JPS629690A - Conductive circuit board and improvement in conductivity thereof - Google Patents

Conductive circuit board and improvement in conductivity thereof

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JPS629690A
JPS629690A JP14897985A JP14897985A JPS629690A JP S629690 A JPS629690 A JP S629690A JP 14897985 A JP14897985 A JP 14897985A JP 14897985 A JP14897985 A JP 14897985A JP S629690 A JPS629690 A JP S629690A
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JP
Japan
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substituted
acid
foil
circuit board
conductive circuit
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JP14897985A
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一洋 橘
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Nissha Printing Co Ltd
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Nissha Printing Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は新規なる導電性回路基板とその新しい導電性改
善法に関するものであって、その目的とするところはプ
リント基板・フィルムコネクタ・配線板あるいはシート
スイッチ用などの精密な導電性回路図柄を有する基板を
生産し、産業用、工業用、日用品等の素材として市場に
提供せんとするものである。
[Detailed Description of the Invention] <Industrial Application Field> The present invention relates to a new conductive circuit board and a new method for improving its conductivity, and its purpose is to improve printed circuit boards, film connectors, and wiring boards. Alternatively, the aim is to produce substrates with precise conductive circuit patterns, such as those for sheet switches, and to provide them to the market as materials for industrial use, industrial use, daily necessities, and the like.

〈発明の構成の詳細〉 導電性回路基板は従来、印刷法、フォトレジストエツチ
ング法、マスキング蒸着法、レーザーエツチング法ある
いは化学的溶解法等により作成されているのであるが、
精度、生産性、経済性あるいは技術面等における種々の
困難性がその各々について常に発現し、特に複雑な図柄
とか微細な図柄とかに至ってはいずれの公知の製造法を
とってみても精密、美麗な品質の良い製品を定常的に製
造し難いという欠点を有しているのである。ここにおい
て本発明者はこの欠点を解決するための新方法について
永年にわたり研究を続行してきたが今般遂に削口すべき
本発明を完成するに至ったものである。
<Details of the structure of the invention> Conventionally, conductive circuit boards have been produced by printing methods, photoresist etching methods, masking vapor deposition methods, laser etching methods, chemical dissolution methods, etc.
Various difficulties arise in terms of accuracy, productivity, economic efficiency, and technical aspects, and when it comes to particularly complex or minute designs, no matter which known manufacturing method is used, it is difficult to achieve precision and beauty. The disadvantage is that it is difficult to consistently produce high-quality products. The present inventor has continued research for many years on a new method to solve this drawback, and has now finally completed the present invention, which should be eliminated.

すなわち本発明者は、積層物の垂直または垂直に近い切
断面が回路図柄を形成するごとく導電性箔ト高分子箔と
を重畳した積層物の切断面に非疎水性高分子薄板を密着
させる工程、該薄板に対向する電極を設置して該薄板と
該電極の間に共役二重結合を有する環状含窒素化合物を
含む含水電解液を充満させる工程、該導電性箔と該電極
との間に通電して電解し該薄板上に回路図柄を形成させ
る工程、および回路図柄が形成された薄板を切断面なら
びに含水電解液より分離する工程を経て調製されること
を特徴とする導電性回路基板を発明すると共にこの導電
性回路基板を鍍金液と接触させて電気鍍金を行ない回路
図柄のみに金属を析出させることを特徴とする導電性回
路基板の導電性改善法を発明したものである。
That is, the present inventor has developed a process of closely adhering a non-hydrophobic polymer thin plate to the cut surface of a laminate in which conductive foil and polymer foil are superimposed so that the vertical or nearly vertical cut surface of the laminate forms a circuit pattern. , a step of installing an electrode facing the thin plate and filling the space between the thin plate and the electrode with a water-containing electrolyte containing a cyclic nitrogen-containing compound having a conjugated double bond; and a step between the conductive foil and the electrode. A conductive circuit board characterized in that it is prepared through the steps of applying electricity to electrolyze and forming a circuit pattern on the thin plate, and separating the thin plate on which the circuit pattern is formed from a cut surface and a water-containing electrolyte. In addition, the present invention has also invented a method for improving the conductivity of a conductive circuit board, which is characterized by bringing the conductive circuit board into contact with a plating solution and performing electroplating to deposit metal only on the circuit pattern.

積層物の垂直または垂直に近い切断面が回路図柄を形成
するごとく導電性箔と高分子箔とを重畳した積層物、導
電性材料が金属である場合について例示すれば、基本的
なものは次のような12種に含まれるであろう。
Examples of laminates in which conductive foil and polymer foil are stacked so that the vertical or nearly vertical cut surfaces of the laminate form a circuit pattern, and where the conductive material is metal, are as follows: It will be included in 12 species such as.

(イ)、金属箔と高分子箔とを交互に重ね合わせ圧着し
たもの。
(a) Metal foil and polymer foil are alternately layered and crimped.

(ロ)、金属箔と高分子箔とを圧着してロール巻きした
もの。
(b) Metal foil and polymer foil are crimped and rolled.

(ハ)、(イ)の重ね合わせ部分と(ロ)のロール巻き
部分もしくはこれの変形部分とを組み合わせたもの。
A combination of the overlapping parts of (c) and (a) and the rolled part of (b) or a modified part thereof.

(ニ)、高分子箔に金属を真空蒸着またはスパッターリ
ングして密着させたものを積み重ねたもの。
(d) A stack of polymer foils with metal adhered to them by vacuum deposition or sputtering.

(ホ)、高分子箔に金属を真空蒸着またはスパンターリ
ングして密着させたものをロール巻きしたもの。
(e) A roll of polymer foil with metal adhered to it by vacuum evaporation or sputtering.

(へ)、(ニ)の積み重ね部分を(ホ)のロール巻き部
分もしくはこれの変形部分とを組み合わせたもの。
A combination of the stacked parts of (f) and (d) with the rolled part of (e) or a modified part of this.

(ト)、金属箔と高分子箔に金属を真空蒸着またはスパ
ッターリングして密着させたものとを重ね合わせ圧着し
たもの。
(g) A metal foil and a polymer foil in which metal is vacuum-deposited or sputtered and adhered to each other are laminated and pressure-bonded.

(チ)、金属箔と高分子箔に金属を真空蒸着またはスパ
ッターリングして密着させたものをロール巻きしたもの
(H) Metal foil and polymer foil are coated with metal by vacuum evaporation or sputtering and then rolled.

(す)、(ト)の重ね合わせ部分と(チ)のロール巻き
部分もしくはこれの変形部分とを組み合わせたもの。
A combination of the overlapping parts of (S) and (G) and the rolled part of (H) or a modified part thereof.

(ヌ)、高分子箔と高分子箔に金属を真空蒸着またはス
パンターリングして密着させたものとを重ね合わせ圧着
したもの。
(N): Polymer foil and metal foil adhered to the polymer foil by vacuum evaporation or sputtering, which are laminated and crimped together.

(ル)、高分子箔と高分子箔に金属を真空蒸着またはス
パンターリングして密着させたものをロール巻きしたも
の。
(ru), Polymer foil and polymer foil with metal adhered by vacuum evaporation or sputtering and rolled.

(オ)、(ヌ)の重ね合わせ部分と(ル)のロール巻き
部分もしくはこれの変形部分とを組み合わせたもの。
A combination of the overlapping parts of (E) and (N) and the rolled part of (R) or a modified part thereof.

(イ)〜(オ)は導電性箔材料が金属の場合についての
積層形態を例示したのであるが、酸化スズ膜、酸化イン
ジウム膜等のような導電性金属化合物箔でも良く、又金
属箔とこれらの金属化合物箔とを組み合わせた恰好の積
層形態でもよい。
(A) to (E) are examples of laminated forms when the conductive foil material is metal, but conductive metal compound foils such as tin oxide films, indium oxide films, etc. may also be used, or metal foils may also be used. A suitable laminated form combining these metal compound foils may also be used.

上記の導電性箔の材料となる主なものは膜状または箔状
の白金、金、銅、銀、鉄、ニッケル、ステンレススチー
ル、チタニウム、アルミニウム、アルミニウム合金およ
びネサ膜、ITO膜等であり、特に実用的に繰り返し使
用に耐えるものは白金、金、アモルファス鉄、ニッケル
、チタニウム等のいずれかの材料である。
The main materials for the above-mentioned conductive foil are platinum, gold, copper, silver, iron, nickel, stainless steel, titanium, aluminum, aluminum alloy, Nesa film, ITO film, etc. in film or foil form. In particular, materials that can withstand repeated practical use include platinum, gold, amorphous iron, nickel, titanium, and the like.

導電性箔の製法に関しては、導電性の金属もしくは金属
化合物の真空蒸着法、スパンターリング法、電解法、圧
延法、切削法、流延法、印刷塗膜法、吹付法、化学反応
生成法および機械加工板法等の方法がある。
Regarding the manufacturing method of conductive foil, vacuum deposition method of conductive metal or metal compound, spuntering method, electrolysis method, rolling method, cutting method, casting method, printing coating method, spraying method, chemical reaction generation method There are other methods such as the machined plate method and the machined plate method.

上記の積層物を面圧して垂直または垂直に近い角度で切
断しその切断面を眺めると、その切断面に所要の回路図
柄が表れてくるように実際的に積層されねばならない、
この切断面は通常平滑面を形成し易いのであるが、導電
性箔と高分子箔との間において若干の高低を設けておい
てもよく、現実には後記するごとくこの方がを効な場合
が多い。
When the above-mentioned laminate is cut at a vertical or near-vertical angle with surface pressure and the cut surface is viewed, it must be practically laminated so that the desired circuit pattern appears on the cut surface.
This cut surface is usually easy to form a smooth surface, but it is also possible to provide a slight height between the conductive foil and the polymer foil, and in reality, as described later, this may be more effective. many.

上記の切断面というのは実際に切断刃によって積層物を
切断してもよいが、一方あたかも切断刃によって切断さ
れたごとく箔の各末端を揃えて積層し真の切断面と同じ
回路図柄を形成するようにしてもよいのである0例えば
導電性箔と高分子箔との間で若干の高低を設けうる場合
、切断刃による切断後にエツチング加工または加熱加工
あるいは膨潤、膨張加工等によって高低を設けうるのが
できるのであるが、この場合にも各箔の末端に若干の出
入りを考慮して積層することにより所要の高低をつける
ことができる。なお上記の切断面は平面の他、曲面、凹
凸面、波面その他各種の形状にすることができるのが本
発明の長所の一つであって、例えば本発明を用いること
のみによって、他の方法では不可能とされている球状面
とか折れ曲がった表面形状の導電性回路基板を作ること
ができる。
The above-mentioned cut surface may be obtained by actually cutting the laminate with a cutting blade, but on the other hand, each end of the foil is aligned and laminated as if it had been cut by a cutting blade, forming the same circuit pattern as the true cut surface. For example, if a slight height can be created between the conductive foil and the polymer foil, the height can be created by etching, heating, swelling, expansion, etc. after cutting with a cutting blade. However, in this case as well, the required height can be achieved by laminating the foils while taking into consideration a slight ingress and egress at the ends of each foil. It should be noted that one of the advantages of the present invention is that the above-mentioned cut surface can be made into various shapes such as a curved surface, an uneven surface, a wave surface, etc. in addition to a flat surface. It is possible to create conductive circuit boards with spherical or curved surfaces, something that would be impossible with other methods.

