JPS6298793A - Epoxy resin compound for printed circuit substrate - Google Patents

Epoxy resin compound for printed circuit substrate

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JPS6298793A
JPS6298793A JP23747485A JP23747485A JPS6298793A JP S6298793 A JPS6298793 A JP S6298793A JP 23747485 A JP23747485 A JP 23747485A JP 23747485 A JP23747485 A JP 23747485A JP S6298793 A JPS6298793 A JP S6298793A
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JP
Japan
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epoxy resin
epoxy
resin
equivalent
parts
Prior art date
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JP23747485A
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Japanese (ja)
Inventor
憲 永井
淳 松本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Gas Chemical Co Inc
Original Assignee
Mitsubishi Gas Chemical Co Inc
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、耐熱性、耐加熱変色性、接着性等に優れたプ
リント配線板用エポキシ樹脂組成物に関するものであり
、プリント配線基板等として好適に使用出来る積層板を
提供するものである。
Detailed Description of the Invention [Field of Industrial Application] The present invention relates to an epoxy resin composition for printed wiring boards that has excellent heat resistance, heat discoloration resistance, adhesiveness, etc., and is suitable for use as printed wiring boards, etc. The present invention provides a laminate plate that can be suitably used.

〔従来の技術およびその問題点〕[Conventional technology and its problems]

電子機器設計の目標が、高密度配線化による小型化、高
信頼性化、低コスト化に置かれているため、プリント配
線基板もこれらの要求を満たす方向で改良、開発が行わ
れてきた。
The goals of electronic equipment design are to achieve miniaturization, high reliability, and low cost through high-density wiring, and printed wiring boards have also been improved and developed to meet these demands.

低コスト化のためにエポキシ樹脂に安価に製造されるフ
ェノールノボラック樹脂を硬化剤として積層板を製造し
た場合、電気性能等は非常に良好であるが、耐熱性、耐
加熱変色性、銅箔接着性が劣るという欠点があった。
When laminates are manufactured using epoxy resin and phenol novolac resin, which is inexpensively manufactured, as a curing agent to reduce costs, the electrical performance is very good, but there are problems with heat resistance, heat discoloration resistance, and copper foil adhesion. It had the disadvantage of being inferior in quality.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

本発明は、上記のようなフェノールノボラック樹脂をエ
ポキシ樹脂の硬化剤として積層板を製造した時に生じる
欠点、特に銅箔接着性の改良について種々鋭意検討した
結果、シンクロペンタジエン・フェノリックポリマーを
ノボラック樹脂を硬化剤と併用することにより耐熱性、
耐湿性などを害することなく銅箔接着性を改良出来るこ
とを見いだし、かかる知見に基づいて完成したものであ
る。
The present invention was developed as a result of various intensive studies on the drawbacks that occur when laminates are manufactured using the above-mentioned phenolic novolac resin as a curing agent for epoxy resin, and in particular on improving copper foil adhesion. Heat resistance when used in combination with a hardening agent.
It was discovered that copper foil adhesion could be improved without impairing moisture resistance, etc., and the product was completed based on this knowledge.

即ち、本発明は、分子内に2個以上のエポキシ基を有す
るエポキシ樹脂 1当量に対して、下記一般式(1)で
表されるシンクロペンタジエン・フェノリックポリマー
0.1〜0.8当世、ノボラック樹脂0.1〜1.1当
量及び硬化促進剤を配合してなるプリント配線板用エポ
キシ樹脂組成物である。
That is, the present invention provides a synchropentadiene phenolic polymer represented by the following general formula (1) of 0.1 to 0.8 epoxy, novolak, per equivalent of an epoxy resin having two or more epoxy groups in the molecule. This is an epoxy resin composition for printed wiring boards, which contains 0.1 to 1.1 equivalents of resin and a curing accelerator.

一般式(1): (式中のRは水素又は低級アルキル基であり、nは0〜
10の正数である。) 以下、本発明の構成について説明する。
General formula (1): (R in the formula is hydrogen or a lower alkyl group, n is 0-
It is a positive number of 10. ) Hereinafter, the configuration of the present invention will be explained.

