JPS63108657A - Ion implanting device - Google Patents
Ion implanting deviceInfo
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- JPS63108657A JPS63108657A JP25228986A JP25228986A JPS63108657A JP S63108657 A JPS63108657 A JP S63108657A JP 25228986 A JP25228986 A JP 25228986A JP 25228986 A JP25228986 A JP 25228986A JP S63108657 A JPS63108657 A JP S63108657A
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
［発明の目的］
（産業上の利用分野）
本発明は、回転ディスクを使用したイオン注入装置の改
良に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Object of the Invention] (Industrial Application Field) The present invention relates to an improvement in an ion implanter using a rotating disk.
（従来の技術）
従来、イオン注入装置に用いられる回転ディスクとして
は、第３図に示す如くハイブリッド方式のものくディス
ク本体が回転のみでビームをスキャンする）が知られて
いる。図中の１は回転ディスク本体である。この本体１
の周縁部には？！数のウェハが載置される溝部２・・・
が設けられており、これらのウェハにイオンビーム３が
照射される。(Prior Art) Conventionally, as a rotating disk used in an ion implantation apparatus, a hybrid system is known, as shown in FIG. 3, in which the disk body scans the beam only by rotating. 1 in the figure is a rotating disk main body. This main body 1
In the periphery of? ! Groove portion 2 on which several wafers are placed...
are provided, and these wafers are irradiated with an ion beam 3.
また、その他の回転ディスクしては、第４図に示す如く
メカニカルスキャン方式のもの（ディスク本体が回転及
びスキャンを行なう）が知られている。上記第３図及び
第４図図示の回転ディスクは、いず１も第５図に示す如
く磁性流体シール４を回転ディスク５に連結するシャフ
ト６の軸受は部に使用する。ここで、前記シャフト６は
、ディスク５の保持、ディスク５を冷却するための給水
・排水等多くの機能を有している。なお、図中の７はチ
ャンバーである。Further, as other rotating disks, a mechanical scanning type disk (in which the disk body rotates and scans) as shown in FIG. 4 is known. In each of the rotating disks shown in FIGS. 3 and 4, the bearing of the shaft 6 connecting the magnetic fluid seal 4 to the rotating disk 5 is used as shown in FIG. Here, the shaft 6 has many functions such as holding the disk 5 and supplying and draining water to cool the disk 5. Note that 7 in the figure is a chamber.
しかしながら、従来のイオン注入装置によれば、シャフ
ト４によりディスク５をドライブするため、ディスク５
のバランスずれ等により大きな外力が発生し易く、磁性
流体シール６のシール効果が無くなるという事故が発生
する。However, according to the conventional ion implanter, since the disk 5 is driven by the shaft 4, the disk 5
A large external force is likely to be generated due to imbalance, etc., and an accident may occur in which the sealing effect of the magnetic fluid seal 6 is lost.
（発明が解決しようとする問題点）
本発明は上記事情に鑑みてなされたもので、回転ディス
クに連結するシャフトをディスク冷却用の供給・排水等
力の加わらない礪能とし、回転ディスク付近に用いられ
る磁性流体シールの一ル効果を保持し得るイオン注入装
置を提供することを目的とする。(Problems to be Solved by the Invention) The present invention has been made in view of the above-mentioned circumstances, and the shaft connected to the rotating disk is designed to have a function that does not apply forces such as supply and drainage for cooling the disk. It is an object of the present invention to provide an ion implanter that can maintain the uniformity effect of the magnetic fluid seal used.
［発明の構成コ
（問題点を解決するための手段）
本発明は、被処理物を載置する回転ディスク嘴）；こな
Ｉｔｌへｔ’ｙ 袋）
と、ヘーーー に所定のイオンを注入するイオン注
入手段と、前記回転ディスクを回転する駆動源と、前記
回転ディスクを冷却する冷却手段とからなり、前記ディ
スクを磁気浮上させながら回転して前記被処理物にイオ
ン注入を行なうことを要旨とする。[Structure of the Invention (Means for Solving Problems) The present invention involves injecting predetermined ions into a rotating disk beak for placing an object to be processed; The apparatus comprises an ion implantation means, a drive source for rotating the rotating disk, and a cooling means for cooling the rotating disk, and the apparatus rotates while magnetically levitating the disk to implant ions into the object to be processed. do.