以上に示してきた高分子箔というのは疎水性のものであ
り、特に本発明に用いる後記する含水電解液に親和性の
あるものであってはならない、その代表的なものは次の
通りである。即ち、ポリオレフィン、ポリスチレン、ポ
リブタジェン、ポリイソプレン、ポリ塩化ビニル、ポリ
塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、ポリフッ化ビニリ
デン、塩化ビニル系共重合体、塩化ビニリデン系共重合
体、フッ化ビニリデン系共重合体、合フッ素樹脂、シリ
コーン樹脂、ポリエステル、ワックス含浸紙、ポリオレ
フィン含浸紙、合フッ素樹脂含浸祇、シリコーン樹脂含
浸紙、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテル、ポリエ
ーテルスルホン、ポリエーテルエステルおよびゴムより
なる群から選ばれた少なくとも一つの耐酸性高分子もし
くはその複合物を基体とする膜、フィルム、シートもし
くは板である。
The polymer foils shown above are hydrophobic and must not particularly have affinity for the hydrous electrolyte used in the present invention, which will be described later. Typical examples thereof are as follows. be. That is, polyolefin, polystyrene, polybutadiene, polyisoprene, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyvinyl fluoride, polyvinylidene fluoride, vinyl chloride copolymer, vinylidene chloride copolymer, vinylidene fluoride copolymer, selected from the group consisting of fluororesin, silicone resin, polyester, wax-impregnated paper, polyolefin-impregnated paper, synthetic fluororesin-impregnated paper, silicone resin-impregnated paper, polyamide, polyimide, polyether, polyether sulfone, polyether ester, and rubber. A membrane, film, sheet or plate based on at least one acid-resistant polymer or a composite thereof.

これらの中で工業的に使用し易いものはポリエチレン、
ポリプロピレン、ポリテトラフルオロエチレン、ポリク
ロルトリフルオロエチレン、ポリエチレンテレフタレー
ト、シリコーンゴム等であって経済的にはポリエチレン
、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、°ポ
リテトラフルオロエチレン等のほか各種の耐水性あるい
は対溶剤性のある複合樹脂が推奨される。
Among these, those that are easy to use industrially are polyethylene,
Polypropylene, polytetrafluoroethylene, polychlorotrifluoroethylene, polyethylene terephthalate, silicone rubber, etc. Economically, polyethylene, polypropylene, polyethylene terephthalate, °polytetrafluoroethylene, etc., as well as various water-resistant or solvent-resistant Certain composite resins are recommended.

なお以上に示してきた積層物の切断面には空気、ガス、
塵埃等が付着していることは爾後の工程に悪影響を及ぼ
すので清潔な条件下で積層物を可及的緊密に面圧、固着
させておく必要がある。そして回路図柄が精密になる程
、固く圧縮して変動による細線の回路図柄形成の失敗を
起こさぬよう留意する必要がある。この場合さらに注意
すべきことは、回路図柄を所望の形にするため、上記の
切断面のある部分に太い金属板とか金属線が入れられ、
またある部分には太い高分子板とかスペーサーが挿入さ
れた場合であって、この太い金属板とかスペーサーはや
やもすれば長時間にわたる使用中に他の圧縮が強すぎて
も弱すぎても都合が悪く、例えば太い部分は細線部分に
高圧とか、はみ出しに起因すると思われる低圧とかの原
因により回路図柄に不必要な揺らぎとか、切断面の変形
というような事態が起きるのである。したがって積層物
を面圧する場合の圧縮とか図柄の組立形成方については
予備試験を行って切断面における歪の存否を確かめて固
着させておくことが必要である。
Note that the cut surface of the laminate shown above contains air, gas,
Since the presence of dust or the like has a negative effect on subsequent processes, it is necessary to apply surface pressure to the laminate as tightly as possible under clean conditions. As the circuit pattern becomes more precise, care must be taken not to compress it firmly and cause failure in forming the fine line circuit pattern due to fluctuations. In this case, it is important to note that in order to make the circuit pattern into the desired shape, a thick metal plate or metal wire is inserted into the part of the cut surface mentioned above.
Also, if a thick polymer plate or spacer is inserted in a certain part, this thick metal plate or spacer may be inconvenient if other compression is too strong or too weak during long-term use. For example, in thick areas, high voltage is applied to thin lines, and low voltage that is thought to be caused by protrusion can cause unnecessary fluctuations in the circuit pattern or deformation of the cut surface. Therefore, it is necessary to carry out preliminary tests regarding compression when subjecting laminates to surface pressure, and how to assemble and form designs, to confirm the presence or absence of distortion at cut surfaces, and to ensure that the laminate is fixed.

次に、以上のごとき留意に基づいて作られた切断面に非
疎水性高分子薄板を密着させる工程を述べる。まず非疎
水性高分子薄板というのは、ポリビニルアルコール、ポ
リビニルアセタール、ポリビニルアルコールエステル、
ポリビニルアルコールエーテル、ビニルアルコール構造
部分を有する共重合体、ポリビニルピロリドン、ビニル
ピリドン共重合体、ポリビニルピリジン、ビニルピリジ
ン共重合体、セルローズエステル、セルローズエーテル
、デン粉エステル、デン粉エーテル、蛋白質凝固体、ポ
リアミド、キチン質凝固体、炭水化物凝固体(カラギー
ナン、アルギン酸、グルコマンナン、ガラクトマンナン
、ペクチン、セルローズもしくはデン粉の化学加工物)
、ポリアクリル酸系共重合物、ポリメタアクリル酸系共
重合物、ポリアクリルアミド系共重合物、メラミン樹脂
、ウレタン樹脂、尿素樹脂、フェノール樹脂よりなる群
より選ばれた少なくとも一つの高分子を基体とする膜、
フィルム、シートもしくは板のいずれかである。
Next, the process of bringing a non-hydrophobic polymer thin plate into close contact with the cut surface made based on the above considerations will be described. First, non-hydrophobic polymer thin plates include polyvinyl alcohol, polyvinyl acetal, polyvinyl alcohol ester,
Polyvinyl alcohol ether, copolymer having a vinyl alcohol structural moiety, polyvinylpyrrolidone, vinylpyridone copolymer, polyvinylpyridine, vinylpyridine copolymer, cellulose ester, cellulose ether, starch ester, starch ether, protein coagulate, Polyamide, chitinous coagulate, carbohydrate coagulate (carrageenan, alginic acid, glucomannan, galactomannan, pectin, cellulose or starch chemical products)
, a polyacrylic acid copolymer, a polymethacrylic acid copolymer, a polyacrylamide copolymer, a melamine resin, a urethane resin, a urea resin, and a phenolic resin. A membrane with
Either film, sheet or board.

この非疎水性高分子薄板を最も容易に密着させるのはこ
の非疎水性高分子を含む溶液またはインキもしくは塗料
を印刷法、スプレー法、塗布法等によって切断面に均一
に付着させた後、溶剤を蒸発させ薄板を形成させたので
あるがこの際、気泡が含まれたり溶剤の蒸発による発泡
があってはならない、一方、別に作られたフィルムやシ
ートの切断面への密着は、要すれば減圧室内で、極く少
しの溶剤とか接着剤を存在させて室温下もしくは加熱下
で行われるべきである。この場合も密着面における空気
、ガス、塵埃等の混入は製品の品質低下に関係してくる
のでこれらが著しく残留したり、誤入したりしないよう
に注意し、且つフィルムやシートに均一な力をかけて密
着しでやるようにしなければならない、この場合にあっ
ても不必要な内部歪をフィルムやシートの中に残したり
、厚さに不均一さが生じた場合には導電性回路図柄の美
しい形成が阻害される恐れが多分にあるので、厚さの不
同を必要とする基板は後加工で肉盛りをすべきである。
The easiest way to adhere this non-hydrophobic polymer thin plate is to uniformly apply a solution, ink, or paint containing this non-hydrophobic polymer to the cut surface by printing, spraying, coating, etc., and then apply a solvent. At this time, there must be no air bubbles or foaming due to evaporation of the solvent, and on the other hand, adhesion to the cut surface of a separately made film or sheet must be ensured, if necessary. It should be carried out in a vacuum chamber, with very little solvent or adhesive present, at room temperature or under heat. In this case as well, contamination of air, gas, dust, etc. on the contact surface is related to a decline in the quality of the product, so care must be taken to ensure that these do not remain or enter incorrectly, and that even pressure is applied to the film or sheet. Even in this case, unnecessary internal distortion may be left in the film or sheet, or if the thickness is uneven, the conductive circuit pattern should be There is a strong possibility that the beautiful formation of the substrate will be hindered, so substrates that require uneven thickness should be built up in post-processing.

以上の工程が終了すると次に非疎水性高分子薄板に対向
する電極を設置する必要がある。この薄板が平面である
場合には対向電極は平面とし、この薄板が曲面であれば
対向電極はこれに並行する曲面とし、薄板が半円筒形で
あれば対向電極は半円筒形または円筒形もしくは線状と
し、薄板が球面であれば対向電極は球面を利用するよう
にする。
After the above steps are completed, it is next necessary to install an electrode facing the non-hydrophobic polymer thin plate. If this thin plate is flat, the counter electrode should be flat; if this thin plate is curved, the counter electrode should be a curved surface parallel to this; if the thin plate is semicylindrical, the counter electrode should be semicylindrical, cylindrical, or If the thin plate has a spherical surface, the counter electrode uses the spherical surface.

薄板と対向電極は通常適当な電解槽中に設置されるが、
薄板の面積が大きくなると薄板と対向電極とを一定の間
隙を保つようにスペーサー等を用いて設置される。この
いずれにせよ薄板メ対向電極の中に充分量の含水電解液
を充満させることが必要で、電解槽を用いる場合には含
水電解液中に浸漬すればよく、電解槽外つまり室内に設
置した場合には2ケの電極の間隙に液状または糊状の含
水電解液を完全に挿入充満して、その間隙側面から外へ
含水電解液が漏れないようバッキング等を用いて該側面
を密封してやる必要がある。ここに用いる含水電解液と
は共役二重結合を有する環状含窒素化合物をも含む液状
または糊状の含水電解液のことであり、この含水電解液
の使用温度は一20℃〜+80℃とくに好ましくは一1
0℃〜+60℃であ共役二重結合を有する環状含窒素化
合物とはアニリン、置換アリニリン、ナフチルアミン、
置換ナフチルアミン、アミノアンスラセン、置換アミノ
アンスラセン、ピロール、置換ピロール、ピラゾール、
置換ピラゾール、イミダゾール、置換イミダゾール、ト
リアゾール、置換トリアゾール、ピリジン、置換ピリジ
ン、ジアジン、置換ジアジン、トリアジン、置換トリア
ジン、オキサジン、置換オキサジン、ベンゾピロール、
置換ベンゾピロール、ベンズチアゾール、ベンズピラゾ
ール、置換ベンズピラゾール、ベンズイミダゾール、置
換ベンズイミダゾール、オキサジアゾール、チアジアゾ
ール、アミノアゾベンゼン、置換アミノアゾベンゼン、
カルバゾール、置換カルバゾール、キノリン、置換キノ
リン、ベンズオキサゾールおよび置換ベンズオキサゾー
ルよりなる群より選ばれた少なくとも一つの化合物であ
る。
The thin plate and counter electrode are usually placed in a suitable electrolytic cell,
When the area of the thin plate becomes large, a spacer or the like is used to maintain a constant gap between the thin plate and the counter electrode. In any case, it is necessary to fill the thin plate counter electrode with a sufficient amount of water-containing electrolyte, and when using an electrolytic cell, it is sufficient to immerse it in the water-containing electrolyte. In such cases, it is necessary to completely insert and fill the gap between the two electrodes with a liquid or paste-like aqueous electrolyte, and then seal the sides of the gap using a backing or the like to prevent the aqueous electrolyte from leaking out from the sides of the gap. There is. The hydrous electrolyte used here refers to a liquid or paste-like aqueous electrolyte that also contains a cyclic nitrogen-containing compound having a conjugated double bond, and the use temperature of this aqueous electrolyte is preferably -20°C to +80°C. 11
Cyclic nitrogen-containing compounds having a conjugated double bond at 0°C to +60°C include aniline, substituted aliniline, naphthylamine,
substituted naphthylamine, aminoanthracene, substituted aminoanthracene, pyrrole, substituted pyrrole, pyrazole,
substituted pyrazole, imidazole, substituted imidazole, triazole, substituted triazole, pyridine, substituted pyridine, diazine, substituted diazine, triazine, substituted triazine, oxazine, substituted oxazine, benzopyrrole,
substituted benzopyrrole, benzthiazole, benzpyrazole, substituted benzpyrazole, benzimidazole, substituted benzimidazole, oxadiazole, thiadiazole, aminoazobenzene, substituted aminoazobenzene,
At least one compound selected from the group consisting of carbazole, substituted carbazole, quinoline, substituted quinoline, benzoxazole, and substituted benzoxazole.

