JPS63110686A - Excimer laser of multimode narrow-band oscillation - Google Patents

Excimer laser of multimode narrow-band oscillation

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JPS63110686A
JPS63110686A JP25642286A JP25642286A JPS63110686A JP S63110686 A JPS63110686 A JP S63110686A JP 25642286 A JP25642286 A JP 25642286A JP 25642286 A JP25642286 A JP 25642286A JP S63110686 A JPS63110686 A JP S63110686A
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JP
Japan
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wave length
excimer laser
output
laser
multimode
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Application number
JP25642286A
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Japanese (ja)
Inventor
Yasuhiro Nozue
野末 康博
Noriaki Itou
伊藤 仙聡
Osamu Wakabayashi
理 若林
Junichi Fujimoto
准一 藤本
Masahiko Kowaka
雅彦 小若
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Komatsu Ltd
Original Assignee
Komatsu Ltd
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Publication date
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Publication of JPS63110686A publication Critical patent/JPS63110686A/en
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/10Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
    • H01S3/13Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude
    • H01S3/136Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude by controlling devices placed within the cavity
    • H01S3/137Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude by controlling devices placed within the cavity for stabilising of frequency

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
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  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Lasers (AREA)

Abstract

PURPOSE:To obtain a laser beam having a highly stable wave length and a high output of power by measuring the wave length distribution at a laser beam section being oscillated, thereby controlling with a feedback system an alignment of etalons so that the wave length distribution does not exceed an allowable limit. CONSTITUTION:This device is composed of an output wave length detecting means 2 including a beam splitter 210 which branches and samples a part of outputs of a normal multimode narrow-band oscillation excimer laser by using etalons 1; besides it, a controlling part 3 which performs an alignment of the etalons on the basis of detected values obtained by the above output wave length detecting means 2. A part of laser beams being oscillated is branched by the beam splitter 210 and a beam of a part of a laser beam section is sampled with an optical fiber 220 and the like and then, is introduced in a wave length detector 2 made of a monitor etalon or a spectroscope 240 and others. And then, the alignment of the etalons is controlled so that a wave length detected by the wave length detector 2 may be within the prescribed limit. Thus, such a measure makes an effective diameter of the etalons larger and makes it possible to obtain an excimer laser where a spectral line width is narrow and wave lengths are highly stable and further, the output of power is high.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本光明は、マルチモード狭帯域発振エキシマレーザに係
り、特にエタロンの制御方法に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Application Field] The present invention relates to a multimode narrowband oscillation excimer laser, and particularly to an etalon control method.

[従来技術およびその問題点] エキシマレーザは、高効率、高出力の発振が可能である
ことから、近年広< fff1発が進められてきており
、その非コヒーレントな性質からフォトリソグラフィー
等への利用が注目されている。
[Prior art and its problems] Excimer lasers are capable of high-efficiency, high-output oscillation, so in recent years, wide-band <fff1 oscillations have been promoted, and their non-coherent properties have led to their use in photolithography, etc. is attracting attention.

例えばインジェクションロック方式のエキシマレーザは
、第9図にラムダフィシツク社製のvt置例を示すよう
に、回折限界に近いビーム特性をもつレーザ信号を供給
するように構成された安定型共振器であるオンジレータ
部11と、ミラー12゜13を介して注入される前記レ
ーザ信号を増幅するように構成された不安定共振器であ
るアンプ部14とから構成されている。
For example, an injection lock type excimer laser uses an ondilator, which is a stable resonator configured to supply a laser signal with beam characteristics close to the diffraction limit, as shown in Figure 9, which shows an example of a VT manufactured by Lambda Physics. section 11 and an amplifier section 14 which is an unstable resonator configured to amplify the laser signal injected via mirrors 12 and 13.