（作用）
本発明によれば、回転ディスクを磁気浮上させながら、
該ディスク上の被処理物にイオン注入を行なうため、磁
性流体シールに加わる外力が極めて減少し、トラブルの
発生を防止できる。また、この結果、メンテナンス周期
も従来と比べ延長できる等の利点を有する。(Function) According to the present invention, while magnetically levitating the rotating disk,
Since ions are implanted into the object to be processed on the disk, the external force applied to the magnetic fluid seal is extremely reduced, making it possible to prevent troubles from occurring. Further, as a result, there are advantages such as the maintenance cycle can be extended compared to the conventional method.
（実施例）
以下、本発明の一実施例を第１図及び第２図を参照して
説明する。ここで、第１図は本発明に係るイオン注入装
置の全体を示す説明図、第２図は同装置の要部の断面図
である。(Example) An example of the present invention will be described below with reference to FIGS. 1 and 2. Here, FIG. 1 is an explanatory view showing the entire ion implantation apparatus according to the present invention, and FIG. 2 is a sectional view of the main part of the apparatus.
図中の１１は、イオン注入本体である。この本体１１の
所定の位置には、図示しない被処理物（ウェハ）を載置
する回転ディスク１２が配設されている。このディスク
１２の下部には例えば浮上用の永久磁石１３が環状に設
けられ、かつこれ＋３
らの永久磁石←４の下方に環状の浮上用の電磁石１４が
設けられている。この電磁石１４の下方には、前記ディ
スク１２をＬ転するモータ１５が設けられている。なお
、このモータ１５は回転用巻線１５ａと回転用ロータ１
５ｂとからなる。また、前記回転ディスク１２には磁性
流体シール１６を介してシャフト１７が連結され、この
シャフト１７には前記ディスク１２を冷却するロータリ
ーユニオン１８が連結されている。前記シャフト１７の
軸方向には、冷却水を給水したり排出する配管１９が設
けられている。なお、図中の２０はラインセンサ、２１
はレーザ発振器である。そして、前記磁性流体シール１
６を保護するため、モータ１５の各部分の出力を制御し
てディスク１２のブレをなくしている。具体的には、図
中のＡ。11 in the figure is an ion implantation main body. At a predetermined position of the main body 11, a rotating disk 12 on which a workpiece (wafer) (not shown) is placed is disposed. For example, a permanent magnet 13 for levitation is provided in an annular shape below the disk 12, and an annular electromagnet 14 for levitation is provided below these permanent magnets ←4. A motor 15 is provided below the electromagnet 14 to rotate the disk 12 in an L direction. Note that this motor 15 has a rotating winding 15a and a rotating rotor 1.
It consists of 5b. Further, a shaft 17 is connected to the rotating disk 12 via a magnetic fluid seal 16, and a rotary union 18 for cooling the disk 12 is connected to the shaft 17. A pipe 19 for supplying and discharging cooling water is provided in the axial direction of the shaft 17. In addition, 20 in the figure is a line sensor, 21
is a laser oscillator. Then, the magnetic fluid seal 1
6, the output of each part of the motor 15 is controlled to prevent the disc 12 from wobbling. Specifically, A in the figure.
Ｂで示した方向のギャップを各々６点でモニターし、常
に均一なギャップを持つようにモータ制御回路（図示せ
ず）にフィードバックかけている。The gaps in the directions indicated by B are monitored at six points each, and feedback is applied to the motor control circuit (not shown) so that the gaps are always uniform.
前記本体１１には、前記ディスク１２に所定のイオンを
注入するイオン注入手段２２が配設されている。このイ
オン注入手段２２は、イオンソース部２３と、このソー
ス部２３から出たイオンを加速する加速管２４と、イオ
ンビームの質量によってビームの曲げる角度が異なる質
量分析器２５と、ディスク１２方向にスキャンを行なう
１８０度磁気傾向装！２６とから構成されている。The main body 11 is provided with an ion implantation means 22 for implanting predetermined ions into the disk 12. The ion implantation means 22 includes an ion source section 23, an acceleration tube 24 for accelerating ions emitted from the source section 23, a mass analyzer 25 that bends the beam at different angles depending on the mass of the ion beam, and 180 degree magnetic tendency device for scanning! It consists of 26.
上記実施例によれば、イオン注入時、永久磁石１３及び
電磁石１４により回転ディスク１２を浮上させてギャッ
プＡ、Ｂを持たせながらモータ１５により回転ディスク
１２を回転させる構造となっているため、磁性流体シー
ル１６に加わる外力が極めて減少し、トラブルの発生を
防止できる。According to the above embodiment, during ion implantation, the rotary disk 12 is levitated by the permanent magnet 13 and the electromagnet 14, and the rotary disk 12 is rotated by the motor 15 while maintaining gaps A and B, so that magnetic The external force applied to the fluid seal 16 is extremely reduced, and troubles can be prevented from occurring.