含水電解液に含まれる電解質塩は、過ハロゲン化水素酸
、ホウフッ化水素酸、ヘキサフルオロリン酸、ヘキサフ
ルオロヒ酸、ヘキサフルオロアンチモン酸、トリフルオ
ロ酢酸、パーフルオロ脂肪酸、トリフルオロメタンスル
ホン酸、芳香族スルホン酸およびフルオロスルホン酸よ
りなる群から選ばれた少なくとも一つの強酸のアニオン
とリチウム塩、ナトリウム塩、アンモニウム塩、第四級
アンモニウム塩、銀塩、第四級ホスホニウム塩およびス
ルホニウム塩よりなる群から選ばれた少なくとも一つの
塩を構成しているカチオンとを結合させた塩である。
The electrolyte salts contained in the aqueous electrolyte include perhalogenated acid, hydrofluoroboric acid, hexafluorophosphoric acid, hexafluoroarsenic acid, hexafluoroantimonic acid, trifluoroacetic acid, perfluorofatty acid, trifluoromethanesulfonic acid, and aromatic acid. an anion of at least one strong acid selected from the group consisting of sulfonic acids and fluorosulfonic acids; and a group consisting of lithium salts, sodium salts, ammonium salts, quaternary ammonium salts, silver salts, quaternary phosphonium salts and sulfonium salts. It is a salt in which at least one cation selected from the following is combined with a cation that constitutes the salt.

含水電解液とは上記のような塩を含む水溶液、上記の塩
と共役二重結合を有する環状含窒素化合物とを効果的に
溶解せしめ電解重合反応を進行させるための有機溶剤と
水との混合物、共役二重結合を有する環状含窒素化合物
を液中に効果的に分散するために少量の界面活性剤が加
えられた含水混合物、あるいはこれらの溶液の通電性、
粘性、窒素化合物の溶状安定性等を調整するために少量
の添加剤を溶解した混合物のいずれがである。
A hydrous electrolyte is an aqueous solution containing the salts mentioned above, and a mixture of water and an organic solvent to effectively dissolve the salts and the cyclic nitrogen-containing compound having a conjugated double bond to advance the electrolytic polymerization reaction. , a water-containing mixture to which a small amount of surfactant is added to effectively disperse a cyclic nitrogen-containing compound having a conjugated double bond in the liquid, or the electrical conductivity of these solutions;
This is a mixture in which a small amount of additives are dissolved in order to adjust the viscosity, the solution stability of the nitrogen compound, etc.

含水電解液の成分として用いられる有機溶剤とはハロゲ
ン化炭化水素、ニトロ化炭化水素、含酸素ハロゲン化炭
化水素、アルコール、グリコール、ポリオール、グリコ
ールエーテル、環状エーテル、ケトン、有機酸、酸アミ
ド、ラクトン、ニトリル、炭酸エステル、スルホキシド
、スルホン、無機含酸素エステルよりなる群から選ばれ
る少なくとも一つの極性化合物である。
Organic solvents used as components of the aqueous electrolyte include halogenated hydrocarbons, nitrated hydrocarbons, oxygen-containing halogenated hydrocarbons, alcohols, glycols, polyols, glycol ethers, cyclic ethers, ketones, organic acids, acid amides, and lactones. , nitriles, carbonic esters, sulfoxides, sulfones, and inorganic oxygen-containing esters.

以上のうち経済的に用いられる共役二重結合を有する環
状含窒素化合物はアニリン、ピロール、メチルピロール
、ビニルピリジン等であり、また電解質というのは化学
式で示すならば1iBF4、LiPFa 、LiAsF
、% Li5bFhsNaPFh% NaAsF、 、
AgBFa、L i C10a 、RaNPF& 、R
aNBFa、R4NC10s 、L i 5OsFs 
RaNAS Fh 5RaNSOsChHaR(ただし
Rは01〜C4のアルキル基)等である。
Among the above, economically used cyclic nitrogen-containing compounds having a conjugated double bond are aniline, pyrrole, methylpyrrole, vinylpyridine, etc., and the electrolyte is represented by the chemical formula 1iBF4, LiPFa, LiAsF.
, % Li5bFhsNaPFh% NaAsF, ,
AgBFa, L i C10a, RaNPF & , R
aNBFa, R4NC10s, L i 5OsFs
RaNAS Fh 5RaNSOsChHaR (where R is an alkyl group of 01 to C4), and the like.

また本発明に用いられる有機溶剤の例として二塩化メチ
レン、エチレンクロルヒドリン、クロラール、ニトロメ
タン、ニトロエタン、ニトロプロパン、トリフルオロエ
タノール、ペンゾトリフルオリド、ヘキサフルオロアセ
トン、ペンタフルオロアセトン、O−ジクロルベンゼン
、メタノール、エタノール、プロパツール、イソプロパ
ツール、ブタノール、イソブタノール、第二級ブタノー
ル、第三級ブタノール、フェノール、クレゾール、エチ
レングリコール、プロピレングリコール、ブチレンゲリ
コール、ヘキシレングリコール、グリセリン、テトラヒ
ドロフラン、ブチロラクトン、メチルジオキソラン、ア
セトニトリル、プロピオニトリル、ベンゾニトリル、ジ
メチルホルムアルデヒド、ジメチルアセタミド、ジエチ
ルホルムアミド、テトラメチル尿素、N−メチルピロリ
ドン、ジメチルスルホキシド、テトラメチレンスルホキ
シド、テトラメチレンスルホン、アセトン、メチルエチ
ルケトン、アセチルアゼトン、プロピレンカーボネート
、ブチレンカーボネート、グリコールモノメチルエーテ
ル、グリコールジメチルエーテルまたは硫酸ジメチル等
の単独または2種以上の混合物がある。
Examples of organic solvents used in the present invention include methylene dichloride, ethylene chlorohydrin, chloral, nitromethane, nitroethane, nitropropane, trifluoroethanol, penzotrifluoride, hexafluoroacetone, pentafluoroacetone, O-dichloro Benzene, methanol, ethanol, propatool, isoproptool, butanol, isobutanol, secondary butanol, tertiary butanol, phenol, cresol, ethylene glycol, propylene glycol, butylene gellicol, hexylene glycol, glycerin, tetrahydrofuran, Butyrolactone, methyldioxolane, acetonitrile, propionitrile, benzonitrile, dimethylformaldehyde, dimethylacetamide, diethylformamide, tetramethylurea, N-methylpyrrolidone, dimethylsulfoxide, tetramethylenesulfoxide, tetramethylenesulfone, acetone, methylethylketone, acetyl Examples include azetone, propylene carbonate, butylene carbonate, glycol monomethyl ether, glycol dimethyl ether, dimethyl sulfate, etc. alone or in combination of two or more.

含水電解液中の水分の含有量は特に限定されず1〜10
0%特に好ましくは5〜100%の範囲で選ばれる。つ
まり本発明にいう含水電解液というのは電解質塩の水溶
液またはこれに有機溶剤を添加したものであり、次のよ
うな電解質塩の水和物を上記の無水塩のかわりに或いは
その一部を置き換えて有機溶剤に溶かして使用してもよ
いのである。
The water content in the hydrous electrolyte is not particularly limited, and is 1 to 10
0%, particularly preferably from 5 to 100%. In other words, the hydrous electrolyte referred to in the present invention is an aqueous solution of an electrolyte salt or an organic solvent added thereto. Alternatively, it may be used by dissolving it in an organic solvent.

例えばl、1BF4・H,0% L i B F、・3
H80、L 1PFi、HtOlLiAsFa・R20
、L i As F6・3 H*Os L i CI 
Oa3 HtOlN a P F h・Hto、 N 
a CI Oa・Hlo、A g B F4・HzO2
AgBFn・AgHFt・5HtOである。
For example, l, 1BF4・H, 0% L i B F,・3
H80, L 1PFi, HtOlLiAsFa・R20
, L i As F6・3 H*Os L i CI
Oa3 HtOlN a P F h・Hto, N
a CI Oa・Hlo, A g B F4・HzO2
They are AgBFn・AgHFt・5HtO.

本発明の含水電解液の組成等は任意に取りうるが、使用
し易い比率というのが勿論存在する。すなわち含水溶剤
1000−m 1に対する環状窒素化合物/電解質塩(
無水物換算)のモル比は0.01〜1.5010.02
〜2.00、特に好ましくは0.05〜1.0010.
03〜1.5の範囲であることが予備実験より明らかに
された。なお、含水電解質の粘度は小である方が使用し
易いが、使用条件によっては糊状として用いたい場合が
あり、このような場合には適当な温度まで冷却するか、
電解反応につまり重合反応に関係しないようなフィラー
例えば不活性中性塩とか不溶性化合物、例えばエアロジ
ルシリカ、エアロジルアルミナ、カーボンブランク等を
含水電解液に適量混和してペースト状にしておくのがよ
い・本発明において用いられる対向する電極材料として
は金属、金属化合物、炭素のいずれでもよいが、本発明
者らによって試験された結果、白金、金、パラジウム、
ホワイトゴールド、ニッケル、チタニウム、モリブデン
、ステンレススチール、グラファイトあるいは炭素繊維
等が優れており、特に便利なものは白金、ニッケル、チ
タニウムあるいはグラファイトを素材として作られた電
極である0本発明にいう導電性箔と上記の電極の間に通
電して電解する工程は直流電圧0.1〜100V、特に
好ましくは1〜30V、電流密度は0.1〜50mA/
Cm!、特に好ましくは1〜20m A / c m”
である、この電解操業時間は数分〜数時間である。
Although the composition of the aqueous electrolyte of the present invention can be arbitrarily selected, there is of course a ratio that is easy to use. That is, cyclic nitrogen compound/electrolyte salt (
The molar ratio (in terms of anhydride) is 0.01 to 1.5010.02
~2.00, particularly preferably 0.05~1.0010.
Preliminary experiments revealed that the value is in the range of 0.03 to 1.5. Note that the lower the viscosity of the hydrous electrolyte, the easier it is to use, but depending on the conditions of use, it may be necessary to use it as a paste. In such cases, it may be necessary to cool it to an appropriate temperature or
It is best to mix an appropriate amount of a filler that is not related to the electrolytic reaction, that is, the polymerization reaction, such as an inert neutral salt or an insoluble compound, such as aerosil silica, aerosil alumina, carbon blank, etc., to a water-containing electrolyte and make it into a paste. - The opposing electrode material used in the present invention may be any metal, metal compound, or carbon, but as a result of testing by the present inventors, platinum, gold, palladium,
White gold, nickel, titanium, molybdenum, stainless steel, graphite, carbon fiber, etc. are excellent, and particularly useful electrodes are electrodes made of platinum, nickel, titanium, or graphite. The step of electrolyzing by applying current between the foil and the above electrode is performed using a DC voltage of 0.1 to 100 V, particularly preferably 1 to 30 V, and a current density of 0.1 to 50 mA/
Cm! , particularly preferably 1 to 20 mA/cm"
The electrolysis operation time is from several minutes to several hours.