本発明のエポキシ樹脂としては、特に限定されるもので
はないが、具体的には、ビスフェノールA系エポキシ樹
脂、ビスフェノールF系エポキシ樹脂、フェノールノボ
ラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキ
シ樹脂、ハロゲン化ビスフェノールA系エポキシ樹脂、
ハロゲン化ビスフェノールF系エポキシ樹脂、ハロゲン
化フェノールノボラック型エポキシ樹脂、ポリグリコー
ル系エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂等であり、これ
らの単独もしくは2種以上を併用して用いられる。これ
らの中でビスフェノールA系エポキシ樹脂、ハロゲン化
ビスフェノールA系エポキシ樹脂、ハロゲン化フェノー
ルノボラック型エポキシ樹脂が特に好ましい。
The epoxy resin of the present invention is not particularly limited, but specifically includes bisphenol A epoxy resin, bisphenol F epoxy resin, phenol novolac epoxy resin, cresol novolak epoxy resin, halogenated bisphenol A based epoxy resin,
These include halogenated bisphenol F-based epoxy resins, halogenated phenol novolac-based epoxy resins, polyglycol-based epoxy resins, alicyclic epoxy resins, etc., and these may be used alone or in combination of two or more. Among these, bisphenol A-based epoxy resins, halogenated bisphenol A-based epoxy resins, and halogenated phenol novolac-type epoxy resins are particularly preferred.

本発明のシンクロペンタジエン・フェノリックポリマー
とは、上記の一般式(1)で表されるものであり、使用
量はエポキシ樹脂1当量に対して、該。
The synchropentadiene phenolic polymer of the present invention is represented by the above general formula (1), and is used in the following amount per equivalent of the epoxy resin.

シンクロペンタジエン・フェノリックポリマーのフェノ
ール性水酸基が通常0.1〜0.8当量、好ましくは0
.2〜0.5当量の範囲である。0.1当量未満では接
着性の向上が不十分であり、0.8当量を越えると耐塩
化メチレン性が低下する傾向があり好ましくない。また
該シンクロペンタジエン・フェノリックポリマーの市販
品としては、式(1)中のRがメチル基であるものが山
場国策パルプ0菊製、品名: DC400がある。
The phenolic hydroxyl group of the synchropentadiene phenolic polymer is usually 0.1 to 0.8 equivalent, preferably 0.
.. It is in the range of 2 to 0.5 equivalents. If the amount is less than 0.1 equivalent, the improvement in adhesion is insufficient, and if it exceeds 0.8 equivalent, the resistance to methylene chloride tends to decrease, which is not preferable. Further, as a commercially available synchropentadiene phenolic polymer, one in which R in formula (1) is a methyl group is manufactured by Yamaba Kokusaku Pulp 0 Kiku, product name: DC400.

本発明のノボラック樹脂とは、フェノールノボラック樹
脂、タレゾールノボラック樹脂、ビスフェノールノボラ
ック樹脂などが例示され、これらの単独もしくは混合物
として使用される。これらの中でフェノールノボラック
樹脂、ビスフェノールノボラック樹脂が特に好ましい。
Examples of the novolak resin of the present invention include phenol novolak resin, talesol novolak resin, and bisphenol novolak resin, which may be used alone or as a mixture. Among these, phenol novolac resins and bisphenol novolak resins are particularly preferred.

使用量はエポキシ樹脂1当量に対して、該ノボラック樹
脂中のフェノール性水酸基が、通常0.1〜1.1当世
、好ましくは0.3〜0.8当量の範囲である。0.1
当量未満では耐塩化メチレン性が低下する傾向があり、
1.1当量を越えると接着性が低下する傾向があり好ま
しくない。
The amount of phenolic hydroxyl group in the novolak resin used is usually 0.1 to 1.1 equivalents, preferably 0.3 to 0.8 equivalents, per equivalent of epoxy resin. 0.1
If the amount is less than the equivalent, methylene chloride resistance tends to decrease.
If the amount exceeds 1.1 equivalent, adhesiveness tends to decrease, which is not preferable.

また、上記に説明したシンクロペンタジエン・フェノリ
ックポリマー、ノボラック樹脂等のエポキシ樹脂に対す
る合計の使用量は、エポキシ基1当量に対して0.5〜
1.5当量、特に0.7〜1.1当量の範囲とするのが
好ましい。
In addition, the total amount used for the epoxy resin such as synchropentadiene phenolic polymer and novolak resin explained above is 0.5 to 1 equivalent of epoxy group.
It is preferably in the range of 1.5 equivalents, particularly 0.7 to 1.1 equivalents.

