JPS63106940A - Optical recording medium - Google Patents

Optical recording medium

Info

Publication number
JPS63106940A
JPS63106940A JP61250701A JP25070186A JPS63106940A JP S63106940 A JPS63106940 A JP S63106940A JP 61250701 A JP61250701 A JP 61250701A JP 25070186 A JP25070186 A JP 25070186A JP S63106940 A JPS63106940 A JP S63106940A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
optical recording
recording medium
light
optical
layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP61250701A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yoshihiro Oguchi
小口 芳弘
Masashi Miyagawa
昌士 宮川
Isaaki Kawaide
一佐哲 河出
Keiko Ikoma
生駒 圭子
Kyo Miura
三浦 協
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Priority to JP61250701A priority Critical patent/JPS63106940A/en
Publication of JPS63106940A publication Critical patent/JPS63106940A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Abstract] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は光学的記録媒体に関し、特に書き換え可能な光
学的記録媒体の改良に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to an optical recording medium, and more particularly to an improvement in a rewritable optical recording medium.

[従来の技術] 光記録媒体は、媒体と書き込みヘットや読みたしヘッド
か非接触であるので、光記録媒体か摩耗劣化しない等の
利点をもっている。この種々の光記録媒体のうち、ヒー
トモート光記録媒体は暗室による画像処理が不要である
等の点から、例えば光カート、光ディスク、光テープへ
の応用開発が活発になっている。
[Prior Art] Optical recording media have advantages such as not being subject to abrasion and deterioration because there is no contact between the recording head and the reading head. Among these various optical recording media, heat-mortar optical recording media do not require image processing in a darkroom, and therefore, application development for, for example, optical carts, optical disks, and optical tapes is becoming active.

このようなヒートモートの光記録媒体は、記録光(ビー
ム)を熱に変換し、そのビーム照射部による光学変調を
利用したもので、そのうち、レーザー記録光で媒体の1
部を融解、除去等してピットと称される小穴を情報に応
じて記録し、このピットの有無を読み出し光で検出する
ことかできるものかある。
Such heat-mortar optical recording media convert recording light (beam) into heat and utilize optical modulation by the beam irradiation section.
There is also a method in which small holes called pits are recorded according to information by melting or removing the portion, and the presence or absence of these pits can be detected using readout light.

これらは一般にレーザービームによって記録部分の媒体
を溶融蒸発させ穴をあける書込方式であって書き換えは
不可能である。そして、他方書き換え可能な光学的記録
媒体の例としては、非晶質カルコゲナイドのフォトダー
クニング現象を利用したものか知られているか、かかる
非晶質カルコゲナイド材料は一般に記録感度か小さく、
また光吸収端が比較的短波長側にあり、更にその吸収端
付近の波長では吸収が小さいため長波長光での記録感度
か非常に小さい。
These write methods generally use a laser beam to melt and evaporate the recording portion of the medium to create a hole, and cannot be rewritten. On the other hand, there are known examples of rewritable optical recording media that utilize the photodarkening phenomenon of amorphous chalcogenide; such amorphous chalcogenide materials generally have low recording sensitivity;
Furthermore, the optical absorption edge is on the relatively short wavelength side, and furthermore, the absorption is small at wavelengths near the absorption edge, so the recording sensitivity for long wavelength light is extremely low.

一般に上記のレーザー光は、その光ビームを極小に絞れ
ることからこの種光記録用光源として最適であり、特に
半導体レーザーは非常に小型化できる利点かあって注目
されている。しかしその波長域か750〜800n−以
上、恐らく将来的にも700nm程度と比較的長波長で
ある。又概ね小型で安定性の高いHe−Neレーザーも
その波長域は632.8n■である。更に、短波長のレ
ーザーとしてはAr、 Kr等があるか若干不安定さが
増し、かつ非常に大型である。即ち上記非晶質カルコゲ
ナイドは使用光源に著しい制限があり、しかも小型化が
殆どできないと云って良い。
In general, the above-mentioned laser light is most suitable as a light source for this type of optical recording because the light beam can be narrowed down to a minimum size, and semiconductor lasers in particular are attracting attention because they have the advantage of being extremely compact. However, the wavelength range is 750 to 800 nm or more, and will probably be around 700 nm in the future, which is a relatively long wavelength. Furthermore, the wavelength range of the He--Ne laser, which is generally small and highly stable, is 632.8 nm. Furthermore, short wavelength lasers include Ar, Kr, etc., making them slightly more unstable and extremely large. That is, it can be said that the amorphous chalcogenide described above has significant restrictions on the light source that can be used, and moreover, it is almost impossible to miniaturize the amorphous chalcogenide.

