオラ
イト、分子ふるいやカーボン等の吸着削を使用して空気
から高濃度の酸素を分離・濃縮する方法が最近注目され
てきている。しかし、この方法は電力消費量が多(、従
って酸素の製造コストが高い。
Recently, as a method for producing oxygen on a relatively small to medium scale, methods of separating and concentrating high-concentration oxygen from air using adsorption particles such as zeolite, molecular sieves, and carbon have been attracting attention recently. However, this method consumes a lot of power (and therefore the production cost of oxygen is high).

以上の方法とは別に、酸素錯体を形成する特定の金rA
錯体を分離手法に利用する方法が提案されている。例え
ば、コバルトーンツフ塩基錯体が可逆的に酸素錯体な形
成することは既知であったが、その錯体の安定性に問題
があり1分離システムとしては利用しがたい欠点があっ
た。
Apart from the above method, a specific gold rA that forms an oxygen complex can be used.
Methods have been proposed that utilize complexes in separation techniques. For example, it has been known that a cobalt tones base complex reversibly forms an oxygen complex, but there is a problem with the stability of the complex, making it difficult to use as a one-separation system.

その後/940年代後期4こ米国空事を始めとし一方そ
の放出(脱着)は10℃付近の高温を必要とするので、
その吸脱着には昇降温を必要という欠点があった。
After that, in the late 1940s, four aircraft were used in the United States, and on the other hand, its release (desorption) required a high temperature of around 10 degrees Celsius.
Its adsorption and desorption had the disadvantage of requiring temperature rise and fall.

一方、rf開昭!;9−/2707号公報には、酸素と
の錯化能を有する錯体を含む溶液を多孔質支持体に保持
した膜を通して、空気から酸素を選択的に分離する方法
が開示されている。この方法では、温度を変更せずに膜
の両側における酸素の分圧差を利用して連続的に分離す
ることが可能である。このような膜分離法においては酸
素と窒素の透過速度比が太き(、かつ酸素の透過速度が
大きいことが必要であるが、そのためには用いる錯体の
酸素に附する反応性及び生成する酸素錯体の拡散性がで
きるだけ高いことが望ましいと考えられる。しかるに、
上記特開昭&?−/2707号公報に引用されたケミカ
ルリビュースフ9巻/39頁(/979年)、カナディ
アンジャーナルオブケミストリーj!I巻、7!1.2
頁(/?7A年)、ジャーナルオブジアメリカンケミカ
ルソサイエテイ10−巻3−g5頁(/りざ0年)等に
見られる如(これまで見い出されて研究されてきた酸素
錯体では巨大配位子を必要とし従って拡散性がすこぶる
不満足なものであった。一方、比較的低分子のコバルト
錯体の研究もなされているが、その酸素錯体の安定性は
小さく氷点下という低温においてさえ分解してしまうも
のがほとんどであった。
On the other hand, rf Kaiaki! 9-/2707 discloses a method for selectively separating oxygen from air through a membrane in which a porous support holds a solution containing a complex capable of complexing with oxygen. This method allows continuous separation without changing the temperature by utilizing the difference in partial pressure of oxygen on both sides of the membrane. In such a membrane separation method, it is necessary to have a large permeation rate ratio between oxygen and nitrogen (and a high permeation rate for oxygen, but for this purpose, the reactivity of the complex used with oxygen and the generated oxygen It is considered desirable that the diffusivity of the complex be as high as possible.However,
Tokukai Akira &? -Chemical Review Volume 9/Page 39 (/979) cited in Publication No. 2707, Canadian Journal of Chemistry J! Volume I, 7!1.2
Page (/?7A), Journal of the American Chemical Society Vol. However, research has been conducted on relatively low-molecular cobalt complexes, but the stability of the oxygen complexes is poor and they decompose even at temperatures below freezing. Most of them were things.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

我々は比較的簡単で小さい分子構造を有し。 We have a relatively simple and small molecular structure.

しかも酸素に対する親和性が高く、また特異的かつ速や
かに錯体な形成する遷移金属錯体の探索を行い、これら
を用いる酸素の高選択分離法の開発を目的に鋭意研究を
行ったところ、以下に述べろ特定の化栄構造を有する配
位子及びCo塩とハロゲン化ケイ素化合物から得られる
錯体が特に酸素の高選択分離法として極めて有用である
ことを見い出し本発明に到達した。
In addition, we searched for transition metal complexes that have a high affinity for oxygen and form complexes specifically and quickly, and conducted intensive research with the aim of developing a highly selective separation method for oxygen using these complexes, as described below. The present inventors have discovered that a complex obtained from a ligand having a specific chemical structure, a Co salt, and a halogenated silicon compound is extremely useful, particularly as a highly selective separation method for oxygen, and has thus arrived at the present invention.

即ち、本発明は(A)Co塩と(B)一般式4NHCH
2CHICH2+Q(nはコ以上のB数)の骨格を有す
るアミン化合物からなる組成物に(C)ハロゲン化ケイ
素化合物を接触してなる気体選択分離材に関する。
That is, the present invention provides (A) Co salt and (B) general formula 4NHCH
The present invention relates to a gas selective separation material formed by contacting (C) a halogenated silicon compound with a composition comprising an amine compound having a skeleton of 2CHICH2+Q (n is the number of B greater than or equal to Q).

更に主として非水溶媒の存在下に、成分(A)。Component (A) further primarily in the presence of a non-aqueous solvent.

(B) 、 (C)を接触して得られる気体選択分離材
に関する1、また5本発明はこれら気体選択分離材を含
む気体選択透過膜及び気体選択吸収材に関する。
The present invention relates to a gas selective separation material obtained by contacting (B) and (C), and 5. The present invention relates to a gas selective permeable membrane and a gas selective absorption material containing these gas selective separation materials.

以下に本発明の内容を詳細に説明する。The content of the present invention will be explained in detail below.

成分(A)のCo塩としては(B)一般式+NHCH2
CH2(J(2+rl(nは2以上の整数)の骨格を有
するアミン化合物(以下単に1アミン化合物1と称する
)又はアキシャル塩基CD)と反応しである神の錯体な
形成するものであれば特に限定されないが以下の化合物
を例示できる。
As the Co salt of component (A), (B) general formula +NHCH2
Especially if it reacts with an amine compound (hereinafter simply referred to as 1 amine compound 1) or an axial base CD having a skeleton of CH2 (J (2+rl (n is an integer of 2 or more)) to form a complex. Examples include, but are not limited to, the following compounds.

部ち、酸化コバルト、水酸化コバルト、又、フッ化コバ
ルト、塩化コバル)、臭化コバルト。
cobalt oxide, cobalt hydroxide, cobalt fluoride, cobalt chloride), cobalt bromide.

ヨウ化コバルト等のハロゲン化物並びにその水和物、父
、硫酸コバルト、硝酸コバルト、炭酸コバルト、シアン
化コバルト、チオンアン酸コバルト、過堪素醸コバルト
、過ヨウ素酸コバルト、コバルトテトラフルオロボレー
ト、シュウ酸コバルト、酒石酸コバルト、酢酸コバルト
等の無限酸及び有機酸基並びにその水和物、四にコバル
ト明ばん等の複塩か、コバルトセン等ノ有+Qコバルト
化合物が挙げられる。これらコバルトの原子価は任意に
選ばれるが二価が好ましく、又好適なコバルト塩として
は無段塩が選ばれる。
Halides such as cobalt iodide and their hydrates, cobalt sulfate, cobalt nitrate, cobalt carbonate, cobalt cyanide, cobalt thioanate, perfumed cobalt, cobalt periodate, cobalt tetrafluoroborate, oxalic acid Examples include infinite acids and organic acid groups such as cobalt, cobalt tartrate, and cobalt acetate, and their hydrates, double salts such as cobalt alum, and +Q cobalt compounds such as cobaltocene. The valence of cobalt can be arbitrarily selected, but divalent is preferable, and a stepless salt is selected as a suitable cobalt salt.

成分(B)は一般式−1,NHCH,0H2CH2+n
(nはコ以“ニ下1の整数)の骨格を有するアミン化合
物である。
Component (B) has the general formula -1, NHCH, 0H2CH2+n
It is an amine compound having a skeleton (n is an integer less than or equal to 1).

nの範囲は一〜100,000であり、好ましくは゛・
コル10,000.更に好ましくはλ〜/、000イ゛ から選ばれる。上記一般式を満足するアミン化合物をX
+NHCH20H20H2+nYで表わした場合次の様
な化合物が例示される。即ち、Xが水素、Yがアミノ基
で示される鎖状ポリアミン化合物としては、ジプロピレ
ントリアミン、トリプロピレンテトラミン、テトラグロ
ピレンペンタミン。
The range of n is 1 to 100,000, preferably
Col 10,000. More preferably, it is selected from λ~/,000. An amine compound that satisfies the above general formula is
When expressed as +NHCH20H20H2+nY, the following compounds are exemplified. That is, examples of chain polyamine compounds in which X is hydrogen and Y is an amino group include dipropylenetriamine, tripropylenetetramine, and tetraglopylenepentamine.

ヘプタプロピレンへキサミン、ヘキサプロピレンへブタ
ミン、オリゴプロピレンイミン、ポリプロピレンイミン
が挙げられる。
Examples include heptapropylene hexamine, hexapropylene hexamine, oligopropylene imine, and polypropylene imine.

Xが水素、Yがアミノ基以外の化合物の場合Yとして−
0027、−0RO、−Q=Q 、 −0−、−OR。
When X is hydrogen and Y is a compound other than an amino group, as Y -
0027, -0RO, -Q=Q, -0-, -OR.

一08B−、ORB 、 −0==8 、−8  、−
8R,−0ONHR。
108B-, ORB, -0==8, -8, -
8R, -0ONHR.

−NHCOR、−ON 、 −CH=N−、−0=N−
、−IJH−″。
-NHCOR, -ON, -CH=N-, -0=N-
, -IJH-''.