電解操業時間というのは非疎水性高分子薄板上に回路図
柄が形成されるまでの時間であり、1−10時間かける
と相当に厚手の強固なやや太めの回路図柄が形成される
のに対し、細線図柄を得るためには比較的短時間(例え
ば1〜60分間)の電解操業で充分である。
The electrolysis operation time is the time it takes for a circuit pattern to be formed on a thin non-hydrophobic polymer plate, and if it takes 1 to 10 hours, a fairly thick and strong circuit pattern will be formed. A relatively short electrolysis operation (for example, 1 to 60 minutes) is sufficient to obtain a fine line pattern.

非疎水性高分子薄板上に回路図柄が形成される過程は、
電解の進行と共に導電性箔に密着した薄板面から起こり
時間の経過と共に薄板内部に向かって進行する。この進
行の際、曲線図柄では隣り合う線同志が接着した形の図
柄になることが間々あるので、このような場合には前記
したごとく切断面は平滑でなく、導電性箔をやや平滑面
より低くした波形の切断面にしておく方がよい、さらに
この場合、高分子箔としてはフッ素樹脂、シリコーン樹
脂もしくはこれらを含む複合樹脂を用いるのがよく、場
合によってフッ化油、シリコーン油を含むポリオフィン
、ポリエステル系のものを使用するのが好都合である。
The process of forming a circuit pattern on a non-hydrophobic polymer thin plate is as follows:
As the electrolysis progresses, it starts from the surface of the thin plate in close contact with the conductive foil and progresses toward the inside of the thin plate as time passes. During this process, curved patterns often become patterns in which adjacent lines are glued together, so in such cases, the cut surface is not smooth as described above, and the conductive foil is cut slightly from the smooth surface. It is better to have a low wave-shaped cut surface. In this case, it is better to use fluororesin, silicone resin, or a composite resin containing these as the polymer foil. It is convenient to use fins made of polyester.

本発明に利用される電解重合反応というのは、通常モノ
マーの酸化電位である数Vの直流電圧によって重合が開
始される反応であり、例えばピロールからポリピロール
を形成させる場合にはLiB F aを含む含水電解液
を用いて1〜IOVにおいて重合反応が進行する。陽極
と陰極の間隙は特に制限されないが0.5〜50cm程
度であり、含水電解液は適度の機械攪拌することも望ま
しい0重合反応は陽極側で起こるため、陽極の材料に注
意しなければならないが、一方陰極の材料については特
に限定されるものでない、なおポリピロールや置換ポリ
ピロールの電解重合を例にとると電極に同じ電圧を印加
しても重合電流はモノマーの種類、電解質塩や溶剤の種
類とか使用量によって異なってくる。しかし一般的に重
合効率は大体40〜60%になる。
The electrolytic polymerization reaction used in the present invention is a reaction in which polymerization is initiated by a DC voltage of several V, which is the oxidation potential of a monomer. For example, in the case of forming polypyrrole from pyrrole, LiB Fa is used. A polymerization reaction proceeds at 1 to IOV using a water-containing electrolyte. The gap between the anode and cathode is not particularly limited, but is about 0.5 to 50 cm, and it is also desirable to moderately mechanically stir the aqueous electrolyte. Since the polymerization reaction occurs on the anode side, care must be taken with the material of the anode. However, the material of the cathode is not particularly limited. Taking electrolytic polymerization of polypyrrole or substituted polypyrrole as an example, even if the same voltage is applied to the electrode, the polymerization current will vary depending on the type of monomer, electrolyte salt, and solvent. It varies depending on the amount used. However, generally the polymerization efficiency is approximately 40-60%.

さて、本発明の電解工程では非疎水性高分子薄板側を陽
極とし対向する電極を陰極とし、陽極側に所要の回路図
柄を形成させるのであるが、回路図柄を美しく形成させ
るには陽極表面積/陰極表面積との比は110.5〜1
0.0、特に好ましくはl/1〜3の範囲になるようど
ちらかといえば陰極面積を大きくしてやるのがよい、こ
の電解重合反応において陽極側に析出した回路図柄を構
成する高分子物質には電解質の解離による陰イオンの一
部がドーパントとして取り込まれているが、その程度は
以上示してきた各工程の条件によりかなり変化してくる
。しかしながらここに生成する回路図柄を構成する高分
子物質はいずれもドーピングされており、かなりの導電
性を有していることが保証される0次に以上のような回
路図柄が形成された非疎水性高分子薄板面からます含水
電解液を除去し、要すれば付着している含水電解液を水
または有機溶剤で洗浄した後、切断面から薄板を破らな
いように剥離する。このような分離操作の終わった薄板
は水または有機溶剤に浸潤して洗浄して不要物を除去し
た後乾燥されるか、未乾燥のままで本発明の製品となる
のである。
Now, in the electrolytic process of the present invention, the non-hydrophobic polymer thin plate side is used as an anode and the opposite electrode is used as a cathode, and a desired circuit pattern is formed on the anode side. In order to form a beautiful circuit pattern, the anode surface area / The ratio to the cathode surface area is 110.5 to 1.
If anything, it is better to increase the cathode area so that it is in the range of 0.0, especially l/1 to 3. In this electrolytic polymerization reaction, the polymer substance constituting the circuit pattern deposited on the anode side Some of the anions resulting from the dissociation of the electrolyte are incorporated as dopants, but the extent varies considerably depending on the conditions of each step shown above. However, the polymeric substances that make up the circuit patterns produced here are all doped, and are non-hydrophobic with zero-order circuit patterns that are guaranteed to have considerable electrical conductivity. After removing the hydrous electrolyte from the surface of the polymer thin plate and, if necessary, washing off the adhering aqueous electrolyte with water or an organic solvent, the thin plate is peeled off from the cut surface without tearing. After such separation operation, the thin plate is soaked in water or an organic solvent and washed to remove unnecessary substances, and then dried or left undried to become the product of the present invention.

なお、ここに得られた回路図柄の導電性はσ−10−3
〜10”S/amの程度であるが、これをさらに向上さ
せるには別途適当なドーパント(例えばHzSOa  
、 1g  、AI C13、I nc13 、A S
 FB 、S b FS等)をもってドーピングしてや
ればよいのは当然である。
The conductivity of the circuit pattern obtained here is σ-10-3
~10"S/am, but to further improve this, a suitable dopant (e.g. HzSOa
, 1g , AI C13, I nc13 , A S
It goes without saying that doping can be done using FB, Sb FS, etc.).

以上のごとくして調製された本発明の導電性回路基板は
そのままで、あるいは樹脂液による表面コーティング加
工もしくは樹脂フィルムによるラミネート加工によって
各種の用途に供することができるのである。
The conductive circuit board of the present invention prepared as described above can be used for various purposes as it is, or by surface coating with a resin liquid or laminating with a resin film.

さらに本発明者は上述のごとくして調製された導電性回
路基板を鍍金液と接触させ、電気鍍金を行い回路図柄の
みに金属を析出させることにより導電性回路基板の導電
性改善に成功したのである。
Furthermore, the present inventor succeeded in improving the conductivity of the conductive circuit board by contacting the conductive circuit board prepared as described above with a plating solution and performing electroplating to deposit metal only on the circuit pattern. be.

すなわち以上の導電性回路基板の回路図柄を長期間の使
用に耐えるよう安定化するとともに優れた導電性を付与
するための方法が本発明者らによって種々の方法が研究
された結果、最も好ましい方法は回路図柄を電気鍍金す
る方法であることが見出された。鍍金される金属は特に
限定されないが、用いられる金属単体はAI、Cd 1
Cr s Co 1Au、In%Fe、PbXNi、P
t、Ag。
In other words, the inventors have researched various methods for stabilizing the circuit pattern of the conductive circuit board so as to withstand long-term use and imparting excellent conductivity, and as a result, the most preferred method has been found. was discovered to be a method of electroplating circuit designs. The metal to be plated is not particularly limited, but the single metal used is AI, Cd 1
Cr s Co 1Au, In%Fe, PbXNi, P
t, Ag.

Sn、Zn等で、特に工業的に重要なものはCu sA
u%Ni、Pt、Ags Coおよび各種合金であり、
好ましくは光沢鍍金される金属である。銅鍍金にはシア
ン化銅浴(例えばCuCN26g/j、NaCN 35
g/j、NatCOx 30g/Jl。
Among Sn, Zn, etc., the industrially important ones are Cu sA.
u%Ni, Pt, Ags Co and various alloys,
Preferably, it is a metal that is brightly plated. For copper plating, copper cyanide bath (e.g. CuCN26g/j, NaCN35
g/j, NatCOx 30g/Jl.

KNaCaHaOh−4HtO45g/l、p H12
,6)、硫酸銅浴(例えばCu S Oa・5 HtO
188g / j −HgSO474g/J) 、ホウ
フッ化銅浴〔例えばCu(BFe)露 224g/j、
HBFa 15g/j−HIBOs 15g/j!%p
H1,2〜1.7 ) 、ピロリン酸銅浴(Cu”22
〜38g/j、Pt0t −−−−150〜250 g
/i NO3−5〜10g/J、NHsl〜3g/!、
pH8,2〜8.8)等が用いられる。
KNaCaHaOh-4HtO45g/l, pH12
,6), copper sulfate bath (e.g. CuSOa・5HtO
188g/j -HgSO474g/J), copper borofluoride bath [e.g. Cu(BFe) dew 224g/j,
HBFa 15g/j-HIBOs 15g/j! %p
H1,2~1.7), copper pyrophosphate bath (Cu”22
~38g/j, Pt0t---150~250g
/i NO3-5~10g/J, NHsl~3g/! ,
pH 8,2-8.8), etc. are used.