他に光磁気材料か良く知られている。これは上述した使
用光源に関する制限は少いが、読出し時にいわゆる磁気
カー効果を用いて読出しを行うものであってその効果が
小さく、読出しのS/Nが非常に悪い問題かある。
Other well-known materials include magneto-optical materials. Although there are few restrictions regarding the light source used, the problem is that the so-called magnetic Kerr effect is used during readout, and the effect is small and the readout S/N ratio is very poor.

更に別の例として、導電層を有する基板上にサーモプラ
スチック材を組み合わせた記録媒体かあり、一様な帯電
後、熱ヘットで信号を記録する方法があるが、熱ヘット
で記録するため光記録と比べ高密度記録の要求に対して
十分とは云い難い。
Another example is a recording medium that combines a thermoplastic material on a substrate with a conductive layer, and after uniformly charging, there is a method of recording signals with a thermal head, but optical recording is possible because recording with a thermal head is possible. Compared to this, it is difficult to say that it is sufficient to meet the demands of high-density recording.

以上のごとく、従来の記録媒体、特に光記録媒体の多く
は上記書き換え性および該書き換え時における緒特性等
において必ずしも満足できるものが得られていないのが
実状である。
As described above, the reality is that many conventional recording media, especially optical recording media, do not necessarily have satisfactory rewritability and performance characteristics during rewriting.

[発明が解決しようとする問題点] 本発明は、このような実状に鑑みてなされたものであっ
て、導電層を有する基板上に、少なくとも光吸収材かつ
光導電材である染料または顔料とサーモプラスチック材
を含有する光記録層を形成した構成の光学的記録媒体に
よって、記録、再゛  生、および消去感度が著しく向
上し、また記録、再生、消去のくり返し、および書き換
え性を著しく改善した光学的記録媒体を実現し得ること
を見いたし本発明を完成したものである。
[Problems to be Solved by the Invention] The present invention has been made in view of the above-mentioned circumstances, and includes at least a dye or a pigment that is a light absorbing material and a photoconductive material, and a thermosetting material on a substrate having a conductive layer. An optical recording medium having an optical recording layer containing a plastic material has significantly improved recording, reproducing, and erasing sensitivity. The present invention was completed after discovering that it is possible to realize a digital recording medium.

[問題点を解決するための手段]及び[作用]即ち、本
発明は導電層を有する基板上に光記録層を有する光学的
記録媒体の光記録層上に一様な帯電を行ない、さらに光
信号の露光を行なうことにより光信号に対応した凹凸の
形状変化を形成することによって記録する光学的記録媒
体において、前記光記録層か少なくとも光吸収材かつ光
導電材である染料または顔料とサーモプラスチック材を
含有することを特徴とする光学的記録媒体である。
[Means for Solving the Problems] and [Operation] That is, the present invention uniformly charges the optical recording layer of an optical recording medium having an optical recording layer on a substrate having a conductive layer, and further charges the optical recording layer. In an optical recording medium in which recording is performed by exposing a signal to form a change in the shape of concaves and convexes corresponding to an optical signal, the optical recording layer includes at least a dye or pigment that is a light absorbing material and a photoconductive material, and a thermoplastic material. An optical recording medium characterized by containing:

本発明は、導電層を有する基板上に、少なくとも光吸収
材かつ光導電材である染料または顔料とサーモプラスチ
ック材を含有する光記録層を有する光学的記録媒体で、
特に前記光吸収材かつ光導電材である染料または顔料が
半導体レーザーの発振波長である近赤外領域に吸収を有
する光学的記録媒体からなるもである。
The present invention is an optical recording medium having an optical recording layer containing at least a dye or pigment, which is a light absorbing material and a photoconductive material, and a thermoplastic material, on a substrate having a conductive layer,
In particular, it is an optical recording medium in which the dye or pigment, which is the light absorbing material and photoconductive material, has absorption in the near infrared region, which is the oscillation wavelength of a semiconductor laser.

以下、図面に基づき、本発明を具体的に説明する。Hereinafter, the present invention will be specifically explained based on the drawings.

第1図は本発明の光学的記録媒体の一例を示す断面図で
あり、図中1は基板、2は導電層、3は光記録層で、3
aが光吸収材かつ光導電材である染料または顔料および
3bかサーモプラスチック材である。
FIG. 1 is a sectional view showing an example of the optical recording medium of the present invention, in which 1 is a substrate, 2 is a conductive layer, 3 is an optical recording layer, 3
a is a dye or pigment which is a light absorbing material and a photoconductive material, and 3b is a thermoplastic material.