−NR−、−NR鵞(但し、Rは水素又は有機基)等の
官能基が選ばれ、具体的には H+N只CH2CHz CHz升0H H4NHCH2(3H20H,+TN(CH3)。
Functional groups such as -NR-, -NR- (where R is hydrogen or an organic group) are selected, and specifically, H+N only CH2CHz CHzsho0H H4NHCH2 (3H20H, +TN(CH3).

H+NHOH,0H20馬七JHR H+NHOH2UH2CH!+rNHOOO1,H,。H+NHOH, 0H20 horse seven JHR H+NHOH2UH2CH! +rNHOOO1,H,.

H+14HCH2CH,OH2+rNHCH,0H2C
H,? 。
H+14HCH2CH, OH2+rNHCH, 0H2C
H,? .

H+NHCH,IjH,OH,+rNHCH,OH,O
H,OH。
H+NHCH,IjH,OH,+rNHCH,OH,O
H,OH.

H+NHCH,C!H,OH,)y[ICH,OH,C
H,C!H。
H+NHCH,C! H,OH,)y[ICH,OH,C
H,C! H.

H+NHC馬c H,OH,セNHOH,OH,(!馬
÷ポリスチレン)等の化合物が例示できる。
Examples include compounds such as H+NHC H, OH, NHOH, OH, (!H/Polystyrene).

Xが有機基の場合であってもYとして前記と同様の官能
基を選択でき、具体的な例としてcH3+Nuca、a
H2c馬七NH2゜0sHrG NHOHzOH2C4
hNHz 。
Even when X is an organic group, the same functional group as above can be selected as Y, and a specific example is cH3+Nuca, a
H2c Horse Seven NH2゜0sHrG NHOHzOH2C4
hNHz.

C,H7(NHOH,OH,OH2%NH(OH3) 
C,H7(NHOH,OH,OH2%NH(OH3)
.

CH3+NHC馬(3H,C馬上N(OH3)!01、
H3,(−NHC馬cH,OH,セNH(OH3)01
sH3,+NHOH2C!馬aH,→r NHCss 
Hstポリスチレン+NHCH,CH,OH,%NH2
ポリウレタン+NHCH,0R20)T2+TNH+ポ
リウレタン)等が挙げられる。
CH3+NHC horse (3H, C horseback N (OH3)!01,
H3, (-NHC horse cH, OH, seNH(OH3)01
sH3, +NHOH2C! Horse aH, →r NHCss
Hst polystyrene + NHCH, CH, OH, %NH2
Examples include polyurethane+NHCH, 0R20) T2+TNH+polyurethane), and the like.

択でき (、H3+NHcH,CFi2QH2+T? 。can choose (, H3+NHcH, CFi2QH2+T?.

OHs+NHCHzC1120Hz+rCHs 。OHs + NHCHzC1120Hz + rCHs.

CH3% NTlOH2(3H1OH2+rCEl==
OH2の化合物を具体例として挙げろことができる。な
お、前記X、Yはこれら具体例に限定されるものではな
く、一般式を満足するアミン化合物であれば任意に選択
することができる。
CH3% NTlOH2 (3H1OH2+rCEl==
A specific example is a compound of OH2. Note that X and Y are not limited to these specific examples, and can be arbitrarily selected as long as they are amine compounds that satisfy the general formula.

父、一般式1芭りでffi及び 等の二官能性基及びそれらを含む多官能性有機基を示す
)で表わされろ環状ポリアミン化合物も言まれ、具体例
として+NIH,OH暑C)f25−i 。
Cyclic polyamine compounds represented by the general formula 1 (indicating bifunctional groups such as ffi and polyfunctional organic groups containing them) are also referred to, and specific examples include +NIH, OH C) f25-i .

−+NHC−C馬CFI、f、 、 (NIH,C馬C
馬り等が挙げられる。
-+NHC-C Horse CFI, f, , (NIH,C Horse C
Examples include horse racing.

一方1以上のアミン化合物の例とは別にそれらの誘導体
も本発明のアミン化合物の定義に含まれろ。即ち、ここ
で定義する誘導体とは式+NHOH,OH,OR2+n
中でHの一部又は全部が他の原子又は官能基或いは有機
又は無機ポリマー及びオリゴマー等で置換された化合物
、−にはRが脱離して得られろ不飽和化合物をも意味す
る。
On the other hand, apart from the examples of one or more amine compounds, derivatives thereof are also included in the definition of amine compounds of the present invention. That is, the derivative defined here is the formula +NHOH,OH,OR2+n
In the above, a compound in which part or all of H is substituted with another atom or functional group, or an organic or inorganic polymer or oligomer, etc., and - also refers to an unsaturated compound obtained by elimination of R.

FJえば、′H以外のt撲基を有する誘導体として結合
を有していてもよい)が−例として示されるが、Aは誘
導体中に如何なる形態でN又はCいずれの元素と結合し
ていても、−個以上存在していればよく、従って必ずし
も+NTlcH2(!H20H2+/単20H2+上存
在する必要はない。また。
For example, FJ may have a bond as a derivative having a to group other than 'H) is shown as an example, but A may be bonded to either N or C in any form in the derivative. It is sufficient that there are - or more of +NTlcH2(!H20H2+/single 20H2+).Also.

Aが複数個存在する場合、それらは同一であっても異な
っていてもよい。
When there are multiple A's, they may be the same or different.

−−1以北=111オ目4r枦頷芋1 またAは二官能性以上の多官能性基をも含むが、この場
合は環状化合物を示す。この際Aは以下のn == 3
の例で示すように同一単位内で結合する必要はな(また
異種元素間で結合し曵いてもよい。
--1 to the north = 111 eyes 4 r 枦 nodimo 1 In addition, A also includes a bifunctional or higher polyfunctional group, but in this case it represents a cyclic compound. In this case, A is the following n == 3
As shown in the example above, it is not necessary to bond within the same unit (also, it is possible to bond between different elements).

−NHC馬CH,CHNI(O/H2(、HCH,N)
ICH%O馬CH,−−A1 − NE10H2CH,0FINH(312CH,OH
,NOH,CH20H,−し−、−」 −NT(CHCH,0HNHOH20H20H2NHC
H20H20H,−LA」 また、置換基A中には不飽和結合を含んでいても不願発
明の範囲に入る。
-NHC horse CH, CHNI (O/H2 (, HCH, N)
ICH%O horse CH,--A1-NE10H2CH,0FINH(312CH,OH
,NOH,CH20H,-shi-,-”-NT(CHCH,0HNHOH20H20H2NHC
H20H20H, -LA" Furthermore, even if substituent A contains an unsaturated bond, it falls within the scope of the unclaimed invention.

以上のH以外のrrLIA基Aの具体例として以下オキ
シカルボニル基(−cooR)、ハロホルミル基(−0
0X) 、カルバモイル基(−0ONH2) 、 ヒ)
” 5ジノカルボニル基(−C0kJHNH2) 、 
イミド基(−CO−NH−CO−)、アミジノ基(−C
=NH)、ジアゾ基NH2 (−ON)、イソジアゾ基(−NC)、ホルミル基(−
cqo)、カルボニル基(、Q=Q ) 、水酸基(−
OR)、アルコキシ基(−OR)、フェノキシ基(−〇
ph3  メルカプト基(−8H)、ヒドロペルオキシ
基(−00H)、アミノ基(−NH,)、イミノ基(:
NH) 、ヒドラジノ基(−NHN馬)、スルフィド基
(−8R)、’ペルオキシ基(−00R)、ジアゾ基(
Nz)、アジド基(N3)、ニドOソ基(−No)。
Specific examples of the above rrLIA group A other than H are as follows: oxycarbonyl group (-cooR), haloformyl group (-0
0X), carbamoyl group (-0ONH2), H)
” 5 dinocarbonyl group (-C0kJHNH2),
imido group (-CO-NH-CO-), amidino group (-C
=NH), diazo group NH2 (-ON), isodiazo group (-NC), formyl group (-
cqo), carbonyl group (,Q=Q), hydroxyl group (-
OR), alkoxy group (-OR), phenoxy group (-〇ph3 mercapto group (-8H), hydroperoxy group (-00H), amino group (-NH,), imino group (:
NH), hydrazino group (-NHN horse), sulfide group (-8R), 'peroxy group (-00R), diazo group (
Nz), azide group (N3), nido Oso group (-No).

ニトロ基(N02)  、及び有機基が例示される。Examples include a nitro group (N02) and an organic group.

ここでいう有機基には通常考えられる全ての有機化合物
及び有機金属化合物の基が含ぼれ特に限定しない。例え
ば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペン
チル基、ヘキンル基。
The organic group here includes all organic compounds and organometallic compound groups that are normally considered, and is not particularly limited. For example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hequinyl group.

ヘプチル基、オクチ/L/基、ノニル基、デンル基。Heptyl group, octyl/L/ group, nonyl group, denyl group.

ウンデシル基、ドデシル基、トリデンル基等の直鎖状又
は分岐した飽和脂肪族炭化水素基、エチニル基、アリル
基、ビニル基等の不飽和脂肪族炭化水素基、シクロプロ
ピル、シクロブチル。
Straight chain or branched saturated aliphatic hydrocarbon groups such as undecyl group, dodecyl group, tridenyl group, unsaturated aliphatic hydrocarbon groups such as ethynyl group, allyl group, vinyl group, cyclopropyl, cyclobutyl.

シクロペンチル、シクロヘキンル、シクロオクチル、シ
クロデシル等の脂環式飽和炭化水素基、フルペン、ヘプ
タフルペン、アニュレン等の脂環式不飽和炭化水素基、
フェニル、トルイル。
Alicyclic saturated hydrocarbon groups such as cyclopentyl, cyclohexyl, cyclooctyl, and cyclodecyl; alicyclic unsaturated hydrocarbon groups such as fulpene, heptaflupene, and annulene;
Phenyl, toluyl.