金鍍金にはシアン化金浴(例えばAu4.Og/l、K
CN30g/l、KtHP 0430g / J 1K
zCOs30g/l、pH11〜11.5)等が用いら
れる。ニッケル鍍金には混合ニッケル塩浴(例えばN1
5On・7H*0240〜340g/IN i CIg
・6 HtO30〜60g/ 1SHsBOs 30〜
40g/j、p H2,4> 、ホウフッ化ニッケル浴
〔例えばN1(BFn)t 220g/j!、Ni5.
5g/g、HBF44g/i  H2BO330g/j
!、pH2,0〜3.5〕等が用いられる。銀鍍金には
シアン化銀浴(例えばAgCN 45 g/l、KCN
4g / II 、 KtCOs 15g / 1、K
O34g/l)等が用いられる、またスズ鍍金にはホウ
フッ化スズ浴(例えばSn 40g/41SHBF44
0g/l、ゼラチン2g/l、β−ナフトール0.5g
/Jり等が用いられる。
For gold plating, use a cyanide gold bath (e.g. Au4.Og/l, K
CN30g/l, KtHP 0430g/J 1K
zCOs 30 g/l, pH 11-11.5), etc. are used. For nickel plating, a mixed nickel salt bath (e.g. N1
5On・7H*0240~340g/IN i CIg
・6 HtO30~60g/1SHsBOs 30~
40g/j, pH2,4>, nickel borofluoride bath [eg N1(BFn)t 220g/j! , Ni5.
5g/g, HBF44g/i H2BO330g/j
! , pH 2.0 to 3.5], etc. are used. For silver plating, use a silver cyanide bath (e.g. AgCN 45 g/l, KCN
4g/II, KtCOs 15g/1, K
For tin plating, a tin borofluoride bath (e.g. Sn 40g/41SHBF44) is used.
0g/l, gelatin 2g/l, β-naphthol 0.5g
/Jri etc. are used.

以上示した各鍍金浴はいずれも基本的なものであり、実
際には光沢鍍金を完成させるための添加剤が加えられる
。さらに、本発明に最も適する鍍金の一つにはホウフッ
化物浴鍍金があり、例えば半田合金鍍金はS n”52
g/j!、 P bI″30g/l、HBF4100〜
200 g/II、HsBOs 25g/iペプトン5
..Og / l、を含む浴を用い、陽極板としてはS
 n / P b−60/40の合金を使用して行われ
る。これに関する代表的な半田合金浴(7−93バス)
の割合というのは49.6%5n(BFa)i液11k
g、51%Pb(BFJg液121kg、49%HBF
a 76kg、HsBOs 7kg、ペプトン0.2k
g、水247kgからなっており、操作条件は陰極電流
密度20〜30m A / c m” 、10〜50℃
でゆるやかな浴攪拌をしなから電鍍できるものである。
All of the plating baths shown above are basic, and additives are actually added to complete bright plating. Further, one of the platings most suitable for the present invention is borofluoride bath plating, for example, solder alloy plating is S n "52
g/j! , PbI″30g/l, HBF4100~
200 g/II, HsBOs 25 g/i Peptone 5
.. .. A bath containing Og/l was used, and the anode plate was S
It is done using an alloy of n/P b-60/40. Typical solder alloy bath (7-93 bath) regarding this
The percentage is 49.6% 5n (BFa) i liquid 11k
g, 51% Pb (BFJg liquid 121 kg, 49% HBF
a 76kg, HsBOs 7kg, peptone 0.2k
g, water 247 kg, operating conditions are cathode current density 20~30mA/cm'', 10~50℃
Electroplating can be done by gently stirring the bath.

また銅鍍金には他の鍍金を施す下地生成作業として層々
に行われるものであり、その上に再びニッケルとか半田
合金を鍍金することにより、回路図柄は著しく強固にな
り且つその導電性が非常に向上するものである。
In addition, copper plating is performed in layers to create a base for other plating, and by plating nickel or solder alloy again on top of it, the circuit pattern becomes extremely strong and its conductivity becomes extremely high. It will improve.

勿論、このようにして導電性が改善された基板に対して
更に二次加工あるいは三次加工が施されてもよいことは
当然である。
Of course, the substrate whose conductivity has been improved in this way may be further subjected to secondary processing or tertiary processing.

本発明者は以上述べてきた本発明に関して多数の実験を
行い本発明の新規性と優秀性を確認したのであるが、さ
らに本発明の技術的内容を明確にするため多数の実験例
中より代表的な二三の例を抽出して以下に実施例として
示す、したがって本発明は以下に示された実施例のみに
限定して解釈されるべきではなく本発明の趣旨と精神と
を逸脱せざる限り任意にその実施態様を変更で実施しう
ることは当然である。
The present inventor conducted numerous experiments regarding the present invention described above and confirmed the novelty and superiority of the present invention. A few specific examples are extracted and shown below as Examples; therefore, the present invention should not be construed as being limited to the Examples shown below, without departing from the spirit and spirit of the present invention. It goes without saying that the embodiments may be modified and implemented as desired.

以下の実施例によって本発明の優秀性は益々明らかにさ
れるであろう。
The excellence of the present invention will be made clearer by the following examples.

〈実施例〉 実施例1 厚さ1mmのポリプロピレンシートと厚さ0.5mmの
二、ケル板とを交互に50層ずつ積層し、この積層物の
上下を厚手の不飽和ポリエステル樹脂ガラスクロス含浸
板硬化物ではさみ、ボルトおよびナツトを用いて正味の
積層部分の厚さが68〜72mmになるように面圧して
固着物にする。そしてこの積層固着物を積層方向に対し
て垂直(90°)または垂直に近い角度(80°)に切
断する。切断面はサンドペーパ一ついでパフ掛けして研
磨し、アセトン洗浄して乾燥し完全に清潔にする。この
切断面に高重合度のポリビニルアルコールの糊状水溶液
を清浄室内で塗布し、乾燥空気を送って水分を除去し、
厚さ0.4mmのポリビニルアルコールの強固なフィル
ムを形成させたのち、ポリプロピレンネットで軽くシー
ルする。この積層物のニッケル板を陽極とし、一方墳断
面積よりやや広い面積を有するニッケル板を陰極として
陽極より約3cmの間隙をあけて対向設置する。これを
含水電解液を満たした電解槽中に浸漬し減圧脱気したの
ち通電する。電解液はホウフッ化リチウム1水和物1i
BFa・HIO0,2モル、ピロール0.1モルをプロ
ピレンカーボネート11に溶解したもので温度は一10
℃に保たれている。通電は2■、0.08mA/cm”
で12時間行なう、コノ操作時間中においてポリビニル
アルコールのフィルムは膨潤するが、その切断面に接し
た側にニッケル陽極の線状図柄に対応する回路が形成さ
れ、この回路が次第に強化されてくるのが観察されるの
で、通電を終了したのち電極等を引き上げてアセトン中
に浸漬して洗浄し乾燥したのち、切断面からポリビニル
アルコールのフィルムを剥離する。剥離シたフィルム基
板には切断面にあられれたニッケル線状面と垂直切断し
たものは同じような太さの回路図柄が形成されており、
また垂直に近い角度で切断したものはやや太めの回路図
柄が形成されている。いずれにせよここに得られたポリ
ピロールよりなる回路図柄はグー10〜13S/cmの
導電性を示す。
<Example> Example 1 50 layers of 1 mm thick polypropylene sheets and 0.5 mm thick two-layer plates were alternately laminated, and the top and bottom of this laminate were covered with thick unsaturated polyester resin glass cloth impregnated plates. Using scissors, bolts, and nuts, the cured product is pressed against the surface of the product so that the net thickness of the laminated portion is 68 to 72 mm to form a solid product. This laminated material is then cut at an angle perpendicular (90°) or nearly perpendicular (80°) to the lamination direction. The cut surface is buffed and polished with sandpaper, washed with acetone, and dried to make it completely clean. A paste-like aqueous solution of polyvinyl alcohol with a high degree of polymerization is applied to the cut surface in a clean room, and dry air is sent to remove moisture.
After forming a strong film of polyvinyl alcohol with a thickness of 0.4 mm, it is lightly sealed with a polypropylene net. The nickel plate of this laminate was used as an anode, and the nickel plate having an area slightly larger than the cross-sectional area of the mound was used as a cathode, which was placed facing the anode with a gap of about 3 cm. This is immersed in an electrolytic bath filled with aqueous electrolyte, degassed under reduced pressure, and then energized. The electrolyte is lithium borofluoride monohydrate 1i
0.2 mol of BFa HIO and 0.1 mol of pyrrole dissolved in 11% propylene carbonate at a temperature of -10%
It is kept at ℃. Current is 2■, 0.08mA/cm"
During the 12-hour operation, the polyvinyl alcohol film swells, and a circuit corresponding to the linear pattern of the nickel anode is formed on the side in contact with the cut surface, and this circuit gradually becomes stronger. is observed, so after the energization is finished, the electrodes are pulled up, immersed in acetone, washed and dried, and then the polyvinyl alcohol film is peeled off from the cut surface. On the peeled film substrate, a circuit pattern with a similar thickness was formed when cut perpendicular to the nickel linear surface on the cut surface.
Also, when cut at an angle close to vertical, a slightly thicker circuit pattern is formed. In any case, the circuit pattern made of polypyrrole obtained here exhibits a conductivity of 10 to 13 S/cm.

実施例2 実施例1で得られたグー10〜13S/cmであるポリ
ピロールよりなる回路図柄を有する基板を陰極とし、S
 n / P b =60/40の合金を陽極(陽極/
陰極−2/1)として半田合金鍍金を行った。
Example 2 A substrate having a circuit pattern made of polypyrrole with a goo of 10 to 13 S/cm obtained in Example 1 was used as a cathode, and S
An alloy of n/P b =60/40 was used as an anode (anode/
Solder alloy plating was performed as a cathode (2/1).

ホウフッ化物鍍金浴は49.6%S n(B F*)t
 60m1,51%P b (B F t)g 23m
 l 149%HBF#54m1.水240m lの割
合のものを用い陰極電流密度30m A / c m”
 、 25〜30℃で電解する。電解進行中にSnの酸
化が起こるようであれば電解液12当たり約1gのレゾ
ルシンを添加してやればよい、ポリピロールの黒色回路
図柄の部分が半田合金鍍金されたならば電気鍍金を終了
し、純水を用いて基板を洗浄し窒素気流中で乾燥して製
品化する。ここに得られた基板上の回路はS n / 
P bが60/40に近く共融点混合組成物に近<14
0℃以下の温度で強靭でありρ−10−4Ω・cmを示
した。
The borofluoride plating bath is 49.6%S n (BF*)t
60m1,51%P b (B F t)g 23m
l 149%HBF#54ml1. The cathode current density was 30 mA/cm" using a mixture of 240 ml of water and 240 ml of water.
, Electrolyze at 25-30°C. If oxidation of Sn occurs during electrolysis, add about 1 g of resorcinol per 12 parts of the electrolyte. Once the black circuit pattern part of the polypyrrole has been plated with solder alloy, finish the electroplating and add pure water. The substrate is cleaned using a nitrogen gas stream, dried in a nitrogen stream, and manufactured into a product. The circuit on the substrate obtained here is S n /
P b is close to 60/40 and close to the eutectic point mixture composition <14
It was tough at temperatures below 0°C and exhibited ρ-10-4 Ω·cm.

実施例3 実施例2に用いた回路基板をニッケル酸性フッ化物浴(
100%HF43m1、塩基性炭酸ニッケル4水和物1
20g/j!、 りxン酸30g/It、ラウリル硫酸
ナトリウム1.Ogzl)に浸漬し、50〜60℃、電
気密度50A/ c m” 、p H3,0で液を静か
に攪拌しながら電解を行うと、回路図柄上にニッケルが
薄く均一に鍍金された回路基板が得られニッケル鍍金部
分はρ=10−’Ω・cmであることが認められた。こ
のものはフィルムコネクタ等に利用することができる。
Example 3 The circuit board used in Example 2 was treated in a nickel acid fluoride bath (
100% HF43ml, basic nickel carbonate tetrahydrate 1
20g/j! , phosphoric acid 30g/It, sodium lauryl sulfate 1. When the circuit board is immersed in Ogzl) and electrolyzed at 50-60°C, electric density 50A/cm", and pH 3.0 while gently stirring the solution, a circuit board with a thin and uniform coating of nickel on the circuit pattern is formed. was obtained, and it was confirmed that the nickel-plated part had ρ=10-'Ω·cm.This material can be used for film connectors, etc.