基板lは記録の読み出し方式を透過形にする時は平滑な
透明基板を用いる必要かあり2反射形にする時は不透明
基板でも良く、その材質としては種々のものを用いるこ
とかできる0例えば1通常、各種ガラス、各種セラミッ
クスあるいはポリメタクリル樹脂、ポリアクリル樹脂、
ポリカーボネート樹脂等の各種樹脂を用いることか好ま
しい、また、形状や寸法は用いる用途に応じ、ディスク
、シート、テープ、ドラム等軸々のものとすることかて
きる。
When the recording readout method is a transmissive type, it is necessary to use a smooth transparent substrate.2 When the recording readout method is a reflective type, an opaque substrate may be used.Various materials can be used for the substrate.0For example, 1 Usually, various glasses, various ceramics, polymethacrylic resin, polyacrylic resin,
It is preferable to use various resins such as polycarbonate resin, and the shape and dimensions may be in the form of disks, sheets, tapes, drums, etc. depending on the intended use.

また、導電層2としては、一般にITOネサ膜等の透明
導電層か用いられるか、反射形にする場合は、金属や金
属酸化膜等の導電層を用いることかできる。
Further, as the conductive layer 2, a transparent conductive layer such as an ITO Nesa film is generally used, or in the case of a reflective type, a conductive layer such as a metal or metal oxide film may be used.

次に、光記録層3中のサーモプラスチック材3bとして
は、例えばポリスチレン、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル
樹脂、ABS s1脂、アクリル樹脂、ポリエチレン、
ポリプロピレン、フッ素樹脂、ポリアミド樹脂、アセタ
ール樹脂、ポリカーボネート等の低分子量ポリマーか挙
げられる。また、前記のサーモプラスチック材のうち、
分子MM。
Next, as the thermoplastic material 3b in the optical recording layer 3, for example, polystyrene, vinyl chloride resin, vinyl acetate resin, ABS s1 resin, acrylic resin, polyethylene,
Examples include low molecular weight polymers such as polypropylene, fluororesin, polyamide resin, acetal resin, and polycarbonate. Furthermore, among the thermoplastic materials mentioned above,
Molecule MM.

が1000〜10000で、かつ分子量分布Mw/Ml
、が≦1.2であり、その分散か単分散に近い低分子量
ポリマーを用いることか好ましい。サーモプラスチック
材は記録光照射部分の温度上昇により、軟化乃至融解し
、変形して記録ピットを形成しやすいものである。
is 1000 to 10000, and the molecular weight distribution Mw/Ml
is ≦1.2, and it is preferable to use a low molecular weight polymer whose dispersion is close to monodisperse. Thermoplastic materials tend to soften or melt and deform due to a temperature rise in the area irradiated with recording light to form recording pits.

この場合、サーモプラスチック材3bの分子量M、か1
000未満では、液状であるか、あるいは軟化点か低す
ぎて繰り返し使用に耐えない、一方、分子1わがto、
oooを超えると、消去、書き換えは可能であるか、光
照射による記録ピットの、特に周辺部分か不良で読みと
りの際のC/N  (キャリヤ/ノイズ)比が悪くなる
。また、多数回の繰り返しての消去、書き換えに際し、
このC/N比は徐々に悪化する。
In this case, the molecular weight M of the thermoplastic material 3b is 1
If it is less than 000, it is liquid or the softening point is too low to withstand repeated use.
If it exceeds ooo, is erasing and rewriting possible? The C/N (carrier/noise) ratio during reading becomes poor due to defective recording pits, especially the peripheral portions, caused by light irradiation. In addition, when repeatedly erasing and rewriting many times,
This C/N ratio gradually deteriorates.

他方、分子量分布M、/Mnか〉1.2では、分子量か
不均一なため記録した場所により変形状態にムラが生じ
、さらに消去時においても元の状態に戻りにくくなる。
On the other hand, when the molecular weight distribution M, /Mn>1.2, the molecular weight is non-uniform, so the deformed state becomes uneven depending on the recorded location, and furthermore, it becomes difficult to return to the original state even when erasing.

これに対し1分子IkFawか、1000〜10,00
0で、分子量分布Fa 、/Pa、か≦1.2となると
きわめて高いC/N比の記録ピットか得られ、また繰り
返し何回もの消去書き換えが可能であり、しかもそのと
きC/N比の劣化も少ない。
On the other hand, one molecule IkFaw is 1000 to 10,000
0, and when the molecular weight distribution Fa, /Pa, is ≦1.2, recording pits with an extremely high C/N ratio can be obtained, and it is possible to erase and rewrite many times. There is little deterioration.