クミル、スチリル、キシリル、シナン、メシチル等の芳
香族炭化水素基、インデン、ナフタレ、)γ・7″′等
0多壇式縮合炭化水素基・ ′−ピロリジニル、3−イ
ソオキサシリル、3−モ0、クホリル、2−フリル、コ
ーピリジル、コーキ゛ノリル、41−ピペリジル、イミ
ダゾイル、ビラジイル。トリアゾイル、テトラゾイル、
ピペリジノ、モルホリノ、フルフリル、コーチニル。
Aromatic hydrocarbon groups such as cumyl, styryl, xylyl, sinane, mesityl, indene, naphthalene, etc. 0, quaphoryl, 2-furyl, copyridyl, coquinolyl, 41-piperidyl, imidazoyl, biradiyl, triazoyl, tetrazoyl,
Piperidino, Morpholino, Furfuryl, Cochinil.

ビロール、チアゾール等の複素環化合物、ベンジル等の
芳香環を有する脂肪族炭化水素基、これら各種の炭化水
素基の誘導体、トリメチルシリル、トリエチルシリル等
の含ケイ素官能基又は上記の含ケイ素百機基、パーフル
オロメチル、パーフルオロエチル等の含フツ素官能基又
は上記の含フッ;lP幾基が例示される。
Heterocyclic compounds such as virol and thiazole, aliphatic hydrocarbon groups having an aromatic ring such as benzyl, derivatives of these various hydrocarbon groups, silicon-containing functional groups such as trimethylsilyl and triethylsilyl, or the above-mentioned silicon-containing functional groups, Examples include fluorine-containing functional groups such as perfluoromethyl and perfluoroethyl, and the above-mentioned fluorine-containing groups.

父、Hの置換基としては、オリゴマー又はポリグーの分
子を用いることもできる。ここで用いるオリゴマーとし
ては分子xioo〜J0.000のものでα−オレフィ
ン、高級アルコール、ポリエチレングリコール、クラウ
ンエーテル、ポリサルファイド、ポリエチレンイミン。
As the substituent for the parent, H, oligomer or polygu molecules can also be used. The oligomers used here have molecules of xioo to J0.000 and include α-olefins, higher alcohols, polyethylene glycols, crown ethers, polysulfides, and polyethyleneimines.

含フツ素オリゴマー、ポリエチレン、ポリプロピレン、
ポリプロピレングリコール、ポリグリセリン、オリゴエ
ステルアクリレート、ポリアクリル酸ナトリウム、アジ
ポニトリル、ボリフ゛テン、ポリイソブチレン、シフミ
ドデカトリエン、液状ポリブタジェン、液状ポリクロロ
プレン、液状ポリペンタジェン、合成テルペノイド。
Fluorine-containing oligomers, polyethylene, polypropylene,
Polypropylene glycol, polyglycerin, oligoester acrylate, sodium polyacrylate, adiponitrile, polybutene, polyisobutylene, cyfmidodecatriene, liquid polybutadiene, liquid polychloroprene, liquid polypentadiene, synthetic terpenoids.

ポリスチレン、石油樹脂、ヒマン油、シリコーン系オリ
ゴマー、ポリイソシアネートオリゴマー、フェノール樹
月旨、アミノ樹月旨、キシリレン樹脂、ケトン樹脂、オ
リゴペプチド、脂質等が例示される。
Examples include polystyrene, petroleum resin, human oil, silicone oligomer, polyisocyanate oligomer, phenol resin, amino resin, xylylene resin, ketone resin, oligopeptide, and lipid.

父、ここで用いるポリマーとは分子量t、oo。Father, the polymer used here has a molecular weight of t, oo.

〜/、00θ9000のもので特に限定しないが、天然
ゴム、ネオプレン、ポリブタジェン、ポリブチレン、ポ
リイノプレン、ポリブテン、ポリエチレン、ポリイノブ
チレン、ポリグーメチルペンテン−/、ポリプロピレン
、ポリアクリル酸。
-/, 00θ9000, but not particularly limited to, natural rubber, neoprene, polybutadiene, polybutylene, polyinoprene, polybutene, polyethylene, polyinobutylene, polymethylpentene/, polypropylene, polyacrylic acid.

ポリブチルアクリレート、ポリイソブチルアクリレート
、ポリメチルアクリレート、ポリソジウムアクリレート
、ポリアクリルアミド、ポリブチルメタクリレート、ポ
リエチルメタクリレート、ポリメチルメタクリレート、
ポリメタクリル酸、ポリソジウムメタクリレート、ポリ
トリメチルシリルメタクリレート、ポリメタクリルアミ
ド、ポリビニルエーテル、ポリビニルチオエーテル、ポ
リビニルアルコール、ポリビニルケトン、ポリビニルク
ロリド、ポリビニリデンクロリド、ポリジフルオロエチ
レン、ポリトリフルオロエチレン、ポリメタクリロニト
リル。
Polybutyl acrylate, polyisobutyl acrylate, polymethyl acrylate, polysodium acrylate, polyacrylamide, polybutyl methacrylate, polyethyl methacrylate, polymethyl methacrylate,
Polymethacrylic acid, polysodium methacrylate, polytrimethylsilyl methacrylate, polymethacrylamide, polyvinyl ether, polyvinyl thioether, polyvinyl alcohol, polyvinyl ketone, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polydifluoroethylene, polytrifluoroethylene, polymethacrylonitrile.

ポリビニルフルオリド、ポリビニリデンフルオリド、ポ
リビニルエステル、ポリビニルアセテ−ト、 2% リ
ビニルホルメート、ポリスチンン。
Polyvinyl fluoride, polyvinylidene fluoride, polyvinyl ester, polyvinyl acetate, 2% ribinyl formate, polystine.

ポリα−メチルスチレン、ポリジビニルベンゼン、ポリ
ビニルカルバゾール、ポリビニルピリジン、ポリビニル
ピロリドン、ポリフェニレン。
Polyα-methylstyrene, polydivinylbenzene, polyvinylcarbazole, polyvinylpyridine, polyvinylpyrrolidone, polyphenylene.

ポリフェニレンオキシド、ポリオキシメチレン。Polyphenylene oxide, polyoxymethylene.

ポリカーボネート、ポリエチレンアジペート。Polycarbonate, polyethylene adipate.

ポリエチレンテレフタレート、ポリエステル。Polyethylene terephthalate, polyester.

ポリウレタン、ポリスルフォン、ニトロソポリマー、ポ
リアミドイミド、ポリシロキサン、ポリサルファイド、
ポリチオエーテル、ポリスルフォンアミド、ポリアミド
、ポリイミド、ボリウンア、ポリフォスフアゼン、ポリ
シラン、ポリシラザン、ポリフラン、ポリベンゾオキサ
ゾール、ポリオキサジアゾール、ポリベンゾチアゾ−/
L/、ポリピロメリットイミド、ポリキノキサリン、ポ
リベンズイミダゾール、ポリオキソインドリン、ポリト
リアジン、ポリピリダジン。
Polyurethane, polysulfone, nitrosopolymer, polyamideimide, polysiloxane, polysulfide,
Polythioether, polysulfonamide, polyamide, polyimide, polyurethane, polyphosphazene, polysilane, polysilazane, polyfuran, polybenzoxazole, polyoxadiazole, polybenzothiazo-/
L/, polypyromellitimide, polyquinoxaline, polybenzimidazole, polyoxoindoline, polytriazine, polypyridazine.

ポリピペラジン、ポリピリジン、ポリピペリジン、ポリ
ピラゾール、ポリピロリジン、ポリカルボラン、ポリフ
ルオレッセン、ポリビシクロノナン、ポリジベンゾフラ
ン、ポリフタライド。
Polypiperazine, polypyridine, polypiperidine, polypyrazole, polypyrrolidine, polycarborane, polyfluorescein, polybicyclononane, polydibenzofuran, polyphthalide.

ポリアセタール、アセチレン系ポリマー及びこれらポリ
マー各々のランダム共重合体、ブロック共重合体、グラ
フト共重合体、及びそれらの化学変性共1合体、含ホウ
素ポリマー、含ケイ累ポリマー、含ゲルマニウムボリャ
ー、含窒素ニウムポリマー、窒化ケイ素ポリマー、窒化
り、・°ンボリマー、リン酸ポリマー、リン含有ポリマ
“−1窒化硫黄ポリマー等の無機ヘテロポリマー。
Polyacetal, acetylene polymers, random copolymers, block copolymers, graft copolymers of these polymers, chemically modified copolymers thereof, boron-containing polymers, silicon-containing polymers, germanium-containing borya, nitrogen-containing Inorganic heteropolymers such as nitride polymers, silicon nitride polymers, nitride polymers, phosphorus polymers, phosphorus-containing polymers, and sulfur nitride polymers.

1′:1゜ j乙!これら無機高分子の有機誘導体、各種の配位高分
子、各種の有機金IF4高分子、イオン性ポリマー、ポ
リイオンコンプレックス、ケイ!塩、llン酸塩、無機
ガラス、活性炭、モレキュラーシーブス、セラミックス
、炭素ポリマー、炭化ケイ素ポリマー等の無機系ポリマ
ー、セルロース。
1': 1゜j Otsu! Organic derivatives of these inorganic polymers, various coordination polymers, various organic gold IF4 polymers, ionic polymers, polyion complexes, K! Salts, llinates, inorganic glasses, activated carbon, molecular sieves, ceramics, carbon polymers, inorganic polymers such as silicon carbide polymers, and cellulose.

デンプン、グリコーゲン、デキストラン、マンナン、ガ
ラクタン、フルクタン叫のホそダリカン、植物ゴム、海
藻多糖類等のへテログリカン、アルギン敗、キチン、エ
チルセルロース等の多糖類及びその誘導体、ポリアミノ
酸類、ポリペプチド頌、脂質及びその誘導体、セファロ
ース。
Heteroglycans such as starch, glycogen, dextran, mannan, galactan, fructan, vegetable rubber, seaweed polysaccharides, polysaccharides and their derivatives such as algin, chitin, ethyl cellulose, polyamino acids, polypeptides, Lipids and their derivatives, Sepharose.

イオン交換樹脂ヒドロゲル、蛋白質及びその誘導体、核
酸及びその誘導体が例示される。
Examples include ion exchange resin hydrogels, proteins and their derivatives, and nucleic acids and their derivatives.