実施例4 ポリエチレンテレフタレートに金を真空蒸着したフィル
ムを何枚も重ね合わせたのち、硬質塩化ビニル樹脂板で
両端面をはさんでボルトおよびナツトを用いて締めつけ
て固着させる。この積層フィルムの垂直切断面に旋盤バ
イトを用いて切削を行い、その面を曲面状にしてパフ掛
けを行って滑らかにした上、メタノール洗浄して乾燥す
る。ついでこの曲面切断面に高分子量のヒドロキシプロ
ピルセルローズのジメチルホルムアミド溶液を塗布し清
浄室内で乾燥し厚さが0.2mmのヒドロキジプロピル
セルローズのフィルムを形成させる。
Example 4 A number of films made of vacuum-deposited gold on polyethylene terephthalate are stacked one on top of the other, and then both ends are sandwiched between hard vinyl chloride resin plates and fixed by tightening with bolts and nuts. The vertical cut surface of this laminated film is cut using a lathe cutting tool, the surface is curved and smoothed by puffing, and then washed with methanol and dried. Next, a dimethylformamide solution of high molecular weight hydroxypropyl cellulose is applied to this curved cut surface and dried in a clean room to form a 0.2 mm thick hydroxypropyl cellulose film.

この曲面状のフィルムから3cm1iして曲面状のニッ
ケル電極を対向させたのち電解液中につけて金を陽極、
ニッケルを陰極として2.5V、  0.5A/cm”
の通電を0℃で10時間行なう、電解液はβ−メチルピ
ロール0.1モルおよびホウフッ化銀0.5モルをペン
ゾトリフルオリドー第3級ブタノール−水混液(20:
 0.2: 0.1)  1 gに溶解した組成を有し
ている。電解終了後、電極等を電解槽より引き上げ、さ
らに第3級ブタノール−水温液(1: 1)中に浸漬し
て充分洗浄したのち、乾燥することなく注意してヒドロ
キシプロピルセルローズのフィルムを曲面切断面より剥
離し、曲面状のゴムスポンジ上に載置して減圧乾燥する
。ここに得られた曲面状のフィルムにはポリエチレンテ
レフタレートに埋めこまれた金線と同型、同数の回路図
柄が導電性のポリβ−メチルピロール(σ=1O3/c
m)で再現されている。この方法は曲面状回路基板を得
る例であるが、金蒸着したポリエチンテレフタレート・
フィルムを別の積層形式、例えば渦巻状、指紋状あるい
は波状に変えた積層物を用いて切断面をつくってやり上
記と同様に操作すれば、その積層の形と切断面の形に応
する各種の回路図柄を有する導電性回路基板が得られる
A curved nickel electrode was placed 3 cm away from this curved film, and then immersed in an electrolytic solution to form a gold anode.
2.5V, 0.5A/cm with nickel as cathode
Electrification was carried out at 0°C for 10 hours. The electrolytic solution was a mixture of 0.1 mol of β-methylpyrrole and 0.5 mol of silver borofluoride in a mixture of penzotrifluoride tertiary butanol and water (20:
0.2: 0.1) It has a composition dissolved in 1 g. After electrolysis is complete, the electrodes are lifted from the electrolytic bath, thoroughly washed by immersing them in a tertiary butanol/water temperature solution (1:1), and then the hydroxypropyl cellulose film is carefully cut into a curved surface without drying. Peel it off from the surface, place it on a curved rubber sponge, and dry it under reduced pressure. The curved film obtained here has a circuit pattern of the same type and number as the gold wire embedded in polyethylene terephthalate, which is made of conductive polyβ-methylpyrrole (σ=1O3/c
m) is reproduced. This method is an example of obtaining a curved circuit board.
If a cut surface is made using a laminate in which the film has been changed to a different laminate type, such as a spiral, a fingerprint, or a wavy laminate, and the same operation as above is performed, various types of laminates corresponding to the shape of the laminate and the shape of the cut surface can be made. A conductive circuit board having a circuit pattern is obtained.

実施例5 実施例4においてβ−メチルピロールの半量ヲビロール
に置き換え、同じように操作するとポリ(β−メチルピ
ロール・ピロール)の導電性回路(σ”143/cm)
が得られた。また実施例4のβ−メチルピロールを各種
のモノマーに置き換え電解反応を行わせるとそれぞれに
相当するポリマーにより図柄の描かれた回路基板を得る
ことができる。この際のモノマーの種類と得られた回路
図実施例6 厚さ1mmのポリトリフルオロクロルエチレン・シート
と厚さ0.5mmのステンレス・スチール板とを交互に
積層し、実施例1と同様にして固着してブロックにする
。このブロックを積層面に対して垂直に切断し、その断
面はサンドペーパーおよびパフ掛けして磨く、この切断
面に極く少量のベンゾニトリルを塗布し、これに硫酸紙
を載置し100℃で熱風乾燥しつつローラで押さえ完全
に密着させる。この接着物にポリプロピレンネットを貼
付し、実施例1と同様にして対向陰極白金板を設置し電
解液中に沈積してやる。電解液は水10%を含むアセト
ニトリルlj中にベンズイミダゾール0.2モル、テト
ラエチルアンモニウムヘキサフルオロアルセネート0.
5モルを溶解したものである。電極間に通電(2V、3
mA/cm” ) し室温で約1時間保つと硫酸紙上に
ポリベンゾイミダゾールの回路図柄(σ−0,OIS/
am)が切断面電極図柄と同じように形成される。ここ
で硫酸紙を分離してアセトニトリルで充分洗浄後乾燥し
たのち、軟質ポリ塩化ビニル・フィルムとラミネートす
ると柔軟性のある回路基板が得られた。これは弱電流用
フィルムコネクタとして有用である。
Example 5 In Example 4, half of β-methylpyrrole was replaced with Ovirol and the same operation was performed to form a conductive circuit (σ”143/cm) of poly(β-methylpyrrole/pyrrole).
was gotten. Furthermore, by replacing β-methylpyrrole in Example 4 with various monomers and carrying out an electrolytic reaction, a circuit board with a pattern drawn with the corresponding polymer can be obtained. Type of monomer and resulting circuit diagram Example 6 Polytrifluorochloroethylene sheets with a thickness of 1 mm and stainless steel plates with a thickness of 0.5 mm were laminated alternately, and the same procedure as in Example 1 was carried out. Stick it to make a block. This block is cut perpendicular to the laminated surface, and the cross section is polished with sandpaper and a puff.A very small amount of benzonitrile is applied to this cut surface, parchment paper is placed on this, and the cross section is heated at 100℃. Dry with hot air and press with a roller to ensure complete adhesion. A polypropylene net is attached to this adhesive, and a counter cathode platinum plate is installed in the same manner as in Example 1, and deposited in an electrolytic solution. The electrolyte was 0.2 mol of benzimidazole and 0.2 mol of tetraethylammonium hexafluoroarsenate in acetonitrile lj containing 10% water.
5 moles were dissolved. Electricity is passed between the electrodes (2V, 3V
mA/cm”) and kept at room temperature for about 1 hour, a circuit diagram of polybenzimidazole (σ-0, OIS/
am) is formed in the same way as the cut surface electrode pattern. Here, the parchment paper was separated, thoroughly washed with acetonitrile, dried, and then laminated with a soft polyvinyl chloride film to obtain a flexible circuit board. This is useful as a low current film connector.

実施例7 実施例6において硫酸紙のかわりにセルローズアセテー
ト・フィルムを用い、また電解液として2.5%の水を
含むアセトニトリルIIlにピーロル0.1モル、テト
ラブチルアンモニウムへキサフルオロホスフェート0.
2モルを溶解したものを用いて同じように電解重合を行
なわせ゛る。セルローズアセテート・フィルム中にポリ
ピロールの回路図柄(グー0.53/cm)の形成され
た基板が得られるのでこれを分離してメタノールで充分
洗浄後乾燥する。
Example 7 In Example 6, a cellulose acetate film was used instead of parchment paper, and as an electrolyte, 0.1 mole of pyrrol and 0.1 mole of tetrabutylammonium hexafluorophosphate were added to acetonitrile IIl containing 2.5% water.
Electrolytic polymerization is carried out in the same manner using a solution of 2 moles. A substrate having a polypyrrole circuit pattern (0.53/cm) formed in a cellulose acetate film is obtained, which is separated, thoroughly washed with methanol, and then dried.

実施例8 実施例7で得られた回路基板をCuCN44g/l、 
Na CN 67 g/ j!−ロソセル塩74g/1
、 KOH11g/j!のシアン化銅溶液に浸漬し銅電
極を用いて実施例3と同様に操作すれば回路図柄面に銅
鍍金された基板が得られる。これは更に常法によりニッ
ケル鍍金もしくは合金鍍金すれば回路図柄の非常に強固
な化学的耐性とか耐候性に冨む回路基板になる。
Example 8 The circuit board obtained in Example 7 was coated with CuCN44g/l,
Na CN 67 g/j! -Losocel salt 74g/1
, KOH11g/j! If the substrate is immersed in a copper cyanide solution and operated in the same manner as in Example 3 using a copper electrode, a substrate whose circuit pattern surface is plated with copper can be obtained. If this is further plated with nickel or alloy using a conventional method, it will become a circuit board with extremely strong chemical resistance and weather resistance.

実施例9 実施例6に用いた積層物の切断面にカゼイン水溶液を塗
布して乾燥後、グリオキザールの酸性水溶液を塗布して
50℃で風乾しメタノールで充分洗浄して厚さ約10μ
mの凝固蛋白質膜を形成させる。
Example 9 A casein aqueous solution was applied to the cut surface of the laminate used in Example 6, and after drying, an acidic aqueous solution of glyoxal was applied, air-dried at 50°C, and thoroughly washed with methanol to a thickness of about 10 μm.
Form a coagulated protein film of m.

次いで実施例6と同様に白金対向電極を設は含水電解液
中にセットする。この場合の含水電解液は水を飽和した
塩化メチレンにLiPFi・Hgo。
Next, as in Example 6, a platinum counter electrode was set in a water-containing electrolyte. The hydrous electrolyte in this case is LiPFi.Hgo in methylene chloride saturated with water.

(CtHs)eNPF&およびN−ビニルカルバゾール
をぞれぞれ0.15規定になるように溶解したもので、
2.5V、  2 mA/ c m”の条件で3時間室
温で電気分解すると蛋白質膜上にポリ(N−ビニルカル
バゾール)のP F &−でドーピングされた回路図柄
が形成された。この回路はσ−10−’S/cmでやや
導電性が悪いが実施例8と同様にして銅鍍金すれば美し
い銅張りの回路基板を得ることができた。
(CtHs) eNPF & and N-vinylcarbazole each dissolved to a concentration of 0.15N,
When electrolyzed at room temperature for 3 hours under the conditions of 2.5 V and 2 mA/cm'', a circuit pattern doped with P F &- of poly(N-vinylcarbazole) was formed on the protein film. Although the conductivity was rather poor at σ-10-'S/cm, a beautiful copper-clad circuit board could be obtained by copper plating in the same manner as in Example 8.