このようなサーモグラスチック材は、ラジカルテロメリ
ゼーション、イオンテロメリゼーション、熱重合、ポリ
マーの解重合、ポリマーの機械的切断等で容易に得られ
、あるいは市販のものを用いて、更にこれらを分子量分
別して用いることもできる。
Such thermoplastic materials can be easily obtained by radical telomerization, ion telomerization, thermal polymerization, polymer depolymerization, mechanical cutting of polymers, etc., or can be obtained by using commercially available materials. It can also be used after being separated by molecular weight.

一方、光記録M3には前記のようなサーモプラスチック
材3bと共に光吸収材かつ光導電材である染料または顔
料3aが含有される。
On the other hand, the optical recording medium M3 contains a dye or pigment 3a which is a light absorbing material and a photoconductive material along with the thermoplastic material 3b as described above.

この光吸収材かつ光導電材である染料または顔料3aは
、記録光に対して大きな光吸収率を示し。
The dye or pigment 3a, which is a light absorbing material and a photoconductive material, exhibits a large light absorption rate for recording light.

光照射部において光エネルギーを吸収して熱エネルギー
に変換され、温度上昇するとともに前記光記録層にコロ
ナ放電器等により電荷を一様に与え、光照射部において
光を吸収し電荷を発生し、電界の変化によって電気的吸
引力の変化を生じさせるものである。
In the light irradiation part, light energy is absorbed and converted into thermal energy, and as the temperature rises, a charge is uniformly applied to the optical recording layer by a corona discharger or the like, and the light is absorbed in the light irradiation part and a charge is generated; Changes in electric field cause changes in electrical attractive force.

従って、記録光の波長に応じて種々の公知の染料または
顔料を用いることかできる。特に記録光として軽量で低
コストな半導体レーザーを用いる場合、近赤外領域に光
吸収性かつ光導電性を有する染料または顔料として、例
えば不純物や増感剤等を含むCdS、  ZnO1Ti
O□等の無機顔料やアゾ系、フタロシアニン系などの有
機顔料、およびシアニン、メロシアニン、トリフェニル
メタン、ナフトキノン、キサンチン、スクアリウム、ア
ズレン、メチンおよびビリリウムなどを含めて、アゾ、
スチルベンフタロシアニン系の直接染料、アゾ、アント
ラキノン、トリフェニルメタン、キサンチン、アジン系
の酸性染料、シアニン、アゾ、アジン、トリフェニルメ
タン、アズレン、メチン、ピリリウム系の塩基性染料、
アゾ、アントラキノン、キサンチン、トリフェニルメタ
ン系の媒染、酸性媒染染料、アントラキノン、インジゴ
イド系の建染染料、アゾ、アントラキノン、フタロシア
ニン、トリフェニルメタン系の油溶染料、硫化染料、お
よびジチオール系などの金属錯体などの有機染料を挙げ
ることができる。
Therefore, various known dyes or pigments can be used depending on the wavelength of the recording light. In particular, when using a lightweight and low-cost semiconductor laser as the recording light, dyes or pigments that have light absorption and photoconductivity in the near-infrared region include, for example, CdS, ZnO1Ti, etc. containing impurities and sensitizers.
Including inorganic pigments such as O□, organic pigments such as azo and phthalocyanine, and cyanine, merocyanine, triphenylmethane, naphthoquinone, xanthine, squalium, azulene, methine, and biryllium, azo,
Stilbene phthalocyanine direct dyes, azo, anthraquinone, triphenylmethane, xanthine, azine acid dyes, cyanine, azo, azine, triphenylmethane, azulene, methine, pyrylium basic dyes,
Azo, anthraquinone, xanthine, triphenylmethane mordants, acid mordant dyes, anthraquinones, indigoid vat dyes, azo, anthraquinone, phthalocyanine, triphenylmethane oil-soluble dyes, sulfur dyes, and metals such as dithiols. Examples include organic dyes such as complexes.

また、光記録層中に含有されるサーモプラスチック材3
bと光吸収材でかつ光導電材である染料または顔料3a
との含有量比は、サーモプラスチック材10重量部に対
し、一般に0.01〜100重量部、好ましくは0.1
〜20重量部の範囲内で広範囲に選択することかできる
In addition, the thermoplastic material 3 contained in the optical recording layer
b and a dye or pigment 3a which is a light absorbing material and a photoconductive material
The content ratio is generally 0.01 to 100 parts by weight, preferably 0.1 parts by weight per 10 parts by weight of the thermoplastic material.
It can be selected from a wide range within the range of 20 parts by weight.