このエキシマレーザにおいてオンジレータ部11は、内
部に放N電極15、アパーチャ16゜17、エタロン1
8、出射ミラー19、リアミラー20とを具備し、エタ
ロン18によって波長を制御すると共にアバーヂt16
,17によってビームを絞ることにより、スペクトル線
幅が狭くかつコヒーレントなビーム特性をもつレーザ光
を出射するように構成されている。
In this excimer laser, the ondilator section 11 includes an N-discharge electrode 15, an aperture 16° 17, and an etalon 1 inside.
8, an exit mirror 19 and a rear mirror 20, the wavelength is controlled by an etalon 18, and an average t16 is provided.
, 17 to narrow down the beam to emit a laser beam having a narrow spectral linewidth and coherent beam characteristics.

また、アンプ部14は、放電電極21とミラー22.2
3とを具備し、オンジレータ部11から注入されてくる
レーザ光をキャビティモードで強制発振させてパワーを
増大させるように構成されている。
The amplifier section 14 also includes a discharge electrode 21 and a mirror 22.2.
3, and is configured to force the laser light injected from the ondilator section 11 to oscillate in a cavity mode to increase its power.

このようなインジェクションロック式のエキシマレーザ
では、大出力でスペクトル線幅の狭いレーザ光を冑るこ
とができる上、アパーチャが配設されているためエタロ
ンの有効径が小さくてすみ、高精度の平衡度調整が不要
であるという利点を有している反面、単一モード(コヒ
ーレント光)になるため、これを縮小投影光源として使
用した場合、スペックルが発生して高解像度を得ること
ができないという問題があった。
This type of injection lock type excimer laser can not only emit laser light with a high output and narrow spectral linewidth, but also has an aperture, so the effective diameter of the etalon can be small, allowing for high-precision equilibrium. Although it has the advantage of not requiring any degree adjustment, it is a single mode (coherent light), so if it is used as a reduced projection light source, speckles will occur and high resolution cannot be obtained. There was a problem.

また、AT&T社が几表したレーザでは、第10図に示
す如くレーザチャンバー31と出射ミラー32との間に
2(1!]のエタロン33を配設することにより、スペ
クトル線幅が狭く、かつ多少の槙モード数を有するレー
ザ発振を可能にしている。
In addition, in the laser developed by AT&T, two (one!) etalons 33 are disposed between the laser chamber 31 and the output mirror 32 as shown in FIG. 10, so that the spectral line width is narrow and This enables laser oscillation with a certain number of Maki modes.

(ここで34はりアミラーである。) しかしながらこのHllffにおいても通常の照明光学
系を用いて露光する時には横モード数が不足しているた
めやはりスペックルが発生する。このため照明光学系と
してスキャンミラ一方式をとる必要がある。この方式で
はビーム径が51111程度であるため高精度の平衡度
調整は不要であるが、露光装置の構造および制御を複雑
なものにしている。
(Here, it is a 34-beam mirror.) However, even in this Hllff, when exposure is performed using a normal illumination optical system, speckles still occur because the number of transverse modes is insufficient. For this reason, it is necessary to use a scan mirror type as the illumination optical system. In this method, since the beam diameter is approximately 51111 mm, highly accurate balance adjustment is not necessary, but it complicates the structure and control of the exposure apparatus.

本発明は前記実情に鑑みてなされたもので、高出力で波
長安定性の高いレーザ発振を可能とする縮小投影に適し
たマルチモード狭帯域発振エキシマレーザを提供するこ
とを目的とする。
The present invention has been made in view of the above-mentioned circumstances, and an object of the present invention is to provide a multimode narrowband oscillation excimer laser suitable for reduction projection, which enables laser oscillation with high output and high wavelength stability.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

そこで本発明では、エタロンを用いたマルチモード狭帯
域発振エキシマレーザにおいて、発振したレーザ光の断
面における波長の分布を測定し、波長分布が許容範囲内
となるように、エタロンのエアギャップ、角度、ガス圧
等の調整すなわちアライメントをフィードバック制御す
るようにしている。
Therefore, in the present invention, in a multimode narrow band oscillation excimer laser using an etalon, the wavelength distribution in the cross section of the oscillated laser beam is measured, and the etalon air gap, angle, Adjustment of gas pressure, etc., that is, alignment, is controlled by feedback.