又、不飽和結合を有する誘導体としては上記Aと同様に
アミン化合物中にいかなる形態であっても7以上の不飽
和結合を有すればよ(それが分岐した不飽和結合であっ
ても構わない。具体例の一部としてn=3の場合につい
て以下の例を挙げることができる。
Also, as for derivatives having unsaturated bonds, as in A above, the amine compound should have 7 or more unsaturated bonds in any form (it does not matter if they are branched unsaturated bonds). As part of specific examples, the following example can be given for the case where n=3.

−aHca2an、an−=Nc馬C馬OH,IJHC
−○H,C鳥−−NHOH,OH,C馬NHO馬0H=
=OHNHO馬OH,CH,−−icH,CaH2NH
c4cm、an2Nuca、c馬011.−−NT10
H,C,H=OH2NHOH2CH20馬NHC馬○=
OR(Bはコ価以上の原子又は官能基を示す)成分(C
)のハロゲン化ケイ素化合物とは、1以上のハロゲン−
ケイ素結合を有する全ての化合物を意味し、該条件を満
足していれば混合物であっても、ポリマーであっても艮
い。
-aHca2an, an-=Nc horse C horse OH, IJHC
-○H,C bird--NHOH,OH,C horse NHO horse 0H=
=OHNHO horse OH, CH, --icH, CaH2NH
c4cm, an2Nuca, c horse 011. --NT10
H, C, H = OH2NHOH2CH 20 horses NHC horses ○ =
OR (B represents an atom or functional group with a covalence or higher) component (C
) is a halogenated silicon compound containing one or more halogen-
It means any compound having a silicon bond, and it does not matter whether it is a mixture or a polymer as long as it satisfies the above conditions.

例えば、四フッ化ケイ素、四塩化ケイ素、四臭化ケイ曇
、四ヨウ化ケイ素、ブロモトリクロロシラン、ジクロロ
ジブロモシラン、ジクロロジフロロンラン、トリクaロ
ヨードシラン、トリクロロシラン、ジクロロシラン、ク
ロロシラン、トリヨードシラン、ヘキサフロロジシラン
For example, silicon tetrafluoride, silicon tetrachloride, silica tetrabromide, silicon tetraiodide, bromotrichlorosilane, dichlorodibromosilane, dichlorodifluoronane, trichloridesilane, trichlorosilane, dichlorosilane, chlorosilane, triiodosilane , hexafluorodisilane.

ヘキサクロロジシラン、ヘキサブロモジンラン、ヘキサ
ヨードジシラン、ヘキサクロロジシロキサン、ヘキサジ
0モジシロキサン、ヘキサヨードジシロキサン及びパー
クロロポリシロキサン。
Hexachlorodisilane, hexabromodinelan, hexaiododisilane, hexachlorodisiloxane, hexadiomodisiloxane, hexaiododisiloxane and perchloropolysiloxane.

パーブロモポリシロキサン、バーヨードポリシロキサン
等のパーハロゲン化シロキサンモノマー並びにそれらの
混せ物等の無機ケイ素化合物、トリメチルフロロシラン
、トリメチルクロロシラン、トリメチルブロモシラン、
トリメチルヨードシラン、メチルジクロロシラン、クロ
ロメチルジクロロシラン、ジメチルジクロロシラン。
Inorganic silicon compounds such as perhalogenated siloxane monomers such as perbromopolysiloxane and bayodopolysiloxane, and mixtures thereof, trimethylfluorosilane, trimethylchlorosilane, trimethylbromosilane,
Trimethyliodosilane, methyldichlorosilane, chloromethyldichlorosilane, dimethyldichlorosilane.

メチルトリクロロシラン、メチルトリブロモシラン、メ
チルトリヨードシラン、ジメチルジブロモシラン、ジメ
チルショートシラン、i、3−ショートオクタメチルト
リシラン、ビニルトリクロロンラン、アリルトリクロa
ンラン、ビニルジメチルクロロンラン、アリルジメチル
クロロシラン、/、/−シクロO−/−ンラシクロヘキ
ー*j−ン、 /、/ −’)7fロモー/−シランク
ロヘキサン、/、/−ショート−/−シラシクロヘキサ
ン、/、/−シクロロー/−シランクロブタン、/、/
−シクロCj−/−ンラシクロペンタン等の環状および
鎖状脂肪族ケイ素化合物、フェニルトリクロロシラン、
ジフェニルジクロロシラン。
Methyltrichlorosilane, methyltribromosilane, methyltriiodosilane, dimethyldibromosilane, dimethylshortsilane, i,3-short octamethyltrisilane, vinyltrichlorane, allyltrichlora
Nran, vinyldimethylchloronane, allyldimethylchlorosilane, /,/-cycloO-/-nracyclohexane*j-n, /,/-')7fromo/-silaneclohexane, /,/-short-/-silacyclohexane , /, /-cycloro/-silanecrobutane, /, /
Cyclic and chain aliphatic silicon compounds such as -cycloCj-/-nracyclopentane, phenyltrichlorosilane,
Diphenyldichlorosilane.

トリメチルクロロシラン、フェニルトlJ7”ロモシラ
ン、フェニルトリヨートンラン、ジフェニルジョートン
ラン、トリフェニルヨードシラン、α−ナフチルトリク
ロロ7ラン、α−ナフチルトリヨートンラン、p−メト
キンフェニルトリヨードシラン、ベンジルトリヨードシ
ラン、7ごエニルメチルジクロロンラン、フエ=ルメチ
ー ぼた、これらのハロゲンを含む基が置換したユ無機
および有機高分子も本発明のハロゲン化ケレン、ポリス
チレン等の有機高分子を挙げることができる。更には上
記のハロゲン−ケイ素結合を有する巣位を骨格とする無
機および有機ケイ素高分子を挙げることができろ。
Trimethylchlorosilane, phenyltriiotonane, phenyltriiotonane, diphenyljotonane, triphenyliodosilane, α-naphthyltrichlorosilane, α-naphthyltriiotonane, p-methquine phenyltriiodosilane, benzyltriodosilane Examples of inorganic and organic polymers substituted with halogen-containing groups such as iodosilane, enylmethyldichlororane, fluorine methyldichlorane, and halogenated organic polymers of the present invention include polystyrene and the like. Further examples include inorganic and organosilicon polymers whose skeletons include the above-mentioned nests having halogen-silicon bonds.

以上のハロゲン化ケイ素化合物と他の化合物の反応生成
物または混合物も本発明の範囲に入るし、また結果的に
ハロゲン−ケイ素結合が生成する化合物も本発明のハロ
ゲン化ケイ素化合物である。例えば、フェニル基等のア
リール基または水素基を有するケイ累化合物は塩素、臭
累、ヨウ素等のハロゲンと反応しハロゲン化ケイ素化合
物を生成する。
Reaction products or mixtures of the above halogenated silicon compounds and other compounds also fall within the scope of the present invention, and compounds that result in a halogen-silicon bond are also included in the halogenated silicon compounds of the present invention. For example, a silicon compound having an aryl group such as a phenyl group or a hydrogen group reacts with a halogen such as chlorine, odor, or iodine to produce a halogenated silicon compound.

また1本発明のハロゲン化ケイ素化合物は上記具体fl
+に限定されるものではな(、またそれらをフッ素、塩
素、臭素、ヨウ素等のハロゲンまたは他のハロケン化物
と混合または反応させて使用することもできる。
In addition, one of the halogenated silicon compounds of the present invention is the above-mentioned specific fl.
(Also, they can be used by mixing or reacting with halogens such as fluorine, chlorine, bromine, iodine, or other halogenated compounds.)

上記Co塩とアミン化合物又はハロゲン化ケイ素化合物
との接触反応の前後又はその途中において、更にアキシ
ャル塩基な添加して反応することにより得られる分離材
の酸素分離能を更公報に記載されている如(イミダゾー
ル、ケトン、アミン、アミド、エステル、ラクトン、ス
ルホキシド、ピリジン等のルイス塩基を挙げることがで
きる。そのような化合物の具体例としてはl−メチルイ
ミダゾール1.2−メチルイミダソ°−ル、/、−一ジ
メチルイミダゾール、ベンゾイミダゾール等のイミダゾ
−/L/a、ジメチルスルホキンド、N、N’−ジエチ
ルエチレンジアミン、ゲージメチルアミノピリジン、l
l−アミノピリジン、lI、p’−ピペリジン、ダーメ
トキンビリジン、ダーメチルアミノビリジン、3.y−
ルチジン、3.!−A/チジン、ピリジン、ダーメチル
ビリジン、lI−シアノピリジン、ピペラジン。
Before, during, or after the contact reaction between the Co salt and the amine compound or the silicon halide compound, the oxygen separation ability of the separation material obtained by further adding an axial base and reacting is determined as described in the additional publication. (Lewis bases such as imidazole, ketone, amine, amide, ester, lactone, sulfoxide, and pyridine can be mentioned. Specific examples of such compounds include l-methylimidazole 1.2-methylimidazole, /, -Imidazole such as dimethylimidazole, benzimidazole, etc./L/a, dimethylsulfokind, N,N'-diethylethylenediamine, gauge methylaminopyridine, l
l-aminopyridine, lI, p'-piperidine, dermetquinpyridine, dermethylaminopyridine, 3. y-
Lutidine, 3. ! -A/Tidine, pyridine, dermethylpyridine, lI-cyanopyridine, piperazine.

ダーピロリジノビリジン、N−メチルピラジニウムハラ
イド、ピコリン等のピリジン類、γ−ブチロラクトン等
のラクトン頂、安息酸エチル。
Derpyrrolidinoviridine, N-methylpyrazinium halide, pyridines such as picoline, lactones such as γ-butyrolactone, and ethyl benzoate.

酢酸エチル等のエステル類があり、好ましくはl−メチ
ルイミダゾール、lI−ジメチルアミノピリジン、安息
香鼠エチルが使用される。また。
There are esters such as ethyl acetate, and l-methylimidazole, lI-dimethylaminopyridine, and benzoethyl benzoate are preferably used. Also.