このような光記録層はスピナー塗工、ディッピング塗工
、ロールコータ等の公知の種々の方法で基板上に塗布す
ることかできる。また光記録層の膜厚は0.01pm〜
11■の厚さが好ましい。
Such an optical recording layer can be coated onto the substrate by various known methods such as spinner coating, dipping coating, and roll coating. Moreover, the film thickness of the optical recording layer is 0.01 pm~
A thickness of 11 cm is preferred.

なお、このような光記録層中に各種オリゴマー、ポリマ
ーなどの添加物を含有させることにより、基板との接着
性の向上、塗布性の向上、および軟化温度を変更させる
ことができる。この他、各種可塑剤、界面活性剤、帯電
防止剤、滑剤、難燃剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、安
定剤、分散剤等を含有させることができる。
In addition, by incorporating additives such as various oligomers and polymers into such an optical recording layer, it is possible to improve the adhesion to the substrate, improve the coating property, and change the softening temperature. In addition, various plasticizers, surfactants, antistatic agents, lubricants, flame retardants, ultraviolet absorbers, antioxidants, stabilizers, dispersants, etc. can be contained.

また、前記の導電層を有する基板上に、必要に応じて反
射層、下引き層を設け、その上に光記録層を設けてもよ
い。
Further, a reflective layer and an undercoat layer may be provided on the substrate having the conductive layer, if necessary, and an optical recording layer may be provided thereon.

次に、第2図を用いて本発明による記録媒体の書き込み
および消去方法の一例を説明する。
Next, an example of the recording medium writing and erasing method according to the present invention will be explained using FIG.

まず、同第2図(a)のごとく、記録媒体の表面にコロ
ナ放電により一様な帯電を行ない、次に第2図(b)ま
たは第2図(c)のごとく、光記録層側または基板側か
ら書き込む部分にレーザー光4を照射する。レーザー光
が照射された部分の光吸収材かつ光導電材である染料ま
たは顔料3a中に光が吸収され、サーモプラスチック材
3bの軟化点(ガラス転移点)以上に加熱されるととも
に、発生した電荷か光記録層中を移動して電界の配置が
変化し、電気的吸引力が大きくなり、厚さ変形が生じ、
そのまま冷却することにより記録が固定され、第2図(
d)に示す如く凹凸状の記録ビットか形成される。
First, as shown in FIG. 2(a), the surface of the recording medium is uniformly charged by corona discharge, and then, as shown in FIG. 2(b) or 2(c), the optical recording layer side or A laser beam 4 is irradiated onto the part to be written from the substrate side. Light is absorbed into the dye or pigment 3a, which is a light absorbing material and photoconductive material, in the area irradiated with the laser light, and the thermoplastic material 3b is heated to a temperature higher than its softening point (glass transition point), and the generated electric charge is As it moves through the optical recording layer, the arrangement of the electric field changes, the electric attractive force increases, and thickness deformation occurs.
The record is fixed by cooling it as it is, and the record is fixed as shown in Figure 2 (
As shown in d), uneven recording bits are formed.

この場合、第2図(e)に示すように光照射後。In this case, after light irradiation as shown in FIG. 2(e).

再帯電することにより厚さ変形を起しやすくすることも
できる。また前記の記録において、帯電およびレーザー
光の照射を同時に行なってもよい。
Recharging can also facilitate thickness deformation. Further, in the recording described above, charging and laser light irradiation may be performed simultaneously.

そして、さらに一様に再加熱することにより記録された
凹凸状の記録ビットの表面は、再融解し。
Then, by further uniformly reheating, the surface of the recorded bit having an uneven shape is remelted.

第2図(f)に示す如く平坦に戻る。It returns to a flat state as shown in FIG. 2(f).

消去のための加熱としては、レーザー光照射、各種ヒー
ター加熱、赤外線ランプ照射等いずれを泪いてもよい。
As heating for erasing, any of laser light irradiation, heating with various heaters, infrared lamp irradiation, etc. may be used.

また、記録層上に保護層等を設けてもよい。Further, a protective layer or the like may be provided on the recording layer.

そして、このような消去と書き込みを繰り返し行ワても
、ピットは常に良好な形状を示し、 C/N比の高い読
みとりが行われ、又消去により表面は゛ 常に平坦に戻
るので、繰り返し回数か多くなっても消去と書き込みと
を常に確実かつ良好に行うことかできる。
Even if such erasing and writing are repeated, the pits always show a good shape, reading with a high C/N ratio is performed, and the surface always returns to a flat surface after erasing, so the number of repetitions can be increased. Erasing and writing can always be performed reliably and satisfactorily no matter what happens.