〔作用〕[Effect]

すなわち、発振したレーザ光の1部をビームスプリッタ
によって分校し、レーザ光の断面の1部の光を光ファイ
バー等によってサンプリングしてモニターエタロンや分
光器等の波長検出器に導くようにしている。
That is, a part of the oscillated laser light is split by a beam splitter, and part of the cross-sectional light of the laser light is sampled by an optical fiber or the like and guided to a wavelength detector such as a monitor etalon or a spectrometer.

そして、この波長検出器で検出される波長が所定の範囲
内になるようにエタロンのアライメントを制御する。
Then, the alignment of the etalon is controlled so that the wavelength detected by this wavelength detector falls within a predetermined range.

従ってエタロンの有効径を大きくすることができ、スペ
クトル線幅が狭く波長安定性の8い、高出力の1キシマ
レーザを臂ることが可能となる。
Therefore, the effective diameter of the etalon can be increased, making it possible to provide a high-output 1 ximer laser with a narrow spectral linewidth and excellent wavelength stability.

〔実施例〕〔Example〕

以下、本発明の実施例について、図面を参照しつつ詳細
に説明する。
Embodiments of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings.

第1図(a)および(b)は、夫々本梵明実隠例のマル
チモード狭帯域発振エキシマレーザ装置を示す図、およ
び制御部のブロック図である。
FIGS. 1(a) and 1(b) are a diagram showing a multi-mode narrow band oscillation excimer laser device according to the present Sanskrit example, and a block diagram of a control section, respectively.

この1ffffは、エタロン1を用いた通常のマルチモ
ード狭帯域発振エキシマレーザの出力の1部を分校して
サンプリングするビームスピリツタ210を含む出力波
長検出手段2と、この出力波長検出手段2の検出値に基
すいてエタロン1のアライメントを行なう制御部3とを
具備したことを特徴とするもので、他の部分については
通常の構造を有している。
This 1ffff consists of an output wavelength detection means 2 including a beam spiriter 210 that splits and samples a part of the output of a normal multi-mode narrow band oscillation excimer laser using an etalon 1, and a detection of this output wavelength detection means 2. The device is characterized in that it is equipped with a control section 3 that performs alignment of the etalon 1 based on the value, and other parts have a normal structure.

ここで4はレーザチャンバー、5.6は夫々出射ミラー
およびリアミラーであり、出射ミラーからレーザ光が出
力せしめられる。
Here, 4 is a laser chamber, 5 and 6 are an output mirror and a rear mirror, respectively, and laser light is output from the output mirror.

そして制御部3は、出力波長検出手段2の出力を処理す
る信号処理系301と、CPU302と、エタロンアラ
イメント制御部303と、ビームサンプル制郡部304
とを具備し、ビームサンプル制御部によってサンプリン
グ位置を変えつつ前記出力波長検出手段2の検出値に基
ずいて、CPUでアライメントのずれ量をPf&算し検
出値が所定の範囲内になるようにアクチュエータ(図示
せず)を制御してエタロンのエアギャップ等をw4整し
エタロンのアライメントをフィードバック制御するよう
にしている。
The control section 3 includes a signal processing system 301 that processes the output of the output wavelength detection means 2, a CPU 302, an etalon alignment control section 303, and a beam sample control section 304.
The CPU calculates the alignment deviation amount Pf& based on the detection value of the output wavelength detection means 2 while changing the sampling position by a beam sample control unit so that the detection value falls within a predetermined range. An actuator (not shown) is controlled to adjust the etalon air gap etc. w4 and feedback control of the etalon alignment is performed.