また、メンテナンス周期も従来の半年から２．３年に延
長できる。更に、ディスク１２を直接モータ１５で回転
させるため、回転の立上がり速度が６０秒から３０秒に
改善された。Additionally, the maintenance cycle can be extended from the previous six months to 2.3 years. Furthermore, since the disk 12 is directly rotated by the motor 15, the start-up speed of rotation has been improved from 60 seconds to 30 seconds.
なお、上記実施例では回転モータにより回転ディスクを
回転させる場合について述べたが、これに限らない。例
えば、回転モータを省き、前記電磁石に位相を持たせて
出力を制御することによりディスクの回転を行なっても
よい。In addition, although the case where the rotating disc was rotated by the rotating motor was described in the said Example, it is not limited to this. For example, the disk may be rotated by omitting the rotary motor and controlling the output by giving the electromagnet a phase.
また、上記実施例では、浮上用の電磁石に環状のものを
用いたが、これに限らず、複数個の浮上用の電磁石を環
状に配設してもよい。Further, in the above embodiment, a ring-shaped levitation electromagnet is used, but the present invention is not limited to this, and a plurality of levitation electromagnets may be arranged in a ring shape.
［発明の効果］
以上詳述した如く本発明によれば、磁性流体シールのト
ラブルを防止してメンテナンス周期を従来よりも長くで
きるイオン注入装置を提供できる。 ′[Effects of the Invention] As described in detail above, according to the present invention, it is possible to provide an ion implantation device that can prevent problems with magnetic fluid seals and make maintenance cycles longer than conventional ones. ′
第１図は本発明の一実施例に係るイオン注入装置の説明
図、第２図は同装置の要部の断面図、第３図及び第４図
は夫々従来のイオン注入装置に係ぢ
る回転ディスクの斜視図、第８図はこれらの回転ディス
クが用いられる磁性流体シールの周辺の説明図である。
１１・・・イオン注入本体、１２・・・回転ディスク、
１３・・・浮上用の永久磁石、１４・・・浮上用の電磁
石、１５・・・回転モータ、１６・・・磁性流体シール
、１７・・・シャフト、１８・・・ロータリユニオン、
１９・・・配管、２２・・・イオン注入手段、２３・・
・イオンソース部、２４・・・加速管、２５・・・質量
分析器、２６・・・１８０度磁気傾向装置。FIG. 1 is an explanatory diagram of an ion implantation device according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a sectional view of the main parts of the same device, and FIGS. 3 and 4 are respectively related to a conventional ion implantation device. FIG. 8, a perspective view of the rotating disks, is an explanatory view of the vicinity of a magnetic fluid seal in which these rotating disks are used. 11... Ion implantation main body, 12... Rotating disk,
13... Permanent magnet for levitation, 14... Electromagnet for levitation, 15... Rotating motor, 16... Magnetic fluid seal, 17... Shaft, 18... Rotary union,
19... Piping, 22... Ion implantation means, 23...
- Ion source section, 24... Accelerator tube, 25... Mass spectrometer, 26... 180 degree magnetic tendency device.
Claims (1)
、前記回転ディスクを回転する駆動源と、前記回転ディ
スクを冷却する冷却手段とからなり、前記ディスクを磁
気浮上させながら回転して前記被処理物にイオン注入を
行なうことを特徴とするイオン注入装置。[Scope of Claims] A rotating disk on which an object to be processed is placed, an ion implantation mechanism for injecting predetermined ions into the object to be processed, a drive source for rotating the rotating disk, and a cooling means for cooling the rotating disk. An ion implantation apparatus characterized in that the disk is rotated while being magnetically levitated to implant ions into the object to be processed.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25228986A JPS63108657A (en) | 1986-10-23 | 1986-10-23 | Ion implanting device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25228986A JPS63108657A (en) | 1986-10-23 | 1986-10-23 | Ion implanting device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63108657A true JPS63108657A (en) | 1988-05-13 |
Family
ID=17235183
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25228986A Pending JPS63108657A (en) | 1986-10-23 | 1986-10-23 | Ion implanting device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63108657A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6770146B2 (en) * | 2001-02-02 | 2004-08-03 | Mattson Technology, Inc. | Method and system for rotating a semiconductor wafer in processing chambers |
-
1986
- 1986-10-23 JP JP25228986A patent/JPS63108657A/en active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6770146B2 (en) * | 2001-02-02 | 2004-08-03 | Mattson Technology, Inc. | Method and system for rotating a semiconductor wafer in processing chambers |
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