[実施例コ 以下、実施例を示し本発明をさらに具体的に説明する。[Example code] Hereinafter, the present invention will be explained in more detail with reference to Examples.

実施例1〜3 サーモプラスチック材として、ポリスチレン[ピコラス
ティックD−100(エクソン化学■製。
Examples 1 to 3 Polystyrene [Picolastic D-100 (manufactured by Exxon Chemical Co., Ltd.) was used as a thermoplastic material.

y1w= 1500) ] 110重量と光吸収材かつ
光導電材である染料として下記の構造式Iで示す染料0
.8重量部をメチルエチルケトン中で分散し、この分散
液を導電層としてfTOを蒸着した200厘園φ、1.
2■l厚のガラス基板上にスピナー塗工法で塗布し、そ
の乾燥膜厚0.8終烏の実施例1の光学的記録媒体を作
製した。
y1w = 1500) ] 110 weight and a dye represented by the following structural formula I as a dye that is a light absorbing material and a photoconductive material 0
.. 8 parts by weight of fTO was dispersed in methyl ethyl ketone, and this dispersion was used as a conductive layer to deposit fTO.
The optical recording medium of Example 1 with a dry film thickness of 0.8 mm was prepared by coating on a 2 liter thick glass substrate using a spinner coating method.

構造式I H3 実施例2 サーモプラスチック材としてポリスチレン[どコラステ
ィック D−125(エクソン化学■製、M。
Structural formula I H3 Example 2 As a thermoplastic material, polystyrene [Docolastic D-125 (manufactured by Exxon Chemical Co., Ltd., M) was used.

=3,000)110重量部と光吸収材かつ光導電材で
ある顔料として下記の構造図■で示す顔料5重量部をメ
チルエチルケトン中で分散し、この分散液を導電層とし
てITOを蒸着した200mmφ、1.2■■厚のガラ
ス基板上にスピナー塗工法で塗布し、その乾燥膜厚1.
5μ腫の実施例2の光学的記録媒体を作製した。
= 3,000) 110 parts by weight and 5 parts by weight of the pigment shown in the structural diagram (■) below as a pigment that is a light absorbing material and a photoconductive material were dispersed in methyl ethyl ketone, and this dispersion was used as a conductive layer and ITO was vapor-deposited. It was coated on a glass substrate with a thickness of 1.2■■ using a spinner coating method, and the dry film thickness was 1.
An optical recording medium of Example 2 of 5μ tumor was prepared.

構造式■ 実施例3 サーモプラスチック材としてポリスチレン[ピコラステ
ィックE−125(エクソン化学■製、Mw= 6.0
0[1)] 110重量と光吸収材かつ光導電材である
顔料としてε型の銅フタロシアニン(東洋インキ■製、
)2重量部をメチルエチルケトン中て分散し、この分散
液を導電層として ITOを蒸着した200@mφ、1
.2mm厚のガラス基板上にスピナー塗工法で塗布し、
その乾燥膜厚2.OBの実施例3の光学的記録媒体を作
製した。
Structural formula ■ Example 3 Polystyrene [Picolastic E-125 (manufactured by Exxon Chemical ■, Mw = 6.0) was used as a thermoplastic material.
0[1)] ε-type copper phthalocyanine (manufactured by Toyo Ink ■,
) 2 parts by weight was dispersed in methyl ethyl ketone, and this dispersion was used as a conductive layer to deposit ITO.
.. Coated on a 2mm thick glass substrate using a spinner coating method,
The dry film thickness 2. An optical recording medium of Example 3 of OB was produced.

実施例4 サーモプラスチック材としてポリスチレン[ピコラステ
ィックD−100(エクソン化学■製、Mw:=1,5
00)110重量部と光吸収材かつ光導電材である染料
として下記の構造式mで示す染料1ffilljt部を
メチルエチルケトン中で分散し、この分散液を導電層と
しテrTOを!着しり200mmφ、1.2mm gの
ガラス基板上にスピナー塗工法で塗布し、その乾燥膜厚
1.0 %■の実施例4の光学的記録媒体を作1した。
Example 4 Polystyrene [Picolastic D-100 (manufactured by Exxon Chemical Co., Ltd., Mw: = 1,5
00) 110 parts by weight of a dye that is a light absorbing material and a photoconductive material and is represented by the following structural formula m is dispersed in methyl ethyl ketone, and this dispersion is used as a conductive layer to form TerTO! The optical recording medium of Example 4 was prepared by applying the coating onto a glass substrate of 200 mmφ and 1.2 mm g using a spinner coating method to have a dry film thickness of 1.0%.