本発明の硬化促進剤としては、ベンジルジメチルアミン
、ジメチルアミノメチルフェノールなどの第三級アミン
類、2−エチル−4−メチルイミダゾール、1−シアン
エチル−2−エチル−4−メチルイミダゾールなどのイ
ミダゾール類、これらイミダゾール類のトリメリット酸
、ジシアンジアミド等による変性物、第四級アンモニウ
ム塩、第四級ホスホニウム化合物などが例示され、単独
若しくは併用して適宜使用するが、これらの中で第三級
アミン類、イミダゾール類、イミダゾール類の変性物が
特に好ましい。使用量は、樹脂成分の0.01〜3.0
%、好ましくは0.1〜0.5%の範囲である。
Examples of the curing accelerator of the present invention include tertiary amines such as benzyldimethylamine and dimethylaminomethylphenol, and imidazoles such as 2-ethyl-4-methylimidazole and 1-cyanoethyl-2-ethyl-4-methylimidazole. Examples include modified products of these imidazoles with trimellitic acid, dicyandiamide, etc., quaternary ammonium salts, quaternary phosphonium compounds, etc., which may be used alone or in combination as appropriate, but among these, tertiary amines Particularly preferred are imidazoles, imidazoles, and modified imidazoles. The amount used is 0.01 to 3.0 of the resin component.
%, preferably in the range of 0.1-0.5%.

本発明の組成物は、以上の成分を必須成分とするもので
あるが、所望によりさらにその他の硬化促進剤もしくは
硬化触媒、公知の希釈剤、充填剤、顔料、難燃剤など種
々の添加剤を併用することが出来る。
The composition of the present invention has the above-mentioned components as essential components, but if desired, it may further contain various additives such as other curing accelerators or curing catalysts, known diluents, fillers, pigments, and flame retardants. Can be used together.

以上の成分を使用して通常フェスを調製し、これをガラ
ス布、ガラス不織布、ガラスマット、ガラスペーパーな
どの積層板用の基材に含浸し、温度100〜200℃、
好ましくは120〜1dO℃で加熱乾燥してB−sta
ge化してプリプレグとし、該プリプレグを1枚若しく
は複数枚用い、所望によりその表面に金属箔、特に電解
銅箔を重ね、温度100〜200℃、好ましくは150
〜180℃、圧力 5〜100 kg / c+yf、
好ましくは 20〜70kg/clTlで0.2〜3時
間積層成形することにより積層板とする。
A normal fest is prepared using the above ingredients, and this is impregnated into a base material for a laminate such as glass cloth, glass nonwoven fabric, glass mat, glass paper, etc. at a temperature of 100 to 200°C.
B-sta is preferably heated and dried at 120 to 1 dO°C.
ge to produce a prepreg, use one or more sheets of the prepreg, layer a metal foil, especially an electrolytic copper foil on the surface if desired, and heat at a temperature of 100 to 200°C, preferably 150°C.
~180℃, pressure 5~100kg/c+yf,
A laminate is preferably formed by lamination molding at 20 to 70 kg/clTl for 0.2 to 3 hours.

ワニスの調製方法は通常の方法でよいが、特にエポキシ
樹脂、シンクロペンタジエン・フェノリックポリマー及
びノボラック樹脂などを溶媒に溶解混合した後、硬化促
進剤を混合する方法が好ましい。
Although the varnish may be prepared by any conventional method, it is particularly preferable to dissolve and mix an epoxy resin, a synchropentadiene phenolic polymer, a novolak resin, etc. in a solvent, and then mix a curing accelerator.

〔実施例〕〔Example〕

以下、実施例等により本発明を説明する。尚、実施例等
中の部、%は重量基準である。
The present invention will be explained below with reference to Examples. Note that parts and percentages in Examples and the like are based on weight.

実施例−1 ビスフェノールA型エポキシ樹脂(油化シェルエポキシ
和製、商品名;エピコート1001、エポキシ当量45
0〜500 ) 100部、ジシクロペンタジェンフェ
ノリックポリマー(山場国策パルプ和製、品名、 DC
400、水酸基当量200〜220)22部及びフェノ
ールノボラック樹脂(明相化成側製、品名;++−i、
水酸基当量104〜108 ) 11部をアセトンに溶
解混合した(エポキシ基:水酸基= Co、 99)後
、これに硬化促進剤としてベンジルジメチルアミン0.
2部を添加混合してワニスとした。
Example-1 Bisphenol A type epoxy resin (Yuka Shell Epoxy Japan Co., Ltd., trade name: Epicote 1001, epoxy equivalent: 45
0-500) 100 parts, dicyclopentadiene phenolic polymer (Yamaba Kokusaku Pulp Wa Seibu, product name, DC
400, hydroxyl equivalent: 200-220) and 22 parts of phenol novolac resin (manufactured by Meisho Kasei, product name: ++-i,
After dissolving and mixing 11 parts of hydroxyl group equivalent (104 to 108) in acetone (epoxy group: hydroxyl group = Co, 99), 0.0% of benzyldimethylamine was added as a curing accelerator.
Two parts were added and mixed to form a varnish.