また出力波長検出手段2は、ビームスピリツタ210と
光ファイバ220と光ファイバを回転せしめるパルスモ
ータ230(第2図(a)および(b)分光W240と
からなり、ビームスピリツタ210によってレーザ光の
1部を分校し、これを光ファイバ220を介して分光器
240に導き、波長を検出するように構成されている。
The output wavelength detection means 2 includes a beam spiriter 210, an optical fiber 220, and a pulse motor 230 (FIGS. 2(a) and (b) spectrometer W240) that rotates the optical fiber. It is configured to separate one portion, guide it to a spectrometer 240 via an optical fiber 220, and detect the wavelength.

そしてビームサンプル制御部304によって光ファイバ
を移動せしめ、レーザ光断面における波長検出位置を制
御し、複数位置での制御を行なうようにしている。
Then, the optical fiber is moved by the beam sample control section 304 to control the wavelength detection position in the laser beam cross section, so that control is performed at a plurality of positions.

この制御部における動作のフローチャートを第3図に示
す。
A flowchart of the operation in this control section is shown in FIG.

まず、レーザ光の断面のある1点をサンプリングする(
動作200)。
First, sample one point in the cross section of the laser beam (
action 200).

そして分光器23によってその点における波長を測定す
るく動作2o1)。
Then, the wavelength at that point is measured by the spectrometer 23 (operation 2o1).

更に、この測定波長からエタロンのエアギャップを算出
する(vJ作202)。
Furthermore, the air gap of the etalon is calculated from this measured wavelength (vJ work 202).

続いて、光ファイバを回転してこれらの動作200〜2
02を3回以上繰り返し、3点以上についての演算を行
なう。
Subsequently, the optical fiber is rotated to perform these operations 200 to 2.
Repeat step 02 three or more times to perform calculations on three or more points.

これらの算出値に基ずいてCPLJにおいてエタロンの
傾きを算出する(vJ作203)。
Based on these calculated values, the inclination of the etalon is calculated in CPLJ (by vJ 203).

そしてエタロンのエアギャップの調整値を算出する(v
J作204)。
Then, calculate the adjustment value of the etalon air gap (v
J. 204).

このようにして算出された値をアクチュエータに送り、
微調整を行なう(動作205)。
Send the value calculated in this way to the actuator,
Fine adjustment is performed (operation 205).

このようにエタロンのアライメントをフィードバック制
御することにより、エタロンの有効径を大きくし、狭帯
域発振で波長安定性の高いレーザ発振を実現することが
可能となる。
By feedback-controlling the etalon alignment in this way, it is possible to increase the effective diameter of the etalon and realize laser oscillation with narrow band oscillation and high wavelength stability.

なお、前記実施例においては、ビームのサンプリング方
式として光ファイバをパルスモータによって回転し、レ
ーザ光断面上の各点をサンプリングするようにしたが、
これに限定されることなく次に示すような他のサンプリ
ング方式を用いてもよい。
In the above embodiment, the beam sampling method was to rotate the optical fiber by a pulse motor and sample each point on the laser beam cross section.
The present invention is not limited to this, and other sampling methods such as those shown below may be used.

他のサンプリング方式としては、第4図に示す如く、ビ
ームスピリツタ210′の角度をパルスモータ等によっ
て変化させるもの、あるいは第5図に示す如く、光ファ
イバ220′を数本に分校させ、シャッタ250を用い
て、順次各点をサンプリングするもの等がある。ここで
光ファイバ220′の先端は第6図(a)、 (b)に
示す如く、3つのt!l3Il!!孔を有するファイバ
ーホルダー260に支持せしめられ、第6図(C)に示
す如く更に該ファイバホルダの前面には、1つの開孔り
を有し回転可能な円盤状のシャッタ250が配設されて
いる。
Other sampling methods include changing the angle of the beam spiriter 210' using a pulse motor, as shown in FIG. There is a method that sequentially samples each point using .250. Here, the tip of the optical fiber 220' has three t! points as shown in FIGS. 6(a) and 6(b). l3Il! ! It is supported by a fiber holder 260 having a hole, and as shown in FIG. 6(C), a rotatable disk-shaped shutter 250 having one opening is further disposed on the front surface of the fiber holder. There is.