構造式■ このようにして得られた実施例1〜4の光学的記録媒体
において、各媒体を900rpmに回転させながら、光
記録層表面上に一様にマイナス帯電し、さらに発振波長
830nm 、出力8 mW (短面上)の半導体レー
ザーを1.5g+++に集光し、記録周波数IMl(z
で半導体レーザー光を照射した0次いで、出力1 +W
 (短面上)の半導体レーザーを用いて、その透過光を
フォトダイオードで検出し、そのC/N比を測定した。
Structural Formula ■ In the optical recording media of Examples 1 to 4 thus obtained, the surface of the optical recording layer is uniformly negatively charged while rotating each medium at 900 rpm, and the oscillation wavelength is 830 nm and the output is A semiconductor laser of 8 mW (on the short surface) was focused on 1.5 g +++, and the recording frequency IMl (z
The semiconductor laser beam was irradiated with 0, then the output was 1 +W
Using a semiconductor laser (on the short surface), its transmitted light was detected by a photodiode, and its C/N ratio was measured.

その結果を表1に示す。The results are shown in Table 1.

表   1 表1に示された結果から、本発明の光学的記録媒体は良
好なC/N比か得られていることが認められる。また、
上記の媒体の記録層表面を顕微鏡で観察すると、実施例
1〜4は光照射中心部が凹で、その外周部か凸をなす均
一なピットが形成されていた。
Table 1 From the results shown in Table 1, it is recognized that the optical recording medium of the present invention has a good C/N ratio. Also,
When the surface of the recording layer of the above medium was observed under a microscope, it was found that in Examples 1 to 4, uniform pits were formed that were concave at the center of light irradiation and convex at the outer periphery.

さらに、記録された実施例1〜4の光学的記録媒体な1
00rp−で回転させながら、発振波長83001、出
力10mW(短面上)の半導体レーザーを5μ騰に集光
させて記録部へ照射し、消去を行ない、また前記の方法
で記録と消去を1,000回繰り返し行なった。その時
のC/N比の変化を表2に示す。
Furthermore, the optical recording medium 1 of Examples 1 to 4 recorded
While rotating at 00 rpm, a semiconductor laser with an oscillation wavelength of 83001 and an output of 10 mW (on the short surface) is focused at 5μ increments and irradiated onto the recording area for erasing. This was repeated 000 times. Table 2 shows the change in C/N ratio at that time.

表   2 表2の結果から、実施例1〜4は、繰り返し1.000
回後もほとんど安定したC/N比か得られることが認め
られる。
Table 2 From the results in Table 2, Examples 1 to 4 had a repetition rate of 1.000
It is observed that an almost stable C/N ratio can be obtained even after the cycle.

実施例5 導電層としてAuを蒸着した2005mφ、1.2mm
厚のガラス基板上に、実施例1で用いた分散液をスピナ
ー塗工法で塗布し、その乾燥膜厚0.7μ層の実施例5
の光学的記録媒体を作製した。
Example 5 2005mφ, 1.2mm with Au vapor deposited as a conductive layer
Example 5 The dispersion used in Example 1 was coated on a thick glass substrate using a spinner coating method, and a layer with a dry film thickness of 0.7 μm was obtained.
An optical recording medium was prepared.

上記のように作製した実施例5の光学的記録媒体を実施
例1と同様の方法で記録を行った。
Recording was performed on the optical recording medium of Example 5 produced as described above in the same manner as in Example 1.

そして、出力1 mW (媒面上)の半導体レーザーを
用いて、その反射光をフォトディテクターで検出し、C
1M比を測定した。さらに、実施例1と同様の方法で、
消去および書き込みの繰り返しを1000回行った。そ
のC/N比の変化を表3に示す。
Then, using a semiconductor laser with an output of 1 mW (on the medium surface), the reflected light is detected by a photodetector, and the C
The 1M ratio was measured. Furthermore, in the same manner as in Example 1,
Erasing and writing were repeated 1000 times. Table 3 shows the changes in the C/N ratio.

表   3 表3の結果より、反射読み出しにおいても、消去および
書き込みの繰り返し1000回後も、良好なC/N比か
得られることが認められる。
Table 3 From the results in Table 3, it is confirmed that even in reflective readout, a good C/N ratio can be obtained even after 1000 times of erasing and writing.