このワニスをエポキシシラン処理した0、18mm厚み
のガラス織布に含浸し、150℃で6分間乾燥して樹脂
分 40%のプリプレグを調製し、このプリプレグ8枚
、その両側に厚さ18pの銅箔を重ねて、温度170℃
、圧力50kg/cn?で2時間の条件で積層成形して
、板厚1.6mmの両面銅張積層板を得た。
This varnish was impregnated into a 0.18 mm thick glass woven fabric treated with epoxy silane and dried at 150°C for 6 minutes to prepare a prepreg with a resin content of 40%. Layer the foil and heat to 170℃
, pressure 50kg/cn? Lamination molding was carried out for 2 hours to obtain a double-sided copper-clad laminate having a thickness of 1.6 mm.

得られた積層板の特性を第1表に示した。The properties of the obtained laminate are shown in Table 1.

比較例−1 実施例−1において、ジシクロペンタジェンフェノリッ
クポリマーを用いず、代わりにフェノールノボラック樹
脂を22部とする(エポキシ基:水酸基= i:o、 
99)他は全く同様にした。
Comparative Example-1 In Example-1, the dicyclopentadiene phenolic polymer was not used, and 22 parts of phenol novolak resin was used instead (epoxy group: hydroxyl group = i:o,
99) The rest was exactly the same.

得られた積層板の特性を第1表に示した。The properties of the obtained laminate are shown in Table 1.

実施例−2 ブロム化ビスフェノールA型エポキシ樹脂(油化シェル
エポキシG1)製、商品名;エピコート1045、エポ
キシ当量450〜500 ) 100部、実施例−1と
同様のシンクロペンタジエン・フェノリックポリマー 
14部及び実施例−1と同様のフェノールノボラック樹
脂 13部をアセトンに溶解混合した(エポキシ基:水
酸基=1:0.9)後、これに硬化促進剤として2−エ
チル−4−メチルイミダゾール0.2部を添加混合して
ワニスとした。
Example-2 Brominated bisphenol A-type epoxy resin (oiled shell epoxy G1), trade name: Epicoat 1045, epoxy equivalent 450-500) 100 parts, synchropentadiene phenolic polymer similar to Example-1
14 parts and 13 parts of the same phenol novolak resin as in Example-1 were dissolved and mixed in acetone (epoxy group: hydroxyl group = 1:0.9), and then 2-ethyl-4-methylimidazole 0 was added as a curing accelerator. .2 parts were added and mixed to make a varnish.

このワニスを実施例−1(!:同様のガラス織布に含浸
し、140℃で8分間乾燥して樹脂分 43%のプリプ
レグを調製し、このプリプレグ5枚、その両側に厚さ1
8ρの銅箔を重ねて、温度160℃、圧力80kg/c
n?で3時間の条件で積層成形して、板厚1.Ommの
両面銅張積層板を得た。
This varnish was impregnated into a glass woven fabric similar to Example 1 (!) and dried at 140°C for 8 minutes to prepare a prepreg with a resin content of 43%.
Layer 8ρ copper foil, temperature 160℃, pressure 80kg/c
n? Laminated molding was carried out under the conditions of 3 hours, and the plate thickness was 1. A double-sided copper-clad laminate of Omm was obtained.

得られた積層板の特性を第1表に示した。The properties of the obtained laminate are shown in Table 1.

比1校例−2 実施例−2において、積層板用のワニスの調製にフェノ
ールノボラック樹脂を用いず、ジシクロペンタジェンフ
ェノリックポリマー 40部用いる(エポキシ基:水酸
基=1:0.9)他は同様とした。
Ratio 1 Example-2 In Example-2, the phenol novolac resin was not used to prepare the varnish for the laminate, but 40 parts of dicyclopentadiene phenolic polymer was used (epoxy group: hydroxyl group = 1:0.9). The same was true.

得られた積層板の特性を第1表に示した。The properties of the obtained laminate are shown in Table 1.