上記骨格を有するポリマー及びポリビニルビクリトン、
ポリビニルピリジン、ポリメチルメタクリレート等のポ
リマー又はそれらのコポリマーもアキシャル塩基として
使用することが出来る。
A polymer having the above skeleton and polyvinyl vicritone,
Polymers such as polyvinylpyridine, polymethyl methacrylate or copolymers thereof can also be used as axial bases.

上記のようにCO塩とアミン化合物又は/’t Oゲン
化ケイ素化合物との接触反応の前後又はその途中におい
て、更にアキシャル塩基を添加して反応させることによ
ってより一層高選択性の分離材を得ることができる。反
応に際しては。
As mentioned above, by further adding an axial base and reacting it before, during or after the contact reaction between the CO salt and the amine compound or the /'t O-genide silicon compound, a separation material with even higher selectivity can be obtained. be able to. When reacting.

必ずしも溶媒は必要ないが、溶媒を便用する場合には1
次の化合物が例示される。即ち、  r −ブチロラク
トン、ジメチルスルホキシド、プロピレンカーボネート
、ジエチルスルホキシド。
A solvent is not necessarily required, but if a solvent is used conveniently, 1
The following compounds are exemplified. Namely, r-butyrolactone, dimethyl sulfoxide, propylene carbonate, diethyl sulfoxide.

N−メチルピロリドン、ジメチルアセトアミド。N-methylpyrrolidone, dimethylacetamide.

r−バレロラクトン、ジメチルホルム了ミド。r-valerolactone, dimethylformamide.

ホルムアミド、C−カプロラクトン、ト11ブチルフォ
スフェート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、
ベンゾニトリル等が挙げられる。
Formamide, C-caprolactone, 11-butyl phosphate, diethylene glycol dimethyl ether,
Examples include benzonitrile.

また前記アキシャル塩基の一部も挙げることができる。Further, some of the above-mentioned axial bases can also be mentioned.

但し、必ずしもこれらの溶媒に限定されろものではない
However, the solvent is not necessarily limited to these solvents.

以上述べたCO塩、アミン化合物、ハロゲン化ケイ素化
合物、アキシャル塩基及び溶媒はそれぞれ7種又はλ種
以上混合して使用してもよい。また、上記定義の範囲外
の化合物と混合して便用することもできる。
The above-mentioned CO salts, amine compounds, halogenated silicon compounds, axial bases, and solvents may be used in combination of 7 types or λ or more types. It can also be conveniently used by mixing it with compounds outside the scope of the above definition.

CO塩とアミン化合物からなる組成物にハロゲン化ケイ
素化合物を接触反応する場合、以下の(イ)〜(ニ)の
方法が例示できるが、これらの方法に限定されるもので
はなく、これらの方法を適宜組み合わせて実施してもよ
い。
When a halogenated silicon compound is catalytically reacted with a composition consisting of a CO salt and an amine compound, the following methods (a) to (d) can be exemplified, but the method is not limited to these methods. You may perform it by combining suitably.

(イ)CO塩とアミン化合物とを反応中又は後にハロゲ
ン化ケイ素化合物と接触反応させる方法。
(a) A method in which a CO salt and an amine compound are catalytically reacted with a halogenated silicon compound during or after the reaction.

(ロ)CO塩とノ・ロゲン化ケイ素化合物を接触後にア
ミン化合物を反応させるか、或いはアミン化合物とハロ
ゲン化ケイ素化合物を接触後にCO塩を反応させる方法
、3 (ハ)ハロゲン化ケイ素化合物の共存下においてCO塩
とアミン化合物を接触反応する方法。
(b) A method in which an amine compound is reacted after contacting a CO salt and a halogenated silicon compound, or a method in which a CO salt is reacted after contacting an amine compound and a halogenated silicon compound, 3. (c) Coexistence of a halogenated silicon compound A method of catalytically reacting a CO salt and an amine compound as described below.

(ニ)(イ)〜(ハ)の方法によるか、又はQO塩とア
ミン化合物から適当な方法により気体選択分離材を調製
した後に1分離対象気体の存在下にハロゲン化ケイ素化
合物を接触させる方法。
(d) A method in which a gas selective separation material is prepared by the methods of (a) to (c) or by an appropriate method from a QO salt and an amine compound, and then a halogenated silicon compound is brought into contact with the gas in the presence of the gas to be separated. .

上記(イ)〜(ハ)の反応は既に例示した溶媒を使用し
ても行なうことが出来るが、(イ)〜()・)の接触反
応前、中及び後のどの段階において溶媒を使用してもよ
く任意に選択できる。又、上5・。その際のアキシャル
塩基の接触又は添加方法は特に限定せず任意に選択でき
る。従って。
The reactions in (a) to (c) above can be carried out using the solvents already exemplified, but the solvents can be used at any stage before, during, or after the catalytic reactions in (a) to () and). It can be selected arbitrarily. Also, top 5. The method of contacting or adding the axial base at that time is not particularly limited and can be arbitrarily selected. Therefore.

CO塩、アミン化合物並びにハロゲン化ケイ素化合物そ
れぞれを上記(イ)〜(ニ)の方法で接触させる時に、
どの反応段階においてアキシャル塩基を添加してもよく
、またアキシャル塩基とハロゲン化ケイ素化合物の混合
物又は反応物を添加してもよい。
When contacting each of the CO salt, amine compound, and halogenated silicon compound by the methods (a) to (d) above,
The axial base may be added at any reaction stage, and a mixture or reactant of the axial base and the silicon halide compound may be added.

以上述べた成分(A)、 (B)、 (C)及びCD)
の接触反応において、用いられる各成分の量は特に限定
しないが、以下の比率で各成分を使用することが好まし
い。
Ingredients (A), (B), (C) and CD) mentioned above
In the catalytic reaction, the amount of each component used is not particularly limited, but it is preferable to use each component in the following ratios.

即ち、アミン化合物とCO塩の比率、アミン化合物/ 
OO塩(モル比)はθ、oi以上が好ましく、更に好ま
しくは0. /〜/ 000.最も好ましくは0.3−
20の範囲から選ばれる。従ってこれらの条件を満足し
ていれば本願発明以外のアミン化合物で希釈されていて
も本願発明の範囲に含まれることは言うまでもない。
That is, the ratio of amine compound to CO salt, amine compound/
The OO salt (molar ratio) is preferably θ,oi or more, more preferably 0. /~/ 000. Most preferably 0.3-
Selected from a range of 20. Therefore, as long as these conditions are satisfied, it goes without saying that even if the composition is diluted with an amine compound other than that of the present invention, it is within the scope of the present invention.

アキシャル塩基とCO塩の比率(モル比)アキンヤル塩
基/Co塩は0.00/以上になるように使用すればよ
いが好ましくはθ、0/〜′に・られろハロゲン化ケイ
素化合物の量をアミン化合物に対する比率(そル比)で
示す場合、ハロゲン化ケイ素化合物/アミン化合物は0
.07以上であれば良いが、好ましくはθ、θり〜10
00、更に好ましくはθ、/〜夕0の範囲から選ばれる
Ratio (mole ratio) of axial base and CO salt: Akinyal base/Co salt should be used so that it is 0.00/or more, but preferably the amount of halogenated silicon compound is θ, 0/~'. When expressed as a ratio (sol ratio) to the amine compound, the silicon halide compound/amine compound is 0.
.. 07 or more, but preferably θ, θ-10
00, more preferably θ, is selected from the range of / to 0.

一方、溶媒を用いる場合は溶媒/CO塩く/θ、000
(モル比)の範囲から這ばれるのが好ましい。この場合
アミン化合物、ハロケン化ケイ素化合物、アキシャル塩
基のCO塩に対する比は前述の範囲から選ばれる。
On the other hand, when using a solvent, solvent/CO salt/θ, 000
(molar ratio). In this case, the ratio of amine compound, silicon halide compound, and axial base to CO salt is selected from the above-mentioned ranges.

反応の温度及び圧力は特に限定しないが一収にはθ〜2
0θ℃、0.0/−/θo klil//ctdで行な
うのが望ましい。又1反応に先立ち原料の熱処理、減圧
処理等の前処理、脱水、脱酸素等の精製を行なうのが好
ましいが、反応中に反応温度。
The reaction temperature and pressure are not particularly limited, but the yield is θ~2
It is preferable to carry out the reaction at 0θ°C and 0.0/−/θo klil//ctd. Further, prior to one reaction, it is preferable to perform pretreatment such as heat treatment and reduced pressure treatment, and purification such as dehydration and deoxidation of the raw materials, but during the reaction, the reaction temperature may vary.

反応圧力等の条件を変えても良い。反応時間は特に限定
しないが0.7〜100時間、望ましくはo、 s〜7
0時間が選ばれる。
Conditions such as reaction pressure may be changed. The reaction time is not particularly limited, but is 0.7 to 100 hours, preferably 0.7 to 7 hours.
0 hours is selected.

気体選択分離材を浴液として用いる1ら合は非水系溶媒
の存在下又は非存在下にOo場、アミン化合物、ハロゲ
ン化ケイ素化合物、及びアキシャル塩基を反応させるこ
とにより得られた生単離した後に再度溶解可能な弓媒に
溶解イ・む−゛当もよい。
When using a gas-selective separation material as a bath liquid, a bioisolated product obtained by reacting an amine compound, a halogenated silicon compound, and an axial base in the presence or absence of a non-aqueous solvent is used. It is also possible to dissolve it in a medium that can be dissolved again later.