実施例1O〜15 実施例6に用いた積層物の切断面に次表に示す膜物質を
溶解塗布乾燥法により9〜13μmの厚さに形成させた
後、白金対向電極を設は次表の成分を含む電解質水溶液
中にセットする。
Examples 1O to 15 After forming the film material shown in the following table on the cut surface of the laminate used in Example 6 to a thickness of 9 to 13 μm by melt coating and drying, a platinum counter electrode was installed as shown in the table below. Set in an electrolyte aqueous solution containing components.

次いでこの水溶液に次表に示すアミンまたはアミン塩を
加えて充分攪拌したのち、実施例9と同様に通電して3
時間電解重合を行わせた後、電解液を水に交換し充分水
洗を行なう、このようにして次表の導電性ポリマーで回
路図柄の形成された膜物質を注意してlF411Mシて
これを陰極として、KCN100g/j!、K茸COs
 55g/j、KNOz 80g/l、Ag  40g
/l  (NHthC310g/lの鍍銀浴に浸漬し、
対向電極に銀板を用いて0.1A/cm”の通電を行っ
て30〜40℃で銀鍍金すると、いずれも1〜2時間後
に美しい銀の回路図柄が膜物質上に形成された。
Next, the amines or amine salts shown in the following table were added to this aqueous solution, stirred thoroughly, and then energized in the same manner as in Example 9.
After electrolytic polymerization for a period of time, replace the electrolytic solution with water and rinse thoroughly with water.In this way, carefully wrap the membrane material on which the circuit pattern is formed using the conductive polymer shown in the following table with IF411M and apply it to the cathode. As, KCN100g/j! , K mushroom COs
55g/j, KNOz 80g/l, Ag 40g
/l (Immersed in a silver plating bath of 310g/l of NHthC,
When a silver plate was used as a counter electrode and silver plating was carried out at 30 to 40° C. by applying a current of 0.1 A/cm, a beautiful silver circuit pattern was formed on the membrane material after 1 to 2 hours.

ここに得られた回路図柄は実施例10と同様にして銀鍍
金されたのち乾燥すると比較的強靭なグルコマンナン基
板を得るので、銀回路部分の変色を防止するためアクリ
ル系塗料を塗布、含浸させ温風乾燥すると耐候性ならび
に機械的性質の優れたフィルムコネクタになった。この
アクリル系樹脂塗料のかわりにポリビニルブチラール・
 100%フェノール樹脂塗料を塗布した場合、ホット
メルト型の丈夫なフィルムコネクタが得られた。
The circuit pattern obtained here was plated with silver in the same manner as in Example 10, and when dried, a relatively strong glucomannan substrate was obtained.Acrylic paint was applied and impregnated to prevent discoloration of the silver circuit part. After drying with warm air, the film became a film connector with excellent weather resistance and mechanical properties. Instead of this acrylic resin paint, polyvinyl butyral
When a 100% phenolic resin paint was applied, a hot-melt type durable film connector was obtained.

〈発明の効果〉 本発明は導電性回路基板とその導電性改善法に関するも
のであり、産業部品から日用品にわたる電気材料、電子
材料として有用な導電性基板を容易に且つ大量に生産す
る方式を明らかにしたものである0本発明によって得ら
れる導電性回路基板はその形態によってプリント基板、
フィルムコネクタ、配線板、シートスイッチ、フェーズ
、センサー、および高密度回路板等として利用できるも
のであり、その産業利用性は極めて大きいものである。
<Effects of the Invention> The present invention relates to a conductive circuit board and a method for improving its conductivity, and clarifies a method for easily and mass producing conductive circuit boards useful as electrical and electronic materials ranging from industrial parts to daily necessities. The conductive circuit board obtained by the present invention may be a printed circuit board,
It can be used as film connectors, wiring boards, sheet switches, phases, sensors, high-density circuit boards, etc., and its industrial applicability is extremely large.