実施例−3 実施例−2と同様のブロム化ビスフェノールA型エポキ
シ樹脂 90部、フェノールノボラックエポキシ樹脂(
油化シェルエポキシGl製、商品名;エピコート 15
4、エポキシ当量176〜181) 10部、実施例−
1と同様のジシクロペンタジェンフェノリックポリマ−
10部、ビスフェノールAのノボラック樹脂(チバ・ガ
イギー社製、品名、 XD4049、水酸基当量120
〜130) 14部及びテトラブロモビスフェノールA
  20部をアセトンに溶解混合した(エポキシ基:水
酸基=1+0.95)後、これに硬化促進剤として2−
エチル−4−メチルイミダゾール0.5部を添加混合し
てワニスとした。
Example-3 90 parts of brominated bisphenol A type epoxy resin similar to Example-2, phenol novolak epoxy resin (
Made by Yuka Shell Epoxy Gl, trade name: Epicoat 15
4. Epoxy equivalent 176-181) 10 parts, Example-
Dicyclopentadiene phenolic polymer similar to 1
10 parts, bisphenol A novolak resin (manufactured by Ciba Geigy, product name: XD4049, hydroxyl equivalent: 120
~130) 14 parts and tetrabromobisphenol A
After dissolving and mixing 20 parts in acetone (epoxy group: hydroxyl group = 1 + 0.95), 2-
A varnish was prepared by adding and mixing 0.5 part of ethyl-4-methylimidazole.

このワニスをカチオニックシラン処理した厚み0.1m
mのガラス織布に含浸し、160℃で5分間乾燥して樹
脂分 45%のプリプレグを調製した。
This varnish was treated with cationic silane to a thickness of 0.1 m.
A prepreg with a resin content of 45% was prepared by impregnating a glass woven fabric with the resin and drying it at 160° C. for 5 minutes.

厚み1.0mmの内層用配線板の両面に、このプリプレ
グを3枚づつ重ね、更に厚さ18 uwの電解銅箔を重
ねて、温度180℃、圧力20kg/c+rfで1時間
の条件で積層成形して、板厚1.6mmの多層プリント
板を得た。
Three sheets of this prepreg were stacked on each side of a 1.0 mm thick inner layer wiring board, and then an 18 uw thick electrolytic copper foil was layered, and lamination molding was performed at a temperature of 180°C and a pressure of 20 kg/c+rf for 1 hour. A multilayer printed board with a thickness of 1.6 mm was obtained.

得られた多層プリント板の特性を第1表に示した。The properties of the obtained multilayer printed board are shown in Table 1.

〔発明の作用及び効果〕[Operation and effect of the invention]

以上の如く、本発明のプリント配線板用エポキシ樹脂組
成物は、耐湿性、耐熱性に優れ、かつ銅箔との接着力、
耐塩化メチレン性も良好であり、これらの優れた積層板
を製造できるもであり、該積層板はプリント配線用基板
として好適に使用されるものである。
As described above, the epoxy resin composition for printed wiring boards of the present invention has excellent moisture resistance and heat resistance, and has excellent adhesive strength with copper foil.
The methylene chloride resistance is also good, and these excellent laminates can be manufactured, and the laminates are suitably used as printed wiring boards.

特許出願人  三菱瓦斯化学株式会社Patent applicant: Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims]  分子内に2個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂
1当量に対して、下記一般式(1)で表されるシンクロ
ペンタジエン・フェノリックポリマー0.1〜0.8当
量、ノボラック樹脂0.1〜1.1当量及び硬化促進剤
を配合してなるプリント配線板用エポキシ樹脂組成物。
For 1 equivalent of epoxy resin having two or more epoxy groups in the molecule, 0.1 to 0.8 equivalents of synchropentadiene phenolic polymer represented by the following general formula (1), 0.1 to 1 equivalent of novolak resin An epoxy resin composition for printed wiring boards, which contains .1 equivalent and a curing accelerator.
JP23747485A 1985-10-25 1985-10-25 Epoxy resin compound for printed circuit substrate Pending JPS6298793A (en)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01268713A (en) * 1988-04-20 1989-10-26 Sumitomo Bakelite Co Ltd Epoxy resin composition for sealing semiconductor
JPH01275626A (en) * 1988-04-28 1989-11-06 Sumitomo Bakelite Co Ltd Epoxy resin composition for semiconductor sealing

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JPH01268713A (en) * 1988-04-20 1989-10-26 Sumitomo Bakelite Co Ltd Epoxy resin composition for sealing semiconductor
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