また、実施例では、エタロンのアライメント制御の方法
として、3点の波長を検出した後、エタロンの7ライメ
ントのずれを算出する方法を用いたが、この方法に限定
されることなく、第7図(a)および(b)に示す如く
アクチュエータ(PZT)の配設されたエタロンの1ア
ギヤツプ110のrliFA整部とエタロンの中心部の
線分上でレーザ光をサンプリングし所定の波長になるよ
うに各点において微調整部を作動させる方法を用いるよ
うにしてもよい。
In addition, in the embodiment, as a method of etalon alignment control, a method was used in which the wavelengths at three points were detected and then the deviations of seven alignments of the etalon were calculated, but the method is not limited to this method. As shown in (a) and (b), the laser beam is sampled on a line segment between the rliFA regular part of the first gear gap 110 of the etalon where the actuator (PZT) is installed and the center of the etalon, and the laser beam is sampled to a predetermined wavelength. A method may be used in which the fine adjustment section is operated at each point.

この方法のフローチャートを参考的に第8図に示す。A flowchart of this method is shown in FIG. 8 for reference.

〔光間の効果) 以上説明してきたように、本光明によれば、エタロンを
用いたマルチモード狭帯域発振エキシマレーザにおいて
、n振したレーザ光断面における波長の分布を測定し、
波長分布が許容範囲内となるようにエタロンのアライメ
ントをフィードバック制御するようにしているため、波
長安定性の高い高出力のレーザ光を得ることが可能とな
る。
[Effects between lights] As explained above, according to Komei, in a multi-mode narrow band oscillation excimer laser using an etalon, the wavelength distribution in the cross section of the n-oscillated laser beam is measured,
Since the etalon alignment is feedback-controlled so that the wavelength distribution is within an allowable range, it is possible to obtain a high-output laser beam with high wavelength stability.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図(a)および(b)は、夫々本発明実施例のマル
チモード狭帯域発振エキシマレーザ811Fを示す図お
よび制御部のブロック図、第2図(a)および(b)は
、同W装置における光ファイバの回転部の構造を示す側
面図および平面図、第3図は、同装置における制御部の
動作のフローチャートな示す図、第4図および第5図は
、夫々他のサンプリング方式を示す図、第6図(aHb
)および(C)は、第5図に示したサンプリング方式に
おける光ファイバの先端部の構造を示す図、I’57図
(a)(b)および第8図は、夫々、他のエタロンアラ
イメント制御方法およびその制60 vJ作のフローチ
ャートを示す図、第9図および第10図は、従来例のエ
キシマレーザF装置の説明図である。 11・・・オンジレータ部、12.13・・・ミラー、
14・・・アンプ部、15・・・放電電極、16.17
・・・アパーチャ、18・・・エタロン、19.20・
・・ミラー、21・・・放電電極、22.23・・・ミ
ラー、31・・・レーザチャンバー、32・・・出射ミ
ラー、33・・・エタロン、34・・・リアミラー、1
・・・エタロン、2・・・出力波長検出手段、3・・・
制御部、4・・・レーザチャンバー、110・・・エア
ギャップ、210・・・ビームスピリツタ、220・・
・光ファイバ、230・・・パルスモータ、240・・
・分光器、301・・・信号処理系、302・・・CP
U、303・・・エタロンアライメント制御部、304
・・・ビームサンプル制御部。 第1図(Q) 第1図(b) 第2図(G) 第2図(b) 第3図 <IIA 第6図(Q) 第6図(b) 第6図(C) 第7図(b) 第8図
FIGS. 1(a) and (b) are a diagram showing a multimode narrowband oscillation excimer laser 811F and a block diagram of a control unit, respectively, according to an embodiment of the present invention, and FIGS. 2(a) and (b) are a block diagram of the same W A side view and a plan view showing the structure of the rotating section of the optical fiber in the device, FIG. 3 is a flowchart of the operation of the control section in the device, and FIGS. 4 and 5 respectively show other sampling methods. Figure 6 (aHb
) and (C) are diagrams showing the structure of the tip of the optical fiber in the sampling method shown in FIG. 5, and FIGS. 60. Method and its Control 60 FIGS. 9 and 10, which are flowcharts of vJ production, are explanatory diagrams of a conventional excimer laser F device. 11...Ondilator section, 12.13...Mirror,
14... Amplifier section, 15... Discharge electrode, 16.17
...Aperture, 18...Etalon, 19.20.
...Mirror, 21...Discharge electrode, 22.23...Mirror, 31...Laser chamber, 32...Emission mirror, 33...Etalon, 34...Rear mirror, 1
... Etalon, 2... Output wavelength detection means, 3...
Control unit, 4... Laser chamber, 110... Air gap, 210... Beam spiriter, 220...
・Optical fiber, 230...Pulse motor, 240...
・Spectrometer, 301...Signal processing system, 302...CP
U, 303... etalon alignment control unit, 304
...Beam sample control unit. Figure 1 (Q) Figure 1 (b) Figure 2 (G) Figure 2 (b) Figure 3<IIA Figure 6 (Q) Figure 6 (b) Figure 6 (C) Figure 7 (b) Figure 8