次に本発明のCO塩、アミン化合物、ハロゲン化ケイ素
化合物、及びアキンヤルR基’) EZ 応によって得
られた気体選択分離材を用いてtrt一定の気体特に酸
素を選択的に分離する方法を説明過膜について説明する
。気体選択透過膜としての使用方法として本発明の気体
選択分離材(以下1分離材、という)を製膜した基膜に
結合する方法1分離材単独又は他の分子とともに単分子
膜、二分子膜、累積模、層間膜等に製膜する方法1分離
材単独又はその溶液を液膜として多孔膜や異方性膜、或
いは複合膜に含浸又は保持する方法等がある。分離材を
膜に結合させるか。
Next, a method for selectively separating a gas at a constant trt, especially oxygen, using the gas selective separation material obtained by the CO salt, amine compound, halogenated silicon compound, and akinyal R group') EZ reaction of the present invention will be explained. The membrane will be explained. As a method for using it as a gas selective permeation membrane, the gas selective separation material of the present invention (hereinafter referred to as 1 separation material) is bonded to a base membrane formed into a membrane. Method 1: Forming a film into a stacked film, an interlayer film, etc. 1 Methods include impregnating or retaining the separating material alone or its solution as a liquid film in a porous film, an anisotropic film, or a composite film. Will the separation material be bonded to the membrane?

分離材を単独又は他のポリマーと混合して製膜する場合
の膜、或いは上記単分子膜等を保持する基膜及び上記′
g!、膜を保持する目的に使用される支持体の膜の材料
の種類は特に限定されないが、mキセルロース、セルa
−スエステル、ポリカーボネート、ポリエステル、テフ
ロン、ナイロン、アセチルセルロース、ポリアクリロニ
トリル、ポリビニルアルコール、ポリメチルメタクリレ
ート、ポリスルホン、ポリエチレン。
A membrane formed by using a separation material alone or mixed with other polymers, or a base film that holds the above-mentioned monomolecular film, etc., and the above-mentioned ''
g! The type of material of the membrane of the support used for the purpose of holding the membrane is not particularly limited, but m-cellulose, cellulose
-ester, polycarbonate, polyester, Teflon, nylon, acetylcellulose, polyacrylonitrile, polyvinyl alcohol, polymethyl methacrylate, polysulfone, polyethylene.

ポリプロピレン、ポリビニルピリジン、ポリフェニレン
オキサイド、ポリフェニレンオキサイドスルホン酸、ポ
リベンズイミダゾール、ポリイミダゾピロaン、ポリピ
ペラジナミド、ポリスチレン、ポリアミノ酸、ポリウレ
タン、ポリアミノ酸ポリウレタン共重合体、ポリシロキ
サン、ポリシロキサンポリカーボネート共重合体。
Polypropylene, polyvinylpyridine, polyphenylene oxide, polyphenylene oxide sulfonic acid, polybenzimidazole, polyimidazopyrrone a, polypiperazinamide, polystyrene, polyamino acid, polyurethane, polyamino acid polyurethane copolymer, polysiloxane, polysiloxane polycarbonate copolymer Polymer.

ポリトリメチルビニルシラン、コラ−ケン、ポリイオン
錯体、ポリウレア、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミ
ドイミド、ポリ塩化ビニル。
Polytrimethylvinylsilane, Kolaken, polyion complex, polyurea, polyamide, polyimide, polyamideimide, polyvinyl chloride.

スルホン化ポリフルフリルアルコール4の有ift高分
子及びガラス、アルミナ、シリカ、シリカアルミナ、カ
ーボン、金属等の無職物質が挙げられる。
Ift polymers such as sulfonated polyfurfuryl alcohol 4 and non-functional substances such as glass, alumina, silica, silica alumina, carbon, and metals may be mentioned.

これら支持体は平板状、管状、スパイラル状。These supports are flat, tubular, and spiral.

中空糸状のいずれの形態においても使用することができ
る。また、これら支持体は全体が多孔質であっても1表
面のみ緻密層をイ1゛する異方性膜であっても、均質な
膜であってもよい。父、表面に蒸着、コーテング、重合
、プラズマ重合等の方法によって、他の素材の;ζ′g
膜が4 rpされたものであってもよい。全体の厚さは
特に限定されないがlO〜1000μの範囲が好ましい
It can be used in any hollow fiber form. Further, these supports may be entirely porous, may be an anisotropic film having a dense layer on only one surface, or may be a homogeneous film. of other materials by vapor deposition, coating, polymerization, plasma polymerization, etc.
The membrane may have been subjected to 4 rp. The overall thickness is not particularly limited, but is preferably in the range of 10 to 1000 microns.

この様な支持体は更に別の素材と9層して使用すること
もできる。
Such a support can also be used in nine layers with other materials.

次に1分離膜について一般の親状を説明する、子膜が知
られているが、これらの膜は気体の透−: 5辿係数が比較的小さく、より透過係数の高い材料が望
まれてきている。膜が液状の場合には。
Next, I will explain the general characteristics of separation membranes. Child membranes are known, but these membranes have a relatively small trace coefficient, and materials with higher permeability coefficients are desired. ing. If the membrane is liquid.

一般に気体の溶解係数・拡散係数が大きくなり従って透
過係数を太き(することが出来る。更に、この様な液状
の膜の中に、ある気体とのみ選択的に可逆的相互作用を
する物質が含まれる場合にはその気体の透過性を更に上
げることができる。一方、膜の選択性能は膜への気体相
互の溶解度の差、及び膜中での気体相互の拡散速度の差
によって与えられるので、上記の如き特定の気体とのみ
選択的に可逆的相互作用を行なう物質を膜中に含む場合
には、その気体のみの溶解度が増大し選択性能も飛門的
に向上することになる。
In general, the solubility coefficient and diffusion coefficient of gases become larger, and therefore the permeability coefficient becomes thicker.Furthermore, in such a liquid film, there is a substance that selectively and reversibly interacts only with a certain gas. If it is included, the permeability of the gas can be further increased.On the other hand, the selective performance of the membrane is given by the difference in solubility of gases in the membrane and the difference in the rate of diffusion of gases in the membrane. When a membrane contains a substance that selectively and reversibly interacts only with a specific gas as described above, the solubility of only that gas increases and the selectivity improves dramatically.

勿論、固体膜の表面及び内部に、特定の気体とのみ選択
的に可逆的相互作用を行なう物質が含まれる場合も膜の
選択分離性能が向上するが。
Of course, the selective separation performance of the membrane is also improved if the solid membrane contains a substance that selectively and reversibly interacts only with a specific gas on its surface or inside.

一般的には液状の膜の中に、特定の該物質が含まれる場
合の方が膜の選択分離性能はより太き(向上する。この
様な特定の気体とのみ選択的に可逆的相互作用を行なう
物質を含有する膜については多数の例が知られている。
In general, when a specific substance is contained in a liquid membrane, the selective separation performance of the membrane becomes stronger (improved). Numerous examples are known of membranes containing substances that do this.

例えば、ア、;′ 、7/ざダコ号公報)、塩化第一鉄のホルムアミド溶液
による一酸化窒素の分離(A、 1.Ch、 E、Jo
urnal。
For example, A, ;', 7/Zadako Publication), separation of nitric oxide using a formamide solution of ferrous chloride (A, 1.Ch, E, Jo
Urnal.

701/6.AJ、 4’0!r (/970)、 )
 、シフ 7塩基等を配位子とするCO錯体浴液による
酸素の分離(特開昭!19−/コア07号公報)等があ
りこれらの液体膜は支持体となる膜に保持して使用され
る。
701/6. AJ, 4'0! r (/970), )
, Schiff 7 base etc. as a ligand and the separation of oxygen using a CO complex bath liquid (Japanese Patent Application Laid-Open No. 19-19-/Core 07), and these liquid membranes are used by being held on a membrane that serves as a support. be done.

本発明においては特にその方法を限定しないが、前記の
気体選択分離材又はその溶液を液体膜として使用する場
合には、支持体となる膜に接触又は保持して使用される
。その際、気体選択分離材又はその溶液の層の厚みは数
オングストローム以上であれば使用することが出来、特
に限定されない。これらの液膜を無攪拌の状態において
使用する場合は、その厚みは小さい程大きい透過速度が
得られるので好ましい。但し。
Although the method is not particularly limited in the present invention, when the gas selective separation material or its solution is used as a liquid membrane, it is used while being in contact with or held on a membrane serving as a support. In this case, the layer thickness of the gas selective separation material or its solution can be used as long as it is several angstroms or more, and is not particularly limited. When these liquid membranes are used without stirring, it is preferable that the thickness is smaller because a higher permeation rate can be obtained. however.

その厚みが小さ過ぎる場合には分離を目的とする以外の
気体の透過速度も大きくなり選択分離性が低下するので
好ましくない。最も適した膜厚は気体とこれら反応生成
物との結合及び解離η速度定数、平衡定数その他の条件
によって異\l(− くても問題はないが支持膜の表面で拡散層として存在す
る真の膜厚は無攪拌の場合と同程度であることが好まし
い。
If the thickness is too small, the permeation rate of gases other than those intended for separation will increase, resulting in a decrease in selective separation performance, which is not preferable. The most suitable film thickness varies depending on the bonding and dissociation η rate constants, equilibrium constants, and other conditions between the gas and these reaction products. It is preferable that the film thickness is approximately the same as that in the case without stirring.

分離材又はその溶液を支持体に保持した膜を使用し【気
体を分離する場合にはf粛々の方法をとり得るか、高分
子膜による通常の気体分離の場合のように膜の両面間に
分離すべき気体の分圧差をつけて使用する。
When separating gases, a membrane holding the separation material or its solution on a support can be used, or a method can be used to separate the gases between the two sides of the membrane, as in the case of ordinary gas separation using polymer membranes. Used by creating a partial pressure difference between the gases to be separated.