Claims (13)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)積層物の垂直または垂直に近い切断面が回路図柄
を形成するごとく導電性箔と高分子箔とを重畳した積層
物の切断面に非疎水性高分子薄板を密着させる工程、該
薄板に対向する電極を設置して該薄板と該電極の間に共
役二重結合を有する環状含窒素化合物を含む含水電解液
を充満させる工程、該導電性箔と該電極との間に通電し
て電解し該薄板上に回路図柄を形成させる工程、および
回路図柄が形成された薄板を切断面ならびに含水電解液
より分離する工程を経て調製されることを特徴とする導
電性回路基板。
(1) A step of bringing a non-hydrophobic polymer thin plate into close contact with a cut surface of a laminate in which a conductive foil and a polymer foil are superimposed so that the vertical or nearly vertical cut surface of the laminate forms a circuit pattern; a step of installing an electrode facing the thin plate and the electrode and filling the space between the thin plate and the electrode with a water-containing electrolyte containing a cyclic nitrogen-containing compound having a conjugated double bond; and supplying current between the conductive foil and the electrode. A conductive circuit board characterized in that it is prepared through the steps of electrolyzing and forming a circuit pattern on the thin plate, and separating the thin plate on which the circuit pattern is formed from a cut surface and a hydrous electrolyte.
(2)導電性箔が導電性の金属もしくは金属化合物の真
空蒸着膜、スパッターリング膜、電解箔、圧延箔、切削
箔、流延箔、印刷塗膜、吹付箔、化学反応生成膜および
機械加工板よりなる群から選ばれた少なくとも一つの導
電体であることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載
の導電性回路基板。
(2) Conductive foil is a vacuum-deposited film, sputtering film, electrolytic foil, rolled foil, cut foil, cast foil, printed coating film, sprayed foil, chemical reaction product film, and mechanical processing of conductive metal or metal compound. 2. The conductive circuit board according to claim 1, wherein the conductive circuit board is at least one conductor selected from the group consisting of plates.
(3)高分子箔がポリオレフィン、ポリスチレン、ポリ
ブタジエン、ポリイソプレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩
化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、ポリフッ化ビニリデ
ン、塩化ビニル系共重合体、塩化ビニリデン系共重合体
、フッ化ビニリデン系共重合体、合フッ素樹脂、シリコ
ーン樹脂、ポリエステル、ワックス含浸紙、ポリオレフ
ィン含浸紙、合フッ素樹脂含浸紙、シリコーン樹脂含浸
紙、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテル、ポリエー
テルスルホン、ポリエーテルエステルおよびゴムよりな
る群から選ばれた少なくとも一つの耐水性高分子もしく
はその複合物を基体とする膜、フィルム、シートもしく
は板であることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載
の導電性回路基板。
(3) Polymer foil is polyolefin, polystyrene, polybutadiene, polyisoprene, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyvinyl fluoride, polyvinylidene fluoride, vinyl chloride copolymer, vinylidene chloride copolymer, vinylidene fluoride Consisting of copolymers, fluororesins, silicone resins, polyesters, wax-impregnated paper, polyolefin-impregnated papers, fluororesin-impregnated papers, silicone resin-impregnated papers, polyamides, polyimides, polyethers, polyethersulfones, polyetheresters, and rubber. 2. The conductive circuit board according to claim 1, which is a membrane, film, sheet, or board based on at least one water-resistant polymer selected from the group consisting of water-resistant polymers or composites thereof.
(4)非疎水性高分子薄板がポリビニルアルコール、ポ
リビニルアセタール、ポリビニルアルコールエステル、
ポリビニルアルコールエーテル、ビニルアルコール構造
部分を有する共重合体、ポリビニルピロリドン、ビニル
ピリドン共重合体、ポリビニルピリジン、ビニルピリジ
ン共重合体、セルローズエステル、セルローズエーテル
、デン粉エステル、デン粉エーテル、蛋白質凝固体、キ
チン質凝固体、炭水化物誘導体(カラギーナン、アルギ
ン酸、グルコマンナン、ガラクトマンナン、ペクチン、
セルローズもしくはデン粉の化学加工物)、ポリアクリ
ル酸系共重合物、ポリメタアクリル酸系共重合物、ポリ
アクリルアミド系共重合物、メラミン樹脂、尿素樹脂、
ウレタン樹脂、フェノール樹脂よりなる群より選ばれた
少なくとも一つの高分子を基体とする膜、フィルム、シ
ートもしくは板であることを特徴とする特許請求の範囲
第1項記載の導電性回路基板。
(4) The non-hydrophobic polymer thin plate is polyvinyl alcohol, polyvinyl acetal, polyvinyl alcohol ester,
Polyvinyl alcohol ether, copolymer having a vinyl alcohol structural moiety, polyvinylpyrrolidone, vinylpyridone copolymer, polyvinylpyridine, vinylpyridine copolymer, cellulose ester, cellulose ether, starch ester, starch ether, protein coagulate, chitinous coagulum, carbohydrate derivatives (carrageenan, alginic acid, glucomannan, galactomannan, pectin,
chemically processed products of cellulose or starch), polyacrylic acid copolymers, polymethacrylic acid copolymers, polyacrylamide copolymers, melamine resins, urea resins,
2. The conductive circuit board according to claim 1, which is a membrane, film, sheet, or board based on at least one polymer selected from the group consisting of urethane resin and phenol resin.
(5)共役二重結合を有する環状含窒素化合物がアニリ
ン、置換アリニリン、ナフチルアミン、置換ナフチルア
ミン、アミノアンスラセン、置換アミノアンスラセン、
ピロール、置換ピロール、ピラゾール、置換ピラゾール
、イミダゾール、置換イミダゾール、トリアゾール、置
換トリアゾール、ピリジン、置換ピリジン、ジアジン、
置換ジアジン、トリアジン、置換トリアジン、オキサジ
ン、置換オキサジン、ベンゾピロール、置換ベンゾピロ
ール、ベンズチアゾール、ベンズピラゾール、置換ベン
ズピラゾール、ベンズイミダゾール、置換ベンズイミダ
ゾール、オキサジアゾール、チアジアゾール、アミノア
ゾベンゼン、置換アミノアゾベンゼン、カルバゾール、
置換カルバゾール、キノリン、置換キノリン、ベンズオ
キサゾールおよび置換ベンズオキサゾールよりなる群よ
り選ばれた少なくとも一つの化合物であることを特徴と
する特許請求の範囲第1項記載の導電性回路基板。
(5) The cyclic nitrogen-containing compound having a conjugated double bond is aniline, substituted aliniline, naphthylamine, substituted naphthylamine, aminoanthracene, substituted aminoanthracene,
Pyrrole, substituted pyrrole, pyrazole, substituted pyrazole, imidazole, substituted imidazole, triazole, substituted triazole, pyridine, substituted pyridine, diazine,
substituted diazine, triazine, substituted triazine, oxazine, substituted oxazine, benzopyrrole, substituted benzopyrrole, benzthiazole, benzpyrazole, substituted benzpyrazole, benzimidazole, substituted benzimidazole, oxadiazole, thiadiazole, aminoazobenzene, substituted aminoazobenzene, carbazole,
The conductive circuit board according to claim 1, which is at least one compound selected from the group consisting of substituted carbazole, quinoline, substituted quinoline, benzoxazole, and substituted benzoxazole.
(6)含水電解液が過ハロゲン化水素酸、ホウフッ化水
素酸、ヘキサフルオロリン酸、ヘキサフルオロヒ酸、ヘ
キサフルオロアンチモン酸、トリフルオロ酢酸、パーフ
ルオロ脂肪酸、トリフルオロメタンスルホン酸、芳香族
スルホン酸およびフルオロスルホン酸よりなる群から選
ばれた少なくとも一つの強酸のアニオンとリチウム塩、
ナトリウム塩、アンモニウム塩、第四級アンモニウム塩
、銀塩、第四級ホスホニウム塩およびスルホニウム塩よ
りなる群から選ばれた少なくとも一つの塩を構成してい
るカチオンとを結合させた塩の含水溶液であることを特
徴とする特許請求の範囲第1項記載の導電性回路基板。
(6) The aqueous electrolyte is perhalogenated acid, hydrofluoroboric acid, hexafluorophosphoric acid, hexafluoroarsenic acid, hexafluoroantimonic acid, trifluoroacetic acid, perfluorofatty acid, trifluoromethanesulfonic acid, aromatic sulfonic acid and at least one strong acid anion and lithium salt selected from the group consisting of fluorosulfonic acid;
An aqueous solution of a salt combined with a cation constituting at least one salt selected from the group consisting of sodium salts, ammonium salts, quaternary ammonium salts, silver salts, quaternary phosphonium salts, and sulfonium salts. The conductive circuit board according to claim 1, characterized in that:
(7)積層物の垂直または垂直に近い切断面が回路図柄
を形成するごとく導電性箔と高分子箔とを重畳した積層
物の切断面に非疎水性高分子薄板を密着させる工程、該
薄板に対向する電極を設置して該薄板と該電極の間に共
役二重結合を有する環状含窒素化合物を含む含水電解液
を充満させる工程、該導電性箔と該電極との間に通電し
て電解し該薄板上に回路図柄を形成させる工程、および
回路図柄が形成された薄板を切断面ならびに含水電解液
より分離する工程を経て調製された導電性回路基板を鍍
金液と接触させて電気鍍金を行い回路図柄のみに金属を
析出させることを特徴とする導電性回路基板の導電性改
善法。
(7) A step of closely adhering a non-hydrophobic polymer thin plate to the cut surface of a laminate in which conductive foil and polymer foil are superimposed so that the vertical or nearly vertical cut surfaces of the laminate form a circuit pattern; a step of installing an electrode facing the thin plate and the electrode and filling the space between the thin plate and the electrode with a water-containing electrolyte containing a cyclic nitrogen-containing compound having a conjugated double bond; and supplying current between the conductive foil and the electrode. A conductive circuit board prepared through a process of electrolyzing to form a circuit pattern on the thin plate and a process of separating the thin plate with the circuit pattern formed from the cut surface and aqueous electrolyte is brought into contact with a plating solution to electroplating. A method for improving the conductivity of a conductive circuit board, characterized by depositing metal only on the circuit pattern.
(8)導電性箔が導電性の金属もしくは金属化合物の真
空蒸着膜、スパッターリング膜、電解箔、圧延箔、切削
箔、流延箔、印刷塗膜、吹付箔、化学的反応生成膜およ
び機械加工板よりなる群から選ばれた少なくとも一つの
導電体であることを特徴とする特許請求の範囲第7項記
載の導電性回路基板の導電性改善法。
(8) The conductive foil is a vacuum-deposited film of a conductive metal or metal compound, a sputtered film, an electrolytic foil, a rolled foil, a cut foil, a cast foil, a printed coating film, a sprayed foil, a chemical reaction product film, and a machine. 8. The method for improving the conductivity of a conductive circuit board according to claim 7, wherein the conductor is at least one conductor selected from the group consisting of processed plates.
(9)高分子箔がポリオレフィン、ポリスチレン、ポリ
ブタジエン、ポリイソプレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩
化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、ポリフッ化ビニリデ
ン、塩化ビニル系共重合体、塩化ビニリデン系共重合体
、フッ化ビニリデン系共重合体、合フッ素樹脂、シリコ
ーン樹脂、ポリエステル、ワックス含浸紙、ポリオレフ
ィン含浸紙、合フッ素樹脂含浸紙、シリコーン樹脂含浸
紙、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテル、ポリエー
テルスルホン、ポリエーテルエステルおよびゴムよりな
る群から選ばれた少なくとも一つの耐水性高分子もしく
はその複合物を基体とする膜、フィルム、シートもしく
は板であることを特徴とする特許請求の範囲第7項記載
の導電性回路基板の導電性改善法。
(9) Polymer foil is polyolefin, polystyrene, polybutadiene, polyisoprene, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyvinyl fluoride, polyvinylidene fluoride, vinyl chloride copolymer, vinylidene chloride copolymer, vinylidene fluoride Consisting of copolymers, fluororesins, silicone resins, polyesters, wax-impregnated paper, polyolefin-impregnated papers, fluororesin-impregnated papers, silicone resin-impregnated papers, polyamides, polyimides, polyethers, polyethersulfones, polyetheresters, and rubber. The electrical conductivity of the electrically conductive circuit board according to claim 7, characterized in that the electrically conductive circuit board is a membrane, film, sheet, or board based on at least one water-resistant polymer selected from the group consisting of: Improvement method.
(10)非疎水性高分子薄板がポリビニルアルコール、
ポリビニルアセタール、ポリビニルアルコールエステル
、ポリビニルアルコールエーテル、ビニルアルコール構
造部分を有する共重合体、ポリビニルピロリドン、ビニ
ルピリドン共重合体、ポリビニルピリジン、ビニルピリ
ジン共重合体、セルローズエステル、セルローズエーテ
ル、デン粉エステル、デン粉エーテル、蛋白質凝固体、
キチン質凝固体、炭水化物誘導体(カラギーナン、アル
ギン酸、グルコマンナン、ガラクトマンナン、ペクチン
、セルローズもしくはデン粉の化学加工物)、ポリアク
リル酸系共重合物、ポリメタアクリル酸系共重合物、ポ
リアクリルアミド系共重合物、メラミン樹脂、尿素樹脂
、ウレタン樹脂、フェノール樹脂よりなる群より選ばれ
た少なくとも一つの高分子を基体とする膜、フィルム、
シートもしくは板であることを特徴とする特許請求の範
囲第7項記載の導電性回路基板の導電性改善法。
(10) The non-hydrophobic polymer thin plate is polyvinyl alcohol,
Polyvinyl acetal, polyvinyl alcohol ester, polyvinyl alcohol ether, copolymer with vinyl alcohol structural moiety, polyvinylpyrrolidone, vinylpyridone copolymer, polyvinylpyridine, vinylpyridine copolymer, cellulose ester, cellulose ether, starch ester, dendritic Powdered ether, protein coagulate,
Chitin coagulates, carbohydrate derivatives (carrageenan, alginic acid, glucomannan, galactomannan, pectin, cellulose or starch chemical products), polyacrylic acid copolymers, polymethacrylic acid copolymers, polyacrylamide copolymers Membranes and films based on at least one polymer selected from the group consisting of copolymers, melamine resins, urea resins, urethane resins, and phenol resins;
8. The method for improving the conductivity of a conductive circuit board according to claim 7, wherein the conductive circuit board is a sheet or a plate.
(11)共役二重結合を有する環状含窒素化合物がアニ
リン、置換アリニリン、ナフチルアミン、置換ナフチル
アミン、アミノアンスラセン、置換アミノアンスラセン
、ピロール、置換ピロール、ピラゾール、置換ピラゾー
ル、イミダゾール、置換イミダゾール、トリアゾール、
置換トリアゾール、ピリジン、置換ピリジン、ジアジン
、置換ジアジン、トリアジン、置換トリアジン、オキサ
ジン、置換オキサジン、ベンゾピロール、置換ベンゾピ
ロール、ベンズチアゾール、ベンズピラゾール、置換ベ
ンズピラゾール、ベンズイミダゾール、置換ベンズイミ
ダゾール、オキサジアゾール、チアジアゾール、アミノ
アゾベンゼン、置換アミノアゾベンゼン、カルバゾール
、置換カルバゾール、キノリン、置換キノリン、ベンズ
オキサゾールおよび置換ベンズオキサゾールよりなる群
より選ばれた少なくとも一つの化合物であることを特徴
とする特許請求の範囲第8項記載の導電性回路基板の導
電性改善法。
(11) The cyclic nitrogen-containing compound having a conjugated double bond is aniline, substituted aliniline, naphthylamine, substituted naphthylamine, aminoanthracene, substituted aminoanthracene, pyrrole, substituted pyrrole, pyrazole, substituted pyrazole, imidazole, substituted imidazole, triazole,
Substituted triazole, pyridine, substituted pyridine, diazine, substituted diazine, triazine, substituted triazine, oxazine, substituted oxazine, benzopyrrole, substituted benzopyrrole, benzthiazole, benzpyrazole, substituted benzpyrazole, benzimidazole, substituted benzimidazole, oxadiazole , thiadiazole, aminoazobenzene, substituted aminoazobenzene, carbazole, substituted carbazole, quinoline, substituted quinoline, benzoxazole, and substituted benzoxazole. Method for improving the conductivity of a conductive circuit board as described in .
(12)含水電解液が過ハロゲン化水素酸、ホウフッ化
水素酸、ヘキサフルオロリン酸、ヘキサフルオロヒ酸、
ヘキサフルオロアンチモン酸、トリフルオロ酢酸、パー
フルオロ脂肪酸、トリフルオロメタンスルホン酸、芳香
族スルホン酸およびフルオロスルホン酸よりなる群から
選ばれた少なくとも一つの強酸のアニオンとリチウム塩
、ナトリウム塩、アンモニウム塩、第四級アンモニウム
塩、銀塩、第四級ホスホニウム塩およびスルホニウム塩
よりなる群から選ばれた少なくとも一つの塩を構成して
いるカチオンとを結合させた塩の含水溶液であることを
特徴とする特許請求の範囲第7項記載の導電性回路基板
の導電性改善法。
(12) The aqueous electrolyte is perhalogenated acid, hydrofluoroboric acid, hexafluorophosphoric acid, hexafluoroarsenic acid,
An anion of at least one strong acid selected from the group consisting of hexafluoroantimonic acid, trifluoroacetic acid, perfluoro fatty acid, trifluoromethanesulfonic acid, aromatic sulfonic acid and fluorosulfonic acid and lithium salt, sodium salt, ammonium salt, A patent characterized in that it is an aqueous solution of a salt combined with a cation constituting at least one salt selected from the group consisting of quaternary ammonium salts, silver salts, quaternary phosphonium salts, and sulfonium salts. A method for improving the conductivity of a conductive circuit board according to claim 7.
(13)鍍金液がニッケル、コバルト、クロム、銅、銀
、金、白金、スズ、半田合金およびコバルト・ニッケル
合金よりなる群から選ばれた少なくとも一つの金属を電
気化学的に析出できる化合物の溶液であることを特徴と
する特許請求の範囲第8項記載の導電性回路基盤の導電
性改善法。
(13) The plating solution is a solution of a compound capable of electrochemically depositing at least one metal selected from the group consisting of nickel, cobalt, chromium, copper, silver, gold, platinum, tin, solder alloy, and cobalt-nickel alloy. A method for improving conductivity of a conductive circuit board according to claim 8, characterized in that:
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04501666A (en) * 1988-11-04 1992-03-26 カイロン・コーポレーション Expression and processing of authentic FGF in yeast

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JPH04501666A (en) * 1988-11-04 1992-03-26 カイロン・コーポレーション Expression and processing of authentic FGF in yeast

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