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)エタロンを用いたマルチモード狭帯域発振エキシ
マレーザにおいて、 レーザ光出力の断面における波長分布を測定する出力波
長検出手段と、 この波長分布が許容範囲内となるように、エタロンのア
ライメントをフィードバック制御する制御手段とを 具備したことを特徴とするマルチモード狭帯域発振エキ
シマレーザ。
(1) In a multimode narrowband oscillation excimer laser using an etalon, an output wavelength detection means that measures the wavelength distribution in the cross section of the laser light output, and feedback on the etalon alignment so that this wavelength distribution is within the tolerance range. 1. A multimode narrowband oscillation excimer laser, comprising: control means for controlling the multimode narrowband oscillation excimer laser.
(2)前記出力波長検出手段は ビームスピリッタと、 光ファイバと、 該光ファイバの端面がレーザ光断面の複数の点に移動可
能なように構成された移送手段と、波長検出器とを 具備したことを特徴とする特許請求の範囲第(1)項記
載のマルチモード狭帯域発振エキシマレーザ。
(2) The output wavelength detection means includes a beam splitter, an optical fiber, a transport means configured such that the end face of the optical fiber can be moved to a plurality of points in the cross section of the laser beam, and a wavelength detector. A multi-mode narrowband oscillation excimer laser according to claim (1).
(3)前記出力波長検出手段は ビームスピリッタと、 複数の光ファイバと、 該光ファイバの端面を選択的に順次遮蔽するシャッタ手
段と、 波長検出器とを 具備したことを特徴とする特許請求の範囲第(1)項記
載のマルチモード狭帯域発振エキシマレーザ。
(3) A patent claim characterized in that the output wavelength detection means includes a beam splitter, a plurality of optical fibers, a shutter means for selectively and sequentially shielding the end faces of the optical fibers, and a wavelength detector. A multimode narrowband oscillation excimer laser according to item (1).
(4)前記出力検出手段は ビームスピリッタと、 該ビームスピリッタを移送する移送手段と、光ファイバ
と、 波長検出器とを具備したことを特徴とする特許請求の範
囲第(1)項記載のマルチモード狭帯域発振エキシマレ
ーザ。
(4) The output detection means includes: a beam splitter; a transport means for transporting the beam splitter; an optical fiber; and a wavelength detector. multimode narrowband oscillation excimer laser.
JP25642286A 1986-10-28 1986-10-28 Excimer laser of multimode narrow-band oscillation Pending JPS63110686A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01321325A (en) * 1988-06-24 1989-12-27 Hitachi Ltd Spectroscope

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01321325A (en) * 1988-06-24 1989-12-27 Hitachi Ltd Spectroscope

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