又、膜セルとは別に本発明の分離材又はその溶液を溜め
た容器を置き、ここからポンプでこの液体を膜セルの支
持膜の表面(膜の一次側)に導き循環する方法を用いる
ことも出来る。この場合、溜めの容器において例えば酸
素を光分液体に吸収させ、これを膜セルにおいて膜の二
次側を減圧にすることによって溶解或いは結合した気体
を連続的に解離、脱着させて膜の二次側に導き、酸素を
失った液体を溜めに戻し再び溶解させる操作を連続的に
行なうことにより酸素を高選択的、連続的に取り出す方
法を使用することも出来る。この場合膜セルと溜めの温
度゛瘉独立に設定すれば、酸素の取り出しを用意に1! ・することが出来る。膜セル部分の温度呼特に限”庫さ
れないが例えばO−一〇θ℃の範囲で使用化シ することが出来る。
Alternatively, a method may be used in which a container containing the separation material of the present invention or its solution is placed separately from the membrane cell, and a pump is used to guide the liquid from there to the surface of the supporting membrane (primary side of the membrane) of the membrane cell for circulation. You can also do it. In this case, for example, oxygen is absorbed into the optical liquid in the reservoir container, and the dissolved or combined gas is continuously dissociated and desorbed by reducing the pressure on the secondary side of the membrane in the membrane cell, and the secondary side of the membrane is continuously dissociated and desorbed. It is also possible to use a method of highly selectively and continuously removing oxygen by continuously carrying out an operation in which the oxygen-depleted liquid is returned to the reservoir and dissolved again. In this case, if the temperature of the membrane cell and the reservoir are set independently, oxygen can be extracted easily.・I can do it. Although the temperature of the membrane cell portion is not particularly limited, it can be used within the range of, for example, O-100°C.

次に本発明の分離材を含む気体選択吸収材について説明
する。気体選択吸収材としての使用方法として1不発ル
]の分離材を有機ポリマー。
Next, a gas selective absorbent containing the separation material of the present invention will be explained. Organic polymer is used as a separation material for gas selective absorption.

無4)物等の多孔性の担体に担持させる方法、液状の分
離材単独又はその溶液として使用する方法等が考えられ
ろ。分離材を有機ポリマー又は無機物の多孔性の担体に
担持するに当り、担体として使用できろ材料はアミン化
合物の誘導体の説明の項で例示した前記のポリマー又は
本分離材の支持膜用の材料を例として挙げることが出来
ろ。また1本分離材を吸収液として使用する場合には、
液状の分離材を単独又は他のM媒に溶解した溶液として
使用することが出来ろ。
4) Possible methods include a method in which the separation material is supported on a porous carrier such as a material, a method in which a liquid separation material is used alone or as a solution thereof, and the like. When supporting the separation material on a porous carrier made of an organic polymer or an inorganic material, the materials that can be used as the carrier include the above-mentioned polymers exemplified in the section of the explanation of amine compound derivatives or materials for the support membrane of the present separation material. Can you give me an example? In addition, when using one separation material as an absorbent,
The liquid separation material can be used alone or as a solution in another M medium.

この場合、溶媒は本分離材の製造時に使用したものを、
そのまま用いてもよいし、W′rたに池の溶媒を使用し
てもよい。酸素は本分離材の溶液に他の気体に比べ遇択
的に、より多く溶解できる。この場合分離材の溶液に接
する#R素を含む混合ガスの圧力及び酸素分圧は特に制
限はないが通常混合ガスの圧力は0./〜100ゆ肩、
酸素分圧はθ、oi〜/θkl?/iで使用される。本
分離材のfG′准に接する酵素分圧は尚い程、酸素の一
!θ℃〜IOθ℃で酸素の吸収が行われる。
In this case, the solvent used during the production of this separation material is
It may be used as it is, or a solvent such as W'rtanike may be used. Oxygen can selectively be dissolved in a larger amount in the solution of the separation material than other gases. In this case, the pressure and oxygen partial pressure of the mixed gas containing the #R element in contact with the separation material solution are not particularly limited, but the pressure of the mixed gas is usually 0. /~100 Yu shoulder,
The oxygen partial pressure is θ, oi~/θkl? Used with /i. The partial pressure of the enzyme in contact with fG' of this separation material is even more than that of oxygen! Oxygen absorption occurs between θ°C and IOθ°C.

酸素の吸収速度を大きくする他の方法は気液界面の表面
積を大きくすることであり1分離材浴液中に気体を吹き
込むか又は溶液を楚拌することが望ましい。矢に還択的
に8素をより大きい$lり合いで吸収した分離材の溶液
を減圧にすると酸素に富む気体が放出される。圧力及び
温度は特に1iijl限はないが通常0〜1kg7捌、
0〜200℃で行われる。圧力が低い程、また温度が高
い程酸素の放出には有利である。この場合も溶液を攪拌
下に脱着を行わせる方が放出速度を早めろことが出来有
利である。
Another method of increasing the oxygen absorption rate is to increase the surface area of the gas-liquid interface, and it is desirable to blow gas into the separation material bath liquid or to stir the solution. When the solution of the separation material which has alternatively absorbed a larger amount of the 8 elements is reduced in pressure, an oxygen-rich gas is released. There is no particular limit to the pressure and temperature, but it is usually 0 to 1 kg, 7 cups,
It is carried out at 0-200°C. The lower the pressure and the higher the temperature, the more advantageous it is to release oxygen. In this case as well, it is advantageous to carry out the desorption while stirring the solution because the release rate can be increased.

本発明の分離材を気体選択透A膜として使用する場合の
装置は特に限定しないが例えば以下の方法で行なうこと
が出来る。即ち、分離材を保持した膜をモジュールに装
着し膜の一次側に供給気体の導入口及びパーシロを、膜
の二次側に生成流の取り出し口を設ける。生成流の取り
出し口Kn空ポンプを設は減圧下に膜を透過した生成流
を取り出す。必要に応じてモジュールに接続して圧力調
整器流量側を設ける。このよう・)装置を用いて例えば
空気を膜の一次側に供j・ 給ダC1膜を介して主に酸素を透過し、窒素富化、1 空気を膜の一次IJ1!iのパーシロから、酸素濃掃気
−一;j 体を膜の二次側から取り出す。モジュールから出た9具
富化空気又は酸素濃縮気体は再度供給側に戻して循環し
て使用することも出来る。また、別の方法としてliり
の一次側に気体を供給する代わりに供給気体を溶解した
分離材又はその溶液を供給し、膜の二次側から酸素#!
縮気体を取り出すとともに、膜の一次側のパーシロから
浴解酸集量の減少した分離材の液を取り出す。
Although the apparatus for using the separation material of the present invention as a gas selective permeation A membrane is not particularly limited, the following method can be used, for example. That is, a membrane holding a separation material is mounted on a module, an inlet for a supply gas and a persillary are provided on the primary side of the membrane, and an outlet for a product stream is provided on the secondary side of the membrane. An empty pump is installed at the product stream outlet Kn to take out the product stream that has permeated through the membrane under reduced pressure. If necessary, connect to the module and provide a pressure regulator flow rate side. Using such a device, for example, air is supplied to the primary side of the membrane J/ Feeder C1 mainly permeates oxygen through the membrane and enriched with nitrogen, 1 Air is supplied to the primary side of the membrane IJ1! From the persillo of i, the oxygen-enriched scavenging gas -1;j body is taken out from the secondary side of the membrane. The 9-enriched air or oxygen-enriched gas discharged from the module can also be returned to the supply side and recycled for use. Alternatively, instead of supplying gas to the primary side of the membrane, a separation material or a solution thereof in which the supplied gas is dissolved is supplied, and oxygen #! is supplied from the secondary side of the membrane.
At the same time, the condensed gas is taken out, and the separation material liquid whose amount of acid collected in the bath has decreased is taken out from the persilo on the primary side of the membrane.

溶解酸素酋の減少した分離材の液は供給タンクに戻しこ
こで再び空気等を充分に吸収させて後r)び膜モジュー
ルに供給する。勿論、膜の二次fill ’l X空ポ
ンプで排気して透過ガスを取り出す代わりに後で収素と
分離可能な別の気体を膜の二次倶:jK供紛し、透過気
体の酸素の分圧が供給側のそれより低い状態で操作する
ことも可能で七)る。
The separation material liquid with reduced dissolved oxygen is returned to the supply tank, where it is sufficiently absorbed with air, etc., and then supplied to the membrane module. Of course, instead of removing the permeate gas by pumping the membrane's secondary fill 'l It is also possible to operate with a partial pressure lower than that on the supply side.

次に、本発明の分離材を多孔性の固体に担持して吸収材
として使用する場合には9不分離才を塔等に充填すれば
よい。酸素ヤ含む供給気体を塔の気体供給口から導入し
、主i(92を吸収法で実施されているようにそれぞれ
の塔の吸収。
Next, when the separation material of the present invention is supported on a porous solid and used as an absorbent material, it is sufficient to fill a column or the like with 9 non-separable particles. A feed gas containing oxygen is introduced through the gas inlet of the column and the absorption of each column is carried out in the main i (92) as practiced in the absorption method.

脱着の時間を段階的にずらせてe、累儂綿気体の取り出
しを連続的に行なうことも出来る1、上記の方法は一つ
の例であり、この方法に限定されるものではない。
It is also possible to take out the accumulated cotton gas continuously by shifting the desorption time in stages (1).The above method is one example, and the method is not limited to this method.

次に1本発明の分離材又はその溶液を吸収液として便用
する場合には1分離材の液を吸収液として吸収塔等に充
填する。次に酸素を含む供給気体を吸収塔に導入し、吸
収液に酸素を吸収させる。酸素の減少した気体はパーシ
ロから放出する。次に酸素を吸収した吸収液をストリッ
パー塔に送り減圧下又は加熱下、吸収した酸素濃縮気体
を吸収液から放出させて取り出す。一方、re累を放出
した吸収液を吸収塔に戻して再び空気等を導入し酸素を
吸収させる。この操作を連続的に繰り返す。吸収塔及び
ス) IJツバ−塔には必要に応じて圧縮機、送風機、
ファン、真壁ポンプ、圧力調整機、流量計、循環ポンプ
を接続することが出来ろ。上記の方法は一つの例であり
、この方法に限定されろものではない。
Next, when the separation material of the present invention or its solution is used as an absorption liquid, the liquid of the separation material 1 is filled into an absorption tower or the like as an absorption liquid. Next, a feed gas containing oxygen is introduced into the absorption tower, and the absorption liquid is made to absorb oxygen. The oxygen-depleted gas is released from Persilo. Next, the absorption liquid that has absorbed oxygen is sent to a stripper tower and the absorbed oxygen-enriched gas is released from the absorption liquid and taken out under reduced pressure or heating. On the other hand, the absorption liquid that has released the RE is returned to the absorption tower, and air or the like is introduced again to absorb oxygen. Repeat this operation continuously. Absorption towers and S) IJ tube towers are equipped with compressors, blowers,
You can connect a fan, Makabe pump, pressure regulator, flow meter, and circulation pump. The above method is one example, and the method is not limited to this method.