[発明の効果] 以上、説明したように、本発明の光学的記録媒体によれ
ば、レーザー光による書き込み、消去の繰り返し性にお
いて、記録ピットの形状はきわめて良好で、読みとりに
透過光を用いても反射光を用いても高いC/N比を得る
ことかできる。
[Effects of the Invention] As explained above, according to the optical recording medium of the present invention, the shape of the recording pits is extremely good in terms of the repeatability of writing and erasing with laser light, and the shape of the recording pits is very good when using transmitted light for reading. A high C/N ratio can also be obtained using reflected light.

また、消去か常に安定に行なわれるので、消去、書きか
えを繰り返し多数回行なっても、十分安定な記録を行な
うことかできる。
Furthermore, since erasing is always performed stably, even if erasing and rewriting are repeated many times, sufficiently stable recording can be performed.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の光学的記録媒体の一例を示す断面図、
および第2図(a)〜Cf)は光学的記録媒体の書き込
みおよび消去方法の一例を示す説明図である。 l・・・基板     2・・・導電層3・・・光記録
層   3a・・・染料または顔料3b・・・サーモプ
ラスチック材 4・・・レーザー光
FIG. 1 is a sectional view showing an example of the optical recording medium of the present invention;
2(a) to 2(Cf) are explanatory diagrams showing an example of a writing and erasing method for an optical recording medium. l... Substrate 2... Conductive layer 3... Optical recording layer 3a... Dye or pigment 3b... Thermoplastic material 4... Laser light

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)導電層を有する基板上に光記録層を有する光学的
記録媒体の光記録層上に一様な帯電を行ない、さらに光
信号の露光を行なうことにより光信号に対応した凹凸の
形状変化を形成することによって記録する光学的記録媒
体において、前記光記録層が少なくとも光吸収材かつ光
導電材である染料または顔料とサーモプラスチック材を
含有することを特徴とする光学的記録媒体。
(1) By uniformly charging the optical recording layer of an optical recording medium having an optical recording layer on a substrate having a conductive layer and further exposing the optical signal, the shape of the unevenness changes in response to the optical signal. 1. An optical recording medium in which recording is performed by forming an optical recording medium, wherein the optical recording layer contains at least a dye or pigment that is a light absorbing material and a photoconductive material, and a thermoplastic material.
(2)前記光吸収材かつ光導電材である染料または顔料
が近赤外領域に吸収を有する特許請求の範囲第1項記載
の光学的記録媒体。
(2) The optical recording medium according to claim 1, wherein the dye or pigment that is the light absorbing material and photoconductive material has absorption in the near infrared region.
(3)前記光信号の露光が半導体レーザーを光源とする
特許請求の範囲第1項記載の光学的記録媒体。
(3) The optical recording medium according to claim 1, wherein the exposure of the optical signal uses a semiconductor laser as a light source.
JP61250701A 1986-10-23 1986-10-23 Optical recording medium Pending JPS63106940A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP61250701A JPS63106940A (en) 1986-10-23 1986-10-23 Optical recording medium

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP61250701A JPS63106940A (en) 1986-10-23 1986-10-23 Optical recording medium

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS63106940A true JPS63106940A (en) 1988-05-12

Family

ID=17211755

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP61250701A Pending JPS63106940A (en) 1986-10-23 1986-10-23 Optical recording medium

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS63106940A (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5579150A (en) Optical recording medium using a charge transfer complex
US5516568A (en) Optical recording medium
JPS63106940A (en) Optical recording medium
JP3466650B2 (en) Rewritable optical recording method
JPH0129715B2 (en)
JPS6369033A (en) optical recording medium
JP2615546B2 (en) Laser recording material and image forming method
JPS60239947A (en) optical information storage medium
JPH0319064Y2 (en)
JPH0319063Y2 (en)
JPS5856893A (en) Light recording material
JP2556351B2 (en) Optical recording medium and manufacturing method thereof
JPH06309695A (en) Optical information recording medium and recording and erasing method thereof
JPH02122440A (en) Ferroelectric polymer optical recording media
JPS6331861B2 (en)
JPH05342626A (en) Organic optical recording tape
JP2548570B2 (en) Optical recording method
JPS63121143A (en) Optical card and its manufacturing method
JPS61179792A (en) Photo-thermal conversion recording medium
KR100257895B1 (en) Erasable Optical Recording Media
JP2940830B2 (en) Optical information recording medium
JPS63175239A (en) Optical information recording method
JPS62160283A (en) Rewriting type heat mode optical memory medium
JPH05128592A (en) Optical information recording medium and recording / reproducing apparatus using the same
JPS63153193A (en) Optical information recording method