〔実施例〕〔Example〕

筒形のガラスセルにポリトリメチルビニルシランで製造
した平膜を基膜として装着し、その上部に試験する選択
分離材を含む溶液を注入後、債拌下に透過試験ガスを流
通させた。一方、基膜の下方(二次側)を減圧にして、
一定時間内に透過したガス量をガスクロマトグラフィで
分析することにより透過速度Qを求めた。なお。
A flat membrane made of polytrimethylvinylsilane was installed as a base membrane in a cylindrical glass cell, and after a solution containing the selective separation material to be tested was injected onto the top of the membrane, a permeation test gas was passed through the cell while stirring continuously. On the other hand, reduce the pressure below the base membrane (secondary side),
The permeation rate Q was determined by analyzing the amount of gas permeated within a certain period of time using gas chromatography. In addition.

本実施例のQは特に断らない限り30℃で測定した値で
あり、その単位はcc (8,T、 P、 )/(yJ
 −seaぬ ・C7rLHgである。またIは窒素に対する酸素、0
1度比(Q、02/Q、N2) を宍わす。
Q in this example is a value measured at 30°C unless otherwise specified, and its unit is cc (8, T, P, )/(yJ
-seanu・C7rLHg. Also, I is oxygen relative to nitrogen, 0
Eliminate the 1 degree ratio (Q, 02/Q, N2).

実施例/ (a)  分離材の調製 someフラスコにトリメ千ルンリルヨードをコrnl
仕込み、窒素雰囲気下で攪拌しなからゴーメチルイミダ
ゾール2 mlを徐々に滴下すると激しく発熱して反応
し固体を生成した、30分後、該反応混合物に、無水チ
オンアン酸コバルトO0ざty、トリプロピ1/ンテト
ラミン2. A rnl及びジメチルスルホキシド10
m1から別途PI3裂した溶液を添加して撹拌すると暗
赤褐色のスラリー状の分離材が得られた。J41)) 
 ガス透過速度の測定 ガス透過測定用のセルに、(a)で調製した分離材10
rttlを分取し、空気な0. j 137分のM度で
攪拌した分離材上を流通させた。次いで二次側の圧力を
コxtm Hg、測定温度を30℃に調整した。次いで
、セルの上部から分離材中に2 rnlのi−メチルイ
ミダゾールを添刀口して。
Example/ (a) Preparation of separation material Add trimester lyluiodine to some flasks.
After 30 minutes, 2 ml of go-methylimidazole was slowly added dropwise while stirring under a nitrogen atmosphere. After 30 minutes, cobalt thioneanate anhydride, 1 ml of tripropylene were added to the reaction mixture. /Ntetramine2. Arnl and dimethyl sulfoxide 10
When a separate solution of PI3 was added to m1 and stirred, a dark reddish-brown slurry-like separation material was obtained. J41))
Measurement of gas permeation rate Separation material 10 prepared in (a) was placed in a cell for gas permeation measurement.
Aliquot the rttl and add air to 0. j It was passed over a separation material stirred at M degree of 137 minutes. Next, the pressure on the secondary side was adjusted to COXTM Hg, and the measurement temperature was adjusted to 30°C. Next, 2 rnl of i-methylimidazole was added into the separation material from the top of the cell.

、:丁− 透過したガフを7″り°−ト′ラフイー刃;P ゛対応
しており、またQ02は/、、7 X 10−6であっ
た。本分離材は高い選択分離性を長時間に渡って示した
, 7" through the gaff that passed through the plate; P", and Q02 was 7 x 10-6. This separation material has a long and high selective separation property. Shown over time.

実施例λ (a)co−ポリアミン錯体の合成 10011LIのフラスコに無水チオンアン酸コバルト
コ馬Iを仕込み元弁に脱気・乾燥した後、 tfA製窒
素下において攪拌しながらトリプロピレンテトラミンf
、 A R/を徐々に滴下した。
Example λ (a) Synthesis of co-polyamine complex 10011LI flask was charged with cobalt thionate anhydride I, degassed and dried in the main valve, and then tripropylenetetramine f was added with stirring under tfA nitrogen.
, A R/ was gradually added dropwise.

発熱反応が起こり暗赤褐色の均一溶液が得もれた。室温
下で攪拌しながら、該反応混合物に脱気精製したジメチ
ルスルホキシドλ/、りrnlを添加して反応を継続し
て目的の錯体を得た。
An exothermic reaction occurred and a dark reddish-brown homogeneous solution was obtained. While stirring at room temperature, degassed and purified dimethyl sulfoxide λ/, rnl was added to the reaction mixture, and the reaction was continued to obtain the target complex.

(1))  ハロゲン化ケイ素との接触rorrttの
フラスコに脱気・乾燥した水素置換シリコーンオイル(
信越化学社jffKF−99)0.9mlを分取し、精
製窒素下にヨウ素/、3jjを添カロして反応させた。
(1)) Degassed and dried hydrogen-substituted silicone oil (
0.9 ml of Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. jffKF-99) was collected, and iodine/3jj was added thereto under purified nitrogen for reaction.

次いで、l−メチル/′プを添加して後、100’Cに
770熱して反応させて分離材を得た。
Next, l-methyl/'p was added, and the mixture was heated to 100'C for 770 minutes to react, thereby obtaining a separation material.

(C)  ガス透過速度の測定 実施例/の(b)と同様にして(1))で′rJ14類
した分離材のガス透過試験を行ったところ透過ガスの酸
素濃度はりL/%であることが判った。
(C) Measurement of gas permeation rate When a gas permeation test was carried out on the separation material classified as 'rJ14 in (1)) in the same manner as in (b) of Example 1, the oxygen concentration of the permeated gas was found to be L/%. It turns out.

これはαが/3.11であることに対応しており、また
Qo2は!、/×10−’であった。ハロゲン化された
ケイ素ポリマーもまた選択分離性に本発明の分離材を使
用すれば、気体選択透過膜としても、気体選択吸収材と
しても分離注能が高い為に酸素を高濃度・て濃iコする
ことが出来る。酸素の吸脱着の速度が従来知られている
酸素錯体より格段に速い為に、非常に効率よく酸素を1
)盛することができる。例えば空気から一段ないし二段
の操作で700%近い酸孟を効率よく取り出すことが出
来ろ。一方倶給ガスが空気の場合にはri!累を分離し
た残りの気体は高濃度の窒素を含み、窒素の製造方法と
しても有用である。また、これとは別に微量の酸素を含
む気体から酸素を除去する方法としても有用である。
This corresponds to α being /3.11, and Qo2 is! , /×10-'. If the separation material of the present invention is used for selective separation of halogenated silicon polymers, it can be used as a gas selective permeation membrane or as a gas selective absorption material with high separation injection ability, allowing oxygen to be concentrated at high concentrations. You can do it. Because the rate of adsorption and desorption of oxygen is much faster than that of conventionally known oxygen complexes, it is extremely efficient at absorbing oxygen.
) can be served. For example, nearly 700% of acid can be efficiently extracted from air in one or two steps. On the other hand, if the charged gas is air, ri! The gas remaining after the separation of the gas contains a high concentration of nitrogen, and is also useful as a method for producing nitrogen. In addition, it is also useful as a method for removing oxygen from a gas containing a trace amount of oxygen.

本発明の気体選択分離材を便用して空気から酸素を分離
できるが、酸素はあらゆる産業に広く便用されている気
体であり特に鋼材の辱接。
Oxygen can be separated from air by using the gas selective separation material of the present invention, but oxygen is a gas that is widely used in all industries, and is particularly harmful to steel materials.

切断、電気炉への!累次き込み、ガラスの溶解。Cutting into the electric furnace! Repeated penetration and glass melting.

パルプの療白、廃水処理、金属加工、製紙、航空、宇宙
、公害防止、医療、電子工業、化学工業、海洋開発等の
分野で本発明の分離材は有用に使用できる。一方、空気
から酸素を除いた残りの気体から窒素を分離すれば不活
性ガスとして電子工業1食品工業、鉄鋼冶金工業、化栄
工業、医療用等広い分野に有用である。
The separation material of the present invention can be usefully used in fields such as pulp treatment, wastewater treatment, metal processing, paper manufacturing, aviation, space, pollution prevention, medical care, electronic industry, chemical industry, and marine development. On the other hand, if nitrogen is separated from the remaining gas after removing oxygen from air, it becomes an inert gas that is useful in a wide range of fields such as the electronic industry, food industry, steel metallurgy industry, Kaei industry, and medical use.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)(A)Co塩と(B)一般式−(NHCH_2O
H_2CH_2)−_n(nは2以上の整数)の骨格を
有するアミン化合物からなる組成物に(C)ハロゲン化
ケイ素化合物を接触してなる気体分離材。
(1) (A) Co salt and (B) general formula -(NHCH_2O
A gas separation material formed by contacting (C) a halogenated silicon compound with a composition consisting of an amine compound having a skeleton of H_2CH_2)-_n (n is an integer of 2 or more).
(2)特許請求の範囲第1項記載の分離材において成分
(A)、(B)、(C)の接触を(D)アキシヤル塩基
の存在下に行なうか、又は成分(D)を成分(A)、(
B)、(C)の接触後に添加してなる気体分離材。
(2) In the separation material according to claim 1, the components (A), (B), and (C) are brought into contact in the presence of (D) an axial base, or the component (D) is brought into contact with the component (D). A), (
A gas separation material added after contacting B) and (C).
JP61151798A 1986-06-30 1986-06-30 Gas separation material Granted JPS6311504A (en)

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JP61151798A Granted JPS6311504A (en) 1986-06-30 1986-06-30 Gas separation material

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JP (1) JPS6311504A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20200099834A (en) * 2019-02-15 2020-08-25 한화테크윈 주식회사 Imaging processing device for motion detection and method thereof

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JPH0379282B2 (en) 1991-